JPH0778332A - 磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電磁変換特性が良好で、特に、リング型磁気
ヘッドを用いても短波長記録において高い特性を有する
磁気記録媒体を提供する。 【構成】 非磁性支持体上に軟磁性層と該軟磁性層に隣
接して強磁性層を最上層になるように形成した磁気記録
媒体において、該強磁性層は結合剤樹脂と強磁性六方晶
フェライトを主体としたものであって該強磁性層の厚さ
をＸμｍ、磁性層表面の最大高さＳＲpと最大深さＳＲv
との和（Ｐ−Ｖ）をＹμｍとしたとき ０．１≦Ｘ＋Ｙ≦０．４ であることを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高密度記録用の磁気媒体
及び磁気記録方法に関するものであり、特に、記録再生
を行う強磁性六方晶フェライトを強磁性粉末とする磁性
層とした磁気記録媒体の改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ディジタル記録やハイビジョンＴ
Ｖ等の高細精度のＴＶ方式の出現により、磁気記録媒体
及びそれを用いた記録方法に対しては高密度記録化の要
望が益々高まっている。

【０００３】高密度記録の要望に応えるためにこれまで
種々の技術が提案され実用化されてきた。例えば、記録
方式では、垂直磁化記録方式、磁気記録媒体媒体にあっ
ては強磁性体の磁気特性の改良、強磁性粉末粒子の微細
化、磁性層の平滑化、強磁性粒子の高充填化、磁性層の
薄膜化等種々の媒体作成技術の改良が試みられてきた。

【０００４】従来、ビデオテ−プ、オ−ディオテープ、
磁気ディスク等の磁気記録媒体としては強磁性酸化鉄、
Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末等を
結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したも
のが広く用いられる。しかし、これらの磁性体は一般に
は針状で長手方向に磁化されるため、今日要求されてい
る短波長記録では、自己減磁が大きくなり十分な出力が
得られないという問題が発生している。一方高密度記録
特性に優れる磁性体として特開昭６１−２１７９３６号
公報、特開昭６１−２７３７３５号公報には六方晶フェ
ライト磁性体が提案されている。六方晶フェライト磁性
体は、その粒子サイズが小さいこと、形状が平板上でし
かもその板面に垂直な方向に磁化容易軸があること等か
ら高密度記録用の磁気記録媒体に用いる強磁性体として
有望視されている。

【０００５】そして、六方晶フェライト磁性体を面内垂
直方向に配向させることで、さらに自己減磁を小さくす
ることが特開平４−１２３３１２号公報、特開昭６２−
２０８４１５号公報に、さらには磁性層を二層以上設
け、上層に垂直配向した六方晶フェライトを用いた例が
特開昭６０−２１２８１７号公報、特開平１−２５１４
２７号公報、特開平１−２５１４２４号公報、特開平１
−２５１４２６号公報、特開昭５９−１２９９３５号公
報、特開昭６４−７９９３０号公報、特開昭６４−５５
７３２号公報、特開昭５９−７７６２８号公報などで開
示されている。しかし、未だ十分な特性を得るに至って
いない。一方、面内垂直方向に磁化容易軸をもつ媒体と
してスパッタなどによる金属薄膜を用いた記録媒体が数
多く提案されているが、摺動特性が不十分であり耐久性
が劣るという実用上の欠陥を有していた。

【０００６】このような問題に対し下地層として抗磁力
が低く、透磁率の高い軟磁性の金属薄膜、または粒子塗
布膜を形成し、その上に六方晶フェライトを含む塗布層
を設ける試みが特開昭５６−９８７１８号公報、特開昭
５９−１６７８４３号公報、特開昭６２−１８０５２２
号公報及び特開平５−２１７１４５号公報に示されてい
る。

【０００７】これらの磁気記録媒体にあっては、上層の
垂直方向に磁気的に配向し易い六方晶フェライトを主体
とする強磁性層の下に透磁率の高い軟磁性層があるため
に磁気ヘッドから出た磁力線が効率よく記録に使用さ
れ、高出力が得られるという利点があった。

【０００８】しかし、以上の公知技術をもってしても、
近年要求されている記録波長が０．５μｍ以下の短波長
記録に対しては必ずしも充分に対応できるものではなか
った。また、上記の磁気記録媒体のように垂直方向に磁
気的に配向している磁性層の場合垂直磁化記録専用の磁
気ヘッドも種々提案されてきたが特性の安定性、媒体の
走行上の制約が多く実用上の問題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好で、特に、リング型磁気ヘッドを用いても短波長
記録において高い特性を有する磁気記録媒体を提供する
ことを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは六方晶フェ
ライトを用いた、特に下地層として軟磁性膜を用いた媒
体が今日の高密度記録媒体として必ずしも十分な短波長
出力が得られない理由につき検討した結果、今日求めら
れる０．５μｍ以下にもなる短記録波長に対し、上層の
強磁性層の厚さとその表面性との双方を考慮して媒体を
設計することが重要であることをつきとめ以下の本願発
明をなすに至った。特に、六方晶フェライトを強磁性粉
末とする磁性層は六方晶フェライトの分散性が余り良好
ではないので磁性層の厚さが薄くなるほどその表面性の
問題は大きなものとなることが分かった。

【００１１】前記本願発明の目的は、非磁性支持体上に
軟磁性層と該軟磁性層に隣接して強磁性層を最上層にな
るように形成した磁気記録媒体において、該強磁性層は
結合剤樹脂と強磁性六方晶フェライトを主体としたもの
であって該強磁性層の厚さをＸμｍ、磁性層表面の最大
高さＳＲpと最大深さＳＲvとの和（Ｐ−Ｖ）をＹμｍと
したとき ０．１≦Ｘ＋Ｙ≦０．４ であることを特徴とする磁気記録媒体により達成され
る。

【００１２】そして、前記強磁性層は垂直方向に磁気的
に配向されているとなお一層本願発明の目的を有効に達
成することができる。

【００１３】本願発明に磁気記録媒体における前記軟磁
性層とは、低抗磁力で高透磁率の磁性層であり、金属薄
膜の場合はＨc（抗磁力）が１００Oe（エルステット゛）以下、
望ましくは１０Oe以下、さらに望ましくは１Oe以下、飽
和磁束密度は３０００Ｇ（ガウス）以上、望ましくは６
０００Ｇ以上である。軟磁性層が塗布膜である場合はＨ
cが２００Oe以下、望ましくは１００Oe以下、さらに望
ましくは１０Oe以下、飽和磁束密度は１５００Ｇ以上
で、望ましくは２５００Ｇ以上である。Ｈcが上記値よ
り大きいと軟磁性層に記録磁化が残留し強磁性層内で磁
化の位相ずれが発生し望ましくない。飽和磁束密度が上
記値より小さいと下地層を通る磁束が低下し望ましくな
い。なおここでのＨcは、長手および垂直方向での高い
方の値を用いる。

【００１４】軟磁性層としては、Ｆｅ−Ｎｉ合金、パー
マロイ等の金属薄膜またはマグネタイト等の軟磁性粉末
を結合剤中に分散してなる塗布膜等が望ましい。

【００１５】また、本願発明における磁性層表面の最大
高さＳＲpと最大深さＳＲvとの和（Ｐ−Ｖ）とは、磁性
層表面の中心線から凸部である山の最大高さ（山の頂
上）までの距離ＳＲpと磁性層表面の中心線から凹部で
ある谷の最大深さ（谷底）までの距離ＳＲvの和のこと
であり、例えば、ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯー３Ｄを用い
て、ＭＩＲＡＵ法で２５０ｎｍ×２５０ｎｍの面積を６
５０ｎｍの波長の光干渉を利用した非接触方式で測定し
て求めることができる。なお、測定に際しては、球面補
正、円筒補正を加えて測定サンプルの任意位置３箇所の
平均値を求めた。

【００１６】本願発明においては、磁性層の厚さＸと上
記和（Ｐ−Ｖ）の値Ｙとをμｍ単位で表したときの合計
が０．１〜０．４μｍ、好ましくは０．１５〜０．３μ
ｍとするものである。

【００１７】Ｘ＋Ｙが大きくなって０．４μｍを超える
ようになると磁気ヘッドの磁界が軟磁性層まで到達しな
るので、その効果を充分に発揮することができず、ま
た、逆に余り小さくなると磁気ヘッドの磁界が浸透する
領域における強磁性層の寄与する割合が減少するため
に、出力が低下するので好ましくない。

【００１８】そして、本願発明の目的を達成するために
は磁性層の厚さだけを０．１〜０．４μｍの範囲に制御
しても、Ｐ−Ｖとの和が前記範囲からはずれてしまうと
上限においてもまた下限においても、例えば、記録波長
が０．５μｍ以下もの短波長記録になると強磁性層と軟
磁性層の相乗効果が失われることを明らかにした点も本
発明の特徴である。

【００１９】これは、特に、強磁性層と軟磁性層を積層
した磁気記録媒体にあって、上層の強磁性層が六方晶フ
ェライト粉末であるために垂直方向に記録され高密度記
録にとって有利になり、特に、磁気ヘッドとしてリング
型磁気ヘッドにあっては磁気ヘッドの垂直方向の磁界が
弱いために強磁性層及び軟磁性層の磁気ヘッドからの距
離が極めて臨界的に再生出力に影響を及ぼすことが主要
因となっているものと推定される。

【００２０】磁性層厚Ｘは０．０５〜０．４μｍ、望ま
しくは０．１〜０．２５μｍである。磁性層が余り厚く
なるとＸ＋Ｙが大きくなりすぎ、また余り薄くなると、
Ｘ＋Ｙが小さくなりすぎて本願発明の目的を充分に達成
できなくなる。

【００２１】磁性層最大高さはＰ−Ｖは望ましくは０．
１μｍ以下、さらに望ましく０．０３μ以下である。Ｐ
−Ｖが余り大きくなるとＸ＋Ｙが大きくなるだけではな
く、磁気ヘッドの摩耗が大きくなってくるので望ましく
ない。

【００２２】本発明の磁気記録媒体が優れた短波長特性
を示す理由は定かではないが次のように推定される。短
波長記録になると信号の記録深さが浅くなる。磁性層に
隣接して下地層として軟磁性膜を設けることで、軟磁性
層がない場合に磁性層下部に発生する磁極を短絡させる
ことで反磁界を低減させることができる。このような下
地層の効果を発揮させるためには上層厚さを記録波長に
合わせて薄くする必要がある。一方、短波長記録で記録
深さが浅い時は表面粗さによる分離損失が大きな影響を
及ぼし、表面粗さが大きい場合はヘッドと媒体の距離が
大きくなり同様に下地層の効果がなくなるものと思われ
る。即ち下地層の効果を発現させるには、記録波長に合
わせて上層厚さを薄くするだけでは十分ではなく、表面
粗さを小さくするだけでも十分ではない。上層厚さを薄
くし、かつ表面粗さを小さくすることで媒体を記録する
ヘッドからの磁束がはじめて十分に下地層に達すると考
えられる。

【００２３】本願発明の磁気記録媒体の強磁性層に用い
る強磁性六方晶フェライトは板状であるため磁性層厚さ
が薄い場合は、磁場配向の有無にかかわらず面内垂直方
向に容易軸を向ける傾向がある。磁性層の配向方向は長
手方向、無配向、ランダム配向いずれでも本願の目的は
達成されるが、特に垂直方向に配向することで本願発明
の目的とする効果が顕著になり好ましい。

【００２４】本願発明の磁気記録媒体においては、最上
層の強磁性層は薄くて且つ平滑な表面であり、更に望ま
しくは優れた垂直配向性を有するものであるが、このよ
うな特徴的な磁性層は従来の製造方法では得ることが困
難である。磁性層の塗布方法としては、同時重層塗布方
式を用いるか、望ましくは特開平３−１３１３６４号報
に示されるブレ−ド塗布、ロッド塗布を用いることが望
ましい。特に後者においては、強磁性層を薄層に塗布す
ると六方晶フェライト粒子がその板面を磁性層垂直方向
に配列しやすいためか垂直方向の角型比も高くなり望ま
しい。

【００２５】本願発明の磁気記録媒体を得るために、特
に、前記Ｘ＋Ｙの範囲を０．１〜０．４μｍに特定する
ための方法としては種々の方法があるが特に下記の方法
が有効である。

【００２６】例えば、磁性層が薄膜であっても平滑な塗
布面が得られる上記の塗布方法を採用すること、Ｐ−Ｖ
の小さい非磁性支持体を使用すること、磁性塗布液の製
造に際し高負荷の分散法を採用すること、塗布乾燥後の
磁性層表面の加圧成型処理（カレンダー処理）に際して
は高温度で高圧の条件で行うこと等を単独で、望ましく
は組み合わせて実施することが有効である。

【００２７】本発明の磁気記録媒体の最上層である強磁
性層の強磁性六方晶フェライトとしては、バリウムフェ
ライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カ
ルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等、六方晶
Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマグネトプランバイ
ト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライ
ト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイ
ト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライ
ト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐ
ｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、
Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、
Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂな
どの原子を含んでも構わない。一般には、Ｃｏ−Ｔｉ，
Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ，Ｉｒ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することが
できるが、特に望ましいものはバリウムフェライト、ス
トロンチウムフェライトの各Ｃｏ置換体である。垂直方
向のＳＦＤは１．０以下、望ましくは０．３以下にする
と抗磁力の分布が小さくなり望ましい。抗磁力を制御す
るためには、粒子径、粒子厚を均一にする、六方晶フェ
ライトのスピネル相の厚みを一定にする、スピネル相の
置換元素の量を一定にする、スピネル相の置換サイトの
場所を一定にする、などの方法がある。本発明に用いら
れる強磁性六方晶フェライトは通常六角板状の粒子であ
り、その粒子径は六角板状の粒子の板の幅を意味し電子
顕微鏡を使用して測定する。 本発明では粒子径（板
径）は０．０１〜０．２μｍ、特に望ましくは０．０３
〜０．１μｍの範囲に規定するものである。また、該微
粒子の平均厚さ（板厚）は０．００１〜０．２μｍであ
るが特に０．００３〜０．０５μｍが望ましい。板状比
（粒子径／板厚）は１〜１５であり、望ましくは３〜７
である。また、これら六方晶フェライト微粉末のＢＥＴ
法による比表面積（ＳBET）は２５〜１００ｍ²／ｇ、４
０〜７０ｍ²／ｇが望ましい。２５ｍ²／ｇ以下ではノイ
ズが高くなり、１００ｍ²／ｇ以上では表面性得にくく
望ましくない。磁性体の抗磁力は５００Oe以上、４００
０Oe以下が望ましく、更に望ましくは８００Oe以上２０
００Oe以下である。５００Oe以下では短波長出力が低下
し、４０００Oe以上ではヘッドによる記録がしにくく望
ましくない。σsは５０ｅｍｕ／ｇ以上、望ましくは６
０ｅｍｕ／ｇ以上、さらに望ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以
上である。σsを７０ｅｍｕ／ｇ以上にするには、スピ
ネル層を増やしたり、置換元素量を減らす方法がある。
タップ密度は０．５ｇ／ｃｃ以上が望ましく０．８ｇ／
ｃｃ以上がさらに望ましい。六方晶フェライトを含む層
のＢｒは垂直方向が反磁界補正を行った値で１０００Ｇ
以上２５００Ｇ以下、長手方向はは３００Ｇ以上２００
０Ｇ以下、巾方向は１０００Ｇ以下が望ましい。角型比
は垂直方向が反磁界補正を行った値で０．７以上、０．
９５以下、長手方向が０．２以上０．９以下、巾方向は
０．３以下が望ましい。磁性体の含水率は０．０１〜２
％とするのが望ましい。結合剤の種類によって磁性体の
含水率は最適化するのが望ましい。ＰＨは用いる結合剤
との組合せにより最適化することが望ましい。その範囲
は４〜１２であるが、望ましくは６〜１０である。磁性
体は必要に応じ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ
₂，ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃，ＺｎＯで表面処理することが望
ましい。特に分散性に望ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、である。これらは組み合わせ
て使用しても良いし、単独で用いることもでき、用いる
バインダによってその量と比率を変えることが望まし
い。その量は磁性体に対し０．１〜１０重量％であり表
面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ
／ｍ²以下になり望ましい。磁性体には可溶性のＮａ、
Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合が
あるが５００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与え
ない。

【００２８】本発明の磁気記録媒体における軟磁性層に
使用する軟磁性粉末としては、Ｆｅ粉末、Ｎｉ粉末、Ｃ
ｏ粉末、マグネタイト粉末、パ−マロイ粉末、センダス
ト粉末、Ｍｎ−Ｚｎフェライト粉末、Ｎｉ−Ｚｎフェラ
イト粉末、Ｃｕ−Ｚｎフェライト粉末などが挙げられ
る。

【００２９】中でもマグネタイト粉末が分散性が優れて
いるので望ましい。これらの軟磁性粉末は針状、粒状、
板状、いずれでもかまわないが、Ｈcを小さくするため
には粒状が望ましい。これらの粉末には所定の原子以外
にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，
Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでも構わない。

【００３０】これらの軟磁性粉末の比表面積はＳ_BETで
１０〜１００ｍ²／ｇであり、望ましくは４０〜７０ｍ²
／ｇである。１０〜１００ｍ²／ｇでは良好な表面性得
にくく望ましくない。平均粒子径は０．０１〜１μｍ、
かさ密度は０．４以上、１．５以下、吸着水分は０．１
％以上、２％以下、DBPを用いた吸油量は５〜１００ml/
100g、ＰＨは３以上１０以下が望ましい。

【００３１】また、軟磁性粉末の粒子表面をＡｌ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂，ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃，Ｚｎ
Ｏで表面処理することが望ましい。特に、分散性に望ま
しいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、であ
るが、更に望ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂で
ある。これらは組み合わせて使用しても良い。軟磁性塗
布膜の厚さには特に制限はないが、通常、０．１〜５μ
ｍであり、望ましくは１〜３μｍである。

【００３２】本発明の軟磁性層が金属薄膜である場合、
その成膜方法は、蒸着法、スパッタ法、イオンプレ−ト
法、クラスタ−イオンビ−ム法、メッキ法等を用いるこ
とができる。金属の組成はＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ主体とし必
要に応じＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃ
ｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｐｔなどを含む組成を用いるこ
とができる。代表的なものとしてＮｉ−Ｆｅパ−マロイ
膜、これにＣｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｐなどを含有させたパ−マ
ロイ膜、Ｃｏ−Ｂ、Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅなどの金属膜が挙
げられる。軟磁性金属膜の厚さは０．０１〜２μｍが望
ましく、さらに０．０２〜０．８μｍであることが望ま
しい。軟磁性金属膜の初透磁率は１０００以上で望まし
くは２００００以上である。

【００３３】本発明の磁気記録媒体を製造するに当た
り、軟磁性層上に強磁性層を塗布する方法は公知の装置
を用いることができる。特に磁性層の薄層塗布を行う場
合は、特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７
９７１号公報，特開平２−２６５６７２号公報に開示さ
れているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つ
の塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法、
または公知の塗布方式を用いて下地層を形成し乾燥させ
たのち、特開平３−１３１３６４号公報に示されるよう
なブレ−ド塗布またはロッド塗布を用いる方法がある。

【００３４】配向を行う磁性層の配向装置は公知のもの
を用いることができるが、３０００Ｇ以上の異極対抗コ
バルト磁石を用い、乾燥風により磁石ゾ−ン内で乾燥さ
せ垂直配向させることが好ましい。また配向前に適度の
予備乾燥を行ないことが望ましい。

【００３５】本発明の軟磁性層および強磁性六方晶フェ
ライトを含む強磁性層に使用される結合剤樹脂としては
従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂や
これらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、
ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が
１０００〜２０００００、望ましくは１００００〜１０
００００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、
ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル
酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエ
ン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、
ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合体または
共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。
また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−ト
プレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリ
イソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。これらの樹脂について
は朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各
層に使用することも可能である。これらの例とその製造
方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載
されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂
の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合
わせたものが挙げられる。

【００３６】ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステル
ポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テ
ルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウ
レタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、
ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用
できる。ここに示したすべての結合剤樹脂について、よ
り優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、Ｃ
ＯＯＭ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、 Ｏ
−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、また
はアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ²、Ｎ⁺Ｒ³（Ｒは炭
化水素基）エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものををもちいることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３７】本発明に用いられるこれらの結合剤樹脂の
具体的例としてはユニオンカ−バイト（株）製ＶＡＧ
Ｈ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯ
Ｈ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳ
Ｇ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化
学工業（株）社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，Ｍ
ＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰ
Ｒ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学
（株）社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８
２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン（株）社製ＭＲ
１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン（株）社製ニッポランＮ２３０
１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ（株）社製
パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２
０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリ
スボン６１０９，７２０９，東洋紡（株）社製バイロン
ＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ−
５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化（株）社製、ダイフェラミン４０２０，５０２
０，５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２
０，三菱化成（株）社製、ＭＸ５００４，三洋化成
（株）社製サンプレンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００
３、ＴＩＭ−３００５、旭化成（株）社製サランＦ３１
０，Ｆ２１０などがあげられる。

【００３８】本発明の軟磁性層、強磁性層に用いられる
結合剤樹脂は非磁性粉体または磁性体に対し、５〜５０
％の範囲、望ましくは１０〜３０％の範囲で用いられ
る。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％、ポリ
ウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０％、ポリイソシ
アネ−トは２〜２０％の範囲でこれらを組み合わせて用
いるのが望ましい。本発明において、ポリウレタンを用
いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸
びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋ
ｇ／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ま
しい。

【００３９】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ下地層、磁性層で変えることはもちろん可
能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。
例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表
面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量
することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを
良好にする為には、磁性層か下地層のバインダー量を多
くして柔軟性を持たせることにより達成される。

【００４０】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン（株）社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品（株）社製、タケ
ネ−トＤ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−
トＤ−２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル
（株）社製、デスモジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、
デスモジュ−ルＮデスモジュ−ルＨＬ，等がありこれら
を単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそ
れ以上の組合せで各層とも用いることができる。

【００４１】本発明の磁性層に使用されるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ
μ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／CC、が望ましい。本発明の磁気記
録媒体に用いられるカ−ボンブラックの具体例としては
キャボット（株）社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２００
０、１３００、１０００、９００、８００，７００、Ｖ
ＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ−ボン（株）社製、＃８
０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業
（株）社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００，＃
１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−
ボン（株）社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥ
Ｎ １５０、５０，４０，１５などが挙げられる。カ−
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用しても構わない。また、カ−ボンブラッ
クを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散し
ても構わない。これらのカ−ボンブラックは単独、また
は組合せで使用することができる。カ−ボンブラックを
使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３０重量％
で用いることが望ましい。カ−ボンブラックは磁性層の
帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上など
の働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラックにより
異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−ボンブ
ラックは上層磁性層、下層軟磁性層でその種類、量、組
合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ＰＨなどの
先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けること
はもちろん可能である。本発明の磁性層で使用できるカ
−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−
ボンブラック協会編 を参考にすることができる。

【００４２】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモ−ス６以上の公知の材料が単独または組合せで
使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研
磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよ
い。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素
が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効
果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０
１〜２μｍが望ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タッ
プ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５重量
％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が
望ましい。本発明の磁気記録媒体の強磁性層に用いられ
る研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状のいずれでも
良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く望
ましい。研磨剤の具体的例としては、住友化学（株）社
製、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩ
Ｔ−５０、HIT-100、日本化学工業（株）社製、Ｇ５，
Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業（株）社製、ＴＦ−１００，Ｔ
Ｆ−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨
剤は第一磁性層、第二磁性層、および中間層で種類、量
および組合せを変え、目的に応じて使い分けることはも
ちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤
で分散処理したのち磁性塗料中に添加しても構わない。

【００４３】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等を持つもの
が使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステン
グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオ
イル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−
ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フ
ッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−ル、
アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アル
キル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェ
ニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪
酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）及びこれらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕな
ど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四
価、五価、六価アルコ−ル、（不飽和結合を含んでも、
また分岐していても構わない）、炭素数１２〜２２のア
ルコキシアルコ−ル、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪
酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五
価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不飽和結合を含ん
でも、また分岐していても構わない）とからなるモノ脂
肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸
エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ
−テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミ
ド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用でき
る。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリ
ン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン酸、エ
ライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミ
ル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタ
ンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステアレ
−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オレイ
ルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、が挙げられる。ま
た、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシド
−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加体
等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複
素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチ
オン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、
硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用でき
る。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便
覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。
これらの不純分は３０重量％以下が望ましく、さらに望
ましくは１０重量％以下である。

【００４４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は軟磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、軟磁性層、強磁性層
で融点のことなる脂肪酸を用い表面への滲み出しを制御
する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面への滲
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多く
して潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示
した例のみに限られるものではない。

【００４５】また、本発明で用いられる添加剤のすべて
またはその一部は、強磁性層及び軟磁性層用塗料製造の
どの工程で添加しても構わない。例えば、混練工程前に
磁性粉末と混合する場合、磁性粉末と結合剤樹脂とを溶
剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する
場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合
などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、
同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布
することにより目的が達成される場合がある。また、目
的によってはカレンダ−した後、またはスリット終了
後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４６】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂（株）社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡ
Ａ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ
−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−
２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７
１，ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６
０、ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４
２，ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチ
オンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイ
ミ−ンＬ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ
−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，
ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオン
ＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−
２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−
２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノ
ニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオン
ＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−
２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオ
ンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステア
レ−ト、ブチルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学（株）
社製、オレイン酸、竹本油脂（株）社製、ＦＡＬ−２０
５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化（株）社製、エヌジェ
ルブＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０
３０，、信越化学（株）社製、ＴＡ−３、ＫＦ−９６、
ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０，ＫＦ４２０、
ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０
７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−８５
７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，
ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２
−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ
−３９３５，ライオンア−マ−（株）社製、ア−マイド
Ｐ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣＰ、ライオン油脂
（株）社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油（株）社製、
ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成（株）社製、プロファン２０１
２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４０
０，イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２０
０，イオネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１００
０イオネットＤＯ−２００などがあげられる。

【００４７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分が含まれても構わない。こ
れらの不純分は３０重量％以下が望ましく、さらに望ま
しくは１０重量％以下である。本発明で用いる有機溶媒
は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが望ま
しい。その添加量は変えても構わない。下層の軟磁性層
に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサン
など）を用いると塗布液の安定性をあげることができ
る。具体的には上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組
成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性
を向上させるためにはある程度極性が強い方が望まし
く、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０重量
％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメ−タ
は８〜１１であることが望ましい。

【００４８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
可撓性支持体が１〜１００μｍ、望ましくは４〜２０μ
ｍ。上層の強磁性層と下層の軟磁性層を合わせた厚さは
非磁性可撓性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で
用いられる。

【００４９】また、非磁性可撓性支持体性と下層の軟磁
性層との間に密着性向上のためのの下塗り層を設けるこ
ともできる。この下塗層の厚さは０．０１〜２μｍ、望
ましくは０．０２〜０．５μｍである。また、非磁性支
持体性の磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設けても
かまわない。この厚さは０．１〜２μｍ、望ましくは
０．３〜１．０μｍである。これらの下塗層、バックコ
−ト層は公知のものが使用できる。

【００５０】本発明の磁気記録媒体に用いられる非磁性
可撓性支持体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチ
レンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフ
ォン、アラミド、芳香族ポリアミド、ポロベンゾオキサ
ゾ−ルなどの公知のフィルムが使用できるが、特に１０
μｍ以下の薄い可撓性支持体を用いる場合は、ポリエチ
レンナフタレ−ト、ポリアミドなどの高強度支持体を用
いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス
面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号公
報に示されるような積層タイプの支持体を用いることも
できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処
理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を
行っても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性可
撓性支持体の最大高さを０．２μｍ以下、望ましくは
０．０５μｍ以下とする必要がある。またその中心面平
均表面粗さＲａは０．０２μｍ以下、、望ましくは０．
０１μｍ以下、さらに望ましくは０．００５μｍ以下、
中心面山高さＳＲｐおよび中心面谷深さＳＲｖは０．１
μｍ以下、望ましくは０．０５μｍ以下である。表面の
粗さ形状は必要に応じて非磁性支持体に添加されるフィ
ラ−の大きさと量により自由にコントロ−ルされるもの
である。これらのフィラ−としては一例としてはＣａ，
Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系など
の有機微粉末があげられる。十点平均粗さＳＲｚは０．
１μｍ以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ
以下が好ましい。これら非磁性支持体の表面突起はフィ
ラ−により０．０１〜１μｍの大きさのものを０．１ｍ
ｍ²あたり０個から２０００個の範囲でコントロ−ルす
ることができる。

【００５１】本発明の磁気記録媒体に用いられる非磁性
支持体のテ−プ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５
０Ｋｇ／ｍｍ²、テ−プ幅方向のＦ−５値は望ましくは
３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²であり、テ−プ長い手方向のＦ−
５値がテ−プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であ
るが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはそ
の限りでない。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向お
よび幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は望ましくは
３％以下、さらに望ましくは１．５％以下、８０℃３０
分での熱収縮率は望ましくは１％以下、さらに望ましく
は０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１０
０Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍ
ｍ²、が好ましい。

【００５２】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていても
構わない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉体、結合
剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添
加しても構わない。また、個々の原料を２つ以上の工程
で分割して添加しても構わない。例えば、ポリウレタン
を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合
工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成す
るためには、従来の公知の製造技術のを一部の工程とし
てを用いることができることはもちろんであるが、混練
工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつ
ものを使用することが好ましい。連続ニ−ダまたは加圧
ニ−ダを用いる場合は磁性体または軟磁性粉末と結合剤
のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上
が望ましい）及び軟磁性粉末１００部に対し１５〜５０
０部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細
については特願昭６２−２６４７２２号公報、特願昭６
２−２３６８７２号公報に記載されている。また、軟磁
性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用い
ることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。

【００５３】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルを使用できる。強いカレンダ圧力
で処理すると、平板状の六方晶フェライトは磁性層表層
０．０５μｍ以内で磁化容易軸を垂直方向に向けて配列
しやすくなる。従って、カレンダは金属ロ−ル同志で処
理することが好ましい。処理温度は、望ましくは８０℃
以上、さらに望ましくは１００℃以上である。線圧力は
望ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ、さらに望ましくは３００
Ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００５４】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は温度−１
０℃から４０℃、湿度０％から９５％の範囲において
０．５以下、望ましくは０．３以下、表面固有抵抗は望
ましくは磁性面、裏面とも１０ ⁴〜１０¹²オ−ム／ｓ
ｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が望まし
い。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方
向とも望ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断
強度は望ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体
の弾性率は走行方向、長い方向とも望ましくは１００〜
１５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは望ましくは０．５％
以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は望ま
しくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下、もっ
とも望ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス転
移温度(１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾
性率の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が望ましく、
下層軟磁性層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失
弾性率は１×１０⁸〜８×１０⁹dyne/cm2の範囲にあるこ
とが望ましく、損失正接は０．２以下であることが好ま
しい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出安い。磁性
層中に含まれる残留溶媒は望ましくは１００ｍｇ／ｍ²
以下、さらに望ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であり、磁
性層の中心線表面粗さＳＲａは０．０１μｍ以下、望ま
しくは０．００３μｍ以下であるが、ＡＦＭによる評価
で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMSは２〜１５ｎｍの範囲に
あることが望ましい。光沢度は１６０以上、望ましくは
２００以上、更に望ましくは２４０以上である。磁性層
の最大高さＳＲｍａｘは０．１μｍ以下、十点平均粗さ
ＳＲｚは０．１μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．１
μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．１μｍ以下、平均
波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。
磁性層の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを
０個から２０００個の範囲である。これらは支持体のフ
ィラ−による表面性のコントロ−ルやカレンダ処理のロ
−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることができ
る。

【００５５】本発明の磁気記録媒体は強磁性層と下層に
軟磁性層とを有するが、目的に応じ軟磁性層と強磁性層
とでこれらの物理特性を変えることができるのは容易に
推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高く
し走行耐久性を向上させると同時に軟磁性層の弾性率を
磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良
くするなどである。

【００５６】以下の実施例及び比較例で本発明の新規な
特徴を更に具体的に説明する。尚、以下「部」とあるの
はすべて「重量部」のことである。

【００５７】

【実施例】 ＜強磁性層Ａの組成＞ 強磁性六方晶バリウムフェライト …１００部 （Ｈc：１２００Oe、ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ²／ｇ、平均粒 径（板径）：０．０５μｍ、平均板厚：０．０１μｍ、σs:６５ｅｍｕ／ｇ、表 面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃４重量％／ＳｉＯ₂１重量％） 塩化ビニル系共重合体 … ８部 （−ＳＯ₃Ｎａ含有量:１×１０^-4ｅｑ／ｇ、重合度：３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ３部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ：０．９ ／２．６／１、−ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有） α−アルミナ（住友化学（株）社製ＨＩＴ５５） … ８部 カ−ボンブラック（旭カ−ボン社（株）製＃３５） … ２部 ブチルステアレート … １部 ステアリン酸 … ２部 メチルエチルケトン … ９０部 シクロヘキサノン … ９０部

【００５８】 ＜軟磁性層Ｂ用組成物＞ 粒状マグネタイト粉（γ−Ｆｅ₃Ｏ₄） …１００部 （平均粒子径：０．０３μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：４５ｍ²／ｇ、 ｐＨ：９．８、ＤＢＰ吸油量２６ｇ／１００ｇ、表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃８重量％ ） 塩化ビニル系共重合体 … １２部 （−ＳＯ₃Ｎａ含有量:１×１０^-4ｅｑ／ｇ、重合度：３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 … ５部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ：０．９ ／２．６／１、−ＳＯ₃Ｎａ基：１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有） カーボンブラック（三菱カ−ボン（株）社製＃９５０Ｂ） … １０部 α−アルミナ（住友化学（株）社製ＨＩＴ５５） … ４部 ブチルステアレート … １部 ステアリン酸 … １部 メチルエチルケトン … １００部 シクロヘキサノン … １００部

【００５９】上記２種の組成物それぞれについて、各成
分を連続ニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて
分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを磁
性層の塗布液には３部、軟磁性層の塗布液には５部を加
え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン混合溶媒４０部を加え，１μｍの平均孔径を有す
るフィルタ-を用いて濾過し、強磁性層用塗布液Ａ、軟
磁性層用塗布液Ｂをそれぞれ調整した。

【００６０】〔実施例１〕軟磁性層用塗布液Ｂを乾燥後
の厚さが１μｍになるように、厚さ７μｍで最大高さ
０．０３μｍ、表面粗さが０．００３μｍのポリエチレ
ンナフタレ−ト支持体上にエクストル−ジョン方式で塗
布し乾燥したのち、その上に磁性層用塗布液Ａを乾燥後
の厚さが０．２μｍとなるようにブレ−ド方式で塗布し
たのち、１００℃の乾燥風を通した６０００Ｇの磁力を
もつ異極対抗コバルト磁石ゾ−ン内を通過させ垂直配向
した強磁性層を形成した。その後金属ロ−ルのみから構
成される７段のカレンダで温度１００℃にて処理を行
い、８ｍｍの幅にスリットし、８ｍｍビデオテ−プを製
造した。得られたサンプルを第１表Ａ−１とした。軟磁
性塗布層のＨcは４３Oe、Ｂm（最大磁束密度）は２００
０Ｇであった。次に六方晶バリウムフェライトを含む強
磁性層のＨc、厚さを表．１に示したように変えた以外
はＡ−１と同様にして得られたサンプルを各々Ａ−２〜
Ａ−６とした。次に支持体の最大高さを０．０９μｍ、
０．０６μｍに変えた以外はＡ−１と同様にして得られ
たサンプルをＡ−７，Ａ−８とした。次に軟磁性膜のマ
グネタイト粉のかわりに粒径０．１μｍのＭｎ−Ｚｎフ
ェライト粉を用いた以外は実施例．１と同様にして得ら
れたサンプルをＡ−９とした。軟磁性膜のＨcは１．７O
e、Ｂmは２２００Ｇであった。

【００６１】〔実施例２〕非磁性支持体上にスパッタ法
を用い０．０５μｍのパ−マロイ（Ｎｉ８５％、Ｆｅ１
５％）軟磁性金属膜を形成したのち、その上に磁性塗料
Ａを塗布した以外は実施例１と同様にして得られたサン
プルをＡ−１０とした。この軟磁性金属膜の特性はＨc
が１．５Oe、Ｂmが６０００Ｇであった。パ−マロイ組
成にＣｕ、Ｍｏを加えた軟磁性金属膜（Ｎｉ７８％、Ｆ
ｅ１５％、Ｍｏ５％、Ｃｕ２％）を形成し同様にして得
られたサンプルをＡ−１１とした。この軟磁性膜の特性
はＨc０．６Oe、Ｂm７０００Ｇであった。

【００６２】〔比較例１〕軟磁性層を設けず強磁性層用
塗布液Ａを非磁性支持体上に直接塗布した以外は実施例
１と同様にして得られたサンプルをＢ−１とした。

【００６３】〔比較例２〕強磁性塗布液Ａをリバ−スロ
−ル塗布方式を用いて０．４μｍに塗布した以外は実施
例１と同様にして得られたサンプルをＢ−２とした。ま
た最大高さ０．１２μｍのポリエチレンナフタレ−トを
非磁性支持体として用い、強磁性塗布液Ａをリバ−スロ
−ル塗布方式を用いて０．３μｍに塗布した以外は実施
例１と同様にして得られたサンプルをＢ−３とした。

【００６４】（磁性層表面の最大高さＳＲpと最大深さ
ＳＲvの測定）ＷＹＫＯ社製ＴＯＰ０３Ｄを用いて、Ｍ
ＩＲＡＵ法で各サンプルの２５０ｎｍ×２５０ｎｍの面
積での最大高さＲmax値を測定した。本方式は光干渉に
て測定する非接触表面粗さ計である測定波長６５０ｎｍ
にて球面補正円筒補正を加えた。サンプルの任意の位置
３箇所のＳＲp及びＳＲvを測定しその平均値を用いた。

【００６５】（７ＭＨｚ出力及びＣ／Ｎの測定）富士写
真フィルム（株）製８ｍｍビデオデッキ ＦＵＪＩＸ８
を用いて７ＭＨｚ信号を記録し、この信号を再生したと
きの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコ−プで測定し
た。測定用標準テープとしては、富士写真フィルム
（株）製８ミリテープＳＡＧＰ６−１２０を使用した。

【００６６】

【表１】

【００６７】

【発明の効果】最上層に強磁性六方晶フェライトを主体
とする強磁性層、その下に軟磁性層を設け強磁性層の厚
さと磁性層表面の最大高さＳＲpと最大深さＳＲvとの和
（Ｐ−Ｖ）との和を特定に範囲にすることによりリング
型磁気ヘッドを用いて記録再生したときの短波長での出
力を特に大きくすることができる。

フロントページの続き (72)発明者 日比野 信郎 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に軟磁性層と該軟磁性層
   に隣接して強磁性層を最上層になるように形成した磁気
   記録媒体において、該強磁性層は結合剤樹脂と強磁性六
   方晶フェライトを主体としたものであって該強磁性層の
   厚さをＸμｍ、磁性層表面の最大高さＳＲpと最大深さ
   ＳＲvとの和（Ｐ−Ｖ）をＹμｍとしたとき ０．１≦Ｘ＋Ｙ≦０．４ であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記強磁性層は垂直方向に磁気的に配向
   している請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項１もしくは請求項２に記載の磁気
   記録媒体とリング型磁気ヘッドを用いた０．５μｍ以下
   の記録波長を記録再生する磁気記録方法。