JPH0770813B2 - Method of manufacturing printed circuit board - Google Patents

Method of manufacturing printed circuit board

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JPH0770813B2
JPH0770813B2 JP61171468A JP17146886A JPH0770813B2 JP H0770813 B2 JPH0770813 B2 JP H0770813B2 JP 61171468 A JP61171468 A JP 61171468A JP 17146886 A JP17146886 A JP 17146886A JP H0770813 B2 JPH0770813 B2 JP H0770813B2
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adhesive
energy
laying
laser
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エドワード スウイゲット ブライアン
ジェイ、キオー レイモンド
クラーク クローエル ジョナサン
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アドバンスト インターコネクション テクノロジー インコーポレイテッド
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Abstract

The invention relates to a process for scribing and bonding insulated wire conductors (14) in a predetermined pattern on a substrate (10), bonding said conductor substantially simultaneously when it contacts the surface of the adhesive (16) by directing substantially uniform laser beam pulses (30) at said adhesive, and timing the pulses such that the pulse repetition rate is a function of the scribing speed.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明はワイヤ敷設配線回路板の製造方法に関するも
のである。より特定すれば、この発明はワイヤ敷設中に
おいて導体を接着し、及び剥がすためにレーザーエネル
ギーを使用することに関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a wire-laid wiring circuit board. More particularly, the invention relates to using laser energy to bond and strip conductors during wire laying.

従来の技術 米国特許第3671914号(バール)、同第3674602号(ケ
オ)及び1981年7月9日付で与えられたカナダ特許第11
02924号は、予め接着剤層を形成した絶縁基板上に導体
を敷設配線するための方法及び装置を記載したものであ
る。これは前記基板の面上に微細絶縁ワイヤを連続的に
供給してこれを付着させ、更に所定位置においてこれら
の導体を切断することにより実施される。これらの外国
特許に記載された方法は、所定の相互接続パターンを有
する導体配線を製造しうるものである。
Prior Art US Patent Nos. 3671914 (Bar), 3674602 (Keo) and Canadian Patent No. 11 issued Jul. 9, 1981.
No. 02924 describes a method and apparatus for laying and wiring a conductor on an insulating substrate on which an adhesive layer is formed in advance. This is done by continuously feeding a fine insulated wire onto the surface of the substrate to deposit it and then cutting these conductors in place. The methods described in these foreign patents are capable of producing conductor wiring having a predetermined interconnection pattern.

導体パターンは接着剤層を局部的に加熱するワイヤ敷設
素子により、この接着剤層に絶縁ワイヤを粘着させるこ
とにより形成される。接着剤が融解して少なくとも部分
的に導体を包囲し、次いで冷却されると、導体と基板と
の接合状態が生じる。接着材料はこのようにして導体を
捕捉し、機械的及び化学的な接合を形成するものであ
る。
The conductor pattern is formed by adhering the insulated wire to the adhesive layer by means of a wire laying element that locally heats the adhesive layer. When the adhesive melts and at least partially surrounds the conductor and then cools, a bond between the conductor and the substrate occurs. The adhesive material thus captures the conductor and forms a mechanical and chemical bond.

1985年7月25日付で公告されたヨーロッパ特許出願第11
0820号は、ワイヤを光硬化性接着剤の活性化層中に敷設
するための装置を記載している。この接着剤は超音波エ
ネルギーを用いて活性化され、次いでレーザーエネルギ
ーなどのような光エネルギーを用いて硬化される。
European Patent Application No. 11 published on 25 July 1985
No. 0820 describes an apparatus for laying wires in an activated layer of photocurable adhesive. The adhesive is activated using ultrasonic energy and then cured using light energy such as laser energy.

1982年8月23日付で公開された日本国特許出願(特開昭
57−136931)はワイヤを基板の接着剤被覆面上に所定の
パターンで敷設する方法を開示している。接着剤を軟化
して敷設中のワイヤをその接着剤中に圧入するために、
レーザーエネルギー及び超音波エネルギーの組み合わせ
が用いられる。
Japanese patent application published on August 23, 1982
57-136931) discloses a method of laying wires in a predetermined pattern on the adhesive coated surface of a substrate. In order to soften the adhesive and press the wire under construction into the adhesive,
A combination of laser energy and ultrasonic energy is used.

しかしながら、ワイヤ敷設工程において用いられる接着
剤を活性化するためのエネルギー源としてレーザービー
ムを用いることは、接着剤がワイヤ敷設されるべき板面
上に適用されるか、または導体上に適用されるかという
ことに応じて多くの問題点及び障害を有するものであ
る。レーザーエネルギーを連続ビームとして接着剤に照
射することは、そのレーザービームが接着剤に沿って一
定の速度で移動するか、または複雑な制御変数に従って
変調される場合においてのみ、所定の導体パターンに沿
った確実な活性化レベルを可能にするものである。接着
剤の特定部分が受け取るエネルギー量は、その部分のエ
ネルギーに対する露出時間に応じて増大する。露出時間
はレーザービームが接着剤上の所定のパターンに沿って
移動する速度に逆比例することは明らかである。したが
って導体の敷設配線速度(以下敷設速度と称する)が変
化すると、領域が異なるごとに、接着剤の露出時間が変
化することになる。敷設工程において、敷設素子は少な
くとも3つの状況において敷設速度を変化することがで
きる。すなわち敷設素子が停止状態から所定の定格速度
に加速する場合、屈曲または折り返しを形成する場合
(この場合には敷設素子が折り返しを形成する前に減速
され、屈曲を形成するために停止し、更に折り返しを形
成した後定格速度まで加速することが要求される)、及
び敷設素子を導体供給の両端において停止させる場合で
ある。その結果、敷設素子の速度が定格速度より低い場
合には、接着剤は過大なエネルギーを受取り、その接着
剤または導体包囲材料が焼損、またはその他の損傷を被
ることになる。レーザーエネルギーのレベルが低速度に
おける過大エネルギー照射を防止すべく低下される場合
には、定格速度において接着剤の他の部分が受け取るエ
ネルギー量が、それらの部分における活性化にとって不
十分なものとなるであろう。
However, using a laser beam as an energy source to activate the adhesive used in the wire laying process, the adhesive is applied either on the plate surface on which the wire is to be laid or on the conductor. However, it has many problems and obstacles. Irradiating the adhesive with laser energy as a continuous beam only follows a given conductor pattern if the laser beam travels along the adhesive at a constant velocity or is modulated according to complex control variables. It enables a reliable activation level. The amount of energy received by a particular part of the adhesive increases with the time of exposure of that part to the energy. Obviously, the exposure time is inversely proportional to the speed at which the laser beam travels along a given pattern on the adhesive. Therefore, if the wiring speed of the conductor (hereinafter referred to as the laying speed) changes, the exposure time of the adhesive changes for each different area. In the laying process, the laying element can change the laying speed in at least three situations. That is, when the laying element accelerates from a stopped state to a predetermined rated speed, when forming a bend or fold (in this case the laying element is decelerated before forming the fold and stops to form the bend, and It is required to accelerate to the rated speed after forming the fold), and stop the laying element at both ends of the conductor supply. As a result, if the speed of the laying element is less than the rated speed, the adhesive will receive too much energy and the adhesive or conductor surrounding material will suffer burnout or other damage. If the laser energy level is reduced to prevent over-energy irradiation at low speeds, the amount of energy received by other parts of the adhesive at rated speed will be insufficient for activation in those parts. Will.

発明が解決しようとする問題点 したがって、この発明の目的は、正確に制御されたレー
ザービームを用いることにより、導体を基板上に接合す
るための接着剤を活性化し、これによって導体を前記基
板上に所定のパターンにおいて確実に敷設するための方
法及び装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to use a precisely controlled laser beam to activate an adhesive for bonding conductors onto a substrate, thereby causing the conductors to remain on the substrate. It is to provide a method and a device for surely laying in a predetermined pattern.

この発明の別の目的は、接合用接着剤の活性化が単純な
方法において制御されるようにしたワイヤ敷設回路板の
制御方法を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a method of controlling a wire laid circuit board in which activation of the bonding adhesive is controlled in a simple manner.

本発明の更に別の目的は、1本または2本以上のレーザ
ービームを用いて敷設導体を効果的に接合及び剥離する
ための方法及び装置を提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide a method and apparatus for effectively joining and debonding laid conductors with one or more laser beams.

定義 以下の説明において“基板”とはその面上に導体パター
ンを形成すべき絶縁材料のことである。
Definitions In the following description, a "substrate" is an insulating material on which a conductor pattern is to be formed.

“導体”とは少なくともその一部において電気エネルギ
ーまたは光エネルギーなどのエネルギーを導通すること
ができる“導通部分”を有する少なくとも1本の有形−
細長フィラメントのことである。これらの導体は絶縁層
により被覆されうる。
“Conductor” means at least one tangible material having a “conducting portion” capable of conducting energy such as electric energy or light energy in at least a part thereof.
It is an elongated filament. These conductors can be covered by an insulating layer.

“敷設”とは導体を基板上に所定のパターンにおいて配
置及び固着する処理のことである。
"Laying" is the process of placing and securing conductors on a substrate in a predetermined pattern.

“レーザーエネルギー”とはレーザーエネルギー源より
照射されたエネルギー量であって、パワー及び時間の積
を意味するものとする。
"Laser energy" is the amount of energy emitted from a laser energy source and means the product of power and time.

“接着剤”とは導体を基板面上に接合すべく用いられる
材料のことである。この接着剤は導体を包囲する被覆体
であっても、基板面上に配置されるものであっても、ま
たはフィルムとして個々に供給されるものであってもよ
い。
"Adhesive" is a material used to bond a conductor to the surface of a substrate. This adhesive may be a coating that surrounds the conductor, may be placed on the surface of the substrate, or may be supplied individually as a film.

“活性化”とは接着剤に接着性また粘着性を付与し、か
つ目的物間の接合を形成する処理を意味する。
"Activation" means a process of imparting adhesiveness or tackiness to an adhesive and forming a bond between objects.

発明の要約 レーザービームは導体を敷設する工程において、一連の
不連続なレーザービームパルスを接着剤に照射すること
により、容易に制御しうる態様で、その接着剤を活性化
するために用いられる。レーザーパルスはレーザービー
ムの断面(以下焦点と称する)、エネルギー源の効率、
接着剤の活性化要求などのような種々の条件に従って均
一なエネルギー量を含むように予めセットされる。レー
ザーパルスは導体の所定部分(インクリメント部分)が
導体供給に沿って敷設されるたび毎に放出される。この
ようにして導体回路に沿った各単位長さ、したがって単
位面積が敷設速度に関係なく実質上同一量のエネルギー
を受け取ることになる。したがって、この発明の方法
は、配線パターンを形成すべく接着剤を活性化し、導体
を敷設するための正確かつ単純な手段を提供するもので
ある。レーザーエネルギーはまた導体の終点において絶
縁物を剥がし、ハンダ付けし、かつ切断するためにも用
いることができる。
SUMMARY OF THE INVENTION Laser beams are used in the process of laying a conductor to activate the adhesive in a controllable manner by irradiating the adhesive with a series of discrete laser beam pulses. The laser pulse is a cross section of the laser beam (hereinafter called the focus), the efficiency of the energy source,
It is preset to contain a uniform amount of energy according to various conditions such as adhesive activation requirements. The laser pulse is emitted every time a predetermined portion (incremental portion) of the conductor is laid along the conductor supply. In this way, each unit length, and thus unit area, along the conductor circuit will receive substantially the same amount of energy regardless of the laying speed. Therefore, the method of the present invention provides an accurate and simple means for activating the adhesive and laying conductors to form the wiring pattern. Laser energy can also be used to strip, solder, and cut insulation at the end of conductors.

好ましい実施例の説明 第1図は、接着剤が基板面上に適用される場所において
敷設導体をレーザー接着するに適した敷設ヘッドを示す
ものである。基板(10)は適当な回路板材料であって、
なるべくなら制御移動可能なX−Yテーブル上に支持さ
れる。テーブルの位置決めは、なるべくならコンピュー
タプログラムに従ってデジタル制御される。敷設ヘッド
(12)は絶縁ワイヤ(14)を分配するものであり、その
分配をテーブル移動の方向に沿って行うように回転駆動
される。典型的な手順においてテーブルは一方向に移動
し、その間所定の導体長さを有するワイヤが敷設され、
次いでテーブルが停止し、導体配線における折り返しま
たは屈曲部を形成するためのヘッド回転が許容される。
次にテーブルはヘッド位置により示された新たな方向に
移動する。このような態様において基板面上への導体供
給が行われる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a laying head suitable for laser bonding laying conductors where the adhesive is applied to the surface of the substrate. The substrate (10) is a suitable circuit board material,
It is preferably supported on an XY table which can be controlled and moved. The positioning of the table is preferably digitally controlled according to a computer program. The laying head (12) is for distributing the insulated wire (14), and is rotationally driven so as to perform the distribution along the direction of table movement. In a typical procedure the table moves in one direction, during which wires with a given conductor length are laid,
Then, the table is stopped, and the head is rotated to form the folded portion or the bent portion in the conductor wiring.
The table then moves in the new direction indicated by the head position. In such an aspect, the conductor is supplied onto the substrate surface.

この実施例において絶縁ワイヤを基板面に接合すべく用
いられる接着剤槽(16)は前記基板面上に予め被覆され
る。
The adhesive bath (16) used to bond the insulated wire to the substrate surface in this embodiment is pre-coated on said substrate surface.

絶縁ワイヤはドライブロール(21)及び一対のアイドル
ロール(22)を含むワイヤ供給機構(20)を介して供給
される。ドライブロールはなるべくならワイヤがテーブ
ルによる基板移動速度と一致した速度において供給され
るように制御される。ワイヤはワイヤ供給機構からワイ
ヤガイド(23)を経て基板の接着剤被覆面に供給され
る。ワイヤは更に溝付ガイドローラ(24)により接着剤
層中に押し下げられる。前記ガイドローラ(24)はスプ
リング(28)により下向きに付勢された回動アーム(2
6)の自由端において支持されている。
The insulated wire is supplied through a wire supply mechanism (20) including a drive roll (21) and a pair of idle rolls (22). The drive roll is preferably controlled so that the wire is fed at a speed that matches the speed of substrate movement by the table. The wire is supplied from the wire supply mechanism to the adhesive coated surface of the substrate through the wire guide (23). The wire is further pushed into the adhesive layer by the grooved guide roller (24). The guide roller (24) has a rotating arm (2) that is urged downward by a spring (28).
It is supported at the free end of 6).

レーザービーム(30)はレンズ(32)により集束され、
更にミラー(34)から反射されて接着剤表面における絶
縁ワイヤと接着剤面との接点またはその僅か前方に入射
する。レーザービームはテーブルの増分的変位に従って
供給される一定のエネルギーパルスの形態をなしてお
り、その結果敷設中のワイヤの下側における接着剤を活
性化するものである。ローラはこのワイヤを軟化及び活
性化した接着剤層中に押し入れる。その後、接着剤は急
速に硬化してワイヤと基板との強固な接合を形成する。
The laser beam (30) is focused by the lens (32),
Further, the light is reflected from the mirror (34) and is incident on the contact point between the insulated wire on the adhesive surface and the adhesive surface or slightly ahead thereof. The laser beam is in the form of constant energy pulses delivered in accordance with the incremental displacement of the table, thus activating the adhesive on the underside of the wire being laid. The roller pushes this wire into the softened and activated adhesive layer. The adhesive then cures rapidly to form a strong bond between the wire and the substrate.

第2図は前記のローラ(24)に代えて超小型溝付ローラ
(40)を用いた別の実施例を示すものである。導体が平
行した導体上を跨ぐような回路板においては小型の埋設
用ローラを用いることにより、敷設中のワイヤを平行導
体間の基板面と接触するまで押し下げることが要求され
る。微細ワイヤ(例えば直径0.0025inの42AWGワイヤ)
の場合、埋設用ホイールは半径約0.015〜0.030in程度で
なければならない。第2B図において最も良く示す通り、
小型溝付ローラ(40)は後橋をベアリング(43)及び
(44)により支持されたロッド(42)の先端において機
械加工されたものである。このロッドはそれ自体が支持
する傘歯車(48)と係合する自由回転支持された傘歯車
(46)により下向きに付勢される。
FIG. 2 shows another embodiment in which a micro grooved roller (40) is used in place of the roller (24). In a circuit board in which conductors straddle parallel conductors, it is required to use a small embedding roller to push down the wire being laid until it comes into contact with the board surface between the parallel conductors. Fine wire (eg 0.0025in diameter 42AWG wire)
In the case of, the burial wheel must have a radius of about 0.015 to 0.030 in. As best shown in Figure 2B,
The small grooved roller (40) is a rear bridge machined at the tip of a rod (42) supported by bearings (43) and (44). The rod is urged downward by a bevel gear (46) which is freely rotatably supported and which engages with a bevel gear (48) which itself supports.

第3図は接着剤が分離供給され、ワイヤが超音波針によ
り接着剤層中に押し込まれるようにした別の実施例を示
すものである。接着剤フィルム(50)はドライブローラ
(52)及びアイドルローラ(53)間を通り、ワイヤ(1
4)と同時に前進する。この接着剤フィルムはワイヤよ
り僅かに広い幅を有する。フィルム(50)はローラ(5
2)及び(53)から供給されると、ガイド(54)を通過
して絶縁ワイヤの下側において基板上に敷設される。レ
ーザービーム(30)はミラー(34)より反射されて、基
板面と接触する直前における接着剤を活性化するもので
ある。
FIG. 3 shows another embodiment in which the adhesive is separately supplied and the wire is pushed into the adhesive layer by an ultrasonic needle. The adhesive film (50) passes between the drive roller (52) and the idle roller (53), and the wire (1
4) Move forward at the same time. The adhesive film has a width slightly wider than the wire. Film (50) is roller (5
When supplied from 2) and (53), they pass through the guide (54) and are laid on the substrate under the insulated wire. The laser beam (30) is reflected by the mirror (34) and activates the adhesive just before it comes into contact with the substrate surface.

超音波針(60)は超音波振動により付勢されるものであ
り、その先端においてワイヤを基板面上に位置付けるた
めのワイヤガイドとして作用する溝を有する。超音波針
は比較的小摩擦のワイヤガイドを提供し、これによって
ワイヤを活性化された接着剤層に押し込むものである。
超音波エネルギーは好ましくは実質的な無摩擦ガイドを
提供し、ワイヤを定位置に埋め込むに十分な低振幅レベ
ルに維持される。超音波針は接着剤を活性化すべく供給
されるエネルギーに重大な影響を与えるものではない。
超音波エネルギーは低いエネルギーレベルにおいて、絶
縁ワイヤの重大な冷間作用または破損を生じることなく
用いうることが確認されている。超音波針の下向きの力
はその固定節部(64)に取りつけられたスプリング(6
2)によって供給される。
The ultrasonic needle (60) is biased by ultrasonic vibration, and has a groove at its tip that acts as a wire guide for positioning the wire on the substrate surface. The ultrasonic needle provides a relatively low friction wire guide, which forces the wire into the activated adhesive layer.
The ultrasonic energy preferably provides a substantially frictionless guide and is maintained at a low amplitude level sufficient to implant the wire in place. The ultrasonic needle does not significantly affect the energy supplied to activate the adhesive.
It has been determined that ultrasonic energy can be used at low energy levels without significant cold action or breakage of the insulated wire. The downward force of the ultrasonic needle causes the spring (6
2) Supplied by.

第4A、4B及び4C図は、ワイヤの切断、剥離及びハンダ付
け、並びに接着剤の活性化を行うためのデユアルビーム
型実施例を示すものである。この実施例において接着剤
は絶縁ワイヤ上に予め被覆される。
Figures 4A, 4B and 4C show dual beam embodiments for cutting, stripping and soldering wires and activating adhesives. In this embodiment, the adhesive is pre-coated on the insulated wire.

被覆されたワイヤ(70)はドライブローラ(74)及び一
対のアイドルローラ(76)を含むワイヤ供給機構(72)
を介して供給される。しかるのち、ワイヤはワイヤガイ
ド(78)を通って溝付超音波針(80)の下側に導かれ
る。超音波針は第4A図に示すような基本形を有し、この
超音波針を包囲するコイル(82)に供給された高周波エ
ネルギーより生じた磁気歪みによって付勢される。この
ようにして付勢されると、超音波針の作用端が上下に振
動するようになる。
The coated wire (70) has a wire feeding mechanism (72) including a drive roller (74) and a pair of idle rollers (76).
Is supplied via. After that, the wire is guided to the lower side of the grooved ultrasonic needle (80) through the wire guide (78). The ultrasonic needle has a basic shape as shown in FIG. 4A and is energized by the magnetostriction generated by the high frequency energy supplied to the coil (82) surrounding the ultrasonic needle. When biased in this way, the working end of the ultrasonic needle vibrates up and down.

レーザ(84)は二本のビーム(86)及び(88)のいずれ
かを介して制御パルス状のレーザーエネルギーを提供す
る。実線位置におけるコイル(90)によりレーザーエネ
ルギーはミラー(92)(90)(94)から反射されてレン
ズ(95)を通り、更にミラー(96)に入射してそこから
反射し基板(10)と接触する被覆ワイヤの下側に入射す
る。ミラー(90)が破線で示す垂直位置(第4A図)にな
るとレーザーエネルギーはミラー(92)(97)(98)か
ら反射されてレンズ(99)を通り、ミラー(91)に入射
してそこから反射され敷設中の絶縁ワイヤの上側部に入
射する。第4B、4C図から明らかな通り、ミラー(91)か
ら反射されたレーザーエネルギーはワイヤクランプ(10
0)の開口を通過する。このワイヤクランプ(100)がワ
イヤの剥離、切断及びハンダ付工程においてワイヤを定
位置に保持するものである。
Laser (84) provides control pulsed laser energy via either of two beams (86) and (88). The laser energy is reflected from the mirrors (92), (90) and (94) by the coil (90) at the position of the solid line, passes through the lens (95), is incident on the mirror (96), and is reflected from there to be the substrate (10). It is incident on the underside of the covered coated wire. When the mirror (90) reaches the vertical position (Fig. 4A) indicated by the broken line, the laser energy is reflected from the mirrors (92) (97) (98), passes through the lens (99), and enters the mirror (91). It is reflected from and is incident on the upper part of the insulated wire being laid. As is clear from FIGS. 4B and 4C, the laser energy reflected from the mirror (91) is transferred to the wire clamp (10
Pass through the 0) opening. This wire clamp (100) holds the wire in place during the wire peeling, cutting and soldering steps.

典型的な手順において、ワイヤ端はワイヤ供給機構(7
2)によりクランプ(100)の下側位置に押し下げられ、
この状態で導体上の絶縁物を蒸発気化させるに十分なエ
ネルギーが、パルス状レーザービーム(88)として供給
される。この十分なエネルギーはまた導体を基板面上の
端子パッド(102)にはんだ付または溶接するためにも
供給される。次にX−Yテーブルは基板を敷設ヘッドに
より指示された方向に移動することにより直線的な導体
走行を可能にする。ビーム(86)からのレーザーエネル
ギーは接着剤をそれが基板と接触する前に活性化し、超
音波針(80)はワイヤを基板面に接触させるべく押し下
げるものである。接着剤が冷却されると、絶縁ワイヤと
基板との間の接合が形成される。折り返し点または屈曲
点が導体行路中において要求される場合には、テーブル
移動が停止し、敷設ヘッド(12)が導体の折り返しまた
は屈曲を形成するための新たな方向に回転し、次いでテ
ーブルが敷設ヘッド位置により指示された新たな方向に
移動する。導体の終端においてレーザーエネルギーはビ
ーム(88)により供給され、導体からは再び絶縁が剥が
され、基板上の端子パッドへのハンダ付または溶接が行
われる。この後でテーブルは僅かに移動し、これによっ
てビーム(88)を導体上において、端子パッドを僅かに
越えた位置に焦点を合わせられ、これにより妥当な波長
における十分なエネルギーが導体を切断するために供給
される。
In a typical procedure, the wire end is
2) is pushed down to the lower position of the clamp (100),
In this state, sufficient energy to vaporize the insulator on the conductor is supplied as a pulsed laser beam (88). This sufficient energy is also provided to solder or weld the conductor to the terminal pads (102) on the board surface. The XY table then enables linear conductor travel by moving the substrate in the direction indicated by the laying head. Laser energy from the beam (86) activates the adhesive before it contacts the substrate and the ultrasonic needle (80) pushes the wire down to contact the substrate surface. When the adhesive cools, a bond is formed between the insulated wire and the substrate. If folding or bending points are required in the conductor path, the table movement is stopped, the laying head (12) rotates in a new direction to form the folding or bending of the conductor, and then the table is laid. It moves in the new direction indicated by the head position. At the end of the conductor, laser energy is supplied by the beam (88) to de-insulate the conductor again and to solder or weld it to the terminal pads on the board. After this, the table is moved slightly so that the beam (88) is focused on the conductor, slightly beyond the terminal pad, so that sufficient energy at a reasonable wavelength cuts the conductor. Is supplied to.

第5図は第1〜4図に関して説明したレーザービームを
提供するための適当な制御システムを示すものである。
レーザはなるべくならON/OFF制御スイッチ(122)を介
してレーザ電源(120)より電力供給されるCO2レーザ
(110)からなっている。レーザは先端に圧電トランス
デューサ(112)及び(114)を装備した折り返し導波管
型であり、レーザ管内の空洞寸法が調節できるようにな
っている。PZTドライブ回路すなわち圧電ドライブ回路
(116)は圧電トランスデューサを制御してレーザ周波
数を制御せしめるようになっている。スイッチ(122)
がONに転じられると、電源(120)はレーザ管の空洞内
におけるガス媒体を通じる電流を維持する。この電流は
ガスを基本的に励起してレーザービームを発生せしめ
る。
FIG. 5 illustrates a suitable control system for providing the laser beam described with respect to FIGS.
The laser preferably comprises a CO 2 laser (110) powered by a laser power supply (120) via an ON / OFF control switch (122). The laser is a folded-waveguide type equipped with piezoelectric transducers (112) and (114) at the tip, and the cavity size inside the laser tube can be adjusted. A PZT drive circuit or piezoelectric drive circuit (116) controls the piezoelectric transducer to control the laser frequency. Switches (122)
When is turned on, the power supply (120) maintains the current through the gas medium within the cavity of the laser tube. This current basically excites the gas to produce a laser beam.

CO2レーザは接着剤を活性化し導体における絶縁物を剥
がすための理想的な熱線である波長10.6ミクロンのレー
ザーエネルギーを発生し、一方導体はこの波長に対して
は大きい反射性を有し、このレーザーエネルギーによっ
て実質的に影響を受けないものである。
The CO 2 laser produces laser energy at a wavelength of 10.6 microns, which is an ideal heat ray for activating the adhesive and stripping the insulation in the conductor, while the conductor is highly reflective for this wavelength. It is virtually unaffected by laser energy.

コンピュータ(130)はX−Yテーブル(132)の位置、
並びに回路(138)を介する敷設ヘッドの方向の制御を
行うために用いられる。テーブルのX位置はX位置カウ
ンタ(134)におけるカウントに従って、またテーブル
(132)のY位置はY位置カウンタ(136)中のカウント
に従ってそれぞれ決定される。各カウンタのアップ入力
及びダウン入力にはコンピュータ(130)よりパルスが
供給され、それらのカウントをそれぞれ増加または減少
する。テーブル(132)の各増分移動はコンピュータ(1
30)からのパルスに応答して行われる。これらのパルス
は更に5入力ORゲート(140)の4つの分離した入力に
供給される。
The computer (130) is located on the XY table (132),
And used to control the orientation of the laying head through the circuit (138). The X position of the table is determined according to the count in the X position counter (134), and the Y position of the table (132) is determined according to the count in the Y position counter (136). A pulse is supplied from the computer (130) to the up input and the down input of each counter to increase or decrease their count, respectively. Each incremental move of the table (132)
30) in response to the pulse from. These pulses are also fed to the four separate inputs of the 5-input OR gate (140).

ORゲートの出力はパルストリガー回路(142)に供給さ
れ、この回路(142)はパルス幅制御回路(144)を介し
てON/OFF制御スイッチ(122)を制御する。トリガー回
路(142)からの各パルスはパルス幅制御回路(144)よ
り制御された所定の時間周期にわたってレーザをONにす
るものである。パルス幅は回路(146)により調整さ
れ、これによりパルスエネルギー量が周囲条件に従って
調整される。
The output of the OR gate is supplied to the pulse trigger circuit (142), and this circuit (142) controls the ON / OFF control switch (122) via the pulse width control circuit (144). Each pulse from the trigger circuit (142) turns on the laser for a predetermined time period controlled by the pulse width control circuit (144). The pulse width is adjusted by the circuit (146), which adjusts the amount of pulse energy according to ambient conditions.

デュアルビーム型の実施例(第4図)において、ミラー
(90)はレーザーエネルギーを接着剤活性化用のビーム
(86)または剥離、ハンダ付及び切断用のビーム(88)
となるように方向付ける。ミラー位置は、ミラー位置決
め回路(148)を介してコンピュータ(130)により制御
される。ワイヤ敷設工程中、ミラー(90)はその実線で
示した位置においてレーザーエネルギーパルスをビーム
(86)としてワイヤの下側に照射する。
In the dual-beam embodiment (FIG. 4), the mirror (90) uses a laser energy beam (86) for activating adhesive or a beam (88) for peeling, soldering and cutting.
Orient it to be The mirror position is controlled by a computer (130) via a mirror positioning circuit (148). During the wire laying process, the mirror (90) emits a laser energy pulse as a beam (86) to the underside of the wire at the position indicated by its solid line.

剥離、切断及びハンダ付工程の場合、回路(148)はミ
ラー(90)を破線で示す位置(第4図)に位置決めす
る。これによってレーザーエネルギーはビーム(88)と
して絶縁ワイヤの上側部に導かれる。テーブルはこれら
の動作中において静止しているため、連続したレーザー
パルスは導体上の同一標的領域を加熱し、したがって大
量のレーザーエネルギーが同一の面に供給されることに
なる。コンピュータ出力(149)はORゲート(140)に供
給され、これらの動作のためのトリガーパルスを提供す
る。必要ならパルスはカウンタ(134)及び(136)に周
期的に供給され、剥離またはハンダ付工程を通じてゆる
やかなテーブル移動を提供するものである。切断動作の
場合、比較的短い波長のレーザーエネルギーを用いるこ
とにより、比較的大きいエネルギーを銅に好ましく吸収
させることができる。波長1.06ミクロンのネオジム混入
イットリウム−アルミニウム−ガーネットレーザは、切
断工程のために好ましく用いられる。接着剤を活性化
し、かつ基板面上に導体を敷設すべく用いられるレーザ
ービームは、一定の空間的及び時間的制約内において注
意深く形成及び制御されなければならない。すなわちレ
ーザービームの注意深い形成及び制御は、接着剤が十分
なエネルギーを受け取って導体を接合すべく活性化され
ることを可能にするものである。レーザーエネルギーが
適正に形成及び制御されなければ、導体と基板表面との
接合は不十分となり、接合部は空隙等を有する不確実な
ものとなる。他方、過大なエネルギーが供給されると、
導体または被覆材料が損傷を受ける場合がある。
In the case of the peeling, cutting and soldering steps, the circuit (148) positions the mirror (90) at the position indicated by the broken line (FIG. 4). This directs the laser energy as a beam (88) to the upper side of the insulated wire. Since the table is stationary during these operations, successive laser pulses heat the same target area on the conductor, thus delivering a large amount of laser energy to the same surface. The computer output (149) is provided to the OR gate (140) and provides the trigger pulses for these operations. Pulses are provided to counters (134) and (136) periodically, if necessary, to provide slow table movement through the stripping or soldering process. In the case of the cutting operation, the relatively large energy can be favorably absorbed by copper by using the laser energy having the relatively short wavelength. A neodymium-doped yttrium-aluminum-garnet laser with a wavelength of 1.06 micron is preferably used for the cutting process. The laser beam used to activate the adhesive and lay the conductor on the substrate surface must be carefully shaped and controlled within certain spatial and time constraints. That is, careful formation and control of the laser beam allows the adhesive to receive sufficient energy to be activated to bond the conductors. If the laser energy is not properly formed and controlled, the conductor will not be sufficiently joined to the surface of the substrate, resulting in an uncertain bond having voids. On the other hand, if excessive energy is supplied,
The conductor or coating material may be damaged.

本発明の方法は、これらの問題点を排除し、導体の全長
に沿って接着剤の確実な活性化を達成するものである。
このため接着剤の単位面積当たり受け取られる全エネル
ギー量は、接着剤の表面に沿って移動するレーザービー
ム入射線の速度と関係なく一定にすべきである。
The method of the present invention eliminates these problems and achieves reliable activation of the adhesive along the entire length of the conductor.
Therefore, the total amount of energy received per unit area of adhesive should be constant regardless of the velocity of the laser beam incident line traveling along the surface of the adhesive.

すでに述べた通り、接着剤は基板の表面に配置される
か、または導体それ自体の上に被覆され、もしくは個々
に供給されるものである。入射レーザービームは接着剤
上において導体行路に沿いながら敷設ヘッドと共に移動
する。一定のエネルギー量子はパルス状に放射され、接
着剤の所定領域に受け入れられる。この時導体行路の定
まった長さが敷設ヘッド及び入射レーザービームによっ
て横切られる。接着剤が活性化されると、導体は基板面
上に配置される。接着剤がレーザービームから受け取っ
たエネルギーを失うと、それは非接着状態に戻り、導体
とその導体が敷設された基板面との接合を形成する。パ
ルス状レーザービームはワイヤ上、または基板面上の接
着剤に向かって照射され、入射ビームの軌跡は基板面上
において敷設ヘッドが導体をその基板面に接触配置する
位置または直前の位置を辿るものである。
As already mentioned, the adhesive is either placed on the surface of the substrate or coated on the conductor itself or supplied individually. The incident laser beam travels with the laying head along the conductor path on the adhesive. A constant energy quantum is emitted in pulses and is received by a predetermined area of the adhesive. At this time, a fixed length of the conductor path is traversed by the laying head and the incident laser beam. When the adhesive is activated, the conductor is placed on the substrate surface. When the adhesive loses the energy it receives from the laser beam, it returns to its non-bonded state, forming a bond between the conductor and the surface of the substrate on which the conductor is laid. The pulsed laser beam is directed toward the adhesive on the wire or the substrate surface, and the trajectory of the incident beam follows the position on the substrate surface where the laying head makes contact with the conductor or immediately before that position. Is.

レーザービームパルスの全ては実質的に等しいエネルギ
ー量を有する。パルスのエネルギーはパルス振幅または
パルスのパワーレベルとパルス幅またはパルス持続時間
との積である。各パルスは少なくともそれが入射する領
域に、導体敷設に要する時間周期を通じて接着性を与え
るに十分なエネルギーを有するべきである。パルスエネ
ルギーは接着剤の“C段階”硬化または被覆領域に対す
る損傷を生ずるレベルより低くしなければならない。パ
ルスエネルギーは敷設工程の開始に先立ってセットされ
る。
All of the laser beam pulses have substantially equal amounts of energy. The energy of a pulse is the product of the pulse amplitude or power level of the pulse and the pulse width or pulse duration. Each pulse should have sufficient energy, at least in the area where it is incident, to provide adhesion throughout the time period required to lay the conductor. The pulse energy must be below a level that causes "C-stage" cure of the adhesive or damage to the coated area. The pulse energy is set prior to the start of the laying process.

レーザーエネルギーのパルスは接着剤に沿って増分間隔
が進められる毎に放出される。したがって単位時間当た
り放射されるパルス数、即ちパルス繰り返し速度は、単
位時間当たりの移動間隔として必然的に変化する。換言
すれば、それは敷設速度の関数として変化するものであ
る。
A pulse of laser energy is emitted as the incremental spacing is advanced along the adhesive. Therefore, the number of pulses emitted per unit time, that is, the pulse repetition rate necessarily changes as the movement interval per unit time. In other words, it changes as a function of laying speed.

この発明の方法によれば、敷設速度の変動と関係なく接
着剤の各単位面積により受け取られるエネルギー量は一
定に維持される。この結果、敷設される導体の全長に沿
って均一、かつ確実な接合が形成される。
According to the method of the invention, the amount of energy received by each unit area of adhesive is kept constant regardless of variations in the laying speed. As a result, a uniform and reliable joint is formed along the entire length of the laid conductor.

敷設素子は敷設面上において所望の導体位置を瞬間的に
維持するものであるが、敷設ヘッドが移動するとき導体
位置を制御する能力が失われる。したがって接着剤は所
望の位置を維持するため導体と基板面との間の接合を迅
速に形成すべきである。
The laying element is intended to momentarily maintain the desired conductor position on the laying surface, but at the expense of the ability to control the conductor position as the laying head moves. Therefore, the adhesive should quickly form the bond between the conductor and the substrate surface to maintain the desired position.

なるべくなら、活性化後の接着剤は所望の導体位置を維
持するため、約50〜200ミリ秒以内で接合を形成するよ
うに非接着性状態を回復すべきである。接着剤を活性化
するためにのみ十分な所定の制御エネルギーパルスを用
いることの一つの利点は、接着剤が加熱、活性化及び熱
エネルギーを失うまでの時間(熱サイクル)が比較的短
縮されるということである。接着剤を活性化するに必要
なエネルギー量に、放出エネルギー量を整合させること
により、熱サイクルの期間が減少し、必要な接合は過大
なエネルギーを加える場合よりも比較的速やかに形成さ
れる。
If possible, the adhesive after activation should restore the non-adhesive state to form a bond within about 50 to 200 milliseconds to maintain the desired conductor position. One advantage of using a predetermined control energy pulse that is only sufficient to activate the adhesive is that the time it takes for the adhesive to heat, activate, and lose thermal energy (thermal cycle) is relatively short. That's what it means. By matching the amount of energy released to the amount of energy required to activate the adhesive, the duration of thermal cycling is reduced and the required bond is formed relatively quickly than if too much energy is applied.

なるべくなら、レーザーパルスのエネルギーレベルは、
導体施設に用いられる特定の接着剤を活性化するに必要
な最小エネルギーに予めセットされる。このセットを決
定するため敷設工程において用いられるべき接着剤は焼
付けられ、接着剤が接着性を具現するに必要な温度上昇
が特定される。ここでレーザービームは接着剤の特定の
面積およびその面積において可能な最短時間をもってパ
ルス化される。パルスエネルギーレベルは、温度を接着
剤が粘着性を帯びるに十分な程度まで信頼性よく上昇さ
せるレベルを見出すために調整される。
If possible, the energy level of the laser pulse is
It is preset to the minimum energy required to activate the particular adhesive used in the conductor facility. The adhesive to be used in the laying process to determine this set is baked and the temperature rise required for the adhesive to achieve adhesiveness is identified. Here, the laser beam is pulsed with a specific area of adhesive and with the shortest time possible in that area. The pulse energy level is adjusted to find a level that reliably raises the temperature to a sufficient degree that the adhesive becomes tacky.

敷設導体に沿った入射エネルギーパルスの間隔は、敷設
工程を実施する前にセットすることができる。この間隔
は導体の長さに沿った連続した接合を可能にするに十分
な小間隔でなければならない。連続接合の範囲は敷設導
体の顕微鏡的な検査により決定される。ギャップまたは
リップルが現れると、その部分の接着剤は活性化されな
くなる。このような不連続性の発生はレーザービームの
“スポットサイズ”を調整することにより、及びパルス
エネルギーレベルを調整することにより補正される。
The spacing of the incident energy pulses along the laid conductor can be set prior to performing the laying process. This spacing should be small enough to allow continuous bonding along the length of the conductor. The extent of continuous joining is determined by microscopic inspection of the laid conductor. When a gap or ripple appears, the adhesive in that part is no longer activated. The occurrence of such discontinuities is corrected by adjusting the "spot size" of the laser beam and by adjusting the pulse energy level.

スポットサイズは可能な限り小さいことが望ましい。し
かしながら、スポットサイズが余り小さくなれば、レー
ザービームが導体及びその上の接着剤から外れるという
僅かな誤整列を生ずる場合がある。好ましくはスポット
サイズ直径は導体径の約4〜5倍の大きさである。スポ
ットサイズは敷設領域を包囲する装置を加熱し、損傷及
び異常を生ずることがないような範囲に制限されるべき
である。
The spot size should be as small as possible. However, if the spot size becomes too small, it may cause a slight misalignment of the laser beam off the conductor and the adhesive on it. Preferably the spot size diameter is about 4-5 times the conductor diameter. The spot size should be limited to the extent that it will not damage the equipment surrounding the installation area and cause damage and abnormalities.

スポットにおけるエネルギー分布は変化しうるが、これ
はエネルギーの大部分がスポットの中心に集中し、した
がってエネルギー密度が周辺に向かうに従って減少する
ような1ローブガウス分布であることが望ましい。導体
に沿って安定な活性化レベルを維持するため、レーザー
パルス相互の間隔はスポット間の重複を生じる程度にす
べきである。重複の範囲はパルスエネルギーの分布に応
じたものとなる。エネルギー分布が拡散すればするほど
重複が大きくなることは明らかである。なるべくなら、
スポットはその直径の約10〜90%までの範囲で重複すべ
きである。より好ましくは、それらがスポット径の約80
%重複すべきである。
The energy distribution at the spot may vary, but it is preferably a one-lobe Gaussian distribution such that most of the energy is concentrated in the center of the spot and therefore the energy density decreases towards the periphery. In order to maintain a stable activation level along the conductor, the spacing between laser pulses should be such that there is overlap between spots. The range of overlap depends on the pulse energy distribution. Obviously, the more diffuse the energy distribution, the greater the overlap. If possible,
The spots should overlap within about 10-90% of their diameter. More preferably, they are about 80 spot diameters.
% Should overlap.

導体を接着剤層の被覆面に敷設するときにはパルス型CO
2レーザが好ましく用いられる。レーザーパルスの振幅
はなるべくなら約5〜10ワットである。パルス幅は約50
〜2000マイクロ秒である。パルス間隔はなるべくなら約
0.002〜0.010inである。スポットの直径は好ましくは約
0.007〜0.03inである。敷設速度は1秒間当たり約0〜1
5inである。しかしながら、敷設速度は敷設装置の上限
に応じて高めることができる。当然ながら、これらのパ
ラメータの好ましい範囲は使用する接着剤に応じて変化
するものである。
When laying the conductor on the coated surface of the adhesive layer, pulse type CO
Two lasers are preferably used. The laser pulse amplitude is preferably about 5-10 watts. Pulse width is about 50
~ 2000 microseconds. The pulse interval should be about
It is 0.002-0.010 in. The diameter of the spot is preferably about
It is 0.007 to 0.03 in. Laying speed is about 0 to 1 per second
5 in. However, the laying speed can be increased depending on the upper limit of the laying device. Of course, the preferred range for these parameters will vary depending on the adhesive used.

レーザービームパルスにより粘着性及び接着性を付与さ
れることができ、導体及び基板表面間の接合を形成する
ことができる何らかの接着剤は、この発明の方法に従っ
て導体を敷設するために用いることができる。接着剤と
しては熱可塑性または熱硬化性樹脂を用い得るが、それ
はなるべくなら熱可塑性及び熱硬化性の双方の性質を有
することが望ましい。
Any adhesive that can be made tacky and adhesive by a laser beam pulse and that forms a bond between the conductor and the substrate surface can be used to lay the conductor according to the method of this invention. . A thermoplastic or thermosetting resin can be used as the adhesive, and it is desirable that it has both thermoplastic and thermosetting properties.

レーザービームのパワーレベルは密封されたレーザの信
号出力が、その使用時間を通じて減衰するため、使用中
において変動することになる。更に単一の敷設手順にお
いては、信号の瞬間的な変動が起こりうるものである。
本発明の方法はパワー出力における僅かな変動を補償す
るための好ましい手段を提供するものである。
The power level of the laser beam will fluctuate during use as the signal output of the sealed laser decays throughout its use. Furthermore, in a single installation procedure, momentary fluctuations in the signal are possible.
The method of the present invention provides a preferred means for compensating for small variations in power output.

シールされたレーザービームのパワーレベルは時間的に
サンプリングされるべきである。パワー出力が変動する
と、接着剤に到達するエネルギーが減少する。この発明
によれば、接着剤に到達するエネルギーはパルス幅もし
くは振幅を増大させることにより、またはパルス間隔を
減少することにより(入射パルスの接着剤上への重複の
増加)単純に増大されうるものである。これはパルス繰
り返し速度の増大に等しい。
The power level of the sealed laser beam should be sampled in time. As power output fluctuates, less energy reaches the adhesive. According to the invention, the energy reaching the adhesive can be simply increased by increasing the pulse width or amplitude or by decreasing the pulse spacing (increasing the overlap of the incident pulses onto the adhesive). Is. This equates to an increase in pulse repetition rate.

密封されないレーザが用いられる場合、平均パワー出力
はビームの小部分(約5〜10%)を分割し、そのパワー
レベルを測定することにより測定される。前記分割した
ビームのパワーレベルが変化するとき、ビームの主要部
分のパワーレベルも当然変化するため、パルス幅はパワ
ー変動を補償すべく変えることができる。
If an unsealed laser is used, the average power output is measured by splitting a small portion of the beam (about 5-10%) and measuring its power level. When the power level of the split beam changes, the power level of the main part of the beam naturally changes, so the pulse width can be changed to compensate for the power fluctuation.

導体敷設速度は約0〜10in/秒の範囲で変化し、ワイヤ
供給機構の動作速度により通常制限されるものである。
しかしながら、妥当な接合は15in/秒を上回る速度にお
いて達成することができる。
The conductor laying speed varies from about 0 to 10 in / sec and is usually limited by the operating speed of the wire feeding mechanism.
However, reasonable bonding can be achieved at speeds above 15 in / sec.

実施例1 この実施例においては、配線回路板のパワー接続及び接
地接続のための導体パターンが回路板業界において“FR
−4"ボードとして知られた銅被覆エポキシ−ガラス成層
基板の銅面にエッチング形成されたものである。銅線か
らなる導通部分を有し、全体の直径1.5mmの絶縁導体が
敷設素子としての鉄筆状敷設針を用いて接着剤表面上に
敷設された。CO2レーザ(アメリカ合衆国のコヒーレン
ト コーポレイションよりエバーレース150TMとして市
販されている)は、敷設工程において接着剤を活性化す
るために用いられた。エバーレース150TMのレーザ源の
妥当なパワー出力は約150Wであった。使用した接着剤の
ために必要なパルス当たりのパワー出力は約5〜10Wの
範囲であった。ビームのエネルギー分布モードは横向き
電磁モードTEM00であって、1ローブガウス曲線モード
となるように選択された。
Embodiment 1 In this embodiment, a conductor pattern for power connection and ground connection of a printed circuit board is "FR" in the circuit board industry.
It is a copper-coated epoxy-known as a 4 "board-etched on the copper side of a glass laminated substrate. It has a conducting part made of copper wire and an insulated conductor with a total diameter of 1.5 mm as a laying element. A CO 2 laser (commercially available as Everlace 150 from Coherent Corporation of the United States) was used to activate the adhesive during the laying process. The reasonable power output of the laser source for Everlace 150 TM was about 150 W. The power output per pulse required for the adhesive used was in the range of about 5-10 W. Beam energy distribution The mode was the transverse electromagnetic mode TEM 00 and was selected to be the one lobe Gaussian curve mode.

次の固形成分を有する接着剤層は熱及び圧力を加えてエ
ポキシ−ガラスラミネート状に成層化された。
The following adhesive layer with solid components was layered into an epoxy-glass laminate by applying heat and pressure.

固形分 アクリロニトリル−ブラジエン共重合体ゴム 26.9% アルキルフェノールレゾール樹脂 13.4% ビスフェノールAlのジグリセリドエーテル 分子量約1000 8.9% クロルスルフォン酸ポリエチレンゴム 8.9% ヘキサメチルトリアミンを含むフェノール ノボラック形樹脂 13.4% ジルコニウムケイ酸塩(フィラ) 17.9% パラジウムクロライド液状エポキシ樹脂 反応生成物(10%パラジウムによる) 2.6% ヒュームドシリカ 4.5% 流動剤−フェノールシラン 0.9% 銅フタロシアニン顔料 2.6% 成層工程に先立ち、組成物には溶剤として3〜6%のセ
ロソルブアセテート、ハイフラッシュナフサ及びメチル
エチルケトンを含むものであった。
Solid content Acrylonitrile-Bradiene copolymer rubber 26.9% Alkylphenol resole resin 13.4% Diglyceride ether of bisphenol Al Molecular weight approx. ) 17.9% Palladium chloride liquid epoxy resin Reaction product (10% with palladium) 2.6% Fumed silica 4.5% Fluidizer-phenolsilane 0.9% Copper phthalocyanine pigment 2.6% Prior to the layering step, the composition contains 3-6 as a solvent. % Cellosolve acetate, high flush naphtha and methyl ethyl ketone.

レーザからのビーム出力サイズはそのビームがレーザー
装置の光学系を通過する前の素ビーム系において10mmで
あった。素ビームは光学系を通過して集束され、約0.5m
mの幅と約0.75mmの長さを有する楕円形スポットとなる
ように所定の角度をもって、接着剤面に入射し、パルス
幅(持続時間)は100マイクロ秒となるように選定され
た。またパルス間隔(距離)は0.1mmに選定された。レ
ーザービームは敷設針の手前約0.25mmの点に入射し、こ
れによって敷設工程中に活性化された接着剤の領域が敷
設針から0.25mm離れ、この点において導体が当接される
ようにした。125mm/秒の敷設速度において導体の全長に
わたり、基板に対する均一な接合が得られた。
The beam output size from the laser was 10 mm in the elementary beam system before the beam passed through the optics of the laser system. The elementary beam passes through the optical system and is focused to approximately 0.5 m.
The pulse width (duration) was selected to be 100 microseconds, incident on the adhesive surface at a given angle to give an elliptical spot with a width of m and a length of about 0.75 mm. The pulse interval (distance) was selected to be 0.1 mm. The laser beam was incident on a point about 0.25 mm in front of the laying needle, which caused the area of the adhesive activated during the laying process to be 0.25 mm away from the laying needle, at which point the conductor abuts. . A uniform bond to the substrate was obtained over the entire length of the conductor at a laying speed of 125 mm / sec.

実施例2 細長有形ワイヤ導体としては、例えば約0.5μmの厚さ
だけ銀メッキされた38awg(アメリカ合衆国ワイヤゲー
ジ)、すなわち0.1mmの直径を有する銅線が用いられ、
これには厚さ38μmのポリウレタン絶縁物層が被覆され
た。導体には更に次のような乾燥重量組成を有する接着
剤の被覆が形成された。すなわち接着剤の乾燥重量組成
は、高分子量ポリウレタンアクリレート100g、エポキシ
アクリレート15g、トルエンジイソシアネートのポリイ
ソシアン酸塩9.8g、紫外線硬化剤3.5g、そして4−メタ
オキシフェノール0.5gであった。
Example 2 As the elongated tangible wire conductor, for example, 38 awg (United States Wire Gauge) silver-plated with a thickness of about 0.5 μm, that is, a copper wire having a diameter of 0.1 mm is used.
It was coated with a 38 μm thick layer of polyurethane insulation. The conductor was further coated with an adhesive having a dry weight composition as follows. That is, the dry weight composition of the adhesive was 100 g of high molecular weight polyurethane acrylate, 15 g of epoxy acrylate, 9.8 g of polyisocyanate of toluene diisocyanate, 3.5 g of ultraviolet curing agent, and 0.5 g of 4-metaoxyphenol.

対応する湿潤重量組成は次の通りである。すなわち高分
子量ポリウレタンアクリレート333.3g(32%溶液)、エ
ポキシアクリレート15g、ポリイソシアン酸塩19.6g(50
%溶液)、紫外線硬化剤3.5g4−メタオキシフェノール
0.5g、そしてトルエンが全体の7重量%であった。
The corresponding wet weight composition is as follows: That is, 333.3 g of high molecular weight polyurethane acrylate (32% solution), 15 g of epoxy acrylate, 19.6 g of polyisocyanate (50
% Solution), UV curing agent 3.5 g 4-metaoxyphenol
0.5g, and 7% by weight of toluene.

レーザーエネルギー源としてはアメリカ合衆国のラーク
マンエレクトロオプチック社のモデルRF165レーザが採
用された。モデルRF165は高周波励起導波管を有する密
封型CO2レーザである。そのパワー出力は20W CW(conti
nuous wave)ガウス(TEM)ビーム型で、最大変調周波
数10KHZである。
A model RF165 laser from Larkman Electro-Optics of the United States was used as the laser energy source. The model RF165 is a hermetically sealed CO 2 laser with a high frequency pump waveguide. Its power output is 20W CW (conti
nuous wave) Gaussian (TEM) beam type with a maximum modulation frequency of 10KHZ.

レーザーエネルギーはパルスビーム型においてワイヤ導
体に向かって放出され、そのパルス幅(持続時間)は約
200マイクロ秒である。スポットはほぼ円形であり、そ
の直径は約1mm(0.04in)である。ビームは導体が約0.2
mm(0.008in)敷設されるときパルス付勢される。敷設
速度は約5m/分である。スポットサイズ及びパルス周波
数は導体の各部が約5個のレーザーパルスを受けるよう
に調整される。活性化された接着剤被覆層がエネルギー
を失うと、それは非接着性となり、約200m秒以内に表面
との接合を形成する。
Laser energy is emitted toward the wire conductor in pulsed beam form, and its pulse width (duration) is about
200 microseconds. The spot is approximately circular and its diameter is about 1 mm (0.04 in). The beam is about 0.2 conductor
Pulse energized when laid in mm (0.008 in). The laying speed is about 5 m / min. The spot size and pulse frequency are adjusted so that each part of the conductor receives about 5 laser pulses. When the activated adhesive coating loses energy, it becomes non-adhesive and forms a bond with the surface within about 200 ms.

所定のパターンの全導体が基板上に敷設されると、接着
剤被覆層は紫外線に露出することにより完全に硬化され
る。
When all the conductors of a predetermined pattern are laid on the substrate, the adhesive coating layer is completely cured by exposure to ultraviolet light.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は絶縁ワイヤを接着剤被覆層を有する基板上にレ
ーザー接合するための敷設用ヘッドを示す断面図、第2
図は微細ワイヤを使用するために設計された第1図と同
様な敷設ヘッドを示す断面図、第3図は接着剤が個々に
隔離状に供給されるようにした本発明の別の実施例によ
る敷設ヘッドを示す断面図、第4A、4B、及び4C図は接着
剤がワイヤ上に供給及び被覆されるようにしたデュアル
レーザビーム型の実施例を示す異なった倍率による断面
図、第5図はレーザ発振器のための制御回路を示すブロ
ック線図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a laying head for laser-bonding an insulated wire onto a substrate having an adhesive coating layer, and FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a laying head similar to FIG. 1 designed to use fine wires, and FIG. 3 is another embodiment of the present invention in which adhesive is individually supplied in an isolated manner. Figures 4A, 4B, and 4C show a laying head according to Figure 4, showing different laser beam embodiments in which the adhesive is applied and coated on the wires, at different magnifications, and Figure 5. FIG. 3 is a block diagram showing a control circuit for a laser oscillator.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レイモンド ジェイ、キオー アメリカ合衆国、ニューヨーク州 11746、 ハンチントン、ホワイトホール ドライブ 19 (72)発明者 ジョナサン クラーク クローエル アメリカ合衆国、マサチューセッツ州 02347、レイクビル、リンカン ストリー ト 12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Raymond Jay, Kior, New York, USA 11746, Huntington, Whitehall Drive 19 (72) Inventor Jonathan Clark Crawel, USA 02347, Lakeville, Lincoln Street 12

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板面上に所定のパターンで導体を敷設す
るための方法において、(a)導体を用意する段階と、
(b)前記導体を基板面上に敷設する段階と、(c)前
記導体を前記基板面上に敷設する前、または敷設すると
同時にレーザーエネルギーを照射することにより活性化
される接着剤を用いて、前記基板面上に接合する段階と
を含み、前記方法が更に、 実質上同一のエネルギー量を有するレーザービーム
パルスを発生し、 前記レーザービームパルスを前記導体と前記基板との
間の接着剤に実質的に照射することにより、前記導体が
敷設されるときに前記接着剤を活性化し、更に 導体の各長さ増分が敷設されるとき、1個のパルスが
照射されるように前記パルスをタイミング設定する ことを特徴とする配線回路板の製造方法。
1. A method for laying a conductor in a predetermined pattern on a substrate surface, the method comprising: (a) preparing a conductor;
(B) laying the conductor on the substrate surface, and (c) using an adhesive that is activated by irradiating laser energy before or at the same time as laying the conductor on the substrate surface. Bonding to the surface of the substrate, the method further comprising generating a laser beam pulse having substantially the same amount of energy, the laser beam pulse being applied to the adhesive between the conductor and the substrate. Substantially irradiating activates the adhesive as the conductor is laid, and timing the pulses such that one pulse is radiated as each length increment of the conductor is laid. A method for manufacturing a printed circuit board, which is characterized by:
【請求項2】前記パルスエネルギー量が前記導体の敷設
を行う前に調整され、敷設中において一定に維持される
ようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the pulse energy amount is adjusted before the conductor is laid and is kept constant during the laying.
【請求項3】前記接着剤へのレーザー照射領域が連続し
たパルスにより重複照射されるように、前記タイミング
を設定することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the timing is set so that the laser irradiation area on the adhesive is overlapped by continuous pulses.
【請求項4】前記照射領域がビーム直径の10〜90%程度
重複照射されるようにしたことを特徴とする特許請求の
範囲第(3)項記載の方法。
4. The method according to claim 3, wherein the irradiation area is overlapped by about 10 to 90% of the beam diameter.
【請求項5】前記照射領域がビーム直径の約80%分重複
照射されるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
第(4)項記載の方法。
5. The method according to claim 4, wherein the irradiation area is overlapped by about 80% of the beam diameter.
【請求項6】接着剤が導体敷設工程に先立って基板面上
に適用されることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
記載の方法。
6. A method according to claim 1, wherein the adhesive is applied on the surface of the substrate prior to the conductor laying step.
【請求項7】接着剤が導体敷設工程に先立って導体上に
被覆されるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein the adhesive is coated on the conductor prior to the conductor laying step.
【請求項8】接着剤が導体敷設工程中において供給され
るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
記載の方法。
8. The method according to claim 1, wherein the adhesive is supplied during the step of laying the conductor.
【請求項9】導体が絶縁導体であり、少なくとも前記絶
縁導体の両端が十分なエネルギー及び適当な波長を有す
るレーザービームを照射することにより、その絶縁被覆
を剥がされるようにしたことを特徴とする特許請求の範
囲第(1)項記載の方法。
9. A conductor is an insulated conductor, and at least both ends of the insulated conductor are irradiated with a laser beam having sufficient energy and an appropriate wavelength so that the insulating coating can be peeled off. The method according to claim (1).
【請求項10】前記十分なエネルギー及び適当な波長を
有するレーザービームが第2のレーザービームであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(9)項記載の方法。
10. A method according to claim 9 wherein the laser beam having sufficient energy and a suitable wavelength is a second laser beam.
【請求項11】基板がハンダ付け端子点を含み、導体の
少なくとも一端が第2のレーザービームを照射すること
により前記端子点において剥離され、かつハンダ付けさ
れることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の方
法。
11. A substrate including soldering terminal points, wherein at least one end of the conductor is peeled off and soldered at the terminal points by irradiating a second laser beam. The method described in paragraph (1).
【請求項12】導体が基板上の2端子間に敷設されるも
のであり、その場合において導体が第2の端子点に到達
したのち、十分なエネルギー及び適当な波長を有するレ
ーザービームを照射することにより切断されることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
12. A conductor is laid between two terminals on a substrate, in which case the conductor is irradiated with a laser beam having sufficient energy and an appropriate wavelength after reaching the second terminal point. The method according to claim (1), characterized in that the method is used to cut.
【請求項13】前記第2のレーザービームが少なくとも
工程中の一時限において100%重複照射されるレーザー
エネルギーのパルス列を発生するものであることを特徴
とする特許請求の範囲第(9)、(10)又は(11)項に記載の
方法。
13. The method according to claim 9, wherein the second laser beam generates a pulse train of laser energy that is 100% overlap-irradiated at least during a temporary period during the process. The method according to item 10) or (11).
【請求項14】前記導体を切断するために採用したレー
ザービームが異なった波長及びエネルギーレベルを有す
るものであることを特徴とする特許請求の範囲第(12)項
記載の方法。
14. A method according to claim 12 wherein the laser beams employed to cut the conductors have different wavelengths and energy levels.
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