JPH0766272A - ウェーハ保管、運搬ボックス - Google Patents
ウェーハ保管、運搬ボックスInfo
- Publication number
- JPH0766272A JPH0766272A JP21539093A JP21539093A JPH0766272A JP H0766272 A JPH0766272 A JP H0766272A JP 21539093 A JP21539093 A JP 21539093A JP 21539093 A JP21539093 A JP 21539093A JP H0766272 A JPH0766272 A JP H0766272A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- box
- wafer
- adsorbent
- upper lid
- clean
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウェーハ運搬、保管ボックスの清浄度を確保
する。 【構成】 ウェーハ運搬、保管ボックスに不純物を除去
する手段、例えば、不純ガスの吸着剤を設ける。 【効果】 不純物除去手段を設けることにより、ボック
ス内を清浄に保ち、クリーンルーム中の雰囲気も清浄に
することが出来る。
する。 【構成】 ウェーハ運搬、保管ボックスに不純物を除去
する手段、例えば、不純ガスの吸着剤を設ける。 【効果】 不純物除去手段を設けることにより、ボック
ス内を清浄に保ち、クリーンルーム中の雰囲気も清浄に
することが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体プロセス工程で
用いられるウェーハの保管、運搬ボックスに関する。
用いられるウェーハの保管、運搬ボックスに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体プロセス工程は、半導体基
板（以下ウェーハと示す）表面に不純物を注入拡散させ
る拡散工程、ＣＶＤ技術、スパッタリング技術を用いた
薄膜形成工程、ウェーハ表面にレジストパターンを形成
するリソグラフィー工程、リソグラフィー工程で形成さ
れたレジストパターンをマスクとしてパターンを形成す
るエッチング工程等、多種の工程があり、それぞれのプ
ロセス工程が数回繰り返され半導体装置が製造される。
板（以下ウェーハと示す）表面に不純物を注入拡散させ
る拡散工程、ＣＶＤ技術、スパッタリング技術を用いた
薄膜形成工程、ウェーハ表面にレジストパターンを形成
するリソグラフィー工程、リソグラフィー工程で形成さ
れたレジストパターンをマスクとしてパターンを形成す
るエッチング工程等、多種の工程があり、それぞれのプ
ロセス工程が数回繰り返され半導体装置が製造される。
【０００３】この半導体装置の製造には製造空間の清浄
度が半導体装置の収率、信頼性に大きく影響する為、塵
埃や異物粒子（以下ゴミという）の無いクリーンルーム
で製造される。さらに、クリーンルーム内での各半導体
プロセス工程間、工程内のウェーハ運搬、保管には半導
体製造装置からの発塵、クリーンルーム作業者からの発
塵を防ぐのとウェーハを容易に運搬、保管する目的で専
用のボックスが用いられている。上記の目的で用いられ
る従来のウェーハ運搬、保管ボックスの概略模式図を図
２に示す。ウェーハ運搬、保管ボックスはボックス３内
には、多数枚のウェーハ１を収納可能なキャリア２が配
置され、上蓋４により密封される構成になっている。材
質は、ボックス３と上蓋４はポリプロピレン、キャリア
２はＰＦＡ（四弗化エチレン・パ・フロロアルキルビニ
ルエーテル共重合樹脂）やポリプロピレンが一般的に用
いられている。
度が半導体装置の収率、信頼性に大きく影響する為、塵
埃や異物粒子（以下ゴミという）の無いクリーンルーム
で製造される。さらに、クリーンルーム内での各半導体
プロセス工程間、工程内のウェーハ運搬、保管には半導
体製造装置からの発塵、クリーンルーム作業者からの発
塵を防ぐのとウェーハを容易に運搬、保管する目的で専
用のボックスが用いられている。上記の目的で用いられ
る従来のウェーハ運搬、保管ボックスの概略模式図を図
２に示す。ウェーハ運搬、保管ボックスはボックス３内
には、多数枚のウェーハ１を収納可能なキャリア２が配
置され、上蓋４により密封される構成になっている。材
質は、ボックス３と上蓋４はポリプロピレン、キャリア
２はＰＦＡ（四弗化エチレン・パ・フロロアルキルビニ
ルエーテル共重合樹脂）やポリプロピレンが一般的に用
いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のウェーハ運
搬、保管ボックスは半導体プロセス工程間、工程内の運
搬、保管時に半導体製造装置からの発塵、クリーンルー
ム作業者からの発塵を防ぐのとウェーハを容易に運搬、
保管する為に用いられているが、ボックス内のウェーハ
はクリーンルームからの雰囲気制御はできていない。例
えば、リソグラフィー工程において、次のような問題が
生じることがある。すなわち、リソグラフィー工程で最
近よく用いられて化学増幅レジストのレジスト像形成メ
カニズムは酸の触媒作用（連鎖反応）を利用する。この
触媒作用のために周辺の雰囲気に対しても敏感に感応す
る欠点を持っている。その典型的な例はレジストパター
ンとウェーハ界面におけるすそひき（難溶化層）の形成
で、これはクリーンルーム雰囲気からウェーハ表面に吸
着された微量の塩基性物質が原因で発生する。塩基性物
質としてアンモニア等あるが、アンモニアを対象にクリ
ーンルーム雰囲気中の濃度を環境分析により数ｐｐｂか
ら数１０ｐｐｂの範囲で変動することが分かっている。
化学増幅レジストは塩基性物質、数ｐｐｂ程度の影響で
レジストパターンの形状が変動することを確認してい
る。すなわちレジストパターンを形成するリソグラフィ
ー工程内において露光によりレジスト内部に発生した酸
（触媒）がウェーハ表面に吸着している塩基性物質との
中和反応で失活し、レジストとの界面部分が現像液に溶
けにくくなるためにパターンにすそひきが発生する問題
がある。
搬、保管ボックスは半導体プロセス工程間、工程内の運
搬、保管時に半導体製造装置からの発塵、クリーンルー
ム作業者からの発塵を防ぐのとウェーハを容易に運搬、
保管する為に用いられているが、ボックス内のウェーハ
はクリーンルームからの雰囲気制御はできていない。例
えば、リソグラフィー工程において、次のような問題が
生じることがある。すなわち、リソグラフィー工程で最
近よく用いられて化学増幅レジストのレジスト像形成メ
カニズムは酸の触媒作用（連鎖反応）を利用する。この
触媒作用のために周辺の雰囲気に対しても敏感に感応す
る欠点を持っている。その典型的な例はレジストパター
ンとウェーハ界面におけるすそひき（難溶化層）の形成
で、これはクリーンルーム雰囲気からウェーハ表面に吸
着された微量の塩基性物質が原因で発生する。塩基性物
質としてアンモニア等あるが、アンモニアを対象にクリ
ーンルーム雰囲気中の濃度を環境分析により数ｐｐｂか
ら数１０ｐｐｂの範囲で変動することが分かっている。
化学増幅レジストは塩基性物質、数ｐｐｂ程度の影響で
レジストパターンの形状が変動することを確認してい
る。すなわちレジストパターンを形成するリソグラフィ
ー工程内において露光によりレジスト内部に発生した酸
（触媒）がウェーハ表面に吸着している塩基性物質との
中和反応で失活し、レジストとの界面部分が現像液に溶
けにくくなるためにパターンにすそひきが発生する問題
がある。
【０００５】リソグラフィー工程以外でも、近年、半導
体装置の微細化に伴ない、クリーンルーム内の清浄度を
向上する必要があるが、半導体装置の製造でよく用いら
れるウェーハの運搬、保管ボックスの清浄化について
は、積極的な対策が講じられていなかった。
体装置の微細化に伴ない、クリーンルーム内の清浄度を
向上する必要があるが、半導体装置の製造でよく用いら
れるウェーハの運搬、保管ボックスの清浄化について
は、積極的な対策が講じられていなかった。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、クリーンルーム雰囲気中の塩基性物質等の不純物を
ウェーハの運搬、保管時にウェーハ表面に吸着されるの
を防止し、例えばリソグラフィー工程においてレジスト
パターンがすそひき無く安定的にパターン形成ができる
ウェーハ運搬、保管ボックスを提供するものである。
で、クリーンルーム雰囲気中の塩基性物質等の不純物を
ウェーハの運搬、保管時にウェーハ表面に吸着されるの
を防止し、例えばリソグラフィー工程においてレジスト
パターンがすそひき無く安定的にパターン形成ができる
ウェーハ運搬、保管ボックスを提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によるウェーハ運
搬、保管ボックスはウェーハを収納したキャリアを入れ
たボックスと外部からの発塵を防ぐ目的で用いられる上
蓋を備えたウェーハ保管、運搬ボックスにおいてボック
ス内の塩基性物質等の不純物を除去する手段を設けたこ
とを特徴とする。
搬、保管ボックスはウェーハを収納したキャリアを入れ
たボックスと外部からの発塵を防ぐ目的で用いられる上
蓋を備えたウェーハ保管、運搬ボックスにおいてボック
ス内の塩基性物質等の不純物を除去する手段を設けたこ
とを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明によればウェーハ運搬、保管ボックス内
の不純物を除去する機構を設けたことによりウェーハ表
面に不純ガスが吸着されることを防止し、リソグラフィ
ー工程等の半導体プロセスにおいて安定的なレジストパ
ターンの形成を達成することを可能とし、より高い信頼
性の半導体プロセスを実現することができる。
の不純物を除去する機構を設けたことによりウェーハ表
面に不純ガスが吸着されることを防止し、リソグラフィ
ー工程等の半導体プロセスにおいて安定的なレジストパ
ターンの形成を達成することを可能とし、より高い信頼
性の半導体プロセスを実現することができる。
【０００９】
【実施例】第１図は本発明の実施例によるウェーハ運
搬、保管ボックスを示す概略構成図である。同図におい
てボックス３内に複数（例えば、約２０枚程度）のウェ
ーハ１を等間隔に縦並びに収納したキャリア２が配置さ
れて上蓋４により密封される。この実施例ではボックス
３下部と上蓋４内部に化学的に不純ガスを吸着する吸着
剤５を設けた。吸着剤５には活性炭にリン酸を添着させ
たシート状のものを使用した。また、吸着剤５とウェー
ハキャリア２との直接接触をさけるためパッド６により
カバーされている。それぞれの材質はボックスと上蓋は
ポリプロピレン、キャリアはＰＦＡを用いている。パッ
ドにはポリプロピレンを使用した。
搬、保管ボックスを示す概略構成図である。同図におい
てボックス３内に複数（例えば、約２０枚程度）のウェ
ーハ１を等間隔に縦並びに収納したキャリア２が配置さ
れて上蓋４により密封される。この実施例ではボックス
３下部と上蓋４内部に化学的に不純ガスを吸着する吸着
剤５を設けた。吸着剤５には活性炭にリン酸を添着させ
たシート状のものを使用した。また、吸着剤５とウェー
ハキャリア２との直接接触をさけるためパッド６により
カバーされている。それぞれの材質はボックスと上蓋は
ポリプロピレン、キャリアはＰＦＡを用いている。パッ
ドにはポリプロピレンを使用した。
【００１０】このような構成によればボックス内は、清
浄に保たれ不純物量は低減された。特に、前述したリソ
グラフィー工程において化学増幅レジストのすそひき現
象は見られず、この実施例による効果が確認された。
浄に保たれ不純物量は低減された。特に、前述したリソ
グラフィー工程において化学増幅レジストのすそひき現
象は見られず、この実施例による効果が確認された。
【００１１】また、リソグラフィ工程以外でもボックス
内の不純物低減の効果により半導体装置製造の信頼性を
従来よりも向上させることができる。また、この実施例
では、吸着剤をボックス内に設けたがボックス３あるい
は上蓋４に小型の排気ファン等を設けてボックス３内か
ら不純物を強制的に排出するようにすることも可能であ
る。
内の不純物低減の効果により半導体装置製造の信頼性を
従来よりも向上させることができる。また、この実施例
では、吸着剤をボックス内に設けたがボックス３あるい
は上蓋４に小型の排気ファン等を設けてボックス３内か
ら不純物を強制的に排出するようにすることも可能であ
る。
【００１２】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ウ
ェーハ運搬、保管ボックス内に不純ガスを除去する手段
を設けたことによりボックス内を清浄に保ち、ひいては
クリーンルーム中の雰囲気も清浄にすることが出来る。
ェーハ運搬、保管ボックス内に不純ガスを除去する手段
を設けたことによりボックス内を清浄に保ち、ひいては
クリーンルーム中の雰囲気も清浄にすることが出来る。
【図１】 本発明の実施例に係わるウェーハ運搬、保管
ボックスを示す概略構成図。
ボックスを示す概略構成図。
【図２】 従来例を示す概略構成図。
１ ウェーハ ２ ウェーハ収納キャリア ３ ボックス ４ 蓋 ５ 吸着剤 ６ パッド
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体ウェーハを入れたキャリアを収納
できるボックスと蓋を備えた半導体ウェーハ保管、運搬
ボックスにおいて前記半導体ウェーハ保管、運搬ボック
ス内の不純物を除去する手段を具備していることを特徴
とする半導体ウェーハ運搬、保管ボックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21539093A JPH0766272A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | ウェーハ保管、運搬ボックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21539093A JPH0766272A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | ウェーハ保管、運搬ボックス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0766272A true JPH0766272A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16671523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21539093A Pending JPH0766272A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | ウェーハ保管、運搬ボックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766272A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1305124C (zh) * | 2001-09-26 | 2007-03-14 | 塞兹股份公司 | 用于旋转式托架的环形容器 |
| US8297319B2 (en) | 2006-09-14 | 2012-10-30 | Brooks Automation, Inc. | Carrier gas system and coupling substrate carrier to a loadport |
| US9105673B2 (en) | 2007-05-09 | 2015-08-11 | Brooks Automation, Inc. | Side opening unified pod |
| CN114535213A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-05-27 | 中环领先半导体材料有限公司 | 一种大尺寸包装片盒清洗后的保护方法 |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP21539093A patent/JPH0766272A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1305124C (zh) * | 2001-09-26 | 2007-03-14 | 塞兹股份公司 | 用于旋转式托架的环形容器 |
| US8297319B2 (en) | 2006-09-14 | 2012-10-30 | Brooks Automation, Inc. | Carrier gas system and coupling substrate carrier to a loadport |
| US9105673B2 (en) | 2007-05-09 | 2015-08-11 | Brooks Automation, Inc. | Side opening unified pod |
| US9978623B2 (en) | 2007-05-09 | 2018-05-22 | Brooks Automation, Inc. | Side opening unified pod |
| US11201070B2 (en) | 2007-05-17 | 2021-12-14 | Brooks Automation, Inc. | Side opening unified pod |
| CN114535213A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-05-27 | 中环领先半导体材料有限公司 | 一种大尺寸包装片盒清洗后的保护方法 |
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