JPH0763634A - 外部リーク量計測方法 - Google Patents
外部リーク量計測方法Info
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- JPH0763634A JPH0763634A JP5209780A JP20978093A JPH0763634A JP H0763634 A JPH0763634 A JP H0763634A JP 5209780 A JP5209780 A JP 5209780A JP 20978093 A JP20978093 A JP 20978093A JP H0763634 A JPH0763634 A JP H0763634A
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Landscapes
- Examining Or Testing Airtightness (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡易に計測を行うことができ、また、感度が
良好な外部リーク量計測方法を提供すること。 【構成】 外部リーク量計測部の内部に第一のガスを供
給するガス供給工程と、前記外部リーク量計測部の外部
を前記第一のガス成分と異なる第二のガス雰囲気にする
雰囲気制御工程と、前記外部リーク量計測部内部を通過
してきた前記第一のガス中に含まれる前記第二のガス成
分を計測する計測工程とからなる外部リーク量計測方
法。
良好な外部リーク量計測方法を提供すること。 【構成】 外部リーク量計測部の内部に第一のガスを供
給するガス供給工程と、前記外部リーク量計測部の外部
を前記第一のガス成分と異なる第二のガス雰囲気にする
雰囲気制御工程と、前記外部リーク量計測部内部を通過
してきた前記第一のガス中に含まれる前記第二のガス成
分を計測する計測工程とからなる外部リーク量計測方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、外部リーク量計測方法
に係る。
に係る。
【０００２】
【従来の技術】従来外部リーク量の計測方法としては、
Ｈｅリークディテクターを用いた技術が知られている。
Ｈｅリークディテクターを用いた技術が知られている。
【０００３】しかし、この技術を用いて外部リーク量を
計測場合、計測に時間がかかるという欠点、また、感度
が必ずしも良好でないという欠点があった。
計測場合、計測に時間がかかるという欠点、また、感度
が必ずしも良好でないという欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、簡易に計測
を行うことができ、また、感度が良好な外部リーク量計
測方法を提供することを目的とする。
を行うことができ、また、感度が良好な外部リーク量計
測方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本願発明の要旨は、外部リーク量計測部の内部に第一
のガスを供給するガス供給工程と、前記外部リーク量計
測部の外部を前記第一のガス成分と異なる第二のガス雰
囲気にする雰囲気制御工程と、前記外部リーク量計測部
内部を通過してきた前記第一のガス中に含まれる前記第
二のガス成分を計測する計測工程とからなる外部リーク
量計測方法に存在する。
の本願発明の要旨は、外部リーク量計測部の内部に第一
のガスを供給するガス供給工程と、前記外部リーク量計
測部の外部を前記第一のガス成分と異なる第二のガス雰
囲気にする雰囲気制御工程と、前記外部リーク量計測部
内部を通過してきた前記第一のガス中に含まれる前記第
二のガス成分を計測する計測工程とからなる外部リーク
量計測方法に存在する。
【０００６】
【作用】本発明では、外部リーク量計測部内部を通過し
てきた第一のガス中に含まれる第二のガス成分を計測す
るだけであるので、極めて簡易に外部リーク量を計測す
ることができる。また、第一のガス中の第二のガス成分
は任意の計測器（例えば、ＡＰＩＭＳ）を用いて行うこ
とができるので、高感度の計測も行うことができる。
てきた第一のガス中に含まれる第二のガス成分を計測す
るだけであるので、極めて簡易に外部リーク量を計測す
ることができる。また、第一のガス中の第二のガス成分
は任意の計測器（例えば、ＡＰＩＭＳ）を用いて行うこ
とができるので、高感度の計測も行うことができる。
【０００７】
【実施例】以下に実施例を示して本発明をさらに詳しく
説明する。
説明する。
【０００８】（実施例１）本発明は、リーク箇所のリー
ク量に対するＡＰＩＭＳ計測機器における検出感度の関
係を示すものである。評価システムの概略図を図１に示
す。評価システムは、全て電解研磨管（１／４″）を使
用し使用部品も全て電解研磨されたオールメタル部品で
構成した。
ク量に対するＡＰＩＭＳ計測機器における検出感度の関
係を示すものである。評価システムの概略図を図１に示
す。評価システムは、全て電解研磨管（１／４″）を使
用し使用部品も全て電解研磨されたオールメタル部品で
構成した。
【０００９】第一にＭＣＧ（金属Ｃリング）継手にて作
製したリーク箇所１０１のリーク量をＨｅリークディテ
クター１０２において計測した。ただし、Ｈｅリークデ
ィテクター１０２は、標準リークボンベ（９．５×１０
-7ａｔｏｍ・ｃｃ／ｓｅｃ、２０℃）にて構成したもの
を使用した。
製したリーク箇所１０１のリーク量をＨｅリークディテ
クター１０２において計測した。ただし、Ｈｅリークデ
ィテクター１０２は、標準リークボンベ（９．５×１０
-7ａｔｏｍ・ｃｃ／ｓｅｃ、２０℃）にて構成したもの
を使用した。
【００１０】第二に、Ｈｅリークディテクター計測する
ことで既知のリーク箇所１０１に対し、Ｈ2／Ａｒガス
１０４を供給し、リーク箇所を通過して きたＨ2／Ａｒ
ガス１０４中に含まれるＮ2及びＯ2成分量をＡＰＩＭＳ
１０３に より計測した。
ことで既知のリーク箇所１０１に対し、Ｈ2／Ａｒガス
１０４を供給し、リーク箇所を通過して きたＨ2／Ａｒ
ガス１０４中に含まれるＮ2及びＯ2成分量をＡＰＩＭＳ
１０３に より計測した。
【００１１】リーク箇所１０１におけるリーク量と計測
機器であるＡＰＩＭＳ１０３の検出強度の関係を図２に
示す。Ｎ2及びＯ2成分は、リーク箇所１０１の外部雰囲
気である大気成分が、リーク箇所１０１から混入してき
たものである。ただし、本実施例にて使用したＨ2／Ａ
ｒガス１０４は、Ｈ2を１００ｐｐｍ含むＡｒガスと
し、流量は１０ｃｃ／ｍｉｎ、配管内圧力は、０．１ｋ
ｇ／ｃｍ2（Ｇ）とした。また、このＨ2／Ａｒガス１０
４中のＮ2及びＯ2成分濃度は、それぞれ１０ｐｐｔ以下
である。図２より本発明方法により、１×１０-11ａｔ
ｏｍ・ｃｃ／ｓｅｃ以上の外部リークが検出・定量可能
であることがわかる。
機器であるＡＰＩＭＳ１０３の検出強度の関係を図２に
示す。Ｎ2及びＯ2成分は、リーク箇所１０１の外部雰囲
気である大気成分が、リーク箇所１０１から混入してき
たものである。ただし、本実施例にて使用したＨ2／Ａ
ｒガス１０４は、Ｈ2を１００ｐｐｍ含むＡｒガスと
し、流量は１０ｃｃ／ｍｉｎ、配管内圧力は、０．１ｋ
ｇ／ｃｍ2（Ｇ）とした。また、このＨ2／Ａｒガス１０
４中のＮ2及びＯ2成分濃度は、それぞれ１０ｐｐｔ以下
である。図２より本発明方法により、１×１０-11ａｔ
ｏｍ・ｃｃ／ｓｅｃ以上の外部リークが検出・定量可能
であることがわかる。
【００１２】上記実施例において、計測機器にＡＰＩＭ
Ｓを用いた場合について説明したが、計測機器は、ガス
クロマトグラフィーなど高検出感度計測機器であれば、
何でもよいと言うことはいうまでもない。しかし、計測
機器へのサンプリング流量は数１０ｃｃ／ｍｉｎ以下の
計測機器が最も適している。
Ｓを用いた場合について説明したが、計測機器は、ガス
クロマトグラフィーなど高検出感度計測機器であれば、
何でもよいと言うことはいうまでもない。しかし、計測
機器へのサンプリング流量は数１０ｃｃ／ｍｉｎ以下の
計測機器が最も適している。
【００１３】ＡＰＩＭＳの場合、第一のガスはＡｒのみ
では検出感度が鈍いため水素を混入せしめることが好ま
しく、また、Ｈ2／ＡｒガスのＨ2濃度は１ｐｐｍ以上が
好ましい。
では検出感度が鈍いため水素を混入せしめることが好ま
しく、また、Ｈ2／ＡｒガスのＨ2濃度は１ｐｐｍ以上が
好ましい。
【００１４】リーク量計測部のみＣＯ2等の主大気成分
（Ｏ2、Ｎ2）以外の成分ガス雰囲気（第三のガス雰囲
気）とすること等の操作により、複数個あるリーク箇所
の中からリーク箇所の特定も可能である。キャリアガス
は、Ｈ2／Ａｒガス以外に使用してもよい事は言うま で
もない。
（Ｏ2、Ｎ2）以外の成分ガス雰囲気（第三のガス雰囲
気）とすること等の操作により、複数個あるリーク箇所
の中からリーク箇所の特定も可能である。キャリアガス
は、Ｈ2／Ａｒガス以外に使用してもよい事は言うま で
もない。
【００１５】（実施例２）本実施例では、実施例１にお
けるリーク箇所１０１の外部雰囲気を大気に代え、ＣＨ
4、ＣＯ2及びＣＣｌ2Ｆ2（いずれも１００％）とし、リ
ーク箇所１０１の内部を流れるＡｒ中に含まれるそれぞ
れの雰囲気成分の計測を実施した。他の点は実施例１と
同様とした。評価結果を図３に示す。すなわち、検出成
分を他の成分としても、実施例１と同様に、高検出感
度、高定量が可能であることがわかる。ただし、リーク
箇所１０１の外部雰囲気の分圧の高い成分の方が検出感
度は上昇する。
けるリーク箇所１０１の外部雰囲気を大気に代え、ＣＨ
4、ＣＯ2及びＣＣｌ2Ｆ2（いずれも１００％）とし、リ
ーク箇所１０１の内部を流れるＡｒ中に含まれるそれぞ
れの雰囲気成分の計測を実施した。他の点は実施例１と
同様とした。評価結果を図３に示す。すなわち、検出成
分を他の成分としても、実施例１と同様に、高検出感
度、高定量が可能であることがわかる。ただし、リーク
箇所１０１の外部雰囲気の分圧の高い成分の方が検出感
度は上昇する。
【００１６】（実施例３）本実施例では、実施例１にお
けるリーク箇所１０１の内部を流れるＨ2／Ａｒガス圧
力を０．１ｋｇ／ｃｍ2（Ｇ）に代え、０．１〜３．０
ｋｇ／ｃｍ2（Ｇ）の圧力変化とし、Ｈ2／Ａｒガス圧力
に対する計測器（本例ではＡＰＩＭＳ）の検出感度 を
評価した。外部リーク量は１×１０-9ａｔｏｍ・ｃｃ／
ｓｅｃとした。他の点は、実施例１と同様とした。評価
結果を図４に示す。図４の結果より高検出感度のために
は、圧力が低いほど高検出可能であることがわかる。た
だし、実用上、５ｋｇ／ｃｍ2以下が望ましく、さらに
３ｋｇ／ｃｍ2以下がより望ましく、１ｋｇ／ｃｍ2以下
が最も望ましい。
けるリーク箇所１０１の内部を流れるＨ2／Ａｒガス圧
力を０．１ｋｇ／ｃｍ2（Ｇ）に代え、０．１〜３．０
ｋｇ／ｃｍ2（Ｇ）の圧力変化とし、Ｈ2／Ａｒガス圧力
に対する計測器（本例ではＡＰＩＭＳ）の検出感度 を
評価した。外部リーク量は１×１０-9ａｔｏｍ・ｃｃ／
ｓｅｃとした。他の点は、実施例１と同様とした。評価
結果を図４に示す。図４の結果より高検出感度のために
は、圧力が低いほど高検出可能であることがわかる。た
だし、実用上、５ｋｇ／ｃｍ2以下が望ましく、さらに
３ｋｇ／ｃｍ2以下がより望ましく、１ｋｇ／ｃｍ2以下
が最も望ましい。
【００１７】（実施例４）本実施例は、リーク量計測部
内部を真空状態とする真空法を用いて、リーク箇所のリ
ーク量に対するＡＰＩＭＳ計測機器における検出感度の
関係を示すものである。評価システムの概略図を図５に
示す。評価システムは、全て電解研磨管（１／４″）を
使用し、使用部品も全て電解研磨されたオールメタル部
品で構成した。
内部を真空状態とする真空法を用いて、リーク箇所のリ
ーク量に対するＡＰＩＭＳ計測機器における検出感度の
関係を示すものである。評価システムの概略図を図５に
示す。評価システムは、全て電解研磨管（１／４″）を
使用し、使用部品も全て電解研磨されたオールメタル部
品で構成した。
【００１８】第一に、ＭＣＧ継手にて作成したリーク箇
所２０１のリーク量をＨｅリークディテクター２０２に
おいて計測した。リーク箇所２０１のリーク量は、５×
１０ -9ａｔｏｍ・ｃｃ／ｍｉｎであった。ただし、Ｈｅ
リークディテクター２０２は、標準リークボンベ（９．
５×１０-7ａｔｏｍ・ｃｃ／ｓｅｃ、２０℃）にて構成
したものを使用した。
所２０１のリーク量をＨｅリークディテクター２０２に
おいて計測した。リーク箇所２０１のリーク量は、５×
１０ -9ａｔｏｍ・ｃｃ／ｍｉｎであった。ただし、Ｈｅ
リークディテクター２０２は、標準リークボンベ（９．
５×１０-7ａｔｏｍ・ｃｃ／ｓｅｃ、２０℃）にて構成
したものを使用した。
【００１９】第二に、リーク箇所２０１に対し、バルブ
２０３とバルブ２０４を閉状態とした後、バルブ２０６
からＨｅリークディテクター２０２により真空引きし、
再度２０６バルブを閉じリーク箇所２０１内部を真空状
態に保持した。真空度は３０Ｔｏｒｒ、真空保持時間は
８時間とした。
２０３とバルブ２０４を閉状態とした後、バルブ２０６
からＨｅリークディテクター２０２により真空引きし、
再度２０６バルブを閉じリーク箇所２０１内部を真空状
態に保持した。真空度は３０Ｔｏｒｒ、真空保持時間は
８時間とした。
【００２０】第三に、Ａｒガスをバルブ２０５からリー
ク量計測部に導入し、１０分間保持した。このときのリ
ーク量計測部のＡｒガス圧力は、４ｋｇ／ｃｍ2とし
た。
ク量計測部に導入し、１０分間保持した。このときのリ
ーク量計測部のＡｒガス圧力は、４ｋｇ／ｃｍ2とし
た。
【００２１】最後に、ＡＰＩＭＳにリーク量計測部内部
に保持されているＡｒガスを導入した。ＡＰＩＭＳへの
Ａｒ導入量は、１Ｌ／ｍｉｎとした。リーク量計測部内
部に保持されたＡｒガスが大気圧状態となった時点でバ
ルブ２０３を開状態とし、配管内部に残留しているＡｒ
ガスを完全にＡＰＩＭＳへ導入するため、Ａｒガスを１
Ｌ／ｍｉｎにて供給した。ただし、ＡＰＩＭＳは、バイ
パスからＡｒガスがいつでも供給可能とされており、常
にＡＰＩＭＳはクリーン状態に保持されるようにした。
に保持されているＡｒガスを導入した。ＡＰＩＭＳへの
Ａｒ導入量は、１Ｌ／ｍｉｎとした。リーク量計測部内
部に保持されたＡｒガスが大気圧状態となった時点でバ
ルブ２０３を開状態とし、配管内部に残留しているＡｒ
ガスを完全にＡＰＩＭＳへ導入するため、Ａｒガスを１
Ｌ／ｍｉｎにて供給した。ただし、ＡＰＩＭＳは、バイ
パスからＡｒガスがいつでも供給可能とされており、常
にＡＰＩＭＳはクリーン状態に保持されるようにした。
【００２２】この計測評価におけるＡＰＩＭＳチャート
を図６に示す。図６の横軸に示す経過時間は、リーク量
計測部内部に保持したＡｒガスをＡＰＩＭＳに導入して
からの経過時間を示す。縦軸は、ＡＰＩＭＳで検出され
たＯ2強度を示す。図６よ り、計測開始から約６．５分
の時点で、瞬間的にＯ2成分が多量に検出されてい るこ
とから、リーク量計測部から真空状態で放置している間
に混入してきた大気成分は、Ａｒガス導入部２０５から
下流末端（バルブ２０３近傍）に濃縮されたことがわか
る。
を図６に示す。図６の横軸に示す経過時間は、リーク量
計測部内部に保持したＡｒガスをＡＰＩＭＳに導入して
からの経過時間を示す。縦軸は、ＡＰＩＭＳで検出され
たＯ2強度を示す。図６よ り、計測開始から約６．５分
の時点で、瞬間的にＯ2成分が多量に検出されてい るこ
とから、リーク量計測部から真空状態で放置している間
に混入してきた大気成分は、Ａｒガス導入部２０５から
下流末端（バルブ２０３近傍）に濃縮されたことがわか
る。
【００２３】（実施例５）本実施例は、実施例４におい
て、真空保持後のリーク箇所２０１へのＡｒ導入をバル
ブ２０３から行ったときの結果を図７に示す。他は全て
実施例４と同一とした。図７より、計測開始から約１０
秒の時点で、瞬間的にＯ2成分が多量に、検出されてい
ることから、リーク量計測部から真空状態で放置してい
る間に混入してきた大気成分は、Ａｒガス導入部２０３
から下流末端（バルブ２０４近傍）に濃縮されたことが
わかる。
て、真空保持後のリーク箇所２０１へのＡｒ導入をバル
ブ２０３から行ったときの結果を図７に示す。他は全て
実施例４と同一とした。図７より、計測開始から約１０
秒の時点で、瞬間的にＯ2成分が多量に、検出されてい
ることから、リーク量計測部から真空状態で放置してい
る間に混入してきた大気成分は、Ａｒガス導入部２０３
から下流末端（バルブ２０４近傍）に濃縮されたことが
わかる。
【００２４】（実施例６）本実施例は、実施例４に対
し、リーク箇所２０１のリーク量を代え、リーク量とＡ
ＰＩＭＳのＯ2およびＮ2の検出強度の関係を計測した。
図８にＯ2強度、図９にＮ2強度とＡＰＩＭＳ検出強度と
の関係を示す。キャリアガス流量は、１０ｃｃ／ｍｉｎ
で行った。
し、リーク箇所２０１のリーク量を代え、リーク量とＡ
ＰＩＭＳのＯ2およびＮ2の検出強度の関係を計測した。
図８にＯ2強度、図９にＮ2強度とＡＰＩＭＳ検出強度と
の関係を示す。キャリアガス流量は、１０ｃｃ／ｍｉｎ
で行った。
【００２５】本実施例により、より高感度に外部リーク
量が検出されることがわかる。さらに、真空保持時間を
変更することで任意に検出感度を変更可能である。
量が検出されることがわかる。さらに、真空保持時間を
変更することで任意に検出感度を変更可能である。
【００２６】実施例４および実施例５において、計測機
器にＡＰＩＭＳを用いた場合について説明したが、計測
機器は、ガスクロマトグラフィー等高検出感度計測機器
であれば、何でもよいことは言うまでもない。しかし、
計測機器へのサンプリング流量は数１０ｃｃ／ｍｉｎ以
下の計測機器が最も適している。
器にＡＰＩＭＳを用いた場合について説明したが、計測
機器は、ガスクロマトグラフィー等高検出感度計測機器
であれば、何でもよいことは言うまでもない。しかし、
計測機器へのサンプリング流量は数１０ｃｃ／ｍｉｎ以
下の計測機器が最も適している。
【００２７】リーク量計測部のみＣＯ2等の主大気成分
（Ｏ2、Ｎ2）以外の成分ガス雰囲気とする事等の操作に
より、複数個あるリーク箇所の中からリーク箇所の特定
も可能である。キャリアガスは、Ｈ2／Ａｒガス以外を
使用してもよいことは言うまでもない。
（Ｏ2、Ｎ2）以外の成分ガス雰囲気とする事等の操作に
より、複数個あるリーク箇所の中からリーク箇所の特定
も可能である。キャリアガスは、Ｈ2／Ａｒガス以外を
使用してもよいことは言うまでもない。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、極めて簡易に外部リー
ク量を計測することができる。また、第一のガス中の第
二のガス成分は任意の計測器（例えば、ＡＰＩＭＳ）を
用いて行うことができるので、高感度の計測も行うこと
ができる。
ク量を計測することができる。また、第一のガス中の第
二のガス成分は任意の計測器（例えば、ＡＰＩＭＳ）を
用いて行うことができるので、高感度の計測も行うこと
ができる。
【図１】実施例１〜実施例３で用いた評価システムの概
略図である。
略図である。
【図２】実施例１における、評価結果を示すグラフであ
る。
る。
【図３】実施例２における、評価結果を示すグラフであ
る。
る。
【図４】実施例３における、評価結果を示すグラフであ
る。
る。
【図５】実施例１〜実施例３で用いた評価システムの概
略図である。
略図である。
【図６】実施例４における、評価結果を示すグラフであ
る。
る。
【図７】実施例５における、評価結果を示すグラフであ
る。
る。
【図８】実施例６における、評価結果（Ｏ2強度）を示
すグラフである。
すグラフである。
【図９】実施例６における、評価結果（Ｎ2強度）を示
すグラフである。
すグラフである。
１０１ リーク箇所、 １０２ Ｈｅリークディテクター、 １０３ 計測器（ＡＰＩＭＳ）、 １０４ 第一のガス（１００ｐｐｍＨ2／Ａｒ）、 ２０１ リーク箇所、 ２０２ Ｈｅリークディテクター、 ２０３ バルブ、 ２０４ バルブ、 ２０５ バルブ、 ２０６ バルブ、 ２０７ 計測器（ＡＰＩＭＳ）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ケ袋２の１の17の 301 (72)発明者 大木 厚志 埼玉県東松山市新郷75−１大阪酸素工業株 式会社開発センター内 (72)発明者 菅野 洋一 宮城県仙台市青葉区堤町１丁目12番１号株 式会社本山製作所内
Claims (11)
- 【請求項１】 外部リーク量計測部の内部に第一のガス
を供給するガス供給工程と、前記外部リーク量計測部の
外部を前記第一のガス成分と異なる第二のガス雰囲気に
する雰囲気制御工程と、前記外部リーク量計測部内部を
通過してきた前記第一のガス中に含まれる前記第二のガ
ス成分を計測する計測工程とからなる外部リーク量計測
方法。 - 【請求項２】 前記第一のガス中に含まれる前記第二の
ガス成分濃度が１ｐｐｂ以下であることを特徴とする請
求項１記載の外部リーク量計測方法。 - 【請求項３】 前記第二のガス圧力が３ｋｇ／ｃｍ
2（Ｇ）以下であることを特徴とする請求項１記載の外
部リーク量計測方法。 - 【請求項４】 前記雰囲気制御工程は、前記第二のガス
成分濃度を１〜１００％として行うことを特徴とする請
求項１記載の外部リーク量計測方法。 - 【請求項５】 前記計測工程は、前記第二のガス成分の
検出下限値濃度が１０ｐｐｂ以下の計測機器を使用する
ことを特徴とする請求項１記載の外部リーク量計測方
法。 - 【請求項６】 雰囲気制御行御は、前記外部リーク量計
測部のみ、第一および第二のガス成分と異なる第三のガ
ス成分雰囲気とすることを特徴とする請求項１記載の外
部リーク量計測方法。 - 【請求項７】 ガス供給行程の前に、前記外部リーク量
計測部の内部を真空状態にする真空引き行程と、前記外
部リーク量計測部の内部に第一のガスを所定圧力まで供
給するガス充填行程を行うことを特徴とする請求項１記
載の外部リーク量計測方法。 - 【請求項８】 真空引き工程とガス供給工程の間で、前
記外部リーク量計測部の内部を真空状態に保持する真空
保持工程を行うことを特徴とする請求項６記載の外部リ
ーク量計測方法。 - 【請求項９】 ガス計測行程は、前記第一のガスの一部
を計測機器に導入した後、第一のガスにより、リーク量
計測部内部に充填されたガス全量を計測機器に導入する
ことを特徴とする請求項６記載の外部リーク量計測方
法。 - 【請求項１０】 真空保持工程は、真空状態を１分以上
の時間の間、保持することを特徴とする請求項６または
７に記載の外部リーク量計測方法。 - 【請求項１１】 真空引き工程は、前記外部リーク量計
測内部の真空度を大気圧から１×１０-1Ｔｏｒｒ以上の
低真空状態とすることを特徴とする請求項６に記載の外
部リーク量計測方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20978093A JP3336343B2 (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 外部リーク量計測方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| US6436353B1 (en) | 1997-06-13 | 2002-08-20 | Tadahiro Ohmi | Gas recovering apparatus |
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1993
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| US8438908B2 (en) | 2006-12-07 | 2013-05-14 | Cascade Technologies Limited | Leak detection system and method |
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