JPH0760935B2 - Flexible printed circuit board manufacturing method - Google Patents

Flexible printed circuit board manufacturing method

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JPH0760935B2
JPH0760935B2 JP63071821A JP7182188A JPH0760935B2 JP H0760935 B2 JPH0760935 B2 JP H0760935B2 JP 63071821 A JP63071821 A JP 63071821A JP 7182188 A JP7182188 A JP 7182188A JP H0760935 B2 JPH0760935 B2 JP H0760935B2
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JP
Japan
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flexible printed
circuit board
printed circuit
polyimide
resin
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尚 渡辺
能弘 山口
哲志 淡野
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Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
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Nippon Steel Chemical Co Ltd
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フレキシブルプリント基板の製造法に係り、
詳しくはポリイミド系樹脂を導体上に直接塗工してフレ
キシブルプリント基板を製造する方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board,
More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board by directly coating a polyimide resin on a conductor.

[従来の技術] 従来、フレキシブルプリント基板は、エポキシ樹脂やウ
レタン樹脂等の接着剤を用いてポリイミドフィルムを導
体上に貼り合せることにより製造されている。
[Prior Art] Conventionally, a flexible printed circuit board is manufactured by bonding a polyimide film onto a conductor using an adhesive such as an epoxy resin or a urethane resin.

ポリイミドフィルムそれ自体は優れた耐熱性を有する
が、接着剤の耐熱性が劣り、ハンダで高温に加熱した際
にふくれや剥がれを生じたり、あるいは、回路の難燃性
を低下させるという問題があった。
Although the polyimide film itself has excellent heat resistance, there is a problem that the heat resistance of the adhesive is inferior and blistering or peeling occurs when heated to high temperature with solder, or the flame retardancy of the circuit is reduced. It was

また、高温に加熱する際に寸法が変化したり、回路に加
工する際に使用される種々の薬品により接着剤がおかさ
れてその接着力が低下するというような問題もあった。
In addition, there are problems that the dimensions change when heated to a high temperature and that the adhesive agent is put down by various chemicals used when processing into a circuit to lower the adhesive force.

一方、ポリイミド系前駆体樹脂溶液を導体上に直接塗布
してフレキシブルプリント基板を製造する方法として
は、塗布して硬化させた後に導体と樹脂の熱膨張係数の
差により生じるカールを矯正する方法(特開昭56−23,7
91号公報等)や、低熱膨張樹脂を塗布してカールを防止
する方法(特開昭60−243,120号公報等)が提案されて
いるが、いずれの方法も充分ではなかった。
On the other hand, as a method of manufacturing a flexible printed circuit board by directly coating a polyimide-based precursor resin solution on a conductor, a method of correcting curl caused by a difference in thermal expansion coefficient between the conductor and the resin after coating and curing ( JP-A-56-23,7
No. 91, etc.) and a method for preventing curling by applying a low thermal expansion resin (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-243,120, etc.) have been proposed, but none of them has been sufficient.

[発明が解決しようとする課題] そこで、本発明者はこのような問題を解決するために鋭
意研究を行い、硬化反応を進める前に一定量以上の溶剤
をある範囲の温度で乾燥することにより、カールのない
フレキシブルプリント基板を製造し得ることを見出し、
本発明に到達した。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, the present inventor has conducted diligent research in order to solve such problems, and by drying a certain amount or more of a solvent at a certain temperature range before proceeding with a curing reaction, Finds that it is possible to produce a curled-free flexible printed circuit board,
The present invention has been reached.

従って、本発明の目的は、ポリイミド系前駆体樹脂溶液
を導体上に直接塗工する際に、カールがなくて作業性に
優れており、連続的に製造することができる工業的に優
れてフレキシブルプリント基板の製造法を提供すること
にある。
Therefore, the object of the present invention, when directly coating the polyimide precursor resin solution on the conductor, is excellent in workability without curling, industrially excellent flexibility that can be continuously manufactured. It is to provide a method for manufacturing a printed circuit board.

[課題を解決するための手段] すなわち、本発明は、ポリイミド系前駆体樹脂溶液を導
体上に直接塗布した後、乾燥し硬化させてフレキシブル
プリント基板を製造するに際し、乾燥温度110℃以上、1
40℃未満の条件で溶媒量が樹脂100重量部に対し50重量
部以下になるまで乾燥させた後、硬化させるフレキシブ
ルプリント基板の製造法である。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention is to apply a polyimide-based precursor resin solution directly onto a conductor, then dry and cure to produce a flexible printed circuit board, at a drying temperature of 110 ° C. or higher, 1
This is a method for producing a flexible printed circuit board, which is dried under a condition of less than 40 ° C. until the amount of the solvent becomes 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin, and then cured.

本発明において、ポリイミド系前駆体樹脂としては、ポ
リイミド前駆体樹脂、ポリアミドイミド前駆体樹脂、ポ
リイミドエステル前駆体樹脂等を挙げることができ、そ
の分子中に閉環したイミド環を実質的に含まないもので
あり、好ましくは下記一般式(1) (但し、式中R1〜R8は水素、ハロゲン、低級アルコキシ
基、低級アルキル基のいずれかであり、そのうちの少な
くとも1つは低級アルコキシ基である)で示される構成
単位を有するポリアミドイミド前駆体樹脂であり、又
は、一般式(2) で示される構成単位を有するポリイミド前駆体樹脂であ
る。
In the present invention, examples of the polyimide-based precursor resin include a polyimide precursor resin, a polyamideimide precursor resin, a polyimide ester precursor resin, and the like, which does not substantially contain a closed imide ring in its molecule. And preferably the following general formula (1) (In the formula, R1 to R8 are any of hydrogen, halogen, a lower alkoxy group, and a lower alkyl group, and at least one of them is a lower alkoxy group). Or the general formula (2) It is a polyimide precursor resin having a structural unit represented by.

一般式(1)のポリアミド樹脂前駆体は、無水ピロメリ
ット酸と下記一般式(3) (但し、式中R1〜R8は上記の場合と同じである)で示さ
れるジアミノベンズアニリド誘導体とを反応させて得ら
れる。
The polyamide resin precursor of the general formula (1) includes pyromellitic dianhydride and the following general formula (3). (However, R1 to R8 in the formula are the same as in the above case), and can be obtained by reacting with a diaminobenzanilide derivative.

ジアミノベンズアニリド誘導体としては、置換基として
少なくとも1個の低級アルコキシ基を有する必要があ
る。ここでいう低級とは炭素数10以下のことであり、炭
素数が10を越えると耐熱性が低下し好ましくない。低級
アルコキシ基としては、好ましくはメトキシ基又はエト
キシ基であり、吸水性の改善という観点から、より好ま
しくはアルコキシ基がアミド結合のオルト位に存在する
ことである。さらに好ましくは、安価であるという点か
ら、式 で示される2′−メトキシ−4,4′−ジアミノベンズア
ニリドである。
The diaminobenzanilide derivative must have at least one lower alkoxy group as a substituent. The term "lower" as used herein means that the number of carbon atoms is 10 or less, and if the number of carbon atoms exceeds 10, the heat resistance decreases, which is not preferable. The lower alkoxy group is preferably a methoxy group or an ethoxy group, and more preferably an alkoxy group is present at the ortho position of the amide bond from the viewpoint of improving water absorption. More preferably, the formula is Is 2'-methoxy-4,4'-diaminobenzanilide.

一般式(2)のポリアミド前駆体樹脂は、ビフェニルテ
トラカルボン酸無水物とパラフェニレンジアミンとを反
応させて得られる。
The polyamide precursor resin of the general formula (2) is obtained by reacting biphenyltetracarboxylic acid anhydride with para-phenylenediamine.

このようなポリイミド系前駆体樹脂の合成反応は、一般
的にはN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルム
アミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)のアミ
ド系溶媒、ジメチルスルフォキサイド(DMSO)、硫酸ジ
メチル、スルホラン、ブチロラクトン、クレゾール、フ
ェノール、ハロゲン化フェノール、シクロヘキサノン、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ダイグライム等の溶
媒中で、反応温度0〜200℃、好ましくは0〜100℃の範
囲で行われる。これらの溶媒中に上記一般式に反応する
ジアミン化合物及び酸無水物化合物をほぼ等モル混合す
ることにより、前記ポリイミド系樹脂の前駆体溶液が得
られる。
The synthesis reaction of such a polyimide-based precursor resin is generally performed by using N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), an amide solvent of dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), Dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol, cyclohexanone,
The reaction is carried out in a solvent such as dioxane, tetrahydrofuran or diglyme at a reaction temperature of 0 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C. A precursor solution of the polyimide resin can be obtained by mixing the diamine compound and the acid anhydride compound which react with the above general formula in these solvents in approximately equimolar amounts.

本発明においては、上記一般式(1)あるいは一般式
(2)の構造単位を少なくとも30モル%以上、好ましく
は50モル%以上含むことが必要である。30モル%未満で
あると樹脂の熱膨張係数が大きくなり、フレキシブルプ
リント基板が大きくカールし、実用化が困難になる。
In the present invention, it is necessary to contain at least 30 mol% or more, preferably 50 mol% or more of the structural unit represented by the general formula (1) or the general formula (2). If it is less than 30 mol%, the coefficient of thermal expansion of the resin becomes large, the flexible printed circuit board is greatly curled, and practical application becomes difficult.

さらに、本発明において、その他の成分を併用使用する
ことにより、線膨張係数等の物性を調整することができ
る。
Further, in the present invention, the physical properties such as the coefficient of linear expansion can be adjusted by using other components together.

その他の成分については、種々のジアミン、テトラカル
ボン酸、トリカルボン酸又はこれらの酸無水物等の誘導
体を用いてコポリマリゼーションし、又は、別途合成し
て得られたポリイミド又はその先駆体及びポリアミドイ
ミド等をブレンドすることができる。
For the other components, various diamines, tetracarboxylic acids, tricarboxylic acids or copolymerization using derivatives of these acid anhydrides, or polyimide obtained separately by synthesis or its precursor and polyamideimide Etc. can be blended.

具体的に例を挙げると、p−フェニレンジアミン、m−
フェニレンジアミン、3,4′−ジアミノジフェニルエー
テル、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン、2,2′−ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,2−ビス(ア
ニリノ)エタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノベンズアニリド、ジアミノベンゾエート、ジアミノジ
フェニルスルフィド、2,2′−ビス(p−アミノフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、1,5−ジアミノナフタレン、ジア
ミノトルエン、ジアミノベンゾトリフルオライド、1,4
−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ビ
ス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、ジアミノアン
トラキノン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシフェ
ニル)ジフェニルスルホン、1,3−ビス(アニリノ)ヘ
キサフルオロプロパン、1,4−ビス(アニリノ)オクタ
フルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロ
ペンタン、1,7−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロ
ヘプタン、下記一般式 又は (但し、式中R10及びR12は2価の有機基を示し、R9及び
R11は1価の有機基を示し、p及びqは1より大きい整
数を示す)で表されるジアミノシロキサン、2,2−ビス
[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)−3,5−ジメチルフェニル]ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−
ジトリフルオロメチルフェニル]ヘキサフルオロプロパ
ン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゼン、4,4′−ビス(4−アミノ−2−
トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4′−
ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキ
シ)ビフェニル、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,
4′−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ジフェニルスルホン、2,2−ビス[4−(4−
アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン、ベンジジン、3,3′,5,
5′−テトラメチルベンジジン、オクタフルオロベンジ
ジン、3,3′−ジメトキシベンジジン、o−トリジン、
m−トリジン、2,2′,5,5′,6,6′−ヘキサフルオロト
リジン、4,4″−ジアミノターフェニル、4,4−ジアミ
ノクォーターフェニル等のジアミン類、及びこれらのジ
アミンとホスゲン等の反応によって得られるジイソシア
ナート類がある。
Specific examples are p-phenylenediamine, m-
Phenylenediamine, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis [4 -(4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,2-bis (anilino) ethane, diaminodiphenyl sulfone, diaminobenzanilide, diaminobenzoate, diaminodiphenyl sulfide, 2,2'-bis (p-aminophenyl) propane, 2,2-bis (p-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,5-diaminonaphthalene, diaminotoluene, diaminobenzotrifluoride, 1,4
-Bis (p-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (p-aminophenoxy) biphenyl, diaminoanthraquinone, 4,4'-bis (3-aminophenoxyphenyl) diphenyl sulfone, 1,3-bis (anilino ) Hexafluoropropane, 1,4-bis (anilino) octafluorobutane, 1,5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-bis (anilino) tetradecafluoroheptane, the following general formula Or (However, in the formula, R10 and R12 represent a divalent organic group, and R9 and
R11 represents a monovalent organic group, and p and q represent integers greater than 1), 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (2-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-amino) Phenoxy) -3,5-dimethylphenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) -3,5-
Ditrifluoromethylphenyl] hexafluoropropane, p-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-amino-2-
Trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4'-
Bis (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) diphenyl sulfone, 4,
4'-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) diphenyl sulfone, 2,2-bis [4- (4-
Amino-3-trifluoromethylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane, benzidine, 3,3 ′, 5,
5'-tetramethylbenzidine, octafluorobenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, o-tolidine,
Diamines such as m-tolidine, 2,2 ', 5,5', 6,6'-hexafluorotrizine, 4,4 "-diaminoterphenyl, and 4,4-diaminoquaterphenyl, and these diamines and phosgene There are diisocyanates obtained by such reactions.

また、テトラカルボン酸並びにその誘導体としては次の
ようなものが挙げられる。なお、ここではテトラカルボ
ン酸として例示するが、これらのエステル化物、酸無水
物、酸ハロゲン化物も勿論使用できる。ピロメリット
酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,
3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、3,3′,
4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、2,3,
3′,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、2,3,
3,′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7
−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,7−ナフタレン
テトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボ
ン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルメタンテトラカルボン
酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、3,4,9,10−テトラカルボキシペリレ
ン、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボ
キシフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、
ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボ
ン酸等があり、また、トリメリット酸及びその誘導体も
挙げることができる。
Moreover, the following are mentioned as tetracarboxylic acid and its derivative (s). Although tetracarboxylic acid is exemplified here, ester compounds, acid anhydrides and acid halides thereof can of course be used. Pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,
3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid, 3,3',
4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid, 2,3,
3 ', 4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid, 2,3,
3, ', 4'-benzophenone tetracarboxylic acid, 2,3,6,7
-Naphthalene tetracarboxylic acid, 1,4,5,7-naphthalene tetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic acid, 3,3 ', 4,4'-diphenylmethane tetracarboxylic acid, 2,2 -Bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 3,4,9,10-tetracarboxyperylene, 2,2-bis [4 -(3,4-dicarboxyphenoxy)
Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane,
Examples thereof include butanetetracarboxylic acid and cyclopentanetetracarboxylic acid, and also trimellitic acid and its derivatives.

また、反応性官能基を有する化合物で変性し、架橋構造
やラダー構造を導入することもできる。
It is also possible to introduce a crosslinked structure or a ladder structure by modifying with a compound having a reactive functional group.

例えば、次のような方法がある。For example, there are the following methods.

下記一般式で表される化合物で変性することによっ
て、ピロロン環やイソインドロキナゾリンジオン環等を
導入する。
A pyrrolone ring, an isoindoloquinazolinedione ring, or the like is introduced by modifying with a compound represented by the following general formula.

〔但し、式中R13は2+z価(zは1又は2である)の
芳香族有機基を示し、Bは−NH2基、−CONH2基又は−SO
2NH2基から選択された置換基であってアミノ基に対しオ
ルト位である〕 重合性不飽和結合を有するアミン、ジアミン、ジカ
ルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸の誘導体
で変性して、硬化時に橋かけ構造を形成する。不飽和化
合物としては、マレイン酸、ナジック酸、テトラヒドロ
フタル酸、エチニルアニリン等が使用できる。
[Wherein, R 13 represents a 2 + z-valent (z is 1 or 2) aromatic organic group, and B is —NH 2 group, —CONH 2 group or —SO.
2 A substituent selected from the NH 2 group and in the ortho position with respect to the amino group] Modified with an amine, diamine, dicarboxylic acid, tricarboxylic acid, or tetracarboxylic acid derivative having a polymerizable unsaturated bond, and cured Sometimes it forms a bridge structure. As the unsaturated compound, maleic acid, nadic acid, tetrahydrophthalic acid, ethynylaniline and the like can be used.

フェノール性水酸基あるいはカルボン酸を有する芳
香族アミンで変性し、この水酸基又はカルボキシル基と
反応し得る橋かけ剤を用いて網目構造を形成する。
A network structure is formed by modifying with an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group or a carboxylic acid and using a crosslinking agent capable of reacting with the hydroxyl group or the carboxyl group.

本発明のポリイミド系樹脂は、このような前記各成分を
用いて変性することにより、その線膨脹係数を調整する
ことができる。すなわち、一般式(1)又は(2)の構
造のみからなるポリイミド系樹脂ま、面内に1×10
-5(1/K)以下の線膨脹係数を有する絶縁体を形成可能
であるが、これを前記各成分を使用して変性することに
より、線膨脹係数を任意に大きくすることができる。
The linear expansion coefficient of the polyimide resin of the present invention can be adjusted by modifying it with each of the above components. That is, a polyimide resin having only the structure of the general formula (1) or (2) or 1 × 10 6
An insulator having a linear expansion coefficient of -5 (1 / K) or less can be formed, and the linear expansion coefficient can be arbitrarily increased by modifying the insulator by using each of the above components.

また、接着性、耐折曲げ性等の諸物性をさらに向上させ
る目的で変性することも可能である。
It is also possible to modify it for the purpose of further improving various physical properties such as adhesiveness and bending resistance.

本発明では、このようなポリイミド系前駆体樹脂溶液を
直接導体上に塗布するわけであるが、塗布方法としては
任意の方法が可能であり、例えばバーコード方式、グラ
ビアコート方式、ロールコート方式、ダイコート方式等
が挙げられる。樹脂溶液に泡が巻き込まれないことから
ダイコート方式が好ましい。
In the present invention, such a polyimide-based precursor resin solution is applied directly on the conductor, but any method can be used as an application method, for example, a barcode method, a gravure coating method, a roll coating method, A die coating method and the like can be mentioned. The die coating method is preferable because bubbles are not caught in the resin solution.

乾燥工程では、乾燥温度110℃以上、140℃未満、好まし
くは120〜140℃の条件で行う必要がある。乾燥温度が15
0℃を越えると低熱膨張化が困難であり、120℃未満の乾
燥温度では蒸発速度が遅く、実用化が困難である。乾燥
は多段の温度で行ってもよい。
In the drying step, the drying temperature must be 110 ° C or higher and lower than 140 ° C, preferably 120 to 140 ° C. Drying temperature is 15
If it exceeds 0 ° C, it is difficult to reduce the thermal expansion, and if the drying temperature is less than 120 ° C, the evaporation rate is slow and it is difficult to put it into practical use. Drying may be performed at multiple temperatures.

この乾燥工程では、溶媒量がポリイミド系前駆体樹脂10
0重量部に対して50重量部以下、好ましくは30重量部以
下になるまで乾燥する必要がある。50重量部を越える溶
媒が存在する状態で硬化させると低熱膨張化が困難であ
る。
In this drying step, the amount of solvent is polyimide-based precursor resin 10
It is necessary to dry to 50 parts by weight or less, preferably 30 parts by weight or less with respect to 0 parts by weight. When cured in the presence of a solvent exceeding 50 parts by weight, it is difficult to achieve low thermal expansion.

ここでいう硬化とは、イミド化反応を強制的に進めて樹
脂の硬化を促す工程をいう。このイミド化反応は、通常
150℃を越える温度、特に160℃を越える温度で速やかに
進行する。
The curing here means a step of forcibly promoting the imidization reaction to promote the curing of the resin. This imidization reaction is usually
Proceeds rapidly at temperatures above 150 ° C, especially above 160 ° C.

このように一定量以上の溶媒を蒸発させた後、150℃を
越える温度で硬化を行うわけであるが、イミド化反応を
充分行うために最高硬化温度は250℃以上、好ましくは3
00℃以上である。この硬化工程において、温度を急激に
上昇させると樹脂の発泡が起る虞があるので、多段階熱
処理若しくは連続昇温熱処理を行うのが好ましい。
After evaporating a certain amount or more of the solvent in this way, curing is performed at a temperature exceeding 150 ° C, but the maximum curing temperature is 250 ° C or higher, preferably 3 ° C in order to sufficiently perform the imidization reaction.
It is more than 00 ℃. In this curing step, it is preferable to carry out a multi-step heat treatment or a continuous temperature rising heat treatment because the resin may foam when the temperature is rapidly raised.

このような乾燥工程、硬化工程は任意のプロセスを採用
することができるが、これらの処理工程中においては樹
脂層の収縮による応力に負けずに基板を平坦に維持する
必要があり、連続熱処理を行う場合においてエッジの持
ち上がりを防止するために、上下のノズルからの風圧で
基板を波状にして保持するエアーサポート方式が好まし
い。加熱雰囲気としては空気や、窒素、炭素ガス、アル
ゴン等の不活性ガス等のいずれも選択可能である。
Although any process can be adopted for such a drying process and a curing process, it is necessary to keep the substrate flat without losing the stress due to the shrinkage of the resin layer during these treatment processes, and continuous heat treatment is required. In order to prevent the edge from being lifted when performing, an air support method in which the substrate is held in a wavy shape by wind pressure from the upper and lower nozzles is preferable. The heating atmosphere can be selected from air, nitrogen, carbon gas, inert gas such as argon, and the like.

本発明によるフレキシブルプリント基板に用いられる導
体としては、銅、アルミニウム、鉄、銀、パラジウム、
ニッケル、クロム、モリブデン、タングステン又はその
合金等が挙げられる。好ましくは銅である。また、導体
は、その接着力の向上を目的として、サイディング、ニ
ッケルメッキ、銅−亜鉛合金メッキ、あるいは、アルミ
ニウムアルコラート、アルミニウムキレート、シランカ
ップリング剤、好接着性樹脂によるアンカーコーティン
グ等の化学的、機械的な表面処理が施されてもよい。
The conductor used in the flexible printed circuit board according to the present invention includes copper, aluminum, iron, silver, palladium,
Examples thereof include nickel, chromium, molybdenum, tungsten, and alloys thereof. Copper is preferred. Further, the conductor, for the purpose of improving its adhesive force, siding, nickel plating, copper-zinc alloy plating, or chemical such as aluminum alcoholate, aluminum chelate, silane coupling agent, anchor coating with a good adhesive resin, etc. Mechanical surface treatment may be performed.

[実施例] 以下、実施例及び比較例に基いて、本発明を具体的に説
明するが、本発明がこれに限定されないことは勿論であ
る。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be specifically described based on Examples and Comparative Examples, but it goes without saying that the present invention is not limited thereto.

熱膨張係数は、銅箔上にポリイミド系前駆体樹脂溶液を
塗布し、乾燥し、次いで最高熱処理温度350℃でイミド
化反応を充分終了させた試料を用い、銅を塩化第二鉄溶
液でエッチングし、得られたフィルムをサーマルメカニ
カルアナライザー(TMA)により、250℃に昇温後10℃/m
inで冷却して240℃から100℃までの平均の線膨張率を算
出して求めた。
The coefficient of thermal expansion is obtained by applying a polyimide-based precursor resin solution on a copper foil, drying it, and then using a sample in which the imidization reaction has been sufficiently completed at the maximum heat treatment temperature of 350 ° C., and etching copper with a ferric chloride solution. Then, the obtained film is heated to 250 ° C by a thermal mechanical analyzer (TMA) and then heated to 10 ° C / m.
After cooling with in, the average linear expansion coefficient from 240 ° C to 100 ° C was calculated and obtained.

塗工は、耐熱粘着テープを用いて20cm角のSUS製枠に厚
さ35μmの市販の電解銅箔(日本鉱業(株)製JTC)を
貼りつけ、アプリケーターを用いて固形分量15重量%の
樹脂溶液を銅箔の粗面上に塗工した。
For coating, a commercially available electrolytic copper foil with a thickness of 35 μm (JTC manufactured by Nippon Mining Co., Ltd.) was attached to a 20 cm square SUS frame using a heat-resistant adhesive tape, and a resin with a solid content of 15% by weight was applied using an applicator. The solution was coated on the rough surface of the copper foil.

乾燥後の溶媒残存量は、以下の式により求めた。The residual amount of solvent after drying was determined by the following formula.

{(C−A)÷0.15(B−A)−1}×100 (但し、Aは塗工前の枠と銅箔の重さであり、Bは塗工
後の枠と銅箔の重さであり、また、Cは乾燥後の枠と銅
箔の重さである。) また、各実施例及び比較例における略号は以下の通りで
ある。
{(C−A) ÷ 0.15 (B−A) −1} × 100 (where A is the weight of the frame and copper foil before coating, B is the weight of the frame and copper foil after coating) And C is the weight of the frame and the copper foil after drying.) Further, the abbreviations in Examples and Comparative Examples are as follows.

PMDA:ピロメリット酸二無水物 BPDA:3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物 DDE:4,4′−ジアミノジフェニルエーテル PPD:パラフェニレンジアミン MABA:2′−メトキシ−4,4′−ジアミノベンズアニリド DMAc:ジメチルアセトアミド 合成例1 温度計、攪拌機及び窒素取込口を備えた内容積35lの反
応槽に毎分1の窒素を流しながら、MABA944.0g、DDE6
01.1g及びDMAc17Kgを仕込み、撹拌下に溶解させ、反応
系をジャケットの冷水で15℃以下に冷却しながらPMDA14
54.9gを徐々に加えて反応させたところ、発熱しながら
重合反応が進行し、B型粘度計で12万cpsの粘稠なポリ
アミドイミド前駆体樹脂溶液(固形分濃度15重量%)が
得られた。
PMDA: pyromellitic dianhydride BPDA: 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride DDE: 4,4'-diaminodiphenyl ether PPD: paraphenylenediamine MABA: 2'-methoxy-4, 4'-Diaminobenzanilide DMAc: Dimethylacetamide Synthesis Example 1 MABA 944.0 g, DDE 6 while flowing 1 nitrogen per minute into a reaction vessel having an internal volume of 35 l equipped with a thermometer, a stirrer and a nitrogen inlet.
Charge 01.1 g and DMAc17Kg, dissolve under stirring, and cool the reaction system to 15 ° C or less with cold water in the jacket while PMDA14
When 54.9 g was gradually added and reacted, the polymerization reaction proceeded while generating heat, and a viscous polyamide-imide precursor resin solution (solid content concentration 15% by weight) of 120,000 cps was obtained with a B-type viscometer. It was

合成例2 DDE146.1g、PPD709.1g及びBPDA2144.8gをDMAc17Kg中で
上記合成例1と同様にして反応させ、B型粘度計で10万
cpsのポリイミド前駆体樹脂溶液(固形分濃度15%)を
得た。
Synthesis Example 2 DDE 146.1 g, PPD 709.1 g and BPDA 2144.8 g were reacted in DMAc 17 Kg in the same manner as in Synthesis Example 1 above, and the reaction was conducted with a B-type viscometer at 100,000.
A cps polyimide precursor resin solution (solid content concentration 15%) was obtained.

実施例1 電解銅箔の粗面上に合成例1の樹脂溶液を、最終の樹脂
層の厚みが25μmとなるように、コーティングし、循環
式熱風オーブン中で130℃で10分間乾燥した。このとき
の溶媒残存率は22重量%であった。これをさらに165℃
で2分、200℃で2分、250℃で2分、300℃で2分、及
び、350℃で2分順次熱処理して硬化させた。
Example 1 The rough surface of an electrolytic copper foil was coated with the resin solution of Synthesis Example 1 so that the final resin layer had a thickness of 25 μm, and dried in a circulating hot air oven at 130 ° C. for 10 minutes. The solvent residual ratio at this time was 22% by weight. Add this to 165 ℃
2 minutes at 200 ° C., 2 minutes at 250 ° C., 2 minutes at 250 ° C., 2 minutes at 300 ° C., and 2 minutes at 350 ° C. for 2 minutes.

得られたフレキシブルプリント基板は、カールがなくて
平らであり、エッッチング後のフィルムの熱膨張係数は
8×10-6(1/K)であった。
The obtained flexible printed board was flat without curling, and the coefficient of thermal expansion of the film after etching was 8 × 10 −6 (1 / K).

比較例1 乾燥条件を155℃で10分間とした以外は上記実施例1と
同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。得ら
れたフレキシブルプリント基板は、樹脂層を内側に曲率
半径30mmで大きくカールした。フィルムの熱膨張係数は
18×10-6(1/K)であった。
Comparative Example 1 A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the drying condition was 155 ° C. for 10 minutes. The obtained flexible printed board was greatly curled with the radius of curvature of 30 mm inside the resin layer. The coefficient of thermal expansion of the film is
It was 18 × 10 -6 (1 / K).

実施例2〜10及び比較例2及び3 合成例1で得られたポリイミド系前駆体樹脂溶液を使用
し、第1表に示す乾燥条件で第1表に示す溶媒残存率ま
で乾燥し、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント
基板を作製した。得られたフレキシブルプリント基板に
ついて、実施例1と同様に、そのカールの状態及び熱膨
張係数を調べた。結果を第1表に示す。
Examples 2 to 10 and Comparative Examples 2 and 3 Using the polyimide-based precursor resin solution obtained in Synthesis Example 1, it was dried under the drying conditions shown in Table 1 to the solvent residual rate shown in Table 1, and A flexible printed board was prepared in the same manner as in 1. The curled state and the coefficient of thermal expansion of the obtained flexible printed circuit board were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例11〜18及び比較例4〜6 合成例2で得られたポリイミド系前駆体樹脂溶液を使用
し、第1表に示す乾燥条件で第1表に示す溶媒残存率ま
で乾燥し、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント
基板を作製した。得られたフレキシブルプリント基板に
ついて、実施例1と同様に、そのカールの状態及び熱膨
張係数を調べた。結果を第1表に示す。
Examples 11 to 18 and Comparative Examples 4 to 6 Using the polyimide-based precursor resin solution obtained in Synthesis Example 2 and drying under the drying conditions shown in Table 1 to the solvent residual rate shown in Table 1, A flexible printed board was prepared in the same manner as in 1. The curled state and the coefficient of thermal expansion of the obtained flexible printed circuit board were examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例19及び20 合成例1又は2で得られたポリイミド系前駆体樹脂溶液
を使用し、幅540mmの電解銅箔上にダイ方式で最終樹脂
層の厚みが25μmとなるように連続的に塗工し、続いて
長さ6mのエアーサポート方式のドライヤーを使用し、ラ
インスピード0.6mの速度で送りながら連続的に乾燥し
た。
Examples 19 and 20 The polyimide-based precursor resin solution obtained in Synthesis Example 1 or 2 was used and continuously coated on an electrolytic copper foil having a width of 540 mm by a die method so that the final resin layer had a thickness of 25 μm. Then, using an air support type dryer having a length of 6 m, it was continuously dried while being sent at a line speed of 0.6 m.

この乾燥工程中、銅箔エッジの持ち上がりがなくて円滑
に走行した。さらに、同じドライヤーを165℃から350℃
まで昇温させ、実施例1と同じ処理条件で順次熱処理し
て硬化を行なった。得られたフレキシブルプリント基板
はカールがなくてほぼ平らなものであった。
During this drying process, there was no lifting of the copper foil edge and the vehicle ran smoothly. Furthermore, the same dryer can be used at 165 to 350 ° C.
The temperature was raised up to, and heat treatment was sequentially performed under the same processing conditions as in Example 1 to cure. The flexible printed board obtained was almost flat without curling.

[発明の効果] 本発明方法によれば、カールのない作業性に優れたフレ
キシブルプリント基板を容易に製造することができる。
[Effects of the Invention] According to the method of the present invention, it is possible to easily manufacture a flexible printed circuit board having no curl and excellent workability.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】分子中に閉環したイミド環を実質的に含ま
ないポリイミド系前駆体樹脂溶液を導体上に直接塗布し
た後、乾燥し硬化させてフレキシブルプリント基板を製
造するに際し、乾燥温度110℃以上、140℃未満の条件で
溶媒量が樹脂100重量部に対し50重量部以下になるまで
乾燥させた後、硬化させることを特徴とするフレキシブ
ルプリント基板の製造法。
1. A method for producing a flexible printed circuit board by directly applying a polyimide-based precursor resin solution containing substantially no imide ring closed in the molecule on a conductor and then drying and curing the solution to produce a flexible printed circuit board at a drying temperature of 110 ° C. A method for producing a flexible printed circuit board, which is characterized in that it is dried at a temperature of less than 140 ° C. until the amount of solvent becomes 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of resin, and then cured.
【請求項2】乾燥温度120〜140℃の条件で溶媒量が樹脂
100重量部に対し30重量部以下になるまで乾燥させる請
求項1記載のフレキシブルプリント基板の製造法。
2. The amount of solvent is resin at a drying temperature of 120 to 140 ° C.
The method for producing a flexible printed circuit board according to claim 1, wherein drying is performed until the amount becomes 30 parts by weight or less based on 100 parts by weight.
【請求項3】ポリイミド系前駆体樹脂が下記一般式
(1) (但し、式中R1〜R8は水素、ハロゲン、低級アルコキシ
基、低級アルキル基のいずれかであり、そのうちの少な
くとも1つは低級アルコキシ基である)で示される構成
単位を有するポリアミドイミド前駆体樹脂である請求項
1記載のフレキシブルプリント基板の製造法。
3. A polyimide-based precursor resin represented by the following general formula (1): (In the formula, R1 to R8 are any of hydrogen, halogen, a lower alkoxy group, and a lower alkyl group, and at least one of them is a lower alkoxy group). The method for manufacturing a flexible printed circuit board according to claim 1, wherein
【請求項4】ポリイミド系前駆体樹脂が下記一般式
(2) で示される構成単位を有するポリイミド前駆体樹脂であ
る請求項1記載のフレキシブルプリント基板の製造法。
4. A polyimide-based precursor resin represented by the following general formula (2): The method for producing a flexible printed circuit board according to claim 1, which is a polyimide precursor resin having a structural unit represented by:
【請求項5】溶媒がアミド系溶媒である請求項1〜5の
いずれかに記載のフレキシブルプリント基板の製造法。
5. The method for producing a flexible printed circuit board according to claim 1, wherein the solvent is an amide solvent.
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