JPS58190093A - Method of producing flexible circuit board - Google Patents

Method of producing flexible circuit board

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JPS58190093A
JPS58190093A JP7154882A JP7154882A JPS58190093A JP S58190093 A JPS58190093 A JP S58190093A JP 7154882 A JP7154882 A JP 7154882A JP 7154882 A JP7154882 A JP 7154882A JP S58190093 A JPS58190093 A JP S58190093A
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JP
Japan
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aromatic
polyamic acid
solvent
flexible wiring
polyimide
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JP7154882A
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稲池 稔弘
牛見 勝彦
修二 山本
俊宏 井上
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Ube Corp
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Ube Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐熱性、電気特性、機械特性が優れたポリイ
ミド金属張板からなるフレキシブル配線基板の製法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a flexible wiring board made of a polyimide metal clad plate having excellent heat resistance, electrical properties, and mechanical properties.

フレキシブル配線基板とは、可とう性を有する印刷回路
を製造するための基板であって、近年において、電子回
路などの簡略化、高密度化を主な目的として多用されつ
つある。
A flexible wiring board is a board for manufacturing a flexible printed circuit, and in recent years, it has been increasingly used mainly for the purpose of simplifying and increasing the density of electronic circuits.

このようなフレキシブル配線基板としては、従来より主
として銅箔に芳香族ポリイミドフィルムを接着剤を用い
て接着して製造した一般にポリイミド銅張板と呼ばれる
複合材料が用いられている。しかしながら、この従来の
ポリイミド銅張板には厚さ10〜30gmの接着剤層が
設けられているため、少なくとも三層からなる積層体の
形態となる。従って、そのポリイミド銅張板の耐熱性、
電気特性、耐化学薬品性、機械特性などの諸特性は、そ
れらの諸特性について優れている芳香族ポリイミドの特
性ではなく、接着剤層を構成する樹脂の特性により規定
される傾向になり、絶縁層として芳香族ポリイミドフィ
ルムを用いたことによる利点が充分に生かされないとの
問題があった。
As such flexible wiring boards, a composite material generally called a polyimide copper clad board, which is manufactured by bonding an aromatic polyimide film to a copper foil using an adhesive, has been used. However, since this conventional polyimide copper clad board is provided with an adhesive layer having a thickness of 10 to 30 gm, it takes the form of a laminate consisting of at least three layers. Therefore, the heat resistance of the polyimide copper clad board,
Properties such as electrical properties, chemical resistance, and mechanical properties tend to be determined by the properties of the resin that makes up the adhesive layer, rather than by the properties of aromatic polyimide, which is superior in these properties. There was a problem in that the advantages of using an aromatic polyimide film as a layer were not fully utilized.

従って、接着剤層を用いずしてポリイミド鋼張板などの
フレキシブル配線基板を製造する方法が従来より検討さ
れている。そのような方法の代表例としては米国特許第
3.179.634号に示されているようなピロメリッ
ト酸などのテトラカルボン酸と芳香族第一級アミンとの
重合により得れらた芳香族ポリアミック酸(芳香族ポリ
アミド酸とも呼ばれ、芳香族ポリイミドの前駆体である
)溶液を銅箔に直接塗布し、たとえば120°C付近の
温度、次いで300°C付近の温度にて加熱を行なうこ
とにより溶媒の除去およびポリアミック酸の統合反応を
銅箔−1−で生起させて男香族ボリイミ、ドに変換し、
ポリイミド銅張板とする方法か知られている。しかし、
この方法は、ポリアミック酸塗布層から溶媒が揮散され
る際、およびポリアミック酸がポリイミドに変換される
際においてかなりの体積収縮が発生する。従って、得ら
れるポリイミド鋼張板には激しいカール(湾曲)が発生
する傾向があった。このようなカールの発生はフレキシ
ブル配線基板としては重大な欠点であるため、上記の芳
香族ボリアミンク酸を銅箔」−に直接塗布し、イミド化
させてフレキシブル配線基板を製造するとの方法は実際
の製造工程に採用することが困難であった。
Therefore, methods of manufacturing flexible wiring boards such as polyimide steel clad boards without using an adhesive layer have been studied. A typical example of such a method is the polymerization of aromatic compounds obtained by the polymerization of a tetracarboxylic acid such as pyromellitic acid with an aromatic primary amine, as shown in U.S. Pat. No. 3,179,634. Applying a solution of polyamic acid (also called aromatic polyamic acid, which is a precursor of aromatic polyimide) directly to copper foil, and heating it at a temperature of, for example, around 120°C and then around 300°C. The removal of the solvent and the integration reaction of polyamic acid are caused in copper foil-1- to convert it into male aromatic polyimide,
It is known how to make a polyimide copper clad board. but,
In this method, considerable volumetric shrinkage occurs when the solvent is evaporated from the polyamic acid coating layer and when the polyamic acid is converted into polyimide. Therefore, the resulting polyimide steel clad plate had a tendency to be severely curled (curved). The occurrence of such curling is a serious drawback for flexible wiring boards, so the method of manufacturing flexible wiring boards by directly applying aromatic polyamine chloride to copper foil and imidizing it is not practical. It was difficult to adopt it in the manufacturing process.

一方、−上記の製造法における欠点の改良を]]的とす
るフレキシブル配線基板の製造法も提案されている。す
なわち、特開間第49−129862号公報には、ピロ
メリット酸二無水物なとを原料として製造したポリアミ
ド酸をジフェニルエーテル−4,4゛−ジインシアネー
トなどと反応させて部分的に閉環させたポリイミドアミ
ド酸を予め調製し、これを銅箔などの導体箔上に直接塗
布したのち、この塗布層をたとえば140〜l 50 
’0付近の温度、次いで300°C4−J近の温度にて
加熱することにより溶媒の除去とポリイミドアミド酸の
未閉環部分の閉環によるポリイミド層の形成を実現する
方法が記載されている。この方法によれば、未閉環のポ
リアミック酸を銅箔上に直接塗布し、全ての縮合閉環反
応を銅箔上で行なわせる前記の方法よりも、得られる銅
張板のカール性は改良されると述べられているが、この
ようなプj法により得られた銅張板でも、そのカールの
程度は未だ充分に低くならず、また、ポリイミドアミド
酸を製造するための工程が加わるため、工業的に有利と
はいえない。
On the other hand, a method for manufacturing a flexible wiring board has also been proposed which aims to improve the drawbacks of the above manufacturing method. Specifically, JP-A No. 49-129862 discloses a polyimide which is partially ring-closed by reacting polyamic acid produced from pyromellitic dianhydride with diphenyl ether-4,4'-diincyanate, etc. After preparing amic acid in advance and applying it directly onto a conductive foil such as copper foil, the coating layer is coated with a liquid of, for example, 140 to 50 l.
A method is described in which a polyimide layer is formed by removing the solvent and ring-closing the unclosed portion of the polyimidoamic acid by heating at a temperature near '0 and then at a temperature near 300°C4-J. According to this method, the curling properties of the resulting copper-clad board are improved compared to the above-mentioned method in which unclosed polyamic acid is applied directly onto the copper foil and all condensation ring-closing reactions are performed on the copper foil. However, even with copper clad boards obtained by such a polyimide method, the degree of curl is still not sufficiently reduced, and the addition of a process to produce polyimide amic acid makes it difficult to manufacture industrially. It cannot be said that it is advantageous.

従って、本発明の第一の目的は、カール性が改良された
芳香族ポリイミド系の金属張板からなるフレキシブル配
線基板を製造する方法を提供することにある。
Therefore, a first object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible wiring board made of an aromatic polyimide metal clad plate with improved curling properties.

本発明の第二の目的は、カール性の改良とともに、フレ
キシブル配線基板としての各種の特性、特に、耐折強さ
、および耐アルカリ性が優れた芳香族゛ポリイミド系の
金属張板からなるフレキシブル配IX基板を製造する方
法を提供することにある。すなわち、フレキシブル配線
基板はその用途、たとえば、回路板への利用、において
、様々な変形、あるいは機械的衝撃を受けることが多い
ため、そのような変形および衝撃に対する抵抗性か特に
必要である。また、その却下工程においてはフォトレジ
ストの除去処理、あるいはメッキ処理などのようなアル
カリ処理を受ける場合が多く、従って、フレキシブル配
線基板は充分な耐アルカリ性を持つことか望ましい。本
発明は、カール性の改良とともに、それらの特性の改良
をも達成したフレキシブル配線基板を製造する方法を提
供するものである。
The second object of the present invention is to improve the curling properties of flexible wiring boards, and to provide flexible wiring boards made of aromatic polyimide metal-clad boards that have various properties, especially excellent folding strength and alkali resistance. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an IX substrate. That is, since flexible wiring boards are often subjected to various deformations or mechanical impacts during their use, for example, in circuit boards, they are particularly required to have resistance to such deformations and impacts. Further, in the rejection process, the flexible wiring board is often subjected to alkali treatment such as photoresist removal treatment or plating treatment, and therefore, it is desirable that the flexible wiring board has sufficient alkali resistance. The present invention provides a method for manufacturing a flexible wiring board that achieves improvements in not only curling properties but also those characteristics.

本発明の第三の目的は、芳香族ポリアミック酸をそのま
ま金属箔に塗布する方法を利用しながらも、カール性が
改良された芳香族ポリイミド系の金属張板からなるフレ
キシブル配線基板を製造する方法を提供することにある
A third object of the present invention is a method for manufacturing a flexible wiring board made of an aromatic polyimide-based metal clad plate with improved curling properties while utilizing a method of directly applying aromatic polyamic acid to metal foil. Our goal is to provide the following.

本発明の第四の目的は、芳香族ポリアミック酸をそのま
ま金属箔に塗布する方法を利用しながらも、製造後のカ
ール性およびエツチング処理後のカール性の双方が共に
改良された芳香族ポリイミド系の金属張板からなるフレ
キシブル配線基板を製造する方法を提供することにある
。すなわち、フレキシブル配線基板のカールは、その製
造後の状態における場合のみならず、配線基板製造の工
程において金属箔を除去したのちについても発生しやす
く、いずれの場合におてもカールが少ないことが望まし
く、本発明は、そのような特性を有するフレキシブル配
線基板を製造する方法を提供することもその目的とする
ものである。
The fourth object of the present invention is to create an aromatic polyimide-based material that utilizes a method of applying aromatic polyamic acid to metal foil as it is, while improving both curling properties after production and curling properties after etching treatment. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible wiring board made of a metal clad plate. In other words, curling of flexible wiring boards is likely to occur not only in the post-manufactured state, but also after the metal foil has been removed during the wiring board manufacturing process, and in either case, it is possible to minimize curling. Desirably, it is also an object of the present invention to provide a method for manufacturing a flexible wiring board having such characteristics.

これらの目的は、ビ゛フェニルテトラカルボン成分と、
置換基を有することのない対称型芳香族第−級アミンと
の重合により得られた芳香族ボリアミンク酸の有機溶媒
溶液を金属箔に直接塗布し、100°C以下の温度にて
少なくとも50重量%の溶媒の除去したのち、残りの溶
媒の加熱除去およびイミド化を行なうことを特徴とする
フレキシブル配線基板の製法からなる本発明により達成
する、ことができる。
These purposes are based on biphenyltetracarboxylic components,
An organic solvent solution of aromatic polyamine citric acid obtained by polymerization with a symmetrical aromatic primary amine having no substituents is applied directly to metal foil, and at least 50% by weight of the aromatic polyaminic acid is applied at a temperature below 100°C. This can be achieved by the present invention, which comprises a method for manufacturing a flexible wiring board, characterized in that after removing the solvent, the remaining solvent is removed by heating and imidization is performed.

次に本発明を訂しく説明する。Next, the present invention will be explained in detail.

本発明で用いられるビフェニルテトラカルボン酸成分は
、ビフェニルテトラカルボン酸、あるいはビフェニルテ
トラカルボン酸の二無水物などの誘導体であり、3,3
°、4.4’一体(S一体)、および、2,3.3’、
4″一体(a一体)のいずれも用いることができる。た
とえば、ビフェニルテトラカルボン酸の二無水物の例と
しては、3.3’ 、4.4°−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物(S一体)、および、2,3.3″、4
°−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a一体)を
挙げることができる。これらの化合物は各々単独もしく
は二種以上を組み合わせて用いることができる。ただし
、各種の特性か特に優れたフレキシブル配線基板を製造
するためには、テトラカルボン酸成分として、上記の3
.3’、4.4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物(S一体)を用いることが好ましい。
The biphenyltetracarboxylic acid component used in the present invention is biphenyltetracarboxylic acid or a derivative such as dianhydride of biphenyltetracarboxylic acid;
°, 4.4' integral (S integral), and 2,3.3',
For example, as an example of biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3.3', 4.4°-biphenyltetracarboxylic dianhydride (S monolithic) can be used. ), and 2,3.3″,4
°-Biphenyltetracarboxylic dianhydride (a monolith) can be mentioned. These compounds can be used alone or in combination of two or more. However, in order to manufacture flexible wiring boards with particularly excellent various properties, the above three
.. It is preferable to use 3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (S monolithic).

また、ビフェニルテトラカルボン酸成分は、他のテトラ
カルボン酸もしくはその誘導体、たとえば、ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、2.2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3
、4−ジカルボキシフェニル)エーテルあるいはそれら
の化合物の誘導体などを10モル%以内の量であること
を条件として含有していてもよい。
In addition, the biphenyltetracarboxylic acid component may include other tetracarboxylic acids or derivatives thereof, such as benzophenonetetracarboxylic acid, pyromellitic acid, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane, bis(3-dicarboxyphenyl)propane,
, 4-dicarboxyphenyl) ether or derivatives of these compounds, provided that the amount is within 10 mol %.

本発明で用いるアミン成分は、置換基を有することのな
い対称型芳香族第一級アミンであり、その好ましい化合
物の例としては、次に示す−・般式により表すことがで
きる化合物を挙げることができる。
The amine component used in the present invention is a symmetrical aromatic primary amine having no substituents, and preferable examples thereof include compounds that can be represented by the following general formula. I can do it.

上記一般式において、Xは、二価のO,CH2、C(C
H3)2、s、co、so□、SOのいずれかの基を表
わし、それぞれのNH2基はX基に対して対称の位置に
ある。
In the above general formula, X is divalent O, CH2, C(C
H3) Represents any group such as 2, s, co, so□, or SO, and each NH2 group is in a symmetrical position with respect to the X group.

上記の一般式で表わされる芳香族第一級アミンの例とし
ては、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4
′−ジアミノジフェニルチオエーテル、4.4″−ジア
ミノベンゾフェノン、4゜4′−ジアミノジフェニルメ
タン、4.4°−ジアミノジフェニルスルホン、2.2
’−ビス(4−7ミノフエニル)プロパンなどを挙げる
ことができる。上記の一般式で表される芳香族第一級ア
ミンを用いて製造した芳香族ポリイミドフィルムは、特
にエツチング(金属箔除去)後のカールが少なくなる傾
向があるため、本発明の目的にとって好ましい。
Examples of aromatic primary amines represented by the above general formula include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4
'-Diaminodiphenylthioether, 4.4''-diaminobenzophenone, 4°4'-diaminodiphenylmethane, 4.4°-diaminodiphenyl sulfone, 2.2
'-Bis(4-7minophenyl)propane and the like can be mentioned. An aromatic polyimide film produced using an aromatic primary amine represented by the above general formula tends to have less curl, especially after etching (metal foil removal), and is therefore preferable for the purpose of the present invention.

また、本発明で用いるアミン成分の置換基を有すること
のない対称型芳香族第一級アミンは、たトエばP−フェ
ニレンジアミンなどの対称型フェニレンジアミン、ある
いは2,6−ジアミノピリジン、3,5−ジアミノピリ
ジンなどのピリジン誘導体のような上記の一般式に含ま
れない化合物でもよい。
Furthermore, the symmetrical aromatic primary amine having no substituents as the amine component used in the present invention is symmetrical phenylenediamine such as P-phenylenediamine, or 2,6-diaminopyridine, 3, Compounds not included in the above general formula, such as pyridine derivatives such as 5-diaminopyridine, may also be used.

本発明において、これらの芳香族第一級アミンは単独で
用いることができ、あるいは、組合わせて用いることも
できる。
In the present invention, these aromatic primary amines can be used alone or in combination.

本発明で用いる芳香族第一級アミンは、」二記のように
置換基を有することなく、かつ、対称型であることを必
要とする。置換基を有する芳香族第一級アミンは、対称
型であっても、本発明の芳香族第一級アミンとして好ま
しくなく、また、非対称型の芳香族第一級アミンは、置
換基を有していなくとも、本発明の芳香族第一級アミン
として好ましくない。そのような芳香族第一級アミンを
用いて得られるポリイミド金属張板は、特にフレキシブ
ル配線基板として必須な性質である耐折強さが充分でな
く実用に適さない。
The aromatic primary amine used in the present invention needs to have no substituents and be symmetrical as described in Section 2. Aromatic primary amines having substituents are not preferred as aromatic primary amines of the present invention even if they are symmetrical, and asymmetrical aromatic primary amines are not preferred as aromatic primary amines having substituents. Even if it is not, it is not preferable as the aromatic primary amine of the present invention. Polyimide metal clad plates obtained using such aromatic primary amines do not have sufficient bending strength, which is an essential property particularly for flexible wiring boards, and are not suitable for practical use.

本発明において芳香族ポリアミック酸を製造する方法に
ついては特に限定がなく、公知の方法に準じた方法を利
用することができる。
In the present invention, the method for producing aromatic polyamic acid is not particularly limited, and methods similar to known methods can be used.

その例としては、次のような方法を挙げることができる
Examples include the following methods.

略化学量論量のテトラカルボン酸成分と芳香抜本−級ア
ミンとを、N−メチル−2−ピロリドン、N、N’−ジ
メチルホルムアミド、あるいは、N、N”−ジメチルア
セトアミドなどの有機極性溶媒中で0〜80°Cの温度
で反応させて芳香族ポリアミック酸の溶液を得る。この
ようにして得られた芳香族ポリアミック酸溶液は、その
まま、あるいは有機溶媒を更に添加して濃度を調節する
ことにより塗布液とする。
A substantially stoichiometric amount of a tetracarboxylic acid component and an aromatic primary amine are mixed in an organic polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, N,N'-dimethylformamide, or N,N''-dimethylacetamide. A solution of aromatic polyamic acid is obtained by reacting at a temperature of 0 to 80 ° C. The aromatic polyamic acid solution thus obtained can be used as it is, or the concentration can be adjusted by further adding an organic solvent. to make a coating solution.

なお、芳香族ポリアミック酸の有機溶媒溶液からなる塗
布液は、芳香族ポリアミック酸を5〜60重量%含有す
る溶液であることが好ましく、また、含有される芳香族
ポリアミック酸は、対数粘度が0.1以上(30’O1
濃度0 、5 g / 100mJ1・N−メチル−2
−ピロリドンにおける測定値)、特に0.5〜4である
ものであることが好ましい。ポリアミック酸塗布液を塗
布する対象の金属箔としては、一般には、銅箔が用いら
れるが、アルミ箔、ニッケル箔などの他の導電性の金属
からなる金属箔を用いることもできる。金属箔は、フレ
キシブル配線基板を製造する場合には、厚さが10〜1
00にのものが利用される。また金属箔は、表面が粗面
化処理を施されているものであることが好ましい。
The coating liquid made of an organic solvent solution of aromatic polyamic acid is preferably a solution containing 5 to 60% by weight of aromatic polyamic acid, and the aromatic polyamic acid contained has a logarithmic viscosity of 0. .1 or more (30'O1
Concentration 0, 5 g/100 mJ1・N-methyl-2
- measured value for pyrrolidone), particularly preferably from 0.5 to 4. Copper foil is generally used as the metal foil to which the polyamic acid coating liquid is applied, but metal foils made of other conductive metals such as aluminum foil and nickel foil can also be used. When manufacturing a flexible wiring board, the metal foil has a thickness of 10 to 1
00 is used. Further, the surface of the metal foil is preferably subjected to a roughening treatment.

芳香族ポリアミック酸塗布液を金属箔への塗布操作は流
延塗布により行なわれることが好ましく、具体的には、
次のような方法が利用される。
The coating operation of the aromatic polyamic acid coating liquid onto the metal foil is preferably carried out by casting, and specifically,
The following methods are used:

金属箔表面に芳香族ポリアミック酸塗布液を製膜用スリ
ットから吐出させて均一な厚さく厚さは、一般的には、
50〜10007tとなるように調節される)の塗膜層
を形成させる。塗布手段としては、ロールコータ−、ナ
イフコーター、ドクターブレード、フローコーターなど
他の公知の塗布手段を利用することも可能である。
Generally, a uniform thickness is achieved by discharging an aromatic polyamic acid coating liquid onto the surface of a metal foil through a film forming slit.
A coating layer of 50 to 10,007 t) is formed. As the coating means, it is also possible to use other known coating means such as a roll coater, knife coater, doctor blade, and flow coater.

L記のようにして調製されたポリアミック酸塗布層を、
次に加熱して溶媒を除去する。この溶媒の加熱除去の操
作は、少なくとも50重量%の溶媒が除去されるまでは
100℃以下(好ましくは、90°C以下)の温度で行
なう必要がある。なお、加熱操作は常圧、減圧、あるい
は加圧などの任意の条件下で行なうことができる。
The polyamic acid coating layer prepared as in L.
The solvent is then removed by heating. This operation of heating and removing the solvent must be carried out at a temperature of 100° C. or lower (preferably 90° C. or lower) until at least 50% by weight of the solvent is removed. Note that the heating operation can be performed under any conditions such as normal pressure, reduced pressure, or increased pressure.

゛このように、芳香族ポリアミック酸溶液塗布層からの
溶媒除去操作の前半部を100℃以下(好ましくは、9
0℃以下)にて行なうことにより、その工程ではポリア
ミック酸の縮合反応は実質的に進行せず、従って、この
工程ではポリアミック酸の縮合反応による塗布層の体積
収縮は発生しない。また、溶媒の半量の除去を、そのよ
うな低温下で行なうことにより、その工程において溶媒
の揮散による塗布層の体積収縮が殆ど発生しないうちに
、ポリアミック酸塗布層の表面部にポリアミック酸の塗
膜が形成される。そして、ポリアミック酸塗布層にその
ような塗膜が一旦形成された場合、それ以後は、通常の
温度の加熱による残りの溶媒の除去工程、および縮合に
よるイミド化反応においても、塗布層の体積収縮は比較
的軽微な程度となる。
゛In this way, the first half of the solvent removal operation from the aromatic polyamic acid solution coating layer is carried out at 100°C or lower (preferably 90°C or lower).
(0° C. or lower), the condensation reaction of the polyamic acid does not substantially proceed in this step, and therefore, the volumetric shrinkage of the coating layer due to the condensation reaction of the polyamic acid does not occur in this step. In addition, by removing half of the solvent at such a low temperature, the polyamic acid can be applied to the surface of the polyamic acid coating layer before the volume of the coating layer shrinks due to volatilization of the solvent. A film is formed. Once such a coating film is formed on the polyamic acid coating layer, the volume of the coating layer shrinks even during the process of removing the remaining solvent by heating at normal temperatures and the imidization reaction by condensation. is relatively minor.

なお、芳香族ポリアミック酸塗布層の加熱温度は、上記
の操作終了後に、徐々に高くし、最終的には加熱温度が
250〜400°Cとなるようにして溶媒の除去および
芳香族ポリアミック酸のイミド化を完了させる。また、
塗布層に被膜が形成されたのち、塗布層に含有されてい
る有機溶媒を低沸点の貧溶媒(低級アルカノール、低級
ケトンなど)で置換して溶媒の除去のための所要時間の
短縮を図ることもできる。このようにして形成される芳
香族ポリイミド層の厚さは、一般的には、10〜150
にとされる。
The heating temperature of the aromatic polyamic acid coating layer is gradually increased after the above operation is completed, and the final heating temperature is 250 to 400°C to remove the solvent and remove the aromatic polyamic acid. Complete imidization. Also,
After a film is formed on the coating layer, the organic solvent contained in the coating layer is replaced with a poor solvent with a low boiling point (lower alkanol, lower ketone, etc.) to shorten the time required to remove the solvent. You can also do it. The thickness of the aromatic polyimide layer formed in this way is generally 10 to 150 mm.
be killed.

以上に述べたような方法で代表される本発明により製造
される芳香族ポリイミド金属張板からなるフレキシブル
配線基板は、接着剤層を含まないため、フレキシブル配
線基板として必要な特性のうち特に耐熱性が高く、一方
、芳香族ポリアミック酸あるいは、その部分閉環体を金
属箔に直接塗布し、比較的高温下で溶媒の揮散とイミド
化反厄を行なわせる方法により製造された芳香族ポリイ
ミド金属張板に比較して特にカールする傾向が少なく、
さらに、機械的強度および耐アルカル性も高いため、フ
レキシブル配線基板としての実用性は非常に高いもので
ある。また更に、本発明により得られるフレキシブル配
線基板は、エツチング処理により金属箔か除去されたの
ちにおいても、カールか少ないため、この点においても
実用性の高いものである。
A flexible wiring board made of an aromatic polyimide metal clad plate manufactured by the present invention represented by the method described above does not contain an adhesive layer, and therefore has particularly high heat resistance among the characteristics necessary for a flexible wiring board. On the other hand, aromatic polyimide metal clad sheets manufactured by directly coating aromatic polyamic acid or its partially closed ring product on metal foil and causing solvent volatilization and imidization reaction to occur at relatively high temperatures. It has less tendency to curl compared to
Furthermore, since it has high mechanical strength and alkali resistance, it is highly practical as a flexible wiring board. Furthermore, the flexible wiring board obtained by the present invention has less curling even after the metal foil is removed by etching treatment, so it is highly practical in this respect as well.

次に本発明の実施例、そして比較例を示す。Next, examples of the present invention and comparative examples will be shown.

[実施例1] 反応容器に3.3’、4.4’−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物20.59g (0,07モル)、4.
4’−ジアミノジフェニルエーテル14.02g(0,
07モル)、N−メチル−2−ピロリドン138gを仕
込み、30°Cで24時間撹拌して重合させ、対数粘度
が0.78のポリアミック酸を20重量%含む溶液を得
た。
[Example 1] 20.59 g (0.07 mol) of 3.3', 4.4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was placed in a reaction vessel.
4'-diaminodiphenyl ether 14.02g (0,
07 mol) and 138 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and polymerized by stirring at 30° C. for 24 hours to obtain a solution containing 20% by weight of polyamic acid with a logarithmic viscosity of 0.78.

このポリアミック酸溶液を厚さ35pの電解銅箔上に流
延塗布し、熱風乾燥器中で80°Cにて2時間加熱して
溶媒の約、80重量%を除去して表面にポリアミック酸
の塗膜が形成された塗布層とした。この塗布層を有する
銅箔の曲率半径(測定法は後述)は3.7cmであった
。次いで、このポリアミック酸層付設の銅箔を300°
Cで30分間加熱して厚さ約25gの芳香族ポリイミド
皮膜をもつフレキシブル銅張板を得た。
This polyamic acid solution was cast onto an electrolytic copper foil with a thickness of 35p and heated in a hot air dryer at 80°C for 2 hours to remove about 80% by weight of the solvent, and the polyamic acid was coated on the surface. This was a coating layer in which a coating film was formed. The radius of curvature of the copper foil having this coating layer (the measurement method will be described later) was 3.7 cm. Next, this copper foil with polyamic acid layer was heated at 300°.
C. for 30 minutes to obtain a flexible copper clad board with an aromatic polyimide film having a thickness of about 25 g.

この銅張板について印刷配線板用としての各種の性能を
次に記載する方法により測定した。
Various performances of this copper clad board for use in printed wiring boards were measured by the methods described below.

(1)表面抵抗 JIS  C−6481に準拠して測定。(1) Surface resistance Measured in accordance with JIS C-6481.

(2)耐引きはがし強さ JIS  C,−6481に準拠し、幅10mmの試料
の180°剥離をオートグラフにて引張り速度50 m
 m 7分で測定した。
(2) Peel resistance In accordance with JIS C, -6481, 180° peeling of a sample with a width of 10 mm was performed using an autograph at a tensile speed of 50 m.
Measured at 7 minutes.

(3)耐溶剤性 JIS  C−6481に準拠し、試料を常温のトリク
レン、アセトンおよび塩化メチレンにそれぞれ浸漬し、
ポリイミド被覆層の剥離などの外観変化を観察した。
(3) Solvent resistance In accordance with JIS C-6481, the sample was immersed in trichlene, acetone, and methylene chloride at room temperature, respectively.
Changes in appearance such as peeling of the polyimide coating layer were observed.

(4)耐折強さ JIS  P−8115に準拠し、折曲げ面の曲率半径
0.88mm、制止重量0.5kgで測定を行なった。
(4) Folding strength Measurement was carried out in accordance with JIS P-8115, with a bending surface radius of curvature of 0.88 mm and a restraining weight of 0.5 kg.

(5)耐アルカリ性 JIS  C−6481に準拠し、試料を室温・下にて
10重量%水酸化ナトリウム水溶液に30分間浸漬した
のち、上記の(4)の方法により測定した。
(5) Alkali resistance In accordance with JIS C-6481, the sample was immersed in a 10% by weight sodium hydroxide aqueous solution for 30 minutes at room temperature, and then measured by the method (4) above.

(6)耐半田性 JIS  C−6481に準拠し、試料を300′Cの
半田浴中に1分間浸漬したのち、「フクレ」などの外観
を視覚判定した。
(6) Soldering resistance In accordance with JIS C-6481, the sample was immersed in a solder bath at 300'C for 1 minute, and then the appearance of "blister" etc. was visually judged.

(7)そり(曲率半径) フレキシブル銅張板の相対湿度60%、20°0におけ
るカールの曲率半径を「そり」として表示した。
(7) Warpage (radius of curvature) The radius of curvature of the curl of the flexible copper-clad board at a relative humidity of 60% and 20°0 was expressed as "warp."

(8)エツチング後のそり フレキシブル銅張板から銅箔を塩化第二鉄水溶液を用い
て溶解除去(エツチング)したのちのポリイミドフィイ
ルムの「そり」を、上記の(7)の方法により測定し、
同様にして表示した。
(8) Warpage after etching The "warpage" of the polyimide film after dissolving and removing (etching) the copper foil from the flexible copper clad board using an aqueous ferric chloride solution was measured using the method described in (7) above. ,
Displayed in the same manner.

測定結果を次に示す。The measurement results are shown below.

(1)表面抵抗:  6.7  X  101”Ω(2
)酎引きはがし強;!:1.5kg/Cm(3)耐溶剤
性: 異常なし く4)耐折強さ: 59回 (5)耐アルカリ性= 53回 (6)耐半田性: 異常なし く7)そり(曲率半径):  3.2cm(8)エツチ
ング後のそり:  21.5cm[実施例2] 反応容器に3.3’、4.4°−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物20.59g (0,07モル)、4.
4°−ジアミノジフェニルメタン13.88g(0,0
7モル)、N−メチル−2=ピロリドン138gを仕込
み、30″Cで24時間攪拌して重合させ、対数粘度が
1.03のポリアミック酸を20重量%含む溶液を得た
(1) Surface resistance: 6.7 x 101”Ω (2
) Shochu Hiki Hakiri strong;! : 1.5kg/Cm (3) Solvent resistance: No abnormality 4) Folding strength: 59 times (5) Alkali resistance = 53 times (6) Soldering resistance: No abnormality 7) Warpage (radius of curvature) : 3.2 cm (8) Warp after etching: 21.5 cm [Example 2] 20.59 g (0.07 mol) of 3.3', 4.4°-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4.
4°-diaminodiphenylmethane 13.88g (0,0
7 mol) and 138 g of N-methyl-2=pyrrolidone were charged and polymerized by stirring at 30''C for 24 hours to obtain a solution containing 20% by weight of polyamic acid with an logarithmic viscosity of 1.03.

このポリアミック酸溶液を実施例1と同様に銅箔上に流
延塗布し、実施例1に記載の方法により溶媒除去および
イミド化を行ない、厚さ約25 p、の芳香族ポリイミ
ド皮膜をもつフレキシブル銅張板を得た。
This polyamic acid solution was cast onto a copper foil in the same manner as in Example 1, and the solvent was removed and imidized by the method described in Example 1 to obtain a flexible film having an aromatic polyimide film with a thickness of approximately 25 μm. I got a copper clad board.

この銅張板について印刷配線板用としての各種の性能を
、実施例1に記載した方法によりA111定した。1l
l11定結果を次に示す。
Various performances of this copper clad board for use in printed wiring boards were determined by the method described in Example 1 (A111). 1l
The l11 constant results are shown below.

(1)表面抵抗:  5.2  X  10”Ω(2)
酎引きはがし強さ+1.4kg/cm(3)耐溶剤性:
 異常なし く4)削折強さ: 51回 (5)耐アルカリ性: 46回 (6)耐半[H性: 異常なし く7)そり (曲率半径):  3.5cm(8)エン
チング後のそり:   19.Ocm[実施例3] 反応容器に3,3°、4.4’−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物29.42g (0,1モル)、4.4
°−ジアミノジフェニルエーテルlO,O1g(0,0
5モル)、p−フェニレンジアミン5.41g(0,0
5モル)、およびN−メチル−2−ピロリドン300g
を仕込み、30°Cで24時間攪拌して縮重合させ、対
数粘度が4.0のポリアミック酸を15重醍%含む溶滴
を得た。
(1) Surface resistance: 5.2 x 10”Ω (2)
Peeling strength +1.4kg/cm (3) Solvent resistance:
No abnormality 4) Cutting strength: 51 times (5) Alkali resistance: 46 times (6) Half resistance [H resistance: No abnormality 7) Warpage (radius of curvature): 3.5cm (8) Warpage after etching : 19. Ocm [Example 3] 29.42 g (0.1 mol) of 3,3°, 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4.4
°-Diaminodiphenyl ether lO,O1g (0,0
5 mol), p-phenylenediamine 5.41 g (0,0
5 mol), and 300 g of N-methyl-2-pyrrolidone.
was charged and stirred at 30° C. for 24 hours to undergo condensation polymerization to obtain droplets containing 15% by weight of polyamic acid with a logarithmic viscosity of 4.0.

このボリアミンク酸溶靜を実施例1と同様に銅箔1−に
流延塗布し、実施例1に記載の方法により溶媒除去およ
びイミド化を行ない、厚さ約25μの芳香族ポリイミド
皮膜をもつフレキシブル銅張板をイ与だ。
This polyamic acid melt was cast onto a copper foil 1- in the same manner as in Example 1, and the solvent was removed and imidized by the method described in Example 1. I'll give you a copper clad plate.

この銅張板について印刷配線板用としての各種の性能を
、実施例1に記載した方法により測定した。測定結果を
次に示す。
Various performances of this copper clad board for use in printed wiring boards were measured by the method described in Example 1. The measurement results are shown below.

(1)表面抵抗:  4.3  X  1016Ω(2
)#引きはがし強さ+1.6kg/cm(3)#溶剤性
: 異常なし く4)耐折強さ: 53回 (5)耐アルカリ性: 49回 (6)耐半il]性: 異常なし く7)そり(曲率半径):  2.8cm(8)−r−
,7チング後のそり:  11.6cm「実施例4] 4.4′−ジアミノジフェニルエーテルの代りに4,4
”−ジアミノジフェニルチオエーテル15.14g (
0,07モル)を用いた以外は、実施例1と同様にして
ポリアミック酸(対数粘度+ 1 :5)を20重敬%
含む溶液を得た。
(1) Surface resistance: 4.3 x 1016Ω (2
) #Peel strength + 1.6 kg/cm (3) #Solvent resistance: No abnormalities 4) Folding strength: 53 times (5) Alkali resistance: 49 times (6) Half-il resistance: No abnormalities 7) Warp (radius of curvature): 2.8cm(8)-r-
, 7 Warpage after ching: 11.6 cm "Example 4" 4,4 in place of 4,4'-diaminodiphenyl ether
”-diaminodiphenylthioether 15.14g (
Polyamic acid (logarithmic viscosity + 1:5) was added at 20% by weight in the same manner as in Example 1, except that 0.07 mol) was used.
A solution containing

このポリアミック酸溶液を実施例1と同様に銅箔1.に
流延塗布し、実施例1に記載の方法により溶媒除去およ
びイミド化を行ない、厚さ約25川の芳香族ポリイミド
皮膜をもつフレキシブル銅張板を得た。
This polyamic acid solution was applied to the copper foil 1 in the same manner as in Example 1. The mixture was cast and applied, and the solvent was removed and imidized by the method described in Example 1 to obtain a flexible copper-clad board having an aromatic polyimide film about 25 mm thick.

この銅張板について印刷配線板用としての各種の性能を
、実施例1に記載した方法により測定した。Wl11定
結果を次に示す。
Various performances of this copper clad board for use in printed wiring boards were measured by the method described in Example 1. The Wl11 determination results are shown below.

(1)表面抵抗・ 3.4  X  101’Ω(2)
酎引きはがし強さ+1.3kg/cm(3)耐溶剤性:
 異常なし く4)#折強さ: 46回 (5)耐アルカリ性: 39回 (6)耐半1η性: 異常なし く7)そり(曲率半径):  3.Ocm(8)エツチ
ング後のそり:  14.1cm[比較例1] 銅箔上に流延塗布したポリアミック酸溶液から溶媒の8
0重量%を加熱除去する工程を熱風乾燥型中120°C
で行なった以外は、実施例1に記載の方法により溶媒除
去およびイミド化を行ない、厚さ約25.の皮膜をもつ
フレキシブル銅張板を得た。
(1) Surface resistance・3.4 x 101'Ω (2)
Peeling strength +1.3kg/cm (3) Solvent resistance:
No abnormality 4) #Bending strength: 46 times (5) Alkali resistance: 39 times (6) Half 1η resistance: No abnormality 7) Warpage (radius of curvature): 3. Ocm(8) Warpage after etching: 14.1cm [Comparative Example 1] 8 cm of solvent from polyamic acid solution cast on copper foil
The process of removing 0% by weight was carried out at 120°C in a hot air drying mold.
Solvent removal and imidization were carried out by the method described in Example 1, except that the method was performed in Example 1, and the thickness was about 25 mm. A flexible copper clad board with a film of

この銅張板について印刷配線板用としての性能を、実施
例1に記載した方法により測定したところ、そり(曲率
半径)以外については、前記実施例により得られたフレ
キシブル銅張板とほぼ同等の結果が得られたが、そり(
曲率半径)は1.7Cmとの結果が得られ、激しいカー
ルを示した。
The performance of this copper clad board for use in printed wiring boards was measured by the method described in Example 1, and it was found that, except for warpage (radius of curvature), it was almost the same as the flexible copper clad board obtained in the above example. I got the result, but the sled (
The radius of curvature) was found to be 1.7 cm, indicating severe curling.

[比較例2] 反応容器にピロメリット酸二無水物15.27g(0,
07モル)、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル1
4.02g(0,07モル)、N−メチル−2−ピロリ
I・ン117gを仕込み、30°Cで24時間IW拌し
て重合させ、対数粘度が0.96である芳香族ボリアミ
ンク酸を含む溶液(濃度20重品%)を得た。この溶液
をjりさ35川の電解銅箔4二に流延塗布し、120°
Cで2時間、続いて300°Cで30分間加熱して、厚
さ約25μの芳香族ポリイド皮膜をもつフレキシブル銅
張板を得た。
[Comparative Example 2] 15.27 g of pyromellitic dianhydride (0,
07 mol), 4,4'-diaminodiphenyl ether 1
4.02 g (0.07 mol) and 117 g of N-methyl-2-pyrrolidine were charged and polymerized by IW stirring at 30°C for 24 hours to produce aromatic polyamine citric acid with a logarithmic viscosity of 0.96. A solution (concentration: 20% by weight) was obtained. This solution was cast onto the electrolytic copper foil 42 of JRISA 35, and the temperature was 120°.
C for 2 hours, followed by heating at 300°C for 30 minutes to obtain a flexible copper clad board with an aromatic polyide film about 25μ thick.

この銅張板について耐折強さを実施例1に記載の方法に
より4(II定したところ、66回との高い結果が得ら
れた。しかし、この銅張板をアルカリ処理したのち、再
度、耐折強さを′A111定したところ、13回と大幅
な低下を示した。また、そり(曲率半径)を実施例1に
記載の方法により測定したところ、1.80cmとの結
果が得られ、強くカールした状態となった。
When the folding strength of this copper clad plate was determined to be 4 (II) by the method described in Example 1, a high result of 66 times was obtained.However, after this copper clad plate was treated with alkali, When the bending strength was determined by 'A111', it showed a significant decrease of 13 times.Furthermore, when the warp (radius of curvature) was measured by the method described in Example 1, a result of 1.80 cm was obtained. , it became a strongly curled state.

特許出願人 宇部興産株式会社 代理人   弁理士 柳川泰男 475−Patent applicant: Ube Industries Co., Ltd. Agent: Patent attorney: Yasuo Yanagawa 475-

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ビフェニルテトラカルボン酸成分と、置換基を有するこ
とのない対称型芳香族第一級アミンとの重合により得ら
れた芳香族ポリアミック酸の有機溶媒溶液を金属箔に直
接塗布し、100 ’C以下の温度にて少なくとも50
重量%の溶媒の除去したのち、残りの溶媒σ加熱除去お
よびイミド化を行なうことを特徴とするフレキシブル配
線基板の製法。
An organic solvent solution of an aromatic polyamic acid obtained by polymerizing a biphenyltetracarboxylic acid component and a symmetrical aromatic primary amine having no substituents is directly applied to a metal foil, and at a temperature of at least 50
1. A method for producing a flexible wiring board, which comprises removing % by weight of the solvent, followed by heat removal of the remaining solvent σ and imidization.
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