JPS61111181A - Manufacture of polyimide-metallic foil composite film - Google Patents

Manufacture of polyimide-metallic foil composite film

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JPS61111181A
JPS61111181A JP23432184A JP23432184A JPS61111181A JP S61111181 A JPS61111181 A JP S61111181A JP 23432184 A JP23432184 A JP 23432184A JP 23432184 A JP23432184 A JP 23432184A JP S61111181 A JPS61111181 A JP S61111181A
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polyimide
metal foil
composite film
film
foil
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正則 今井
Ken Noda
謙 野田
Toshio Nakajima
中島 登志雄
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Nitto Electric Industrial Co Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates

Abstract

PURPOSE:To manufacture the titled film without generating any curls by using a diamino compd. consisting essentially of DDBP and an aromatic tetracarboxylic acid compd. consisting essentially of 3,3',4,4'- biphenyltetracarboxylic acid dianhydride. CONSTITUTION:A polyimide precursor is obtained by allowing a diamino compd. consisting essentially of 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl to react with a tetracarboxylic acid compd. consisting essentially of 3,3',4,4'- biphenyltetracarboxylic acid dianhydride or its derivative. A soln. of said polyimide precursor in an org. polar solvent is coated on metallic foil, and heated while the foil is fixed to form a polyimide thin film on the surface of the foil. Consequently, a polyimide-foil composite film can be manufactured without forming previously the film of polyimide. The composite film can be used for the substrate for a solar battery, a hybrid IC, etc. which are used under conditions where the temps. are drastically changed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明はポリ′イミドー金属箔複合フィルムの製法に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] This invention relates to a method for producing a polyimide metal foil composite film.

〔背景技術〕[Background technology]

ポリイミドと金属箔とが積層されてなる複合フイルムは
電気回路板として育用である。この複合フィルムの製法
としては、■ポリイミドフィルムを接着剤を介して金属
箔と接着する方法、■ポリイミドフィルムを金属箔上に
熱融着する方法、■金属箔上にポリイミド前駆体の有機
極性溶媒溶液を塗布し、乾燥したのちイミド化してポリ
イミド膜を形成する方法がある。
A composite film made by laminating polyimide and metal foil is used as an electric circuit board. The methods for producing this composite film include: ■ bonding a polyimide film to metal foil via an adhesive; ■ heat-sealing a polyimide film onto metal foil; and ■ applying an organic polar solvent of polyimide precursor onto metal foil. There is a method in which a solution is applied, dried, and then imidized to form a polyimide film.

これらの製法のうち、■および■の方法は、予めポリイ
ミド前駆体をフィルム化しなければならないため、工程
が複雑になるという欠点を有しており、特に■の方法で
は、それに加えて接着剤使用によるトラブルが生じると
いう問題を有している。これに対して、■の製法は、■
および■の方法のように予めフィルム化を行う必要がな
いため、工程が簡略化できるとともに薄い複合フィルム
を形成でき、また■の方法のように接着剤によるトラブ
ルがない等の利点を有する。しかしながら?、この■の
方法では、乾燥時やイミド化時において加熱したのち冷
却する際に塗膜が収縮するため、この収縮に追随させに
くい金属箔との関係で、得られる複合フィルムにカール
が生じ回路加工に適用できなかったり加工時の取扱い性
が悪いという欠点がある。
Among these manufacturing methods, methods ① and ③ have the disadvantage that the process becomes complicated because the polyimide precursor must be formed into a film in advance, and method ③ in particular requires the use of an adhesive in addition to this. This has the problem of causing troubles due to On the other hand, the manufacturing method of ■ is
Since there is no need to form a film in advance as in method (1), the process can be simplified and a thin composite film can be formed, and there are no problems caused by adhesives as in method (2). however? In this method (■), the coating film shrinks when it is cooled after heating during drying or imidization, so the resulting composite film curls due to the metal foil that is difficult to follow this shrinkage, causing circuit damage. It has the disadvantage that it cannot be applied to processing or is difficult to handle during processing.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は、実質的にカールを生じることのないポリイ
ミド−金属箔複合フィルムを、予めポリイミドのフィル
ム化を行わずに製造する方法の提供を目的とする。
An object of the present invention is to provide a method for producing a polyimide-metal foil composite film that does not substantially curl without forming the polyimide into a film in advance.

〔発明の開示〕[Disclosure of the invention]

上記の目的を達成するため、この発明のポリイミド−金
属箔複合フィルムの製法は、3.3’ −ジメチル−4
,4’  −ジアミノビフェニルを主成分とするジアミ
ノ化合物と3.3’ 、4.4’  −ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物またはその誘導体を主成分とする
テトラカルボン酸化合物とを反応させて得られたポリイ
ミド前駆体の有機極性溶媒溶液を準備する工程と、上記
ポリイミド前駆体のを機種性溶媒溶液を金属箔上に塗布
する工程と、このポリイミド前駆体の有機極性溶媒溶液
が塗布された金属箔を固定状態で加熱処理してその金属
箔の箔面にポリイミド薄膜を形成する工程を備えるとい
う構成をとる。
In order to achieve the above object, the method for producing a polyimide-metal foil composite film of the present invention is to provide 3,3'-dimethyl-4
, 4'-diaminobiphenyl as a main component and a tetracarboxylic acid compound containing 3.3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof as a main component. a step of preparing an organic polar solvent solution of a polyimide precursor, a step of applying the organic polar solvent solution of the polyimide precursor onto a metal foil, and a step of applying the organic polar solvent solution of the polyimide precursor onto a metal foil; The structure includes a step of heat-treating the metal foil in a fixed state to form a polyimide thin film on the foil surface of the metal foil.

すなわち、この発明の方法は、ポリイミド膜形成用のジ
アミノ化合物およびテトラカルボン酸化合物として、上
記のような特定のジアミノ化合物とテトラカルボン酸化
合物とを用いるため、得られるポリイミド膜が、銅やア
ルミニウム等からなる金属箔にほぼ近い線膨張係数を有
するようになる。しかも、この金属箔上に上記のポリイ
ミド膜を形成するに際して、金属箔を固定した状態でポ
リイミド化用の加熱処理をするため、ポリイミド膜に生
じる応力が緩和されるようになり、この効果と、上記線
膨張係数近似効果とが相俟って長さ方向および幅方向の
双方にカールの生じないポリイミド−金属箔複合フィル
ムが得られるようになるのである。
That is, since the method of the present invention uses the above-mentioned specific diamino compound and tetracarboxylic acid compound as the diamino compound and tetracarboxylic acid compound for forming the polyimide film, the resulting polyimide film contains copper, aluminum, etc. It has a coefficient of linear expansion almost similar to that of metal foil made of . Moreover, when forming the above-mentioned polyimide film on this metal foil, the heat treatment for polyimidization is performed with the metal foil fixed, so that the stress generated in the polyimide film is relaxed, and this effect and Together with the linear expansion coefficient approximation effect described above, a polyimide-metal foil composite film that does not curl in both the length direction and the width direction can be obtained.

この発明の方法におけるポリイミド前駆体(ポリイミド
膜)形成用のジアミノ化合物は、3.3゛−ジメチル−
4,4゛ −ジアミノビフェニル(以下rDDBPJと
略す)を主成分とするものである。ここで、主成分とす
るとは、全体が主成分のみからなる場合も含めるもので
ある。しかし、通常は、DDBPを70モル%以上、そ
の他のジアミンを30モル%以下の割合で含Uものが用
いられる。DDBPの割合が少なすぎると、銅やアルミ
ニウム等からなる金属箔とポリイミド膜との線膨張係数
の差が大きくなるため好ましくない。
The diamino compound for forming the polyimide precursor (polyimide film) in the method of this invention is 3.3゛-dimethyl-
The main component is 4,4'-diaminobiphenyl (hereinafter abbreviated as rDDBPJ). Here, the term "main component" includes the case where the whole consists only of the main component. However, U containing 70 mol% or more of DDBP and 30 mol% or less of other diamines is usually used. If the proportion of DDBP is too small, the difference in linear expansion coefficient between the metal foil made of copper, aluminum, etc. and the polyimide film becomes large, which is not preferable.

上記のその他のジアミンとしては、4,4“ −ジアミ
ノジフェニルエーテル、4.4° −ジアミノジフェニ
ルメタン、4,4° −ジアミノジフェニルスルホン、
3.3’  −ジアミノジフェニルスルホン、p−フェ
ニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4.4′ 
−ジアミノジフェニルプロパン、1.5−ジアミノナフ
タリン、2.6−ジアミノナフタリン、4,4° −ジ
アミノジフェニルスルフィド、4.4“ −ジ(m−ア
ミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、3,3”−ジ(
m −アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4.4
’−’;(m−アミノフェノキシ)ジフェニルプロパン
等があげられ、これらのうちの1種または2種以上が適
宜使用される。また、ジアミノシロキサンを数モル%程
度用いてもよい。
Other diamines mentioned above include 4,4"-diaminodiphenyl ether, 4.4°-diaminodiphenylmethane, 4,4°-diaminodiphenyl sulfone,
3.3'-diaminodiphenylsulfone, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4.4'
-diaminodiphenylpropane, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, 4,4°-diaminodiphenyl sulfide, 4,4"-di(m-aminophenoxy)diphenylsulfone, 3,3"-di(
m-aminophenoxy)diphenylsulfone, 4.4
'-'; Examples include (m-aminophenoxy)diphenylpropane, and one or more of these may be used as appropriate. Moreover, about several mol% of diaminosiloxane may be used.

この発明におけるポリイミド前駆体形成用のテトラカル
ボン酸化合物は、3.3″、4.4’  −ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物ないしはその酸ハロゲン化物
、ジエステル、モノエステル等の誘導体を主成分とする
ものである。通常はこの二無水物ないしはその誘導体を
70モル%以上、その他の芳香族テトラカルボン酸二無
水物ないしはその酸ハロゲン化物、ジエステル、モノエ
ステル等の誘導体を30モル%以下の割合で含むものが
用いられる。3.3’ 、4.4’  −ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物ないしはその誘導体の割合が少
なすぎると、銅やアルミニウム等からなる金属箔とポリ
イミド膜との線膨張係数の差が大きくなるかあるいは膜
強度が極端に低下する等の不都合を生じるため好ましく
ない。
The tetracarboxylic acid compound for forming a polyimide precursor in the present invention is mainly composed of 3.3'', 4.4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride or its derivatives such as acid halides, diesters, and monoesters. Usually, this dianhydride or its derivatives are contained in a proportion of 70 mol% or more, and other aromatic tetracarboxylic dianhydrides or their derivatives such as acid halides, diesters, monoesters, etc. are contained in a proportion of 30 mol% or less. If the proportion of 3.3', 4.4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride or its derivatives is too small, the coefficient of linear expansion between the metal foil made of copper, aluminum, etc. and the polyimide film will decrease. This is not preferable because problems such as an increase in the difference or an extreme decrease in film strength occur.

l      上記のその他の芳香族テトラカルボン酸
二無水物ないしはその誘導体としては、ピロメリット酸
二無水物、3. 3′、  4. 4°−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6.7−ナフタ
リンテトラカルボン酸二無水物等の酸二無水物ないしは
その誘導体があげられ、これらのうちの1種または2種
以上が適宜使用される。なお、これらの中でも特にピロ
メリット酸二無水物ないしはその誘導体、3.3’ 、
4.4″ −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
ないしはその誘導体が賞月される。その理由は、これら
のテトラカルボン酸化合物は、これ単独で前記特定のジ
アミノ化合物と反応させても膜強度に優れるポリイミド
膜を生成しにくいが、線膨張係数の低下には好ましい結
果を与え、カール防止というこの発明の目的達成に寄与
するようになるからである。
l Examples of the above-mentioned other aromatic tetracarboxylic dianhydrides or derivatives thereof include pyromellitic dianhydride, 3. 3', 4. Examples include acid dianhydrides or derivatives thereof such as 4°-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 2,3,6.7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, and one or more of these Used as appropriate. Among these, pyromellitic dianhydride or its derivatives, 3.3',
4.4''-benzophenonetetracarboxylic dianhydride or its derivatives are prized.The reason is that these tetracarboxylic acid compounds have excellent film strength even when reacted alone with the specific diamino compound. This is because although it is difficult to form a polyimide film, it gives a favorable result in reducing the coefficient of linear expansion and contributes to achieving the object of the present invention, which is to prevent curling.

上記のジアミノ化合物とテトラカルボン酸化合物を反応
させてポリイミド前駆体を得るためには、これら両化合
物を略等モル、有機極性溶媒中において通常0〜90℃
で1〜24時間反応させポリアミド酸等のポリイミド前
駆体とすることが行われる。
In order to obtain a polyimide precursor by reacting the above-mentioned diamino compound and tetracarboxylic acid compound, these two compounds are mixed in approximately equal moles in an organic polar solvent at usually 0 to 90°C.
The mixture is reacted for 1 to 24 hours to form a polyimide precursor such as polyamic acid.

上記の有機極性溶媒としては、N−メチル−2−ピロリ
ドン、N、N−ジメチルアセトアマイド、N・、N−ジ
メチルホルムアマイド、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホスホアマイド、m−クレゾール、p−クレゾール、
p−クロルフェノール等があげられる。また、これにキ
シレン、トルエン、ヘキサン、ナフサ等を一部混合して
もよい。
The above organic polar solvents include N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylacetamide, N.,N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylphosphoamide, m-cresol, p-cresol,
Examples include p-chlorophenol. Further, a portion of xylene, toluene, hexane, naphtha, etc. may be mixed therein.

このようにして得られるポリイミド前駆体の有機極性溶
媒溶液は、その対数粘度(N−メチル−2−ピロリドン
中0.5 g/ 100mlの濃度で30℃下で測定)
が0.4〜7.0の範囲にあるのが好ましい。より好ま
しいのは1.5〜3.0の範囲内である。この値が小さ
すぎると、得られるポリイミド膜の機械的強度が低くな
り好ましくない。また、この値が大きすぎると金属箔に
対する塗布作業性が低くなり好ましくない。
The organic polar solvent solution of the polyimide precursor obtained in this way is characterized by its logarithmic viscosity (measured at 30 °C at a concentration of 0.5 g/100 ml in N-methyl-2-pyrrolidone).
is preferably in the range of 0.4 to 7.0. More preferably, it is within the range of 1.5 to 3.0. If this value is too small, the resulting polyimide film will have a low mechanical strength, which is not preferable. Moreover, if this value is too large, the coating workability on metal foil will be lowered, which is not preferable.

この発明は、上記のようにして得られたポリイミド前駆
体の有機極性溶媒溶液を用い、例えばっぎのようにして
ポリイミド−金属箔複合フィルムを製造する。すなわち
、まず、上記のポリイミド前駆体の有機極性溶媒溶液を
80℃以下の温度に加温して粘度を低下させ、その状態
で厚みが1〜500μm、好ましくは10〜100μm
、特に好ましくは20〜50μmの金属箔上にアプリケ
ータ等の適宜の手段で流延塗布する。この場合、上記金
属箔の厚みが1μm未満であると、カール発生の防止効
果が小さくなり1.また用途上の問題等が生じる恐れが
あり、逆に500μmを超えると複合フィルムが柔軟性
に欠は電気回路板等の用途にあまりふされしくなくなる
。したがって、使用する金属箔は、厚みが1〜500μ
mの範囲内のものが好ましい。
In the present invention, a polyimide-metal foil composite film is manufactured using the organic polar solvent solution of the polyimide precursor obtained as described above, for example, as described above. That is, first, the organic polar solvent solution of the above polyimide precursor is heated to a temperature of 80° C. or lower to lower the viscosity, and in that state, the thickness is 1 to 500 μm, preferably 10 to 100 μm.
It is particularly preferably cast onto a metal foil having a thickness of 20 to 50 μm using an appropriate means such as an applicator. In this case, if the thickness of the metal foil is less than 1 μm, the effect of preventing curling will be reduced.1. In addition, there is a possibility that problems may arise in terms of use, and conversely, if the thickness exceeds 500 μm, the composite film lacks flexibility and becomes unsuitable for uses such as electric circuit boards. Therefore, the metal foil used has a thickness of 1 to 500 μm.
Preferably, it is within the range of m.

金属箔の種類としては銅箔、アルミニウム箔またはステ
ンレス箔が好ましい。銅箔を用いる場合は電解銅箔、圧
延銅箔またはこれらをシランカップリング剤、アルミニ
ウム系カップリング剤により表面処理したものを用いる
とポリイミド膜との接着力が大きくなるため好ましい。
As for the type of metal foil, copper foil, aluminum foil or stainless steel foil is preferable. When using copper foil, it is preferable to use electrolytic copper foil, rolled copper foil, or those surface-treated with a silane coupling agent or an aluminum-based coupling agent because the adhesive strength with the polyimide film will be increased.

金属箔としては、その他、前記厚みを有する銀、鉄、ニ
ッケルとクロムとの合金等、各種材質からなるものを用
いることができる。前記ポリイミド前駆体溶液を塗布す
る際のこれら金属箔の長さは特に規制されない。しかし
、幅は実用上20〜200cm程度である。もちろん、
上記範囲を逸脱しても差し支えない。また上記広幅の金
属箔を用いて得られた複合フィルムを最終工程において
所定幅に裁断して使用に供してもよいことはいうまでも
ない。
The metal foil may be made of various other materials such as silver, iron, or an alloy of nickel and chromium having the thickness described above. The length of these metal foils when applying the polyimide precursor solution is not particularly limited. However, the width is practically about 20 to 200 cm. of course,
It is acceptable to deviate from the above range. It goes without saying that the composite film obtained using the wide metal foil described above may be cut into a predetermined width in the final step and used.

なお、前記のようにして得られたポリイミド前駆体の有
機極性溶媒溶液を必要に応じて有機極性溶媒でさらに希
釈してもよい。この場合の希釈用有機極性溶媒としては
、それぞれのポリイミド前駆体の重合反応時に使用した
ものを使用できる。
Note that the organic polar solvent solution of the polyimide precursor obtained as described above may be further diluted with an organic polar solvent as necessary. As the organic polar solvent for dilution in this case, those used during the polymerization reaction of each polyimide precursor can be used.

また、上記溶液中のポリイミド前駆体の濃度は10〜2
0重量%程度に設定することが好ましい。
In addition, the concentration of the polyimide precursor in the above solution is 10 to 2
It is preferable to set it to about 0% by weight.

この濃度が低すぎるとポリイミド膜の表面が荒れやすく
、逆に高(なりすぎると粘度が高くなって塗布作業性が
損なわれるようになる。この溶液の粘度は、塗布作業性
の面から一般的には加温塗布時の粘度で、5000ボイ
ズ以下とすることが好ましい。また、金属箔とポリイミ
ド膜との接着性を高めるために、金属箔上に予めシラン
カップリング剤を塗布しておいてもよ(、あるいは上記
の溶液中にシランカップリング剤を添加混合しておいて
もよい。
If this concentration is too low, the surface of the polyimide film tends to become rough, while if it is too high, the viscosity increases and coating workability is impaired.The viscosity of this solution is generally The viscosity at the time of hot application is preferably 5000 voids or less.Also, in order to improve the adhesion between the metal foil and the polyimide film, a silane coupling agent is applied on the metal foil in advance. Alternatively, a silane coupling agent may be added and mixed in the above solution.

つぎに、溶液塗布後、上記の金属箔を固定した状態で加
熱処理する。この加熱処理は、通常、100〜230℃
で30分〜2時間程度加熱乾燥して溶媒を除去したのち
、さらに昇温し最終的に230〜600℃の温度で1分
〜6時間、好ましくは形成されるポリイミドのガラス転
移温度付近の温度、すなわち250〜350°Cの温度
で、10分〜6時間加熱処理してイミド化反応を完全に
行わせるとともに、上記の溶媒除去およびイミド化時に
塗膜に生じる応力を緩和する。
Next, after applying the solution, the metal foil is heat-treated in a fixed state. This heat treatment is usually performed at 100 to 230°C.
After drying by heating for about 30 minutes to 2 hours to remove the solvent, the temperature is further raised and finally at a temperature of 230 to 600°C for 1 minute to 6 hours, preferably at a temperature near the glass transition temperature of the polyimide to be formed. That is, heat treatment is carried out at a temperature of 250 to 350° C. for 10 minutes to 6 hours to completely carry out the imidization reaction and to relieve stress generated in the coating film during the above-mentioned solvent removal and imidization.

なお、上記加熱処理を230℃未満の温度で行うと応力
緩和が不充分となり、得られる複合フィルムにカールが
生じやすくなる。逆に600℃を超える温度で行うとポ
リイミドが分解するため好ましくない。このようなポリ
イミドの分解を防ぐ意味から、600℃以下の加熱温度
であっても、350℃を超える温度では、加熱時間を1
0分未満とすることが好ましい。
Note that if the heat treatment is performed at a temperature below 230° C., stress relaxation will be insufficient, and the resulting composite film will tend to curl. On the other hand, if it is carried out at a temperature exceeding 600°C, the polyimide will decompose, which is not preferable. In order to prevent such decomposition of polyimide, even if the heating temperature is 600°C or less, if the heating temperature exceeds 350°C, the heating time is
It is preferable to set it as less than 0 minutes.

このような加熱処理は、前記のようにポリイミド前駆体
溶液が塗布された金属箔を固定した状態で行われる。こ
の固定方法としては、上記金属箔をガラス板上等にポリ
イミドテープ等を用いて平板状に固定したり、金属箔の
長さ方向両端部をロールに巻き付けて固定する等のよう
に、金属箔の長さ、大きさに応じてその幅方向および長
さ方向ともに実質的に固定しうる種々の方法をとること
ができる。
Such heat treatment is performed while the metal foil coated with the polyimide precursor solution is fixed as described above. This fixing method includes fixing the metal foil in a flat plate on a glass plate using polyimide tape, etc., or fixing the metal foil by wrapping both lengthwise ends of the metal foil around a roll. Depending on the length and size of the material, various methods can be used to substantially fix the material in both the width and length directions.

このようにして加熱処理したのち室温まで冷却する。上
記固定は、高温加熱処理後であればいつ解除してもによ
いが、室温まで冷却したのち解除することが望ましい。
After the heat treatment in this manner, it is cooled to room temperature. The above-mentioned fixation may be released at any time after the high-temperature heat treatment, but it is preferable to release it after cooling to room temperature.

このような一連の工程を経て金属箔上に、応力緩和かな
されたポリイミド膜が形成される。この場合、ポリイミ
ド膜の厚みを5〜200μmに設定することが好ましい
。より好ましくは10〜100μmであり、最も好まし
いのは10〜50μmである。この厚みが5μm未満に
なるとフィルム特性が悪くなり、逆に200μmを超え
るとカール防止効果が小さくなるとともに可撓性に欠け
るようになり電気回路板等の用途にあまりふされしくな
くなる。したがって、ポリイミド膜の厚みは5〜200
pmに設定することが好ましい。
Through this series of steps, a stress-relaxed polyimide film is formed on the metal foil. In this case, it is preferable to set the thickness of the polyimide film to 5 to 200 μm. More preferably, it is 10 to 100 μm, and most preferably 10 to 50 μm. If the thickness is less than 5 μm, the film properties will deteriorate, and if it exceeds 200 μm, the curl prevention effect will be reduced and the film will lack flexibility, making it unsuitable for applications such as electrical circuit boards. Therefore, the thickness of the polyimide film is 5 to 200 mm.
It is preferable to set it to pm.

上記ポリイミド膜は一般に、50〜250℃における平
均線膨張係数が1.2X10−5〜2.9 X 1O−
5ycの範囲にあるが、場合によっては上記値よりもさ
らに小さい平均線膨張係数にすることも可能である。こ
れに対して上記と同じ温度範囲にある金属箔、例えば1
〜500μm厚の金属箔の平均線膨張係数は、銅箔では
1.5 X 10−5〜1.7×to−’ycの範囲に
あり、またアルミニウム箔では2、4 X 10 ’〜
2.6X10−5ytの範囲にある。
The above polyimide film generally has an average linear expansion coefficient of 1.2X10-5 to 2.9X1O- at 50 to 250°C.
Although the average linear expansion coefficient is within the range of 5yc, it is possible to set the average linear expansion coefficient to be even smaller than the above value depending on the case. In contrast, metal foils in the same temperature range as above, e.g.
The average coefficient of linear expansion of ~500 μm thick metal foils ranges from 1.5 x 10-5 to 1.7 x to'yc for copper foil, and from 2.4 x 10' to 2,4 x to'yc for aluminum foil.
It is in the range of 2.6 x 10-5 yt.

このように、この発明においては上記ポリイミド膜のポ
リマー組成を前記特定範囲内で適宜設定し、かつポリイ
ミド膜および金属箔の厚みを上記範囲に設定することに
より、ポリイミド膜と金属箔との平均線膨張係数の差を
0.3 X 10−’λ以内に抑えることができるとい
う特徴を有している。
As described above, in this invention, by appropriately setting the polymer composition of the polyimide film within the above-mentioned specific range and setting the thickness of the polyimide film and the metal foil within the above-mentioned range, the average line between the polyimide film and the metal foil can be adjusted. It has the characteristic that the difference in expansion coefficients can be suppressed to within 0.3 x 10-'λ.

なお、この明細書において、線膨張係数とは、温度Tに
おいて長さlの材料が、温度が1℃変化したとき長さが
Δlだけ変化したとすると、Δβ/1で示されるもので
あり、また平均線膨張係数とは一定温度範囲における上
記線膨張係数の平均値として示されるものである。そし
て、この線膨張係数の測定は、複合フィルムを長さ25
11幅3tlに切断した試験片につき、長さ方向の一端
を上方にして固定し、チャック間距i%に10vaにお
いて下端に15g/+u2の荷重を加えた状態で窒素ガ
ス雰囲気中10℃/分の昇温速度で温度変化を与え、こ
のときの上記Δl/12を求めることにより行われる。
In this specification, the coefficient of linear expansion is expressed as Δβ/1, assuming that the length of a material of length l at temperature T changes by Δl when the temperature changes by 1°C. Further, the average linear expansion coefficient is expressed as the average value of the above-mentioned linear expansion coefficients within a certain temperature range. The linear expansion coefficient was measured using a composite film with a length of 25 mm.
11 A test piece cut to a width of 3 tl was fixed with one end in the length direction facing upward, and was heated at 10°C/min in a nitrogen gas atmosphere with a load of 15 g/+u2 applied to the lower end at a chuck distance i% of 10 va. This is done by changing the temperature at a temperature increase rate and determining the above Δl/12 at this time.

上記のようにして得られるポリイミド−金属箔複合フィ
ルムは、幅方向および長さ方向ともに曲率半径が25”
cm以上で実質的にカールのない優れたものである。す
なわち、上記複合フィルムは、l    通常曲率半径
が50cm以上、好適には■であるような実質的にカー
ルのない優れたものである。しかも上記複合フィルムは
、耐熱性、耐薬品性、耐久性、可撓性に優れるとともに
、ポリイミド膜と金属箔との接合状態も優れているため
、プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、
多層配線基板、振動板等の用途に好適である。
The polyimide-metal foil composite film obtained as described above has a radius of curvature of 25" in both the width and length directions.
cm or more and is excellent with virtually no curls. That is, the above-mentioned composite film has an excellent curvature radius of l usually 50 cm or more, preferably a radius of curvature of 50 cm or more, and is substantially curl-free. In addition, the above composite film has excellent heat resistance, chemical resistance, durability, and flexibility, and also has an excellent bonding state between the polyimide film and metal foil, so it can be used for printed wiring boards, flexible printed wiring boards, etc.
Suitable for applications such as multilayer wiring boards and diaphragms.

なお、上記曲率半径とは、図面に示すように、金属箔1
とポリイミド膜2とからなる複合フィルム3を長さlQ
cm、幅10cmの10cL11角に切断した試験片に
つき、この試験片が幅方向(ないし長さ方向)にカール
したときの曲率の程度を中心Pからの半径rで表したも
のである。そして、この曲率半径rは、カール状態での
幅方向(ないし長さ方向)の長さを31幅方向(ないし
長さ方向)両端を結ぶ水平線Mに中心Pから垂線Nを下
ろしたときの交点Rより上記垂線Nの延長線上にあるフ
ィルム中央部までの長さをhとしたとき、h≧rのとき
はこのrを実測することにより、またhくrのときは便
宜的に上記a値とh値とを実測して下記の式より算出す
ることができる。
Note that the radius of curvature mentioned above refers to the metal foil 1 as shown in the drawing.
Composite film 3 consisting of and polyimide film 2 has a length lQ
The degree of curvature when this test piece is curled in the width direction (or length direction) is expressed by the radius r from the center P for a test piece cut into 10 cm and 10 cm wide and 11 squares. Then, this radius of curvature r is the length of the width direction (or length direction) in the curled state. When h is the length from R to the center of the film on the extension line of the above perpendicular line N, when h≧r, measure this r, or when h<r, use the above a value for convenience. and h value can be actually measured and calculated using the following formula.

r2= (r  h) 2+ (+a)”r” =r”
−2rh+h2+1a2 2rh=h2 +ia” r=JJ−h子音・V 上記のようにして得られるポリイミド−金属箔複合フィ
ルムは、h<rの関係にあって、特にhが小さいことに
より、r = 25 cm以上であって好適には■であ
るような実質的にカールを有しないものである。また、
この複合フィルムは、これを50〜270℃の熱が加わ
る加工処理に供しても、その冷却後に実質的なカールが
おこらないという利点を有しており、この点で上記各種
用途へ適用する際の取扱性1寸法安定性に優れるという
特徴をも備えている。
r2= (r h) 2+ (+a)"r"=r"
-2rh+h2+1a2 2rh=h2 +ia" r=JJ-h consonant/V The polyimide-metal foil composite film obtained as described above has the relationship h<r, and especially since h is small, r=25 cm or more, and preferably has substantially no curls as shown in ■.
This composite film has the advantage that it does not substantially curl after cooling even if it is subjected to a processing treatment that applies heat at 50 to 270°C. It also has the characteristics of excellent handling properties and dimensional stability.

なお、上記の説明では、金属箔を、ポリイミド前駆体溶
液を塗布したのち固定して加熱処理しているが、予め金
属箔を固定しておき、これにポリイミド前駆体溶液を塗
布し加熱処理してもよいことはいうまでもない。
In the above explanation, the metal foil is coated with a polyimide precursor solution and then fixed and heat-treated. Needless to say, it is okay.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明のポリイミド−金属箔複合フィ
ルムの製法は、ポリイミド膜形成用のジアミン化合物お
よびテトラカルボン酸化合物として、DDBPを主成分
とするジアミノ化合物と3.3′、4.4’  −ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物またはその誘導体を主
成分とする芳香族テトラカルボン酸化合物とを用いるこ
とにより、金属箔上に、その金属箔とほぼ近似した線膨
張係数を有するポリイミド膜を形成しうる。しかも、そ
のポリイミド膜加熱形成時に、金属箔を固定した状態に
しておくため、ポリイミド膜に生じる応力が緩和される
。これらの相乗効果により得られるポリイミド−金属箔
複合フィルムに、長さ方向および幅方向の双方にカール
が生じなくなるのである。
As described above, the method for producing a polyimide-metal foil composite film of the present invention uses a diamino compound mainly composed of DDBP and 3.3', 4.4' as a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound for forming a polyimide film. - By using an aromatic tetracarboxylic acid compound whose main component is biphenyltetracarboxylic dianhydride or its derivative, a polyimide film having a coefficient of linear expansion almost similar to that of the metal foil is formed on the metal foil. sell. Moreover, since the metal foil is kept in a fixed state when the polyimide film is heated and formed, stress generated in the polyimide film is alleviated. Due to these synergistic effects, the resulting polyimide-metal foil composite film is free from curling in both the length and width directions.

この発明の方法によって得られる複合フィルムは、上記
のように実質的にカールが生じないため、これを電気回
路板作製のための基板として支障なく適用でき、また回
路加工時の取扱性に優れるという利点を有している。し
かも得られる電気回路板は温度変化によってカールを生
じにくいという特徴をも有しており、この点で寸法安定
性の優れたものとなる。この複合フィルムの応用の具体
例として、苛酷な温度変化条件下で使用される太陽電池
用基板、ハイブリットIC用基板、太陽熱温水器集熱板
等への応用があげられる。
The composite film obtained by the method of the present invention does not substantially curl as described above, so it can be used as a substrate for producing electric circuit boards without any problems, and it is also said to have excellent handling properties during circuit processing. It has advantages. Moreover, the resulting electric circuit board has the characteristic that it does not easily curl due to temperature changes, and has excellent dimensional stability in this respect. Specific examples of applications of this composite film include applications to solar cell substrates, hybrid IC substrates, solar water heater heat collecting plates, etc. that are used under severe temperature change conditions.

つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。Next, examples will be described together with comparative examples.

なお、以下における曲率半径および平均線膨張係数は各
実施例および比較例において作製した複合フィルムを前
記各試験片の大きさに切断し、これを用いて前記方法に
て測定ないし算出したものである。ただし、上記曲率半
径は10cm角の長さ方向および幅方向(縦横)の双方
についての測定値であり、両値は実質的に同じであるこ
とを意味する。
The radius of curvature and average coefficient of linear expansion in the following are measured or calculated using the method described above by cutting the composite film produced in each example and comparative example to the size of each test piece. . However, the radius of curvature is a value measured in both the length direction and the width direction (length and width) of a 10 cm square, and means that both values are substantially the same.

〔実施例1〕 500mj2のフラスコにDDB P 21.2 g 
(0゜1モル)およびN−メチル−2−ピロリドン(以
下rNMPjと略す)210gを入れて混合しジアミン
を溶解させた。この系を攪拌しながら3゜3’ 、4.
4’  −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物29.
4g(0,1モル)を徐々に加えた。この間、反応系の
温度が30℃以上にならないように氷水で冷却した。そ
の後2時間攪拌して19.4重量%濃度のポリアミド酸
のNMP溶液を得た。
[Example 1] 21.2 g of DDB P in a 500 mj2 flask
(0°1 mole) and 210 g of N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter abbreviated as rNMPj) were added and mixed to dissolve the diamine. 3°3' while stirring the system; 4.
4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride 29.
4 g (0.1 mol) were added gradually. During this time, the reaction system was cooled with ice water so that the temperature did not exceed 30°C. Thereafter, the mixture was stirred for 2 hours to obtain an NMP solution of polyamic acid having a concentration of 19.4% by weight.

このポリアミド酸の対数粘度(NMP中0.5g/10
0m1の濃度で30℃下で測定)は1.48であった。
Logarithmic viscosity of this polyamic acid (0.5 g/10 in NMP
(measured at 30° C. at a concentration of 0 ml) was 1.48.

また、このNMP溶液の粘度は19.900ボイズ(3
0’c)であった。
In addition, the viscosity of this NMP solution is 19.900 bois (3
0'c).

このポリアミド酸のNMP溶液を予め加温して粘度を約
1500ポイズとし、これを、縦30cm×横20cm
のガラス板上にその全周がポリイミドフィルムで固定さ
れた35μm厚の銅箔(寸法は上記ガラス板と同じ)上
にアプリケータにより流延し、150℃で30分、20
0℃で60分加熱し、さらに300℃で1時間加熱した
。その後室温まで冷却し、銅箔の固定を解除しポリイミ
ド−金属箔複合フィルムを得た。得られたポリイミド−
銅箔複合フィルムは、ポリイミド塗膜の厚みが28μm
で、曲率半径が76印であり実質的にカールのないもの
であった。
This NMP solution of polyamic acid was heated in advance to a viscosity of about 1500 poise, and this was placed in a 30 cm long x 20 cm wide area.
It was cast using an applicator onto a 35 μm thick copper foil (dimensions are the same as the above glass plate) whose entire circumference was fixed with a polyimide film on a glass plate.
It was heated at 0°C for 60 minutes and further heated at 300°C for 1 hour. Thereafter, it was cooled to room temperature, and the fixation of the copper foil was released to obtain a polyimide-metal foil composite film. Obtained polyimide
The copper foil composite film has a polyimide coating thickness of 28 μm.
The radius of curvature was 76 marks, and there was virtually no curl.

また、この複合フィルムにおけるポリイミド膜と銅箔と
の90’剥離強度は常態で1.20 kg/ 1011
1であり、260°Cのハンダ浴に30秒間浸漬後の9
0°剥離強度は1.15kg/10mmであった。
In addition, the 90' peel strength between the polyimide film and the copper foil in this composite film is 1.20 kg/1011 under normal conditions.
1 and 9 after immersion in a 260°C solder bath for 30 seconds.
The 0° peel strength was 1.15 kg/10 mm.

この複合フィルムにおけるポリイミド膜の線膨張係数を
熱機械的分析装置(以下rTMAJと略す)で測定した
ところ50〜250℃の平均線膨張保・数が1.68X
10−′、l’iであり、同じ温度範囲における銅箔の
平均線膨張係数(1,60x 10”yc)とほぼ等し
かった。
The linear expansion coefficient of the polyimide membrane in this composite film was measured using a thermomechanical analyzer (hereinafter referred to as rTMAJ), and the average linear expansion coefficient at 50 to 250°C was 1.68X.
10-', l'i, which was almost equal to the average coefficient of linear expansion of copper foil (1,60 x 10''yc) in the same temperature range.

〔実施例2〜5〕 実施例1で得られたポリアミド酸のNMP溶液を、実施
例1と同じ大きさのガラス板上に実施例1と同様にして
固定された35μm厚の銅箔(寸法はガラス板と同じ)
上に、実施例1と同様の手段で流延し、150℃で30
分、200 ’Cで60分加熱したのち、さらにつぎの
第1表に示す条件で加熱し、その後冷却してボ°リイミ
ド膜の厚みが28μmであるポリイミド−銅箔複合フィ
ルムを得た。得られた複合フィルムの曲率半径はつぎの
第1表に示す通りであった。なお、参考のため実施例1
で得られた複合フィルムについても同様に第1表に示し
た。
[Examples 2 to 5] The NMP solution of polyamic acid obtained in Example 1 was fixed on a glass plate of the same size as in Example 1 in the same manner as in Example 1. is the same as a glass plate)
The top was cast by the same means as in Example 1, and then heated at 150°C for 30°C.
After heating at 200'C for 60 minutes, the mixture was further heated under the conditions shown in Table 1 below, and then cooled to obtain a polyimide-copper foil composite film having a polyimide film thickness of 28 μm. The radius of curvature of the resulting composite film was as shown in Table 1 below. For reference, Example 1
The composite films obtained in the above are also shown in Table 1.

〔比較例1〕 DDBP21.2g (0,1モル)に代えて4,4゛
−ジアミノジフェニルエーテル20.0g(0,1モル
)を用いた。それ以外は実施例1と同様にして19.0
重量%濃度のポリアミド酸のNMP溶液を得た。このポ
リアミド酸の対数粘度(NMP中0.5g/100mj
!の濃度で30°C下で測定)は2゜12であり、この
NMP溶液の粘度は2.040ボイズ(30℃)であっ
た。
[Comparative Example 1] 21.2 g (0.1 mol) of DDBP was replaced with 20.0 g (0.1 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether. Other than that, the same procedure as in Example 1 was carried out. 19.0
An NMP solution of polyamic acid at a concentration of % by weight was obtained. Logarithmic viscosity of this polyamic acid (0.5 g/100 mj in NMP
! (measured at 30° C.) was 2°12, and the viscosity of this NMP solution was 2.040 voids (at 30° C.).

このポリアミド酸のNMP溶液を、実施例1と同じ大き
さのガラス板上に実施例1と同様にして固定された35
μm厚の銅箔(寸法はガラス板と同じ)上に、実施例1
と同様の手段で流延し、さらに実施例1と同様の条件で
加熱したのち室温まで冷却し、銅箔の固定を解除した。
This NMP solution of polyamic acid was fixed on a glass plate of the same size as in Example 1 in the same manner as in Example 1.
Example 1
It was cast in the same manner as in Example 1, heated under the same conditions as in Example 1, and then cooled to room temperature to release the fixation of the copper foil.

得られたポリイミド−金属箔複合フィルムにおけるポリ
イミド膜の厚みは28μmで、この複合フィルムの曲率
半径は1.1 cmでありカールが大きかった。
The thickness of the polyimide film in the obtained polyimide-metal foil composite film was 28 μm, the radius of curvature of this composite film was 1.1 cm, and the curl was large.

この複合フィルムにおけるポリイミド膜のTMAにより
測定した50〜250 ’Cにおける平均線膨張係数は
3.4X10−8.Hであり、同じ温度範囲における銅
箔の平均線膨張係数に比べて大きかった。このため、ポ
リイミド膜形成時に応力緩和を行っても室温まで冷却す
るとカールを生じると考I     えられる。
The average linear expansion coefficient of the polyimide membrane in this composite film at 50 to 250'C measured by TMA is 3.4X10-8. H, which was larger than the average linear expansion coefficient of copper foil in the same temperature range. For this reason, it is thought that even if stress relaxation is performed during polyimide film formation, curling will occur when the polyimide film is cooled to room temperature.

〔比較例2〕 比較例1ではポリアミド酸のNMP溶液を銅箔に流延し
たのち、実施例1と同様、150℃で30分、200℃
で60分、さらに300℃で1時間加熱しているが、こ
の加熱処理を150℃で30分、200℃で60分、3
20℃で0.5時間に変えた。それ以外は比較例1と同
様にしてポリイミド−銅箔複合フィルムを得た。得られ
たポリイミド−銅箔複合フィルムにおけるポリイミド膜
の厚みは24μmで、この複合フィルムの曲率半径は1
.3 cmでありカールが大きかった。
[Comparative Example 2] In Comparative Example 1, an NMP solution of polyamic acid was cast on a copper foil, and then, as in Example 1, it was heated at 150°C for 30 minutes and then at 200°C.
This heat treatment was repeated at 150°C for 30 minutes, 200°C for 60 minutes, and then heated at 300°C for 1 hour.
The temperature was changed to 20°C for 0.5 hours. A polyimide-copper foil composite film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except for the above. The thickness of the polyimide film in the obtained polyimide-copper foil composite film was 24 μm, and the radius of curvature of this composite film was 1
.. It was 3 cm long and had large curls.

〔実施例6へ・9.比較例3〜6〕 500mlのフラスコに第2表に示す溶媒とジアミノ化
合物とを入れてジアミノ化合物を熔解した。この場合、
溶媒の使用量は、ジアミノ化合物および芳香族テトラカ
ルボン酸化合物の七ツマー仕込み濃度が15重量%とな
るように設定した。
[Go to Example 6/9. Comparative Examples 3 to 6] The solvent shown in Table 2 and the diamino compound were placed in a 500 ml flask, and the diamino compound was dissolved. in this case,
The amount of the solvent used was set so that the concentration of the diamino compound and the aromatic tetracarboxylic acid compound in the 7-mer preparation was 15% by weight.

つぎに、上記の系を攪拌しながら第2表に示す芳香族テ
トラカルボン酸化合物を徐々に加えた。
Next, the aromatic tetracarboxylic acid compounds shown in Table 2 were gradually added to the above system while stirring.

この間、反応系の温度が30℃以上にならないように氷
水で冷却した。この後所定時間攪拌して第2表に示す対
数粘度(NMP中0.5g/100m1の温度で30℃
下で測定)をもつポリアミド酸の溶液を得た。
During this time, the reaction system was cooled with ice water so that the temperature did not exceed 30°C. After that, the logarithmic viscosity shown in Table 2 (0.5 g/100 ml in NMP at 30°C) was stirred for a predetermined time.
A solution of polyamic acid was obtained with a polyamic acid (determined below).

このポリアミド酸の溶液を、実施例工と同じ大きさのガ
ラス板上に実施例1と同様にして固定された第2表に示
す厚みをも銅箔(寸法はガラス板と同じ)上に実施例1
と同様の手段で流延し、150℃で30分、200°C
で60分、さらに320℃で0.5時間加熱した。その
後、室温まで冷却し、銅箔の固定を解除した。得られた
ポリイミド−銅箔複合フィルムにおけるポリイミド膜の
厚みと複合フィルムの曲率半径は第2表に示す通りであ
った。また、この複合フィルムにおけるポリイミド膜の
TMAにより測定した50〜250℃における平均線膨
張係数と銅箔の平均線膨張係数の差を第2表に示した。
This polyamic acid solution was fixed in the same manner as in Example 1 on a glass plate of the same size as in the example. Example 1
Casting in the same manner as above, 30 minutes at 150℃, 200℃
The mixture was further heated at 320° C. for 0.5 hour. Thereafter, it was cooled to room temperature and the copper foil was released. The thickness of the polyimide film and the radius of curvature of the composite film in the obtained polyimide-copper foil composite film were as shown in Table 2. Further, Table 2 shows the difference between the average linear expansion coefficient of the polyimide film in this composite film at 50 to 250°C measured by TMA and the average linear expansion coefficient of the copper foil.

(以下余白) なお、第2表においてp−PDAはp−フェニレンジア
ミン、DADEは4,4゛ −ジアミノジフェニルエー
テル、DADMは4,4” −ジアミノジフェニルメタ
ン、5−BPDAは3.3’。
(Left below) In Table 2, p-PDA is p-phenylenediamine, DADE is 4,4'-diaminodiphenyl ether, DADM is 4,4'-diaminodiphenylmethane, and 5-BPDA is 3.3'.

4.4” −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、P
MDAはピロメリット酸二無水物、BTDA。
4.4”-biphenyltetracarboxylic dianhydride, P
MDA is pyromellitic dianhydride, BTDA.

は3,3”、4.4” −ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、DMFはN、N−ジメチルホルムアマイ
ドを示す。
represents 3,3",4.4"-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and DMF represents N,N-dimethylformamide.

C実施例10) ジアミノ化合物として、DDBP 19.1 g  (
0゜09モル)と4,4′ −ジアミノジフェニルエー
テル2.0g(0,01モル)を用いた。それ以外は実
施例1と同様にしてポリアミド酸のNMP溶液を得た。
C Example 10) As a diamino compound, DDBP 19.1 g (
0.09 mol) and 2.0 g (0.01 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether. Other than that, the procedure was the same as in Example 1 to obtain an NMP solution of polyamic acid.

このポリアミド酸溶液の対数粘度(NMP中0.5g/
100mAの濃度で30°C下で測定)は2.0であっ
た。
Logarithmic viscosity of this polyamic acid solution (0.5 g/in NMP)
(measured at 30° C. at a concentration of 100 mA) was 2.0.

つぎに、このポリアミド酸のNMP溶液を、実施例1と
同じ大きさのガラス板上に実施例1と同様にして固定さ
れた50μm厚のアルミニウム箔(寸法はガラス板と同
じ)上に実施例1と同様の手段で流延し、150℃で3
0分、180℃で60分加熱したのち、さらに290°
Cで2時間加熱した。その後、室温まで冷却し、アルミ
ニウム箔の固定を解除しポリイミド−アルミニウム箔複
合フィルムを得た。得られたポリイミド−アルミニウム
箔複合フィルムは、ポリイミド膜の厚みが26μmで、
曲率半径が85cmであった。
Next, this NMP solution of polyamic acid was placed on a 50 μm thick aluminum foil (the dimensions are the same as the glass plate) that was fixed in the same manner as in Example 1 on a glass plate of the same size as in Example 1. Casting was carried out using the same method as in 1, and 3 was cast at 150°C.
After heating at 180°C for 60 minutes, further heating at 290°C.
The mixture was heated at C for 2 hours. Thereafter, it was cooled to room temperature, and the aluminum foil was released to obtain a polyimide-aluminum foil composite film. The obtained polyimide-aluminum foil composite film had a polyimide film thickness of 26 μm,
The radius of curvature was 85 cm.

また、この複合フィルムにおけるポリイミド膜のTMA
により測定した50〜250℃における平均線膨張係数
は2.3X10−5l/℃で、同じ温度範囲におけるア
ルミニウム箔の平均線膨張係数(2゜5X10’yc)
とほぼ等しかった。
In addition, the TMA of the polyimide film in this composite film
The average linear expansion coefficient at 50 to 250°C measured by
was almost equal.

以上の実施例および比較例から明らかなように、この発
明のポリイミド−金属箔複合フィルムの製法によれば実
質的にカールを生じることのない複合フィルムが得られ
るのである。
As is clear from the above Examples and Comparative Examples, according to the method for producing a polyimide-metal foil composite film of the present invention, a composite film substantially free from curling can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面はポリイミド−金属箔複合フィルムの曲率半径を説
明する説明図である。
The drawing is an explanatory diagram illustrating the radius of curvature of a polyimide-metal foil composite film.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)3、3′−ジメチル−4、4′−ジアミノビフェ
ニルを主成分とするジアミノ化合物と3、3′、4、4
′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物またはその誘
導体を主成分とするテトラカルボン酸化合物とを反応さ
せて得られたポリイミド前駆体の有機極性溶媒溶液を準
備する工程と、上記ポリイミド前駆体の有機極性溶媒溶
液を金属箔上に塗布する工程と、このポリイミド前駆体
の有機極性溶媒溶液が塗布された金属箔を固定状態で加
熱処理してその金属箔の箔面にポリイミド薄膜を形成す
る工程を備えていることを特徴とするポリイミド−金属
箔複合フィルムの製法。
(1) Diamino compound mainly composed of 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl and 3,3',4,4
A step of preparing an organic polar solvent solution of a polyimide precursor obtained by reacting with a tetracarboxylic acid compound containing ′-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof as a main component, and determining the organic polarity of the polyimide precursor. The process comprises a step of applying a solvent solution onto the metal foil, and a step of heating the metal foil coated with the organic polar solvent solution of the polyimide precursor in a fixed state to form a polyimide thin film on the foil surface of the metal foil. A method for producing a polyimide-metal foil composite film characterized by:
(2)金属箔の厚みが1〜500μmであり、ポリイミ
ド薄膜の厚みが5〜200μmである特許請求の範囲第
1項記載のポリイミド−金属箔複合フィルムの製法。
(2) The method for producing a polyimide-metal foil composite film according to claim 1, wherein the metal foil has a thickness of 1 to 500 μm and the polyimide thin film has a thickness of 5 to 200 μm.
(3)ポリイミド前駆体の対数粘度(N−メチル−2−
ピロリドン中0.5g/100mlの濃度で30℃下で
測定)が0.4〜7.0である特許請求の範囲第1項記
載のポリイミド−金属箔複合フィルムの製法。
(3) Logarithmic viscosity of polyimide precursor (N-methyl-2-
2. The method for producing a polyimide-metal foil composite film according to claim 1, wherein the polyimide-metal foil composite film has a polyimide-metal foil composite film of 0.4 to 7.0 (measured at 30° C. at a concentration of 0.5 g/100 ml in pyrrolidone).
(4)金属箔が銅箔、アルミニウム箔またはステンレス
箔からなる特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれ
かに記載のポリイミド−金属箔複合フィルムの製法。
(4) The method for producing a polyimide-metal foil composite film according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal foil is copper foil, aluminum foil, or stainless steel foil.
(5)金属箔とポリイミド膜との50〜250℃におけ
る平均線膨張係数の差が0.3×10^−^5l/℃以
内である特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれか
に記載のポリイミド−金属箔複合フィルムの製法。
(5) Any one of claims 1 to 4, wherein the difference in average linear expansion coefficient between the metal foil and the polyimide film at 50 to 250°C is within 0.3 x 10^-^5l/°C. A method for producing a polyimide-metal foil composite film as described in .
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