JPH0756015A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH0756015A JPH0756015A JP20425993A JP20425993A JPH0756015A JP H0756015 A JPH0756015 A JP H0756015A JP 20425993 A JP20425993 A JP 20425993A JP 20425993 A JP20425993 A JP 20425993A JP H0756015 A JPH0756015 A JP H0756015A
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- Japan
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- substrate
- developing
- substrates
- bubbles
- bubbler
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S134/902—Semiconductor wafer
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基材に対してダメージを与えることなく均一
なウエット処理を行いうるカラーフィルタの製造方法を
提供する。 【構成】 現像槽2内に現像液3を満たし、現像槽2の
底部にバブラー4を設ける。複数枚のガラス基板6を鉛
直方向に立てて現像液3に浸漬する。バブラー4にN2
ガスを供給してバブル7を発生させ、現像液3を循環さ
せることによりガラス基板6を現像する。
なウエット処理を行いうるカラーフィルタの製造方法を
提供する。 【構成】 現像槽2内に現像液3を満たし、現像槽2の
底部にバブラー4を設ける。複数枚のガラス基板6を鉛
直方向に立てて現像液3に浸漬する。バブラー4にN2
ガスを供給してバブル7を発生させ、現像液3を循環さ
せることによりガラス基板6を現像する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばカラー液晶表示
装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関す
る。
装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】液晶パネルのカラーフィルタの製造方法
として、従来より顔料分散法が知られている。これは、
顔料を分散した溶媒をガラス基板にコーティングした
後、露光、現像等のフォトリソグラフィ技術を用いてパ
ターニングし、着色画素を形成する方法である。
として、従来より顔料分散法が知られている。これは、
顔料を分散した溶媒をガラス基板にコーティングした
後、露光、現像等のフォトリソグラフィ技術を用いてパ
ターニングし、着色画素を形成する方法である。
【0003】顔料分散法は、大きく2つに分類すること
ができる。1つは顔料の分散媒体に感光性樹脂を用いた
顔料分散レジスト法で、他の1つは分散媒体に感光性樹
脂を用い、レジストとプロセス上で組合わせるエッチン
グ法である。
ができる。1つは顔料の分散媒体に感光性樹脂を用いた
顔料分散レジスト法で、他の1つは分散媒体に感光性樹
脂を用い、レジストとプロセス上で組合わせるエッチン
グ法である。
【0004】顔料分散レジスト法は、感光性樹脂にPV
A(ポリビニルアルコール)/スチルバゾル系を用いた
水溶性レジストタイプと、アクリル系レジストを用いた
タイプが実用化されている。
A(ポリビニルアルコール)/スチルバゾル系を用いた
水溶性レジストタイプと、アクリル系レジストを用いた
タイプが実用化されている。
【0005】顔料分散レジスト法の場合、製造プロセス
は、顔料を分散したレジストをガラス基板にコーティン
グし、フォトリソグラフィー技術(露光,現像)を利用
したパターニング工程の繰り返しにより、R(赤),G
(緑),B(青)の3色又はこれに光吸収膜(ブラック
マトリクス)を加えた4色着色による画素形成を行う。
は、顔料を分散したレジストをガラス基板にコーティン
グし、フォトリソグラフィー技術(露光,現像)を利用
したパターニング工程の繰り返しにより、R(赤),G
(緑),B(青)の3色又はこれに光吸収膜(ブラック
マトリクス)を加えた4色着色による画素形成を行う。
【0006】一方、エッチング方法は、非感光性樹脂と
してポリイミドの前駆体であるポリアミック酸をベース
とした樹脂系を用いたタイプのもので、その製造プロセ
スとしては、ガラス基体に顔料を分散させた樹脂をコー
ティングし、その上へのポジ型レジストのコーティング
工程、フォトリソグラフィーを用いたパターン工程、お
よび樹脂のエッチング工程を繰り返すことにより3色着
色画素を形成する方法である。この方法においては、ポ
ジ型レジストの現像と、顔料分散樹脂層のエッチングを
同じ現像で同時に行う場合が多い。
してポリイミドの前駆体であるポリアミック酸をベース
とした樹脂系を用いたタイプのもので、その製造プロセ
スとしては、ガラス基体に顔料を分散させた樹脂をコー
ティングし、その上へのポジ型レジストのコーティング
工程、フォトリソグラフィーを用いたパターン工程、お
よび樹脂のエッチング工程を繰り返すことにより3色着
色画素を形成する方法である。この方法においては、ポ
ジ型レジストの現像と、顔料分散樹脂層のエッチングを
同じ現像で同時に行う場合が多い。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のいず
れの方法においても、現像あるいはエッチングといった
ウエット工程が含まれている。ここに現在、最も一般的
な等速連続搬送方式で基板を処理する現像方法の構成フ
ローを図3に示す。
れの方法においても、現像あるいはエッチングといった
ウエット工程が含まれている。ここに現在、最も一般的
な等速連続搬送方式で基板を処理する現像方法の構成フ
ローを図3に示す。
【0008】この方法は、通常1つの処理槽へ基板を1
枚ずつ水平方向の搬送により搬入し、その処理槽内で基
板面内全域の処理を行った後、次の処理槽へ搬送して、
次の処理工程へ移すものである。
枚ずつ水平方向の搬送により搬入し、その処理槽内で基
板面内全域の処理を行った後、次の処理槽へ搬送して、
次の処理工程へ移すものである。
【0009】図3に示すように、まず、ローダ21から
例えばガラスからなる基板20が水洗ユニット22へ送
られ、この水洗ユニット22において基板20が揺動と
水洗スプレーにより簡単に洗浄される。
例えばガラスからなる基板20が水洗ユニット22へ送
られ、この水洗ユニット22において基板20が揺動と
水洗スプレーにより簡単に洗浄される。
【0010】次に、基板20は現像ユニット23に送ら
れ、例えば図4に示すような装置によって現像が行われ
る。
れ、例えば図4に示すような装置によって現像が行われ
る。
【0011】すなわち、図4に示す現像装置24におい
ては、現像槽25に満たされた現像液26中に基板20
を浸漬させるとともに、現像液26のスプレーを行う。
この場合、現像の均一性を向上させるため、基板20の
揺動が行われる。
ては、現像槽25に満たされた現像液26中に基板20
を浸漬させるとともに、現像液26のスプレーを行う。
この場合、現像の均一性を向上させるため、基板20の
揺動が行われる。
【0012】その後、基板20は水洗ユニット27に送
られ、再び基板20の揺動とスプレーによりリンスが行
われる。この工程においては、D−sonic水洗(M
Hz帯の超音波による水洗)やディスクブラシによる水
洗が行われることもある。
られ、再び基板20の揺動とスプレーによりリンスが行
われる。この工程においては、D−sonic水洗(M
Hz帯の超音波による水洗)やディスクブラシによる水
洗が行われることもある。
【0013】さらに、エアナイフユニット28において
温風による基板20の乾燥が行われ、これにより1色分
の画素形成が完成する。その後、基板20はアンローダ
29に送られる。
温風による基板20の乾燥が行われ、これにより1色分
の画素形成が完成する。その後、基板20はアンローダ
29に送られる。
【0014】しかしながら、このような方法で顔料分散
レジスト又は顔料分散樹脂を現像、エッチングすると、
次のような問題が発生しやすい。
レジスト又は顔料分散樹脂を現像、エッチングすると、
次のような問題が発生しやすい。
【0015】1.スプレーを用いることにより現像むら
を起こしやすい。 2.残膜の起こりやすい顔料分散法においては、スプレ
ー圧を上げるとかえって頑固な残膜を生じさせてしまっ
たり、パターンにダメージを与えてしまい、現像性が悪
くなってしまう。 3.ディップのみの現像方法を採用した場合、図4に示
すように基板20は横方向に搬送されるため、現像液2
6の循環性が悪く、基板20上に顔料が残ってしまい、
残膜やむらになりやすい。 4.水洗工程においても、スプレー方式を用いた場合に
はむらが発生しやすい。その一方、超音波やブラシを用
いると、形成したカラーフィルタ部にダメージを与えや
すい。
を起こしやすい。 2.残膜の起こりやすい顔料分散法においては、スプレ
ー圧を上げるとかえって頑固な残膜を生じさせてしまっ
たり、パターンにダメージを与えてしまい、現像性が悪
くなってしまう。 3.ディップのみの現像方法を採用した場合、図4に示
すように基板20は横方向に搬送されるため、現像液2
6の循環性が悪く、基板20上に顔料が残ってしまい、
残膜やむらになりやすい。 4.水洗工程においても、スプレー方式を用いた場合に
はむらが発生しやすい。その一方、超音波やブラシを用
いると、形成したカラーフィルタ部にダメージを与えや
すい。
【0016】本発明は従来例のかかる点に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、基材に対してダメ
ージを与えることなく均一なウエット処理を行いうるカ
ラーフィルタの製造方法及び処理装置を提供することに
ある。
たもので、その目的とするところは、基材に対してダメ
ージを与えることなく均一なウエット処理を行いうるカ
ラーフィルタの製造方法及び処理装置を提供することに
ある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明に係るカラーフィ
ルタの製造方法は、例えば図1に示すように、基材6に
対してウエット処理をするに際し、処理液3をバブリン
グして行うものである。
ルタの製造方法は、例えば図1に示すように、基材6に
対してウエット処理をするに際し、処理液3をバブリン
グして行うものである。
【0018】また、本発明に係る処理装置は、例えば図
1に示すように、処理槽2内に満たされた処理液3中に
泡7を発生させる泡発生手段4を備えたものである。こ
の場合、処理液3を現像液とすることもできる。
1に示すように、処理槽2内に満たされた処理液3中に
泡7を発生させる泡発生手段4を備えたものである。こ
の場合、処理液3を現像液とすることもできる。
【0019】
【作用】かかる構成を有する本発明においては、処理液
3をバブリングすることにより発生した泡7が基材6の
表面の処理液3を撹拌し、常に入れ換える働きをする。
この場合、泡7による基材6への影響はほとんどなく、
例えば基材6にある色のフィルタ部が形成されている場
合であっても、このフィルタ部に物理的なダメージを与
えることがない。
3をバブリングすることにより発生した泡7が基材6の
表面の処理液3を撹拌し、常に入れ換える働きをする。
この場合、泡7による基材6への影響はほとんどなく、
例えば基材6にある色のフィルタ部が形成されている場
合であっても、このフィルタ部に物理的なダメージを与
えることがない。
【0020】一方、かかるバブリングは、処理槽2内に
満たされた処理液3中に泡7を発生させる泡発生手段4
を備えた処理装置を用いれば、容易に行うことができ
る。
満たされた処理液3中に泡7を発生させる泡発生手段4
を備えた処理装置を用いれば、容易に行うことができ
る。
【0021】また、本発明によれば、処理液3として現
像液を用いることによって、フィルタ部にダメージを与
えることなく効率良く現像を行うことができる。
像液を用いることによって、フィルタ部にダメージを与
えることなく効率良く現像を行うことができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明について図1〜図2を参照して
説明する。
説明する。
【0023】図2は最も一般的な等速連続搬送方式で基
板を処理する現像方法の構成フローを示すものである。
同図に示すように、このシステムは、ローダ11、水洗
ユニット12、現像ユニット13、水洗ユニット14、
エアナイフユニット15及びアンローダ16から構成さ
れる。
板を処理する現像方法の構成フローを示すものである。
同図に示すように、このシステムは、ローダ11、水洗
ユニット12、現像ユニット13、水洗ユニット14、
エアナイフユニット15及びアンローダ16から構成さ
れる。
【0024】図2に示すように、ローダ11から基板が
水洗ユニット12へ送られ、水洗ユニット12において
揺動と水洗スプレーにより簡単に洗浄される。
水洗ユニット12へ送られ、水洗ユニット12において
揺動と水洗スプレーにより簡単に洗浄される。
【0025】次に、基板は現像ユニット13に送られ、
後述する装置によって現像が行われる。その後、基板は
水洗ユニット14に送られ、再び基板揺動とスプレーに
よりリンスが行われる。さらに、基板はエアナイフユニ
ット15により送られ、温風による乾燥が行われ、これ
により1色分の画素形成が完成する。その後、基板はア
ンローダ16に送られる。
後述する装置によって現像が行われる。その後、基板は
水洗ユニット14に送られ、再び基板揺動とスプレーに
よりリンスが行われる。さらに、基板はエアナイフユニ
ット15により送られ、温風による乾燥が行われ、これ
により1色分の画素形成が完成する。その後、基板はア
ンローダ16に送られる。
【0026】ところで、現像時に基板上に残膜が生ずる
原因としては、主に現像液の循環が悪いことが考えられ
る。現像液(例えばNa2 CO3 等の1%アルカリ性溶
液)は、常に新しいものが供給されれば良いのである
が、現像による顔料の混入や酸素雰囲気にさらされるこ
と等により、現像液が劣化していくことはまぬがれな
い。従って、基板を処理するための現像液は常に循環さ
せておくことが重要である。
原因としては、主に現像液の循環が悪いことが考えられ
る。現像液(例えばNa2 CO3 等の1%アルカリ性溶
液)は、常に新しいものが供給されれば良いのである
が、現像による顔料の混入や酸素雰囲気にさらされるこ
と等により、現像液が劣化していくことはまぬがれな
い。従って、基板を処理するための現像液は常に循環さ
せておくことが重要である。
【0027】上述したように、基板を水平にして現像液
に浸漬させた場合、例えば図4に示すようにオーバーフ
ローさせることにより現像液26を循環させても、基板
20上では循環が不十分となるおそれがある。この場
合、現像液26のスプレーによってある程度現像液26
は撹拌されるが、このようなスプレーもむらの原因にな
る。
に浸漬させた場合、例えば図4に示すようにオーバーフ
ローさせることにより現像液26を循環させても、基板
20上では循環が不十分となるおそれがある。この場
合、現像液26のスプレーによってある程度現像液26
は撹拌されるが、このようなスプレーもむらの原因にな
る。
【0028】そこで、次のような現像装置を用いてかか
る問題を解消するようにした。
る問題を解消するようにした。
【0029】図1は本実施例に係る現像装置の全体構成
を示すものである。同図に示すように、この現像装置1
においては、現像槽2内に現像液3が満たされ、現像槽
2の底部に所定の大きさ及び密度のバブル(泡)を形成
するためのバブラー4が設けられる。このバブラー4に
は、装置外部に設けたパイプ5を介して気体が供給され
る。尚、図示はしないが現像液3は循環するように構成
されている。
を示すものである。同図に示すように、この現像装置1
においては、現像槽2内に現像液3が満たされ、現像槽
2の底部に所定の大きさ及び密度のバブル(泡)を形成
するためのバブラー4が設けられる。このバブラー4に
は、装置外部に設けたパイプ5を介して気体が供給され
る。尚、図示はしないが現像液3は循環するように構成
されている。
【0030】一方、図1に示すように、現像用のガラス
基板6は、鉛直方向に立てて複数枚一度に現像液3に浸
される。これらのガラス基板6は、例えば不図示のバス
ケットによって保持される。尚、各ガラス基板6には、
例えば富士ハントエレクトロニクス社製のカラーモザイ
ク等の顔料分散レジストが塗布され、所定のパターンの
マスクを介して露光が行われている。
基板6は、鉛直方向に立てて複数枚一度に現像液3に浸
される。これらのガラス基板6は、例えば不図示のバス
ケットによって保持される。尚、各ガラス基板6には、
例えば富士ハントエレクトロニクス社製のカラーモザイ
ク等の顔料分散レジストが塗布され、所定のパターンの
マスクを介して露光が行われている。
【0031】バブラー4としては、例えばチューブに等
間隔に孔を開けたものや多孔質の樹脂等が用いられ、現
像液3の全域に均一にバブル7を噴き出すように構成さ
れる。この場合、使用するチューブ、樹脂等は、耐アル
カリ、耐酸性を有するもの、例えばポリプロピレンやポ
リ四フッ化エチレン樹脂等が好ましい。また、バブルを
生成する気体としては、例えば現像液を劣化させない不
活性ガスであるN2 ガス等が好ましい。
間隔に孔を開けたものや多孔質の樹脂等が用いられ、現
像液3の全域に均一にバブル7を噴き出すように構成さ
れる。この場合、使用するチューブ、樹脂等は、耐アル
カリ、耐酸性を有するもの、例えばポリプロピレンやポ
リ四フッ化エチレン樹脂等が好ましい。また、バブルを
生成する気体としては、例えば現像液を劣化させない不
活性ガスであるN2 ガス等が好ましい。
【0032】この場合、N2 の流量は、現像槽2の大き
さやバブル7の噴出孔の大きさにより異なるが、例えば
孔径1.0mm、孔密度1個/cm2 、容積30リット
ルの槽では、5〜10ml/分程度で十分である。ま
た、バブル7の噴出孔の径は、小さいほど好ましい。す
なわち、バブル7の大きさは、小さいほど微細パターン
の均一な現像に適していると考えられる。
さやバブル7の噴出孔の大きさにより異なるが、例えば
孔径1.0mm、孔密度1個/cm2 、容積30リット
ルの槽では、5〜10ml/分程度で十分である。ま
た、バブル7の噴出孔の径は、小さいほど好ましい。す
なわち、バブル7の大きさは、小さいほど微細パターン
の均一な現像に適していると考えられる。
【0033】以上の構成を有する本実施例の装置におい
ては、図1に示すように、バブラー4から噴出されたバ
ブル7がガラス基板6の表面を伝って上昇し、ガラス基
板6表面の現像液3を撹拌し、常に入れ換える働きをす
る。この場合、図1に示すように、バブル7は現像槽2
の全域に噴出するため、現像液3すべての循環、撹拌を
行うことができる。
ては、図1に示すように、バブラー4から噴出されたバ
ブル7がガラス基板6の表面を伝って上昇し、ガラス基
板6表面の現像液3を撹拌し、常に入れ換える働きをす
る。この場合、図1に示すように、バブル7は現像槽2
の全域に噴出するため、現像液3すべての循環、撹拌を
行うことができる。
【0034】従って、本実施例の装置によれば、槽の大
きさに応じて多数枚のガラス基板6を同時処理すること
が可能になる。この場合、現像時にガラス基板6を上下
に揺動させるように構成すれば、現像液3の循環効率を
高め、現像時間を短縮することができる。
きさに応じて多数枚のガラス基板6を同時処理すること
が可能になる。この場合、現像時にガラス基板6を上下
に揺動させるように構成すれば、現像液3の循環効率を
高め、現像時間を短縮することができる。
【0035】さらに、本実施例によれば、この他にも次
のような種々の効果を達成することができる。すなわ
ち、バブルを用いて現像を行うので、スプレーのように
ガラス基板6に現像液をたたきつけたり、スクランブラ
シのようにガラス基板6をこすることによる物理的なダ
メージをカラーフィルタ部に与えることがない。
のような種々の効果を達成することができる。すなわ
ち、バブルを用いて現像を行うので、スプレーのように
ガラス基板6に現像液をたたきつけたり、スクランブラ
シのようにガラス基板6をこすることによる物理的なダ
メージをカラーフィルタ部に与えることがない。
【0036】また、ガラス基板6を枚葉式に搬送するた
めの搬送系を用いていないため、機械的なトラブルが起
こりにくく、かつ、大型化も容易であることから大型基
板の現像にも適している。
めの搬送系を用いていないため、機械的なトラブルが起
こりにくく、かつ、大型化も容易であることから大型基
板の現像にも適している。
【0037】さらに、現像液を加熱する場合、バブリン
グによる均一な撹拌作用により、液体の温度をむらなく
均一に保つことができる。
グによる均一な撹拌作用により、液体の温度をむらなく
均一に保つことができる。
【0038】尚、上述の実施例においては現像槽の底部
からバブルを発生させるようにしたが、本発明はこれに
限られることなく、現像槽の側部からバブルを発生させ
るように構成してもよい。ただし、その場合には、現像
液とバブルとを同時に噴出させるなどして基板間にバブ
ルが十分入り込むようにすることが望ましい。さらに、
基板も鉛直に立てるだけではなく、斜めに傾けたり、水
平に配することもできる。
からバブルを発生させるようにしたが、本発明はこれに
限られることなく、現像槽の側部からバブルを発生させ
るように構成してもよい。ただし、その場合には、現像
液とバブルとを同時に噴出させるなどして基板間にバブ
ルが十分入り込むようにすることが望ましい。さらに、
基板も鉛直に立てるだけではなく、斜めに傾けたり、水
平に配することもできる。
【0039】また、本発明は現像工程のみならず、例え
ば水洗(リンス)工程、エッチング工程等にも適用可能
である。
ば水洗(リンス)工程、エッチング工程等にも適用可能
である。
【0040】
【発明の効果】以上述べたように本発明においては、例
えば処理槽内の処理液中に泡を発生させる泡発生手段を
備えた処理装置を用い、処理液をバブリングしてウエッ
ト処理を行うことから、処理液を均一に循環(撹拌)で
き、しかも基材にダメージを与えることなくむらのない
処理を行うことができる。特に、処理液が現像液である
場合には、良好な現像を行うことができる。
えば処理槽内の処理液中に泡を発生させる泡発生手段を
備えた処理装置を用い、処理液をバブリングしてウエッ
ト処理を行うことから、処理液を均一に循環(撹拌)で
き、しかも基材にダメージを与えることなくむらのない
処理を行うことができる。特に、処理液が現像液である
場合には、良好な現像を行うことができる。
【0041】さらに、本発明によれば、多数の基材を同
時に処理することが可能になるとともに、現像液を加熱
する場合に液温をむらなく均一に保つことができるとい
う効果もある。
時に処理することが可能になるとともに、現像液を加熱
する場合に液温をむらなく均一に保つことができるとい
う効果もある。
【図1】本発明を実施するための現像装置の一例を示す
概略構成図である。
概略構成図である。
【図2】同実施例における現像工程の一例を示す説明図
である。
である。
【図3】従来例における現像工程の一例を示す説明図で
ある。
ある。
【図4】従来の現像装置の一例を示す概略構成図であ
る。
る。
1 現像装置 2 現像槽 3 現像液 4 バブラー 6 ガラス基板 7 バブル
Claims (3)
- 【請求項1】 基材に対してウエット処理をするに際
し、処理液をバブリングして行うことを特徴とするカラ
ーフィルタの製造方法。 - 【請求項2】 処理槽内に満たされた処理液中に泡を発
生させる泡発生手段を備えたことを特徴とする処理装
置。 - 【請求項3】 処理液が現像液であることを特徴とする
請求項2記載の処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20425993A JPH0756015A (ja) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | カラーフィルタの製造方法 |
US08/803,576 US5697391A (en) | 1993-08-18 | 1997-02-21 | Method for making a color filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20425993A JPH0756015A (ja) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0756015A true JPH0756015A (ja) | 1995-03-03 |
Family
ID=16487503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20425993A Pending JPH0756015A (ja) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5697391A (ja) |
JP (1) | JPH0756015A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007100153A1 (en) * | 2006-03-03 | 2007-09-07 | Fujifilm Corporation | Laminated structure, process of producing a liquid crystal cell substrate using the same, liquid crystal cell substrate, and liquid crystal display device |
Families Citing this family (7)
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