JPH075557B2 - ピリドン−３−カルボキサミド誘導体の製造法 - Google Patents
ピリドン−３−カルボキサミド誘導体の製造法Info
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- JPH075557B2 JPH075557B2 JP9403086A JP9403086A JPH075557B2 JP H075557 B2 JPH075557 B2 JP H075557B2 JP 9403086 A JP9403086 A JP 9403086A JP 9403086 A JP9403086 A JP 9403086A JP H075557 B2 JPH075557 B2 JP H075557B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド類の製造法に関するものであり、この
発明によつて得られる化合物は、医薬、農薬あるいはそ
れらの中間体として有用である。
ンカルボキサミド類の製造法に関するものであり、この
発明によつて得られる化合物は、医薬、農薬あるいはそ
れらの中間体として有用である。
（従来技術） 従来、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカル
ボキサミド類のうち、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−
４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導体に属す
る化合物は、適当な３−アミノクロトンアミド誘導体に
ジケテンを無溶媒下に作用させることによつて生成する
ことが知られていた。すなわち、加藤ら（薬学雑誌、10
1,40−47（1981））の報告によると、３種類の３−ベン
ジルアミノクロトンアニリド化合物（式（Ｉ）におい
て、R1＝フェニル基、４−メトキシフェニル基または４
−クロロフェニル基：R2＝フェニル基；R3＝メチル基そ
してｎ＝１の場合に対応する）に溶媒を使用せず、60な
いし90℃の加熱下にジケテンを作用させて得られた反応
混合物から、シリカゲルカラムクロマトグラフイーによ
つて単離し得る、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−
オキソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリ
ジンカルボキサミドおよびその誘導体（式（III）にお
いて、R1＝フェニル基、４−メトキシフェニル基または
４−クロロフェニル基；R2＝フェニル基；R3＝メチル基
そしてｎ＝１の場合に各々対応する）が２ないし９％の
収率で得られる。この方法は、工業的に容易に入手し得
るジケテンを用い、単に加熱下に反応させる操作上の単
純さを持つものであるが、報告されたどの場合も低収率
であり、工業的に応用しうる製造方法とは考えられな
い。加藤等の方法による反応の主生成物はむしろ４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１−フェニル−３−〔１−（フ
ェニルメチルイミノ）エチル〕−２（1H）−ピリジノン
ないしその誘導体である。
ボキサミド類のうち、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−
４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導体に属す
る化合物は、適当な３−アミノクロトンアミド誘導体に
ジケテンを無溶媒下に作用させることによつて生成する
ことが知られていた。すなわち、加藤ら（薬学雑誌、10
1,40−47（1981））の報告によると、３種類の３−ベン
ジルアミノクロトンアニリド化合物（式（Ｉ）におい
て、R1＝フェニル基、４−メトキシフェニル基または４
−クロロフェニル基：R2＝フェニル基；R3＝メチル基そ
してｎ＝１の場合に対応する）に溶媒を使用せず、60な
いし90℃の加熱下にジケテンを作用させて得られた反応
混合物から、シリカゲルカラムクロマトグラフイーによ
つて単離し得る、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−
オキソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリ
ジンカルボキサミドおよびその誘導体（式（III）にお
いて、R1＝フェニル基、４−メトキシフェニル基または
４−クロロフェニル基；R2＝フェニル基；R3＝メチル基
そしてｎ＝１の場合に各々対応する）が２ないし９％の
収率で得られる。この方法は、工業的に容易に入手し得
るジケテンを用い、単に加熱下に反応させる操作上の単
純さを持つものであるが、報告されたどの場合も低収率
であり、工業的に応用しうる製造方法とは考えられな
い。加藤等の方法による反応の主生成物はむしろ４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１−フェニル−３−〔１−（フ
ェニルメチルイミノ）エチル〕−２（1H）−ピリジノン
ないしその誘導体である。
またカナダ国特許第1,115,278号によるとＮ−（４−ク
ロロフェニル）−３−（エチルアミノ）−２−ブテンア
ミド（式（Ｉ）においてR1＝４−クロロフェニル基、(C
H2)nR2＝エチル基およびR3＝メチル基の場合に対応す
る）のトルエン溶液に、トリエチルアミンおよびジケテ
ン（50％アセトン溶液）を加え４時間還流下に加熱し、
冷却後反応混合物に10％塩酸を加えると油状物が分離す
る。この油状物からまず１−エチル−1,4−ジヒドロ−
2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−（４−クロロフェニ
ル）−３−ピリジンカルボキサミドの塩酸塩が得られ、
さらに遊離のカルボキサミドが得られる（前出特許実施
例14参照）。この方法は、反応に溶媒を用いること、ト
リエチルアミンの共存下にジケテンを反応させること、
反応生成物を塩酸塩として不溶化することなどにおい
て、前記した加藤等の方法と異なるものであるが、生成
物の収率は記載されておらず、製造方法としての有用性
は不明である。
ロロフェニル）−３−（エチルアミノ）−２−ブテンア
ミド（式（Ｉ）においてR1＝４−クロロフェニル基、(C
H2)nR2＝エチル基およびR3＝メチル基の場合に対応す
る）のトルエン溶液に、トリエチルアミンおよびジケテ
ン（50％アセトン溶液）を加え４時間還流下に加熱し、
冷却後反応混合物に10％塩酸を加えると油状物が分離す
る。この油状物からまず１−エチル−1,4−ジヒドロ−
2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−（４−クロロフェニ
ル）−３−ピリジンカルボキサミドの塩酸塩が得られ、
さらに遊離のカルボキサミドが得られる（前出特許実施
例14参照）。この方法は、反応に溶媒を用いること、ト
リエチルアミンの共存下にジケテンを反応させること、
反応生成物を塩酸塩として不溶化することなどにおい
て、前記した加藤等の方法と異なるものであるが、生成
物の収率は記載されておらず、製造方法としての有用性
は不明である。
（発明の目的） Zankowska−Jasinskaらは（Bull.Acad.Pol.Sci.,Ser.Sc
i.Chim.,1975,23（11）901参照）ベンゾイルアセトアニ
リド誘導体と、アニリン誘導体とによるエナミンの塩酸
やホスゲンによる自己縮合反応により、1,4−ジヒドロ
−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導体を合
成しているが、この方法によると、２位および６位が同
一のものしか合成することはできない。また彼らは、
（Zesz,Nauk,Uniw,Jagellonican.,Pr.Chem.1976,21,141
参照）ベンゾイルアセトアニリド誘導体、アセトアセト
アニソド誘導体およびそれらのShiff塩基のコハク酸ク
ロリドを触媒とした自己縮合反応により種々の1,4−ジ
ヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導
体を合成している。この方法においても、２位および６
位が同一のものしか合成することができない。
i.Chim.,1975,23（11）901参照）ベンゾイルアセトアニ
リド誘導体と、アニリン誘導体とによるエナミンの塩酸
やホスゲンによる自己縮合反応により、1,4−ジヒドロ
−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導体を合
成しているが、この方法によると、２位および６位が同
一のものしか合成することはできない。また彼らは、
（Zesz,Nauk,Uniw,Jagellonican.,Pr.Chem.1976,21,141
参照）ベンゾイルアセトアニリド誘導体、アセトアセト
アニソド誘導体およびそれらのShiff塩基のコハク酸ク
ロリドを触媒とした自己縮合反応により種々の1,4−ジ
ヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導
体を合成している。この方法においても、２位および６
位が同一のものしか合成することができない。
以上に述べた先行技術から明らかなように、1,4−ジヒ
ドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド類を収
率よく得る方法は従来知られていなかった。それは目的
の生成物を選択的に与える条件が見いだされていなかっ
た理由にるものである。
ドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド類を収
率よく得る方法は従来知られていなかった。それは目的
の生成物を選択的に与える条件が見いだされていなかっ
た理由にるものである。
本発明者等は、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリ
ジンカルボキサミド化合物の簡便でかつ高収率な合成法
をもとめ鋭意検討した結果、β−クトアミドと１級アミ
ンによるエナミン（Ｉ）と2H,4H−1,3−ジオキシン−４
−オン（II）による1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−
ピリジンカルボキサミド化合物を有利に製造するこの発
明を完成した。
ジンカルボキサミド化合物の簡便でかつ高収率な合成法
をもとめ鋭意検討した結果、β−クトアミドと１級アミ
ンによるエナミン（Ｉ）と2H,4H−1,3−ジオキシン−４
−オン（II）による1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−
ピリジンカルボキサミド化合物を有利に製造するこの発
明を完成した。
（発明の構成） この発明は式（Ｉ）： （式中R1はハロゲン原子、C1-3アルキル基もしくはC1-3
アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基を表わ
し、R2は水素原子；ハロゲン原子、C1-3アルキル基もし
くはC1-3アルコキシ基で置換されていてもよいアリール
基；C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基；ま
たはシクロアルキル基を表わし、R3はC1〜C11のアリキ
ル基を表わす。ｎは１ないし４の整数を表わす。）で表
わされる化合物と、 式（II）： （式中R4およびR5はC1-C4のアルキル基である。R6はC2
〜C11のアルキル基を表わす。） で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、 式（III）： （式中R1、R2、R3、R6およびｎの定義は式（Ｉ）中のもの
と同一） で表わされる化合物を得ることを特徴とする1,4−ジヒ
ドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド化合物
の製造法に関する。
アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基を表わ
し、R2は水素原子；ハロゲン原子、C1-3アルキル基もし
くはC1-3アルコキシ基で置換されていてもよいアリール
基；C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基；ま
たはシクロアルキル基を表わし、R3はC1〜C11のアリキ
ル基を表わす。ｎは１ないし４の整数を表わす。）で表
わされる化合物と、 式（II）： （式中R4およびR5はC1-C4のアルキル基である。R6はC2
〜C11のアルキル基を表わす。） で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、 式（III）： （式中R1、R2、R3、R6およびｎの定義は式（Ｉ）中のもの
と同一） で表わされる化合物を得ることを特徴とする1,4−ジヒ
ドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド化合物
の製造法に関する。
この発明の方法に用いる原料の一つは式（Ｉ）で表わさ
れる化合物であり、一般的には次の式（IV）で表わされ
るケトアミド化合物と、 式（Ｖ）で表わされる第１級アミン H2N(CH2)nR2 （Ｖ） との脱水縮合反応の生成物として得られる物質である。
式（Ｉ）で表わされる化合物をこの発明の目的に使用す
る場合は、精製した物質を用いる必要はなく、上記脱水
縮合反応の粗反応混合物をそのまま利用できる。従つ
て、式（IV）および式（Ｖ）で表わされる化合物の脱水
縮合反応を、溶媒中で行なう場合は、式（Ｉ）と式（I
I）との反応で用いる不溶性溶媒と同一のものを選ぶこ
とによりプロセスを簡単にすることができる。
れる化合物であり、一般的には次の式（IV）で表わされ
るケトアミド化合物と、 式（Ｖ）で表わされる第１級アミン H2N(CH2)nR2 （Ｖ） との脱水縮合反応の生成物として得られる物質である。
式（Ｉ）で表わされる化合物をこの発明の目的に使用す
る場合は、精製した物質を用いる必要はなく、上記脱水
縮合反応の粗反応混合物をそのまま利用できる。従つ
て、式（IV）および式（Ｖ）で表わされる化合物の脱水
縮合反応を、溶媒中で行なう場合は、式（Ｉ）と式（I
I）との反応で用いる不溶性溶媒と同一のものを選ぶこ
とによりプロセスを簡単にすることができる。
式（Ｉ）で表わされる化合物の中には、R1がフェニル基
あるいはナフチル基などのアリール基、より具体的には
無置換のフェニル基の他に、炭素数１ないし３のアルキ
ル基、アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン
原子の中から選ばれた置換基１ないし２個で置換された
フェニル基および１−ナフチル基が含まれる。
あるいはナフチル基などのアリール基、より具体的には
無置換のフェニル基の他に、炭素数１ないし３のアルキ
ル基、アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン
原子の中から選ばれた置換基１ないし２個で置換された
フェニル基および１−ナフチル基が含まれる。
式（Ｉ）中のR2は水素原子；ハロゲン原子、C1-3アルキ
ル基もしくはC1-3アルコキシ基で置換されていてもよい
アリール基；C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキ
ル基；またはシクロアルキル基を表わし、ｎは１ないし
４の整数を表わす。従つて、(CH2)nR2の基として、具体
的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチ
ル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、２
−エチルヘキシル、ドデシルなどのアルキル基：フェニ
ルメチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロ
ピル基、４−フェニルブチル基およびこれらのフェニル
基上に置換基を有するアラルキル基;;シクロペンチルメ
チル基、シクロヘキシルメチル基などのシクロアルキル
基を有するアルキル基； R3はC1〜C11のアルキル基を表わす。
ル基もしくはC1-3アルコキシ基で置換されていてもよい
アリール基；C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキ
ル基；またはシクロアルキル基を表わし、ｎは１ないし
４の整数を表わす。従つて、(CH2)nR2の基として、具体
的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチ
ル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、２
−エチルヘキシル、ドデシルなどのアルキル基：フェニ
ルメチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロ
ピル基、４−フェニルブチル基およびこれらのフェニル
基上に置換基を有するアラルキル基;;シクロペンチルメ
チル基、シクロヘキシルメチル基などのシクロアルキル
基を有するアルキル基； R3はC1〜C11のアルキル基を表わす。
具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、２−エチルヘキシル、ドデシルなどのアルキル基が
含まれる。
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、２−エチルヘキシル、ドデシルなどのアルキル基が
含まれる。
R6はC2〜C11のアルキル基を表す。
具体的には、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、
ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、２−エ
チルヘキシル、ドデシルなどのアルキル基が含まれる。
ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、２−エ
チルヘキシル、ドデシルなどのアルキル基が含まれる。
この発明の方法に用いる他の原料は式（II）で表わされ
る4H−1,3−ジオキシン−４−オン化合物で、対応する
β−ケト酸と、アセトン−無水酢酸による方法、β−ケ
ト酸と酢酸イソプロペニルによる方法、アセトン−ケテ
ンによる方法（方法Ａ）（加藤らChem.Pharm.Bull.3118
96（1983）やメルドラム酸をアシル化して得られたアシ
ルメルドラム酸を加熱する方法（方法Ｂ）などが知られ
ている。
る4H−1,3−ジオキシン−４−オン化合物で、対応する
β−ケト酸と、アセトン−無水酢酸による方法、β−ケ
ト酸と酢酸イソプロペニルによる方法、アセトン−ケテ
ンによる方法（方法Ａ）（加藤らChem.Pharm.Bull.3118
96（1983）やメルドラム酸をアシル化して得られたアシ
ルメルドラム酸を加熱する方法（方法Ｂ）などが知られ
ている。
（方法Ａ） （方法Ｂ） さて、前記式（Ｉ）で表わされる化合物と式（II）で表
わされる化合物との反応条件のうち特に考慮すべきもの
は、反応温度、使用する不活性溶媒の選択などである。
わされる化合物との反応条件のうち特に考慮すべきもの
は、反応温度、使用する不活性溶媒の選択などである。
反応温度については加藤ら（Chem.Pharm.Bull.323848
（1984））の報告の記述が一つの指針を与える。種々の
アミンと、2H,4H−1,3−ジオキシン−４−オン化合物と
の反応でβ−ケトアミド化合物を合成しているが、この
反応温度は120−167℃の範囲である。2H,4H−1,3−ジオ
キシン化合物の熱分解により生ずるアシルケテンを経由
すると考えられていることから、この発明における反応
温度も120−170℃が適当である。
（1984））の報告の記述が一つの指針を与える。種々の
アミンと、2H,4H−1,3−ジオキシン−４−オン化合物と
の反応でβ−ケトアミド化合物を合成しているが、この
反応温度は120−167℃の範囲である。2H,4H−1,3−ジオ
キシン化合物の熱分解により生ずるアシルケテンを経由
すると考えられていることから、この発明における反応
温度も120−170℃が適当である。
また式（II）で表わされる化合物の使用量は、式（Ｉ）
で表わされる化合物に対し、1.5〜３倍モルが望まし
い。
で表わされる化合物に対し、1.5〜３倍モルが望まし
い。
次に反応に使用する不活性溶媒の選択は、化学的な反応
活性、沸点、無水溶媒の作り易さ、この発明の目的とす
る生成物の室温における溶解度などを考慮して行なう。
具体的には芳香族炭化水素系の溶媒が適しており、トル
エン、キシレン、メシチレンあるいはこれらの混合物の
使用が望ましい。これらの溶媒の使用はまた、反応の進
行に従つて生成する下式（VI）で表わされるケトン類、 （式中R4およびR5はC1〜C4のアルキル基であり、式（I
I）中のR4およびR5の定義に同じ） 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等と共沸混合物を形成しないために、蒸留分離
操作が容易となり、上記ケトンの回収再使用に有利であ
る。反応で生成するケトンを回収しジケテンと反応させ
ることによつて、前記式（II）で表わされる4H−1,3−
ジオキシン−４−オン化合物を得ることが出来るので、
実質的にジケテンのみの消費によつてこの発明の方法は
1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサ
ミド化合物の製造を可能にするものである。
活性、沸点、無水溶媒の作り易さ、この発明の目的とす
る生成物の室温における溶解度などを考慮して行なう。
具体的には芳香族炭化水素系の溶媒が適しており、トル
エン、キシレン、メシチレンあるいはこれらの混合物の
使用が望ましい。これらの溶媒の使用はまた、反応の進
行に従つて生成する下式（VI）で表わされるケトン類、 （式中R4およびR5はC1〜C4のアルキル基であり、式（I
I）中のR4およびR5の定義に同じ） 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等と共沸混合物を形成しないために、蒸留分離
操作が容易となり、上記ケトンの回収再使用に有利であ
る。反応で生成するケトンを回収しジケテンと反応させ
ることによつて、前記式（II）で表わされる4H−1,3−
ジオキシン−４−オン化合物を得ることが出来るので、
実質的にジケテンのみの消費によつてこの発明の方法は
1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサ
ミド化合物の製造を可能にするものである。
以下実施例によつて、この発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例1. ６−エチル−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ
−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカ
ルボキサミドの合成 アセトアセトアニリド1.77g（10mmol）、ベンジルアミ
ン1.07g（10mmol）、酢酸２滴およびキシレン20mlの混
合物を攪拌させながら1.5時間還流温度に保ち、その間
に生成する水を約10mlのキシレンと共に系外に留去し
た。この反応混合物を還流温度に保ちながら、６−エチ
ル−2,2−ジメチル−4H−1,3−ジオキシン−４−オン3.
9g（25mmol）のキシレン溶液を30分間かけて滴下した
後、さらに1.5時間加熱した。反応液を室温に冷却した
後減圧下濃縮し、得られた黄色油状物をカラムクロマト
グラフィーにより分離し、題記化合物を1.2g（収率35
％）得た。
−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカ
ルボキサミドの合成 アセトアセトアニリド1.77g（10mmol）、ベンジルアミ
ン1.07g（10mmol）、酢酸２滴およびキシレン20mlの混
合物を攪拌させながら1.5時間還流温度に保ち、その間
に生成する水を約10mlのキシレンと共に系外に留去し
た。この反応混合物を還流温度に保ちながら、６−エチ
ル−2,2−ジメチル−4H−1,3−ジオキシン−４−オン3.
9g（25mmol）のキシレン溶液を30分間かけて滴下した
後、さらに1.5時間加熱した。反応液を室温に冷却した
後減圧下濃縮し、得られた黄色油状物をカラムクロマト
グラフィーにより分離し、題記化合物を1.2g（収率35
％）得た。
融点 135−137℃。
実施例2. １−ブチル−６−エチル−Ｎ−（2,6−ジエチルフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−３−
ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−３−オキソ−ブタン
アミド（融点105−106℃）4.20g（18.0mmol）、ブチル
アミン1.97g（27mmol）、キシレン25mlおよび酢酸１滴
の混合物を1.5時間加熱還流下に保ち、生成する水を17m
lのキシレンと共に系外に留去した。還流を続けながら
６−エチル−2,2−ジメチル−4H−1,3−ジオキシン−４
−オンの2.0Mキシレン溶液22.5mlを30分間かけて滴下
し、さらに1.5時間加熱を続けた。この間に20mlの留出
物を系外に除去した。反応混合物をカラムクロマトグラ
フィーを用いて分離し、題記化合物を2.32g（収率35
％）得た。
ル）−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−３−
ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−３−オキソ−ブタン
アミド（融点105−106℃）4.20g（18.0mmol）、ブチル
アミン1.97g（27mmol）、キシレン25mlおよび酢酸１滴
の混合物を1.5時間加熱還流下に保ち、生成する水を17m
lのキシレンと共に系外に留去した。還流を続けながら
６−エチル−2,2−ジメチル−4H−1,3−ジオキシン−４
−オンの2.0Mキシレン溶液22.5mlを30分間かけて滴下
し、さらに1.5時間加熱を続けた。この間に20mlの留出
物を系外に除去した。反応混合物をカラムクロマトグラ
フィーを用いて分離し、題記化合物を2.32g（収率35
％）得た。
融点 112.5−114.5℃ 実施例３〜５ 対応するβ−ケトアミド、１級アミンと2H,4H−1,3−ジ
オキシン−４−オン化合物を用いて実施例１の方法に従
って反応をおこない次の化合物を得た。
オキシン−４−オン化合物を用いて実施例１の方法に従
って反応をおこない次の化合物を得た。
2,6−ジエチル−1,4−ジヒドロ−４−オキソ−Ｎ−フェ
ニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミ
ド（実施例３） 収率 42％ 融点 110−111℃ １−シクロヘキシルメチル−1,4−ジヒドロ−４−オキ
ソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプロピル−３−ピリジンカ
ルボキサミド（実施例４） 収率31％ 融点99.5−100.5℃ １−（４−クロロフェニルメチル）−1,4−ジヒドロ−
Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−オキソ−2,6−ジプ
ロピル−３−ピリジンカルボキサミド（実施例５） 収率 43％（油状） 実施例6,7 対応するβ−ケトアミド、１級アミンと2H,4H−1,3−ジ
オキシン−４−オン化合物を用いて実施例２の方法に従
って反応をおこない次の化合物を得た。
ニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミ
ド（実施例３） 収率 42％ 融点 110−111℃ １−シクロヘキシルメチル−1,4−ジヒドロ−４−オキ
ソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプロピル−３−ピリジンカ
ルボキサミド（実施例４） 収率31％ 融点99.5−100.5℃ １−（４−クロロフェニルメチル）−1,4−ジヒドロ−
Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−オキソ−2,6−ジプ
ロピル−３−ピリジンカルボキサミド（実施例５） 収率 43％（油状） 実施例6,7 対応するβ−ケトアミド、１級アミンと2H,4H−1,3−ジ
オキシン−４−オン化合物を用いて実施例２の方法に従
って反応をおこない次の化合物を得た。
１−ブチル−Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジ
ヒドロ−２−メチル−４−オキソ−６−フェニル−３−
ピリジンカルボキサミド（実施例６） 収率 34％ 融点 181−183℃ １−ブチル−1,4−ジヒドロ−４−オキソ−Ｎ−フェニ
ル−2,6−ジプロピル−３−ピリジンカルボキサミド
（実施例７） 収率 36％ 融点 133.5−136.5℃ 実施例記載の合成によって得られた化合物の分子式およ
び、1HNMR、IRのデータを表Ｉに記した。
ヒドロ−２−メチル−４−オキソ−６−フェニル−３−
ピリジンカルボキサミド（実施例６） 収率 34％ 融点 181−183℃ １−ブチル−1,4−ジヒドロ−４−オキソ−Ｎ−フェニ
ル−2,6−ジプロピル−３−ピリジンカルボキサミド
（実施例７） 収率 36％ 融点 133.5−136.5℃ 実施例記載の合成によって得られた化合物の分子式およ
び、1HNMR、IRのデータを表Ｉに記した。
Claims (14)
- 【請求項１】式（Ｉ）： 〔式中R1はハロゲン原子、C1-3アルキル基もしくはC1-3
アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基を表わ
し、R2は水素原子；ハロゲン原子、C1-3アルキル基もし
くはC1-3アルコキシ基で置換されていてもよいアリール
基；C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基；ま
たはシクロアルキル基を表し、R3はC1〜C11のアルキル
基を表わす。ｎは１ないし４の整数を表わす。） で表わされる化合物と、 式（II）： （式中R4およびR5はC1−C4のアルキル基である。R6はC2
〜C11のアルキル基を表わす。） で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、 式（III）： （式中R1、R2、R3、R6およびｎの定義は式（Ｉ）中のもの
と同一） で表わされる化合物を得ることを特徴とする1,4−ジヒ
ドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド化合物
の製造法。 - 【請求項２】式（II）におけるR4およびR5がメチル基、
エチル基またはイソブチル基の化合物である特許請求の
範囲第１項に記載の製造法。 - 【請求項３】式（II）におけるR4およびR5がともにメチ
ル基の化合物である特許請求の範囲第１項記載の製造
法。 - 【請求項４】式（Ｉ）の化合物が式（IV） の化合物と式（Ｖ） H2N(CH2)nR2 （Ｖ） （式（IV）の中のR1およびR3、式（Ｖ）中のR2は各々式
（Ｉ）中で定義されたものと同一） の化合物とを不活性溶媒中で脱水縮合した粗反応液から
なる特許請求の範囲第１項に記載の製造法。 - 【請求項５】不活性溶媒がトルエン、キシレンまたはメ
シチレンである特許請求の範囲第１項〜第３項の何れか
１つに記載の製造法。 - 【請求項６】不活性溶媒がトルエン、キシレンまたはメ
シチレンである特許請求の範囲第４項に記載の製造法。 - 【請求項７】不活性溶媒がキシレンである特許請求の範
囲第４項に記載の製造法。 - 【請求項８】不活性溶媒がメシチレンである特許請求の
範囲第４項に記載の製造法。 - 【請求項９】不活性溶媒が同一であって、キシレンであ
る特許請求の範囲第１項〜第４項の何れか１つに記載の
製造法。 - 【請求項１０】不活性溶媒が同一であって、メシチレン
である特許請求の範囲第１項〜第４項の何れか１つに記
載の製造法。 - 【請求項１１】反応中に生成するケトンを回収し再使用
する特許請求の範囲第１項に記載の製造法。 - 【請求項１２】式（Ｉ）のR1及びR2のアリール基がフェ
ニル基または置換フェニル基の化合物である特許請求の
範囲第１項に記載の製造法。 - 【請求項１３】式（Ｉ）の化合物と式（II）の化合物と
の反応温度が110℃〜165℃である特許請求の範囲第１項
に記載の製造法。 - 【請求項１４】式（II）の化合物が式（Ｉ）の化合物に
対して1.5〜３倍モル使用される特許請求の範囲第１項
または第12項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9403086A JPH075557B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ピリドン−３−カルボキサミド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9403086A JPH075557B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ピリドン−３−カルボキサミド誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62249971A JPS62249971A (ja) | 1987-10-30 |
| JPH075557B2 true JPH075557B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=14099162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9403086A Expired - Lifetime JPH075557B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ピリドン−３−カルボキサミド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075557B2 (ja) |
-
1986
- 1986-04-23 JP JP9403086A patent/JPH075557B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62249971A (ja) | 1987-10-30 |
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