JPH075531B2 - ４−アルコキシ−１−ナフト−ル誘導体 - Google Patents
４−アルコキシ−１−ナフト−ル誘導体Info
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- JPH075531B2 JPH075531B2 JP25975385A JP25975385A JPH075531B2 JP H075531 B2 JPH075531 B2 JP H075531B2 JP 25975385 A JP25975385 A JP 25975385A JP 25975385 A JP25975385 A JP 25975385A JP H075531 B2 JPH075531 B2 JP H075531B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/305—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
- G03C7/30511—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers characterised by the releasing group
- G03C7/30517—2-equivalent couplers, i.e. with a substitution on the coupling site being compulsory with the exception of halogen-substitution
- G03C7/30523—Phenols or naphtols couplers
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、1,4−ナフトハイドロキノン誘導体及び1,4−
ナフトキノン誘導体の製造に有用な鍵中間体であり、か
つそれ自身、カラー写真感光材料におけるシアン色素形
成カプラーともなりうる、新規な４−アルコキシナフト
ール誘導体に関するものである。
ナフトキノン誘導体の製造に有用な鍵中間体であり、か
つそれ自身、カラー写真感光材料におけるシアン色素形
成カプラーともなりうる、新規な４−アルコキシナフト
ール誘導体に関するものである。
（従来の技術） １−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸誘導体
は、工業原料として汎用性の高い化合物であり、また、
４位にヒドロキシ基を有する誘導体はナフトハイドロキ
ノン構造を有し、その還元性は、置換基の導入、2,5位
の置換基の変換によつて調整できる。そのため、１−ヒ
ドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸誘導体は、種々
の還元剤や酸化防止剤、あるいは生理活性を有する化合
物へ誘導するための合成中間体として重要な位置をしめ
ている。
は、工業原料として汎用性の高い化合物であり、また、
４位にヒドロキシ基を有する誘導体はナフトハイドロキ
ノン構造を有し、その還元性は、置換基の導入、2,5位
の置換基の変換によつて調整できる。そのため、１−ヒ
ドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸誘導体は、種々
の還元剤や酸化防止剤、あるいは生理活性を有する化合
物へ誘導するための合成中間体として重要な位置をしめ
ている。
さらに、１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸
誘導体は、カラー写真感光材料の分野においてシアン色
素形成カプラーの合成中間体として重要である。
誘導体は、カラー写真感光材料の分野においてシアン色
素形成カプラーの合成中間体として重要である。
特に近年、２−カルバモイル−５−アミドナフトール系
シアン色素形成カプラーが疲労した漂白液または漂白定
着液を用いても発色濃度低下を生じない、言いかえれ
ば、疲労した漂白液あるいは漂白定着液に多量に存在す
るFe2+による退色を受けにくいこと、しかも生成色素の
暗熱堅牢性に優れていることが見い出されており（たと
えば特願昭59−93605、特願昭59−264277、特願昭59−2
68135）、１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ
酸誘導体は、これらのカプラーの合成中間体として注目
されるに至つた。
シアン色素形成カプラーが疲労した漂白液または漂白定
着液を用いても発色濃度低下を生じない、言いかえれ
ば、疲労した漂白液あるいは漂白定着液に多量に存在す
るFe2+による退色を受けにくいこと、しかも生成色素の
暗熱堅牢性に優れていることが見い出されており（たと
えば特願昭59−93605、特願昭59−264277、特願昭59−2
68135）、１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ
酸誘導体は、これらのカプラーの合成中間体として注目
されるに至つた。
ところで、写真用カプラーは、その発色色素の色相によ
つて大別され、さらに化学量論から４当量カプラー及び
２当量カプラーの２種に大きく分類される。４当量カプ
ラーは、ハロゲン化銀４モルの消費によつて色素１モル
が生成するのに対し、２当量カプラーは、カプラーのカ
ップリング位に離脱基を有しており、ハロゲン化銀２モ
ルの消費によつて色素１モルが生成するため、節銀の立
場から有利なカプラーであることが知られている。例え
ば、シアン色素形成カプラーについていえば、２当量カ
プラーは、その発色速度が大きいため、写真感度の向上
が達成される（米国特許第3,476,563号、同第3,617,291
号、同第3,880,661号、同第4,052,212号、同第4,147,76
6号、英国特許第1,531,927号、同第2,006,755号、特開
昭55−32,071号、同56−1,938号、同56−27,147号など
参照）。
つて大別され、さらに化学量論から４当量カプラー及び
２当量カプラーの２種に大きく分類される。４当量カプ
ラーは、ハロゲン化銀４モルの消費によつて色素１モル
が生成するのに対し、２当量カプラーは、カプラーのカ
ップリング位に離脱基を有しており、ハロゲン化銀２モ
ルの消費によつて色素１モルが生成するため、節銀の立
場から有利なカプラーであることが知られている。例え
ば、シアン色素形成カプラーについていえば、２当量カ
プラーは、その発色速度が大きいため、写真感度の向上
が達成される（米国特許第3,476,563号、同第3,617,291
号、同第3,880,661号、同第4,052,212号、同第4,147,76
6号、英国特許第1,531,927号、同第2,006,755号、特開
昭55−32,071号、同56−1,938号、同56−27,147号など
参照）。
こうして、近年のカラーネガフイルムの高感化に伴つ
て、カップリング位に離脱基を導入した高速２当量カプ
ラーが多用されるようになり、４位に種々の置換基を有
する１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸誘導
体及びその合成法の開発が重要な課題になつている。
て、カップリング位に離脱基を導入した高速２当量カプ
ラーが多用されるようになり、４位に種々の置換基を有
する１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸誘導
体及びその合成法の開発が重要な課題になつている。
このように、工業用原料、還元剤、写真感光材料におけ
るカプラーの合成中間体として重要な、４位にヒドロキ
シ基をもつ１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ
酸誘導体は、これまで全く知られていない。
るカプラーの合成中間体として重要な、４位にヒドロキ
シ基をもつ１−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ
酸誘導体は、これまで全く知られていない。
（発明が解決しようとする問題点） 一般に、1,4−ハイドロキノン誘導体は、対応する1,4−
キノン誘導体から容易に合成される（J.Org.Chem.,28,2
572（1963）;J.Am.Chem.Soc.,74,4087（1952）;Org.Syn
th.,V,595（1973）;Org.Synth.,IV,15（1963）など参
照）。
キノン誘導体から容易に合成される（J.Org.Chem.,28,2
572（1963）;J.Am.Chem.Soc.,74,4087（1952）;Org.Syn
th.,V,595（1973）;Org.Synth.,IV,15（1963）など参
照）。
また、一般に、1,4−キノン誘導体は、対応する1,4−ジ
アミノベンゼン誘導体（Org.Synth.,II,254（1943）な
ど参照）、４−アミノ−１−フエノール誘導体（Org.Sy
nth.,II,35,430（1943）;J.Am.Chem.Soc.,63,1036（194
1）など参照）、４−ハロゲノ−１−フエノール誘導体
（J.Org.Chem.,４,555（1939）など参照）。1,4−ジア
ルコキシベンゼン誘導体（Chem.Pharm.Bull.,20,1968
（1972）など参照）、1,4−ハイドロキノン誘導体（J.C
hem.Soc.,3028（1963）など参照）などから合成される
が、他に酸化されやすい置換基が存在する場合などには
反応が複雑になつてしまうことが多い。
アミノベンゼン誘導体（Org.Synth.,II,254（1943）な
ど参照）、４−アミノ−１−フエノール誘導体（Org.Sy
nth.,II,35,430（1943）;J.Am.Chem.Soc.,63,1036（194
1）など参照）、４−ハロゲノ−１−フエノール誘導体
（J.Org.Chem.,４,555（1939）など参照）。1,4−ジア
ルコキシベンゼン誘導体（Chem.Pharm.Bull.,20,1968
（1972）など参照）、1,4−ハイドロキノン誘導体（J.C
hem.Soc.,3028（1963）など参照）などから合成される
が、他に酸化されやすい置換基が存在する場合などには
反応が複雑になつてしまうことが多い。
さらに製造を考えた場合には、反応収率が高いことは、
もちろんであるが、廃液処理、大気汚染防止などにかか
るコストも大変重要となる。
もちろんであるが、廃液処理、大気汚染防止などにかか
るコストも大変重要となる。
（問題点を解決するための手段） 本発明者らは、1,4−ナフトキノン誘導体の前駆体とな
る１−ヒドロキシ−４−アルコキシ−５−アミノ−２−
ナフトエ酸誘導体を合成すべく種々の研究を重ねた結
果、５位の置換基が置換反応に大きく影響し、５位をア
セトアミド基、スルホンアミド基、アルコキシカルボン
アミド基などに変えた４−ハロゲノ−１−ナフトール誘
導体とアルコキシドとの置換反応がスムーズに進行し、
高収率で目的の４−アルコキシ置換生成物が得られるこ
とを見い出した。これらの反応においては還元的脱ハロ
ゲン化もほとんど起こらない。
る１−ヒドロキシ−４−アルコキシ−５−アミノ−２−
ナフトエ酸誘導体を合成すべく種々の研究を重ねた結
果、５位の置換基が置換反応に大きく影響し、５位をア
セトアミド基、スルホンアミド基、アルコキシカルボン
アミド基などに変えた４−ハロゲノ−１−ナフトール誘
導体とアルコキシドとの置換反応がスムーズに進行し、
高収率で目的の４−アルコキシ置換生成物が得られるこ
とを見い出した。これらの反応においては還元的脱ハロ
ゲン化もほとんど起こらない。
このようにして収率よく得られた１−ヒドロキシ−４−
アルコキシ−５−アミド−２−ナフトエ酸誘導体は、そ
の酸化反応によつて、1,4−ナフトキノン誘導体へ高収
率で導かれ、また、さらに1,4−ナフトキノン誘導体は
還元反応によつて、高収率で1,4−ナフトハイドロキノ
ン誘導体へ導かれる。
アルコキシ−５−アミド−２−ナフトエ酸誘導体は、そ
の酸化反応によつて、1,4−ナフトキノン誘導体へ高収
率で導かれ、また、さらに1,4−ナフトキノン誘導体は
還元反応によつて、高収率で1,4−ナフトハイドロキノ
ン誘導体へ導かれる。
本発明は、この知見に基づきなされるに至つたものであ
る。
る。
すなわち、本発明は、一般式〔Ｉ〕 （式中、Ｙは、−CO−または−SO2−を示し、R1は、Ｙ
が−C0−のときメチル基、トリフルオロメチル基、ｐ−
ニトロフェニル基、炭素数１ないし４のアルコキシ基を
示し、Ｙが−SO2−のとき、炭素数１ないし４のアルキ
ル基を示し、R2は、メトキシ基、炭素数３ないし８のア
ルキルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基を示し、R4は
ヒドロキシ基もしくはクロル原子で置換されていてもよ
い炭素数１ないし３のアルキル基を示す。但し、R2にお
けるアルキルアミノ基は、ドデシルオキシ基で置換され
ていてもよい。
が−C0−のときメチル基、トリフルオロメチル基、ｐ−
ニトロフェニル基、炭素数１ないし４のアルコキシ基を
示し、Ｙが−SO2−のとき、炭素数１ないし４のアルキ
ル基を示し、R2は、メトキシ基、炭素数３ないし８のア
ルキルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基を示し、R4は
ヒドロキシ基もしくはクロル原子で置換されていてもよ
い炭素数１ないし３のアルキル基を示す。但し、R2にお
けるアルキルアミノ基は、ドデシルオキシ基で置換され
ていてもよい。
以下に本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の具体
例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定されるもの
ではない。
例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定されるもの
ではない。
前記一般式〔Ｉ〕で表わされる本発明の化合物は、前記
のスキーム１に示される合成工程によつて製造される。
のスキーム１に示される合成工程によつて製造される。
次にスキーム１について詳述する。
まず、前記一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物は、一般式
〔II〕で表わされる化合物から、一般式〔III〕、一般
式〔IV〕、一般式〔Ｖ〕で表わされる化合物を経由して
合成することができる。
〔II〕で表わされる化合物から、一般式〔III〕、一般
式〔IV〕、一般式〔Ｖ〕で表わされる化合物を経由して
合成することができる。
一般式〔II〕で表わされる１−ヒドロキシ−５−アミノ
−２−ナフトエ酸誘導体より、一般式〔III〕で表わさ
れる化合物の合成は、R1−Ｙ−Cl（あるいは場合によつ
ては（R1−Ｙ）2O）を反応させることにより達成され
る。反応溶媒としては、活性プロトンを有しないもので
あれば、特に制限なく使用できるが、溶解性に富む溶媒
が生産性の点からも好ましく、ジメチルホルムアミド
（DMF）、ジメチルアセトアミド（DMAC）、N,N−ジメチ
ルイミダゾリン−２−オン（DMI）、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレンなど
が挙げられる。また、反応温度は０〜80℃の範囲、より
好ましくは、５〜60℃の範囲が高選択性を得るのに適し
ている。
−２−ナフトエ酸誘導体より、一般式〔III〕で表わさ
れる化合物の合成は、R1−Ｙ−Cl（あるいは場合によつ
ては（R1−Ｙ）2O）を反応させることにより達成され
る。反応溶媒としては、活性プロトンを有しないもので
あれば、特に制限なく使用できるが、溶解性に富む溶媒
が生産性の点からも好ましく、ジメチルホルムアミド
（DMF）、ジメチルアセトアミド（DMAC）、N,N−ジメチ
ルイミダゾリン−２−オン（DMI）、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレンなど
が挙げられる。また、反応温度は０〜80℃の範囲、より
好ましくは、５〜60℃の範囲が高選択性を得るのに適し
ている。
塩基の添加は、通常必要としないが、場合によつては、
弱い有機塩基の添加が望ましい。弱塩基としては、たと
えば、ピリジンが望ましい。これに対し、強塩基（たと
えば、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロオクタ
ン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン
など）を用いると、目的の一般式〔III〕で表わされる
化合物は、ほとんど得られず、ヒドロキシ基が反応した
化合物、また、アミノ基とヒドロキシ基が複数反応した
化合物など、複雑な混合物を与える。
弱い有機塩基の添加が望ましい。弱塩基としては、たと
えば、ピリジンが望ましい。これに対し、強塩基（たと
えば、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロオクタ
ン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン
など）を用いると、目的の一般式〔III〕で表わされる
化合物は、ほとんど得られず、ヒドロキシ基が反応した
化合物、また、アミノ基とヒドロキシ基が複数反応した
化合物など、複雑な混合物を与える。
前記一般式〔IV〕で表わされる化合物は、一般式〔II
I〕で表わされる化合物と、R2−Ｈを脱水縮合させる
か、（R2がアリールオキシ基、アルキルオキシ基、アミ
ノ基などの場合）、R2の金属塩の置換（R2が脂肪族基、
芳香族基の場合）で合成される。（例えばグリニヤール
試薬など。）縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（DCC）、四塩化炭素／トリフエニルホスフイ
ン、塩化チオニル、オキシ塩化リン、塩化チタンなどが
用いられる。また、R2がアミノ基の場合、対応するフエ
ノキシカルボニル化合物とR2Hを無触媒あるいは非プロ
トン性溶媒中で加熱することによつても達成される。反
応温度は用いるR2Hの求核性にもよるが、50℃〜140℃が
望ましい。
I〕で表わされる化合物と、R2−Ｈを脱水縮合させる
か、（R2がアリールオキシ基、アルキルオキシ基、アミ
ノ基などの場合）、R2の金属塩の置換（R2が脂肪族基、
芳香族基の場合）で合成される。（例えばグリニヤール
試薬など。）縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（DCC）、四塩化炭素／トリフエニルホスフイ
ン、塩化チオニル、オキシ塩化リン、塩化チタンなどが
用いられる。また、R2がアミノ基の場合、対応するフエ
ノキシカルボニル化合物とR2Hを無触媒あるいは非プロ
トン性溶媒中で加熱することによつても達成される。反
応温度は用いるR2Hの求核性にもよるが、50℃〜140℃が
望ましい。
一般式〔Ｖ〕で表わされる４−ハロゲノ−１−ナフトー
ル誘導体の合成は、一般式〔III〕′で表わされる化合
物のハロゲン化によつて達成される。R2＝−OHの場合に
は、一般式〔III〕で表わされる化合物のハロゲン化に
よつて達成される。ハロゲン化剤としては、ハロゲン原
子がクロル原子の場合、塩素、スルフリルクロリド、Ｎ
−クロロスクシンイミドなどが用いられ、ブロム原子の
場合は、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどが用いら
れる。反応溶媒としては、好ましくはハロゲン系溶媒
（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンな
ど）、アセトニトリル、酢酸などが用いられる。
ル誘導体の合成は、一般式〔III〕′で表わされる化合
物のハロゲン化によつて達成される。R2＝−OHの場合に
は、一般式〔III〕で表わされる化合物のハロゲン化に
よつて達成される。ハロゲン化剤としては、ハロゲン原
子がクロル原子の場合、塩素、スルフリルクロリド、Ｎ
−クロロスクシンイミドなどが用いられ、ブロム原子の
場合は、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどが用いら
れる。反応溶媒としては、好ましくはハロゲン系溶媒
（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンな
ど）、アセトニトリル、酢酸などが用いられる。
前記一般式〔Ｉ〕で表わされる本発明の化合物は、一般
式〔Ｖ〕で表わされる化合物を、塩基または銅化合物存
在下、アルコールと反応させることによつて得ることが
できる。
式〔Ｖ〕で表わされる化合物を、塩基または銅化合物存
在下、アルコールと反応させることによつて得ることが
できる。
塩基としては、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸セシウム、酸化バリウム等用いること
ができるが、副反応である脱ハロゲン化を低減するため
には、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムを化合物〔IV〕に対して４〜10当量用いるのが望まし
い。
酸カリウム、炭酸セシウム、酸化バリウム等用いること
ができるが、副反応である脱ハロゲン化を低減するため
には、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムを化合物〔IV〕に対して４〜10当量用いるのが望まし
い。
銅化合物としては、Cu（Ｏ）、Cu（Ｉ）、Cu（II）等を
用いることができるが、特に、Cu（Ｉ）（CuCl、CuBr、
CuIなど）を触媒量（好ましくは化合物〔IV〕に対して
0.05〜１当量）用いるのが望ましい。
用いることができるが、特に、Cu（Ｉ）（CuCl、CuBr、
CuIなど）を触媒量（好ましくは化合物〔IV〕に対して
0.05〜１当量）用いるのが望ましい。
反応溶媒は、非プロトン性で、しかもアルカリ条件で解
離したり分解したりしない溶媒であれば全て使用できる
が、好ましくは、芳香族系溶媒（キシレン、トルエン、
アニソール、ニトロベンゼン、ベンゼンなど）、エーテ
ル系溶媒（ジグライム、ジメトキシエタン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、アミド系溶媒（ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルイミダゾリン−２−オン、ヘキサメチル燐酸アミド、
Ｎ−メチルピロリドンなど）、ピリジン系溶媒（ピリジ
ン,2,6−ルチジン、2,4−ルチジン、2,4,6−コリジンな
ど）、イオウ系溶媒（スルホラン、ジメチルスルホキシ
ドなど）、ハロゲン系溶媒（ジクロロエタン、クロロホ
ルムなど）が挙げられる。
離したり分解したりしない溶媒であれば全て使用できる
が、好ましくは、芳香族系溶媒（キシレン、トルエン、
アニソール、ニトロベンゼン、ベンゼンなど）、エーテ
ル系溶媒（ジグライム、ジメトキシエタン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、アミド系溶媒（ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルイミダゾリン−２−オン、ヘキサメチル燐酸アミド、
Ｎ−メチルピロリドンなど）、ピリジン系溶媒（ピリジ
ン,2,6−ルチジン、2,4−ルチジン、2,4,6−コリジンな
ど）、イオウ系溶媒（スルホラン、ジメチルスルホキシ
ドなど）、ハロゲン系溶媒（ジクロロエタン、クロロホ
ルムなど）が挙げられる。
反応温度は、０℃〜120℃の範囲が好ましく、還元的脱
ハロゲン化の低減を考えると、０℃〜60℃の範囲が特に
好ましい。
ハロゲン化の低減を考えると、０℃〜60℃の範囲が特に
好ましい。
次に前記一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物は、下記スキ
ーム２に示される合成工程に従つて工業的に重要な合成
中間体である1,4−ナフトキノン誘導体へと導入するこ
とができる。
ーム２に示される合成工程に従つて工業的に重要な合成
中間体である1,4−ナフトキノン誘導体へと導入するこ
とができる。
本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物を酸化反応に
付すことにより、一般式〔VI〕で表わされる種々の1,4
−ナフトキノン誘導体をほぼ定量的に得ることができ
る。
付すことにより、一般式〔VI〕で表わされる種々の1,4
−ナフトキノン誘導体をほぼ定量的に得ることができ
る。
酸化剤としては、クロム酸、四酢酸鉛、酸化水銀（I
I）、硝酸、亜硝酸ナトリウム／酢酸、2,3−ジクロロ−
5,6−ジシアノ−1,4−キノリン（DDQ）、酸化銀
（Ｉ）、鉄（III）塩、タリウム（III）塩などを用いる
ことができるが、廃液処理、試薬コストなどの点を考え
ると、硝酸、亜硝酸ナトリウム／酢酸鉄（III）塩（た
とえばFeCl3など）が望ましい。
I）、硝酸、亜硝酸ナトリウム／酢酸、2,3−ジクロロ−
5,6−ジシアノ−1,4−キノリン（DDQ）、酸化銀
（Ｉ）、鉄（III）塩、タリウム（III）塩などを用いる
ことができるが、廃液処理、試薬コストなどの点を考え
ると、硝酸、亜硝酸ナトリウム／酢酸鉄（III）塩（た
とえばFeCl3など）が望ましい。
反応温度は、−20℃〜100℃の範囲が好ましく、より好
ましくは、０℃〜80℃である。
ましくは、０℃〜80℃である。
次に、一般式〔VI〕で表わされる1,4−ナフトキノン誘
導体は、下記スキーム３に示される合成工程に従つて、
工業的に重要な1,4−ナフトハイドロキノン誘導体へと
導入することができる。
導体は、下記スキーム３に示される合成工程に従つて、
工業的に重要な1,4−ナフトハイドロキノン誘導体へと
導入することができる。
一般式〔VI〕で表わされる化合物を還元反応に付すこと
により、一般式〔VII〕で表わされる種々の1,4−ナフト
ハイドロキノン誘導体をほぼ定量的に得ることができ
る。
により、一般式〔VII〕で表わされる種々の1,4−ナフト
ハイドロキノン誘導体をほぼ定量的に得ることができ
る。
還元剤としては、亜鉛−水酸化ナトリウム、亜鉛−酢
酸、塩化スズ（II）−塩酸、亜ジチオン酸ナトリウム、
水素−Pd/cなどを用いることができる。
酸、塩化スズ（II）−塩酸、亜ジチオン酸ナトリウム、
水素−Pd/cなどを用いることができる。
（発明の効果） 本発明の１−ヒドロキシ−５−アミノ（または５−アミ
ド）−４−アルコキシ−２−ナフトエ酸誘導体は、次の
ような優れた効果を奏する。
ド）−４−アルコキシ−２−ナフトエ酸誘導体は、次の
ような優れた効果を奏する。
安価に容易に入手できる出発原料を用いて合成でき、
1,4−ナフトキノン誘導体の製造に有用な鍵中間体とな
る。
1,4−ナフトキノン誘導体の製造に有用な鍵中間体とな
る。
これを用いれば、高収率で、種々の置換基を有する1,
4−ナフトキノン誘導体を製造できる。
4−ナフトキノン誘導体を製造できる。
また、この化合物自身、カラー写真感光材料における
高発色性のシアン色素形成カプラーになり得る。
高発色性のシアン色素形成カプラーになり得る。
（実施例） 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例1.例示化合物（２）の合成 −２−シクロヘキシルカルバモイル−５−アミノナフト
ール,p−トルエンスルホン酸塩の合成− １−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸203.2g
（1.0モル）、シクロヘキシルアミン99.2g（1.0モ
ル）、ジメチルアミノピリジン6g、ジメチルホルムアミ
ド１を仕込み、窒素雰囲気下、内温80〜90℃に加熱し
ながらジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）206.3g
（1.0モル）をジメチルホルムアミド300mlに溶かした溶
液を添加し、3.5時間攪拌した。水冷後、セライト濾過
にてジシクロヘキシルウレアを除去し、濾液に酢酸エチ
ル3lを加え、飽和食塩水にて２回洗浄し、有機層をセラ
イト濾過して不溶物を除去したのち、減圧濃縮した。こ
れに、アセトンニトリル1.6l、ｐ−トルエンスルホン酸
209.0g（1.1モル）を加え、析出した結晶を濾過して標
記化合物256.4g（収率56％）を得た。
ール,p−トルエンスルホン酸塩の合成− １−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸203.2g
（1.0モル）、シクロヘキシルアミン99.2g（1.0モ
ル）、ジメチルアミノピリジン6g、ジメチルホルムアミ
ド１を仕込み、窒素雰囲気下、内温80〜90℃に加熱し
ながらジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）206.3g
（1.0モル）をジメチルホルムアミド300mlに溶かした溶
液を添加し、3.5時間攪拌した。水冷後、セライト濾過
にてジシクロヘキシルウレアを除去し、濾液に酢酸エチ
ル3lを加え、飽和食塩水にて２回洗浄し、有機層をセラ
イト濾過して不溶物を除去したのち、減圧濃縮した。こ
れに、アセトンニトリル1.6l、ｐ−トルエンスルホン酸
209.0g（1.1モル）を加え、析出した結晶を濾過して標
記化合物256.4g（収率56％）を得た。
−２−シクロヘキシルカルバモイル−５−ブタンスルホ
ンアミドナフトールの合成− 上で得た２−シクロヘキシルカルバモイル−５−アミノ
ナフトール,p−トルエンスルホン酸塩182.8g（0.4モ
ル）をジメチルアセトアミド500mlに溶解し、窒素雰囲
気下、室温にてピリジン83.5g（1.06モル）を30分かけ
て滴下し、さらにブタンスルホニルクロリド75.4g（0.4
8モル）を30分かけて滴下した。滴下後さらに６時間室
温にて攪拌したのち、酢酸エチル１を加え、飽和食塩
水にて３回洗浄し、芒硝乾燥した。芒硝を除き溶媒を留
去して得られたかつ色油状物にイソプロパノール１を
加え、不溶物を濾別した後、濾液を濃縮し、これにメタ
ノール１を加え晶析した。析出した結晶を濾過して標
記化合物68.5g（収率42％）を得た。
ンアミドナフトールの合成− 上で得た２−シクロヘキシルカルバモイル−５−アミノ
ナフトール,p−トルエンスルホン酸塩182.8g（0.4モ
ル）をジメチルアセトアミド500mlに溶解し、窒素雰囲
気下、室温にてピリジン83.5g（1.06モル）を30分かけ
て滴下し、さらにブタンスルホニルクロリド75.4g（0.4
8モル）を30分かけて滴下した。滴下後さらに６時間室
温にて攪拌したのち、酢酸エチル１を加え、飽和食塩
水にて３回洗浄し、芒硝乾燥した。芒硝を除き溶媒を留
去して得られたかつ色油状物にイソプロパノール１を
加え、不溶物を濾別した後、濾液を濃縮し、これにメタ
ノール１を加え晶析した。析出した結晶を濾過して標
記化合物68.5g（収率42％）を得た。
−２−シクロヘキシルカルバモイル−４−クロロ−５−
ブタンスルホンアミド−１−ナフトールの合成− 上で得た２−シクロヘキシルカルバモイル−５−ブタン
スルホンアミドナフトール60.7g（0.15モル）を塩化メ
チレン600mlに分散し、これにスルフリルクロリド21.3g
（0.158モル）を10分で滴下した。さらに30分攪拌した
のち、塩化メチレンを1.2l加え、水洗２回後、芒硝で乾
燥した。芒硝を除き、溶媒を留去して得られた粗結晶に
メタノール1.5lを加え、加熱完溶し、室温までゆつくり
冷却した。さらに水冷下30分攪拌したのち、結晶を濾過
して、標記化合物40.3g（収率61％）を得た。
ブタンスルホンアミド−１−ナフトールの合成− 上で得た２−シクロヘキシルカルバモイル−５−ブタン
スルホンアミドナフトール60.7g（0.15モル）を塩化メ
チレン600mlに分散し、これにスルフリルクロリド21.3g
（0.158モル）を10分で滴下した。さらに30分攪拌した
のち、塩化メチレンを1.2l加え、水洗２回後、芒硝で乾
燥した。芒硝を除き、溶媒を留去して得られた粗結晶に
メタノール1.5lを加え、加熱完溶し、室温までゆつくり
冷却した。さらに水冷下30分攪拌したのち、結晶を濾過
して、標記化合物40.3g（収率61％）を得た。
−例示化合物（２）の合成− メタノール25mlに窒素雰囲気下、炭酸カリウム1.73g
（0.0125モル）を加え、スチームバスで加熱して均一な
溶液にしたのち、水冷下、塩化第一銅0.05g（0.5ミリモ
ル）を加え10分間攪拌した。そののち、２−シクロヘキ
シルカルバモイル−４−クロロ−５−ブタンスルホンア
ミド−１−ナフトール2.2g（５ミリモル）を加え、さら
にピリジン25mlを加え、1.5時間攪拌した。反応溶液に
酢酸エチル100ml、水100mlを加え、水冷下、塩酸を用い
て水層を酸性化した。抽出分液後、有機層を飽和食塩水
で２回洗浄し、芒硝で乾燥した。芒硝を除き、溶媒を留
去して得られた反応混合物にメタノールを加え晶析し
た。析出した結晶を濾過し、例示化合物（２）1.45g
（収率67％）を得た。m.p.75〜77℃ 実施例2.例示化合物（９）の合成 −１−ヒドロキシ−５−メトキシカルボンアミド−２−
ナフトエ酸の合成− １−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸101.6g
（0.5モル）をジメチルアセトアミド600mlに加熱溶解し
たのち、水冷下クロル炭酸メチル88.9ml（1.15モル）を
１時間かけて滴下する。滴下終了後、内温50℃にて1.5
時間攪拌し、室温にもどしたのち、3.5lの水に注ぐ。析
出した結晶を濾過し、水（2l）にて洗浄し、続いてアセ
トニトリル（１）にて洗浄し、標記化合物126.0g（収
率92％）を得た。
（0.0125モル）を加え、スチームバスで加熱して均一な
溶液にしたのち、水冷下、塩化第一銅0.05g（0.5ミリモ
ル）を加え10分間攪拌した。そののち、２−シクロヘキ
シルカルバモイル−４−クロロ−５−ブタンスルホンア
ミド−１−ナフトール2.2g（５ミリモル）を加え、さら
にピリジン25mlを加え、1.5時間攪拌した。反応溶液に
酢酸エチル100ml、水100mlを加え、水冷下、塩酸を用い
て水層を酸性化した。抽出分液後、有機層を飽和食塩水
で２回洗浄し、芒硝で乾燥した。芒硝を除き、溶媒を留
去して得られた反応混合物にメタノールを加え晶析し
た。析出した結晶を濾過し、例示化合物（２）1.45g
（収率67％）を得た。m.p.75〜77℃ 実施例2.例示化合物（９）の合成 −１−ヒドロキシ−５−メトキシカルボンアミド−２−
ナフトエ酸の合成− １−ヒドロキシ−５−アミノ−２−ナフトエ酸101.6g
（0.5モル）をジメチルアセトアミド600mlに加熱溶解し
たのち、水冷下クロル炭酸メチル88.9ml（1.15モル）を
１時間かけて滴下する。滴下終了後、内温50℃にて1.5
時間攪拌し、室温にもどしたのち、3.5lの水に注ぐ。析
出した結晶を濾過し、水（2l）にて洗浄し、続いてアセ
トニトリル（１）にて洗浄し、標記化合物126.0g（収
率92％）を得た。
−２−シクロヘキシルカルバモイル−５−メトキシカル
ボンアミド−１−ナフトールの合成− 上で得た１−ヒドロキシ−５−メトキシカルボンアミド
−２−ナフトエ酸275g（1.0モル）、シクロヘキシルア
ミン99.2g（1.0モル）、ジメチルアミノピリジン6g、ジ
メチルホルムアミド１を仕込み、窒素雰囲気下、内温
70〜80℃に加熱し、これにジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（DCC）206.3g（1.0モル）をジメチルホルムアミド
500mlに溶かした溶液を20分かけて滴下した。滴下後さ
らに３時間加熱したのち、水冷し、析出したジシクロヘ
キシルウレアを濾別した。濾液に酢酸エチル2lを加え、
飽和食塩水にて２回洗浄し、芒硝にて乾燥した。芒硝を
除き、酢酸エチル溶液に活性炭30gを加え、30分間還流
した。活性炭を除去した後、溶媒を減圧留去し、アセト
ニトリル2.5lを加え、析出した結晶を濾過し、標記化合
物246.9g（収率72％）を得た。
ボンアミド−１−ナフトールの合成− 上で得た１−ヒドロキシ−５−メトキシカルボンアミド
−２−ナフトエ酸275g（1.0モル）、シクロヘキシルア
ミン99.2g（1.0モル）、ジメチルアミノピリジン6g、ジ
メチルホルムアミド１を仕込み、窒素雰囲気下、内温
70〜80℃に加熱し、これにジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（DCC）206.3g（1.0モル）をジメチルホルムアミド
500mlに溶かした溶液を20分かけて滴下した。滴下後さ
らに３時間加熱したのち、水冷し、析出したジシクロヘ
キシルウレアを濾別した。濾液に酢酸エチル2lを加え、
飽和食塩水にて２回洗浄し、芒硝にて乾燥した。芒硝を
除き、酢酸エチル溶液に活性炭30gを加え、30分間還流
した。活性炭を除去した後、溶媒を減圧留去し、アセト
ニトリル2.5lを加え、析出した結晶を濾過し、標記化合
物246.9g（収率72％）を得た。
−２−シクロヘキシルカルバモイル−４−ブロモ−５−
メトキシカルボンアミド−１−ナフトールの合成− 上で得た２−シクロヘキシルカルバモイル−５−メトキ
シカルボンアミド−１−ナフトール171.2g（0.5モル）
を塩化メチレン１に分散し、氷冷下、臭素83.7g（0.5
25モル）の塩化メチレン250ml溶液を30分かけて滴下し
た。さらに30分間攪拌したのち、２回水洗し、芒硝で乾
燥後、溶媒を留去してアセトニトリル1.5lにて晶析し
た。析出した結晶を濾過して、標記化合物164.0g（収率
78％）を得た。m.p.185〜191℃（dec.） −例示化合物（９）の合成− エレチングリコール500mlに窒素雰囲気下、炭酸カリウ
ム34.6g（0.25モル）を加え、スチームバスで加熱して
均一な溶液にした。その後、水冷下、塩化第一銅1.0g
（0.01モル）を加え10分間攪拌した。そののち２−シク
ロヘキシルカルバモイル−４−ブロモ−５−メトキシカ
ルボンアミド−１−ナフトール42.1g（0.1モル）を加
え、さらにピリジン500mlを加え、２時間攪拌した。反
応溶液に酢酸エチル1.5l、水1.5lを加え、水冷下塩酸を
用いて注意深く水層を酸性化した。抽出分液後、有機層
を飽和食塩水で２回洗浄し、芒硝で乾燥した。芒硝を除
き、溶媒を留去して得られた反応混合物に、アセトニト
リル400mlを加え晶析した。析出した結晶を濾過し、例
示化合物33.0g（収率82％）を得た。m.p.229〜231℃ 本発明の化合物は、実施例１〜２の処方に準じて合成さ
れるが、代表的化合物について、その融点を第２表にま
とめた。
メトキシカルボンアミド−１−ナフトールの合成− 上で得た２−シクロヘキシルカルバモイル−５−メトキ
シカルボンアミド−１−ナフトール171.2g（0.5モル）
を塩化メチレン１に分散し、氷冷下、臭素83.7g（0.5
25モル）の塩化メチレン250ml溶液を30分かけて滴下し
た。さらに30分間攪拌したのち、２回水洗し、芒硝で乾
燥後、溶媒を留去してアセトニトリル1.5lにて晶析し
た。析出した結晶を濾過して、標記化合物164.0g（収率
78％）を得た。m.p.185〜191℃（dec.） −例示化合物（９）の合成− エレチングリコール500mlに窒素雰囲気下、炭酸カリウ
ム34.6g（0.25モル）を加え、スチームバスで加熱して
均一な溶液にした。その後、水冷下、塩化第一銅1.0g
（0.01モル）を加え10分間攪拌した。そののち２−シク
ロヘキシルカルバモイル−４−ブロモ−５−メトキシカ
ルボンアミド−１−ナフトール42.1g（0.1モル）を加
え、さらにピリジン500mlを加え、２時間攪拌した。反
応溶液に酢酸エチル1.5l、水1.5lを加え、水冷下塩酸を
用いて注意深く水層を酸性化した。抽出分液後、有機層
を飽和食塩水で２回洗浄し、芒硝で乾燥した。芒硝を除
き、溶媒を留去して得られた反応混合物に、アセトニト
リル400mlを加え晶析した。析出した結晶を濾過し、例
示化合物33.0g（収率82％）を得た。m.p.229〜231℃ 本発明の化合物は、実施例１〜２の処方に準じて合成さ
れるが、代表的化合物について、その融点を第２表にま
とめた。
次に一般式〔Ｉ〕で表わされる本発明の化合物の応用例
を示す。
を示す。
（応用例） 1.1,4−ナフトキノン誘導体の合成 例示化合物（14）より２−シクロヘキシルカルバモイル
−５−トリフルオロアセトアミド−1,4−ナフトキノン
の合成（反応条件Ａ） 例示化合物（14）4.10g（0.01モル）及び酢酸40mlを室
温で攪拌しながら、そこへ亜硝酸ナトリウム1.04g（0.0
15モル）を少量ずつ約30分間で添加した。反応液は橙赤
色となる。さらに30分攪拌の後80mlの水を滴下し析出し
た淡黄色結晶を過した。結晶を水洗・乾燥することに
より目的とする２−シクロヘキシルカルバモイル−５−
トリフルオロアセトアミド−1,4−ナフトキノンを3.79g
得た。収率96.1％、融点183℃（分解） 次に比較例として４−クロロ−２−シクロヘキシルカル
バモイル−５−トリフルオロアセトアミド−１−ナフト
ールを用いて同様の反応を試みた。
−５−トリフルオロアセトアミド−1,4−ナフトキノン
の合成（反応条件Ａ） 例示化合物（14）4.10g（0.01モル）及び酢酸40mlを室
温で攪拌しながら、そこへ亜硝酸ナトリウム1.04g（0.0
15モル）を少量ずつ約30分間で添加した。反応液は橙赤
色となる。さらに30分攪拌の後80mlの水を滴下し析出し
た淡黄色結晶を過した。結晶を水洗・乾燥することに
より目的とする２−シクロヘキシルカルバモイル−５−
トリフルオロアセトアミド−1,4−ナフトキノンを3.79g
得た。収率96.1％、融点183℃（分解） 次に比較例として４−クロロ−２−シクロヘキシルカル
バモイル−５−トリフルオロアセトアミド−１−ナフト
ールを用いて同様の反応を試みた。
４−クロロ−２−シクロヘキシル−５−トリフルオロア
セトアミド−1,4−ナフトキノンの合成（反応条件Ｂ） ４−クロロ−２−シクロヘキシルカルバモイル−５−ト
リフルオロアセトアミド−１−ナフトール4.15g（0.01
モル）及び酢酸40mlを室温で攪拌しながら、そこへ亜硝
酸ナトリウム1.04g（0.015モル）を少量ずつ約30分間で
添加した。反応液は橙赤色となる。さらに５時間攪拌の
後80mlの水を滴下し析出した淡黄色結晶を過した。結
晶を水洗・乾燥することにより目的とする２−シクロヘ
キシルカルバモイル−５−トリフルオロアセトアミド−
1,4−ナフトキノンを2.38g得た。収率60.4％、融点182.
5℃（分解） 同様にして種々の化合物について反応を行ない、その結
果を第３表にまとめた。
セトアミド−1,4−ナフトキノンの合成（反応条件Ｂ） ４−クロロ−２−シクロヘキシルカルバモイル−５−ト
リフルオロアセトアミド−１−ナフトール4.15g（0.01
モル）及び酢酸40mlを室温で攪拌しながら、そこへ亜硝
酸ナトリウム1.04g（0.015モル）を少量ずつ約30分間で
添加した。反応液は橙赤色となる。さらに５時間攪拌の
後80mlの水を滴下し析出した淡黄色結晶を過した。結
晶を水洗・乾燥することにより目的とする２−シクロヘ
キシルカルバモイル−５−トリフルオロアセトアミド−
1,4−ナフトキノンを2.38g得た。収率60.4％、融点182.
5℃（分解） 同様にして種々の化合物について反応を行ない、その結
果を第３表にまとめた。
（例示化合物（２）、（３）及び（４）は反応条件
（Ａ）によつた。他は反応条件（Ｂ）によつた。＊では
いずれも薄層クロマトグラフイー上でトレース量の1,4
−ナフトキノン誘導体の生成が認められた。） 第３表より本発明の一般式〔Ｉ〕で示される４−アルコ
キシ−１−ナフトール誘導体が1,4−ナフトキノン誘導
体の合成において特に有用な鍵中間体であることは明ら
かである。
（Ａ）によつた。他は反応条件（Ｂ）によつた。＊では
いずれも薄層クロマトグラフイー上でトレース量の1,4
−ナフトキノン誘導体の生成が認められた。） 第３表より本発明の一般式〔Ｉ〕で示される４−アルコ
キシ−１−ナフトール誘導体が1,4−ナフトキノン誘導
体の合成において特に有用な鍵中間体であることは明ら
かである。
2.1,4−ナフトハイドロキノン誘導体の合成 例示化合物（２）より５−ブチルスルホンアミド−２−
シクロヘキシルカルバモイル−1,4−ナフトハイドロキ
ノンの合成 例示化合物（２）4.35g及び酢酸40mlを室温で攪拌しな
がら、そこへ70％硝酸1.0gを滴下した。反応液は不均一
溶液から赤色の溶液に変化した。滴下後20分攪拌した
後、水冷しながら亜鉛末3gを少しずつ約５分で加えた。
さらに30分攪拌の後過し、固体をメタノールで洗浄し
た。液に300mlの水を加え100mlの酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル溶液を100mlの水で２回洗浄した後硫酸
ナトリウムを加えて乾燥した。硫酸ナトリウムを過に
より除去した後減圧下濃縮し、残渣にトルエン50mlを加
えて晶析した。結晶を過し、トルエンついでｎ−ヘキ
サンで洗浄することにより目的とする５−ブチルスルホ
ンアミド−２−シクロヘキシルカルバモイル−1,4−ナ
フトハイドロキノンの淡黄色結晶を3.97g得た。収率94.
5％、融点139〜142℃（分解） ２−シクロヘキシルカルバモイル−５−トリフルオロア
セトアミド−1,4−ナフトキノンより２−シクロヘキシ
ル−５−トリフルオロアセトアミド−1,4−ナフトハイ
ドロキノンの合成 ２−シクロヘキシルカルバモイル−５−トリフルオロア
セトアミド−1,4−ナフトキノン1.97gを窒素気流下酢酸
エチル20mlに分散し、そこへハイドロサルフアイトナト
リウムの10％水溶液100mlを加え激しく攪拌した。この
時黄色の酢酸エチル溶液はすみやかに無色に変化した。
５分間攪拌後分液し、酢酸エチル水溶液を50mlの水で２
回水洗した。硫酸ナトリウムで乾燥の後減圧下濃縮し、
残渣にトルエンを加えて晶析した。析出した結晶を過
し、トルエンついでｎ−ヘキサンで洗浄することにより
目的とする２−シクロヘキシルカルバモイル−５−トリ
フルオロアセトアミド−1,4−ナフトハイドロキノンを
1.89g得た。収率95.5％、融点203℃（分解） 以上から本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされる５−アルコ
キシ−１−ナフトール誘導体から極めて容易に収率よく
1,4−ナフトキノン誘導体、ついで1,4−ナフトハイドロ
キノン誘導体が得られることは明らかである。
シクロヘキシルカルバモイル−1,4−ナフトハイドロキ
ノンの合成 例示化合物（２）4.35g及び酢酸40mlを室温で攪拌しな
がら、そこへ70％硝酸1.0gを滴下した。反応液は不均一
溶液から赤色の溶液に変化した。滴下後20分攪拌した
後、水冷しながら亜鉛末3gを少しずつ約５分で加えた。
さらに30分攪拌の後過し、固体をメタノールで洗浄し
た。液に300mlの水を加え100mlの酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル溶液を100mlの水で２回洗浄した後硫酸
ナトリウムを加えて乾燥した。硫酸ナトリウムを過に
より除去した後減圧下濃縮し、残渣にトルエン50mlを加
えて晶析した。結晶を過し、トルエンついでｎ−ヘキ
サンで洗浄することにより目的とする５−ブチルスルホ
ンアミド−２−シクロヘキシルカルバモイル−1,4−ナ
フトハイドロキノンの淡黄色結晶を3.97g得た。収率94.
5％、融点139〜142℃（分解） ２−シクロヘキシルカルバモイル−５−トリフルオロア
セトアミド−1,4−ナフトキノンより２−シクロヘキシ
ル−５−トリフルオロアセトアミド−1,4−ナフトハイ
ドロキノンの合成 ２−シクロヘキシルカルバモイル−５−トリフルオロア
セトアミド−1,4−ナフトキノン1.97gを窒素気流下酢酸
エチル20mlに分散し、そこへハイドロサルフアイトナト
リウムの10％水溶液100mlを加え激しく攪拌した。この
時黄色の酢酸エチル溶液はすみやかに無色に変化した。
５分間攪拌後分液し、酢酸エチル水溶液を50mlの水で２
回水洗した。硫酸ナトリウムで乾燥の後減圧下濃縮し、
残渣にトルエンを加えて晶析した。析出した結晶を過
し、トルエンついでｎ−ヘキサンで洗浄することにより
目的とする２−シクロヘキシルカルバモイル−５−トリ
フルオロアセトアミド−1,4−ナフトハイドロキノンを
1.89g得た。収率95.5％、融点203℃（分解） 以上から本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされる５−アルコ
キシ−１−ナフトール誘導体から極めて容易に収率よく
1,4−ナフトキノン誘導体、ついで1,4−ナフトハイドロ
キノン誘導体が得られることは明らかである。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式〔Ｉ〕で表わされるナフトール
誘導体。 式中、Ｙは−CO−または−SO2−を示し、R1は、Ｙが−C
O−のときメチル基、トリフルオロメチル基、ｐ−ニト
ロフェニル基、炭素数１ないし４のアルコキシ基を示
し、Ｙが−SO2−のとき、炭素数１ないし４のアルキル
基を示し、R2は、メトキシ基、炭素数３ないし８のアル
キルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基を示し、R4はヒ
ドロキシ基もしくはクロル原子で置換されていてもよい
炭素数１ないし３のアルキル基を示す。但し、R2におけ
るアルキルアミノ基は、ドデシルオキシ基で置換されて
いてもよい。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25975385A JPH075531B2 (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | ４−アルコキシ−１−ナフト−ル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25975385A JPH075531B2 (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | ４−アルコキシ−１−ナフト−ル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62123158A JPS62123158A (ja) | 1987-06-04 |
| JPH075531B2 true JPH075531B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=17338474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25975385A Expired - Lifetime JPH075531B2 (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | ４−アルコキシ−１−ナフト−ル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075531B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5672714A (en) | 1994-11-14 | 1997-09-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a 3-substituted-3-oxo-2-halopropionic acid amide compound and method of manufacturing a 3-substituted-3-oxo-2-(5,5-dimethylhydantoin-3-yl) propionic acid amide compound |
-
1985
- 1985-11-21 JP JP25975385A patent/JPH075531B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62123158A (ja) | 1987-06-04 |
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