JPH0753454A - 2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の製造法 - Google Patents
2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 医薬、農薬として有用なピリミジンエーテル
誘導体の製造中間体として有用な式(I)の2−ヒドロ
キシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の新規な製
造法を提供する。 【構成】 2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸
誘導体を不均一系接触水素触媒(例えば、ロジウム/炭
素、ラネーニッケル)の存在下で、水素と接触させる。 [式中、R1は水素原子、ハロゲン原子または低級アル
キル基を示し、R2は水素原子、アルカリ金属、アンモ
ニウムまたは有機アンモニウムを示し、nは0、1また
は2の整数を示す。]
誘導体の製造中間体として有用な式(I)の2−ヒドロ
キシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の新規な製
造法を提供する。 【構成】 2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸
誘導体を不均一系接触水素触媒(例えば、ロジウム/炭
素、ラネーニッケル)の存在下で、水素と接触させる。 [式中、R1は水素原子、ハロゲン原子または低級アル
キル基を示し、R2は水素原子、アルカリ金属、アンモ
ニウムまたは有機アンモニウムを示し、nは0、1また
は2の整数を示す。]
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬等の製造中
間体、特に本出願人が先に提案したピリミジンエーテル
誘導体(ヨーロッパ特許第0468766号明細書参照)の製
造中間体として有用な、2−ヒドロキシ−1−シクロア
ルカンカルボン酸誘導体の製造法に関するものである。
間体、特に本出願人が先に提案したピリミジンエーテル
誘導体(ヨーロッパ特許第0468766号明細書参照)の製
造中間体として有用な、2−ヒドロキシ−1−シクロア
ルカンカルボン酸誘導体の製造法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ヨーロッパ特許第0468766号明細書に
は、2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体
を接触水素添加触媒により還元して、2−ヒドロキシ−
1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造する方法が
記載されている。しかしながら、2−オキソ−1−シク
ロアルカンカルボン酸およびその塩を出発原料とする方
法については何等記載されていない。
は、2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体
を接触水素添加触媒により還元して、2−ヒドロキシ−
1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造する方法が
記載されている。しかしながら、2−オキソ−1−シク
ロアルカンカルボン酸およびその塩を出発原料とする方
法については何等記載されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、2−
オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸およびその塩を
出発原料とし、水素還元により安価に2−ヒドロキシ−
1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造することに
ある。
オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸およびその塩を
出発原料とし、水素還元により安価に2−ヒドロキシ−
1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造することに
ある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(I):
(I):
【0005】
【化3】
【0006】[式中、R1は水素原子、ハロゲン原子ま
たは低級アルキル基を示し、R2は水素原子、アルカリ
金属、アンモニウムまたは有機アンモニウムを示し、n
は0、1または2の整数を示す。]で表される2−ヒド
ロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造す
るにあたり、下記一般式(II):
たは低級アルキル基を示し、R2は水素原子、アルカリ
金属、アンモニウムまたは有機アンモニウムを示し、n
は0、1または2の整数を示す。]で表される2−ヒド
ロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造す
るにあたり、下記一般式(II):
【0007】
【化4】
【0008】[式中、R1、R2およびnは、上記一般式
(I)における定義と同じ意味を示す。]で表される2
−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を、不
均一系接触水素添加触媒の存在下、水素と接触させるこ
とを特徴とする2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカ
ルボン酸誘導体の製造法である。
(I)における定義と同じ意味を示す。]で表される2
−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を、不
均一系接触水素添加触媒の存在下、水素と接触させるこ
とを特徴とする2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカ
ルボン酸誘導体の製造法である。
【0009】
【発明の具体例説明】上記一般式(I)および一般式(I
I)におけるR1およびR2の定義において、各原子およ
び基の具体例を示せば下記のとおりである。ハロゲン原子 :フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が包含
される。低級アルキル基 :炭素数1〜4の、直鎖または分岐鎖の
アルキル基であり、例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブ
チル、t−ブチル基等が挙げられる。アルカリ金属 :リチウム、ナトリウムおよびカリウムが
包含される。有機アンモニウム :例えば、メチルアンモニウム、エチ
ルアンモニウム、プロピルアンモニウム、ブチルアンモ
ニウム等の第1脂肪族アンモニウム;ジメチルアンモニ
ウム、ジエチルアンモニウム、ジエタノールアンモニウ
ム、ジプロピルアンモニウム、ジブチルアンモニウム、
ピロリジウム、ピペリジウム、モルホリニウム等の第2
脂肪族アンモニウム;トリメチルアンモニウム、トリエ
チルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、キヌク
リジニウム等の第3脂肪族アンモニウム;テトラメトル
アンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロ
ピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムなどの第
4脂肪族アンモニウム;ピリジニウム、キノリニウム、
イソキノリニウム等の芳香族アンモニウム等が挙げられ
る。その中でも、エチル−、プロピル−、ジエチル−、
トリエチル−、イソプロピル−、ジエタノールアンモニ
ウムが好ましい。上記に具体例に示されていない基は、
上記原子および基から任意に組み合わせて、あるいは一
般的に知られた常識に従って適宜選択することができ
る。
I)におけるR1およびR2の定義において、各原子およ
び基の具体例を示せば下記のとおりである。ハロゲン原子 :フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が包含
される。低級アルキル基 :炭素数1〜4の、直鎖または分岐鎖の
アルキル基であり、例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブ
チル、t−ブチル基等が挙げられる。アルカリ金属 :リチウム、ナトリウムおよびカリウムが
包含される。有機アンモニウム :例えば、メチルアンモニウム、エチ
ルアンモニウム、プロピルアンモニウム、ブチルアンモ
ニウム等の第1脂肪族アンモニウム;ジメチルアンモニ
ウム、ジエチルアンモニウム、ジエタノールアンモニウ
ム、ジプロピルアンモニウム、ジブチルアンモニウム、
ピロリジウム、ピペリジウム、モルホリニウム等の第2
脂肪族アンモニウム;トリメチルアンモニウム、トリエ
チルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、キヌク
リジニウム等の第3脂肪族アンモニウム;テトラメトル
アンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロ
ピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムなどの第
4脂肪族アンモニウム;ピリジニウム、キノリニウム、
イソキノリニウム等の芳香族アンモニウム等が挙げられ
る。その中でも、エチル−、プロピル−、ジエチル−、
トリエチル−、イソプロピル−、ジエタノールアンモニ
ウムが好ましい。上記に具体例に示されていない基は、
上記原子および基から任意に組み合わせて、あるいは一
般的に知られた常識に従って適宜選択することができ
る。
【0010】上記一般式(I)で表される2−ヒドロキ
シ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体は、シス体お
よびトランス体の二種の立体異性体が存在する。1−位
のCO2R2基を基準としたときに2−位のOH基がシス
配置をとる化合物をシス体、また1−位のCO2R2基を
基準としたときに2−位のOH基がトランス配置をとる
化合物をトランス体とするが、これらは共に、簡略化の
ために上記一般式(I)により表され、本発明の範囲に
包含されるものであることを理解すべきである。なお、
トランス体を出発原料として合成されるピリミジンエー
テル誘導体は、シス体からのものよりも除草活性が高い
ので、該誘導体の製造中間体としてはトランス体がより
好ましいものであると言うことができる。
シ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体は、シス体お
よびトランス体の二種の立体異性体が存在する。1−位
のCO2R2基を基準としたときに2−位のOH基がシス
配置をとる化合物をシス体、また1−位のCO2R2基を
基準としたときに2−位のOH基がトランス配置をとる
化合物をトランス体とするが、これらは共に、簡略化の
ために上記一般式(I)により表され、本発明の範囲に
包含されるものであることを理解すべきである。なお、
トランス体を出発原料として合成されるピリミジンエー
テル誘導体は、シス体からのものよりも除草活性が高い
ので、該誘導体の製造中間体としてはトランス体がより
好ましいものであると言うことができる。
【0011】本発明の方法に使用される不均一系接触水
素添加触媒(以下、単に触媒ということがある)とは、
気体−固体系、液体−固体系のように、反応物質と相を
異にする反応系中において分子状の水素存在下に、炭素
原子と酸素原子間等の不飽和結合に対して、水素付加反
応の促進活性を有するものであり、使用される金属とし
ては例えば、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウ
ム、レニウム等の貴金属、ニッケル、コバルト、銅、ク
ロム等の遷移金属が挙げられる。
素添加触媒(以下、単に触媒ということがある)とは、
気体−固体系、液体−固体系のように、反応物質と相を
異にする反応系中において分子状の水素存在下に、炭素
原子と酸素原子間等の不飽和結合に対して、水素付加反
応の促進活性を有するものであり、使用される金属とし
ては例えば、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウ
ム、レニウム等の貴金属、ニッケル、コバルト、銅、ク
ロム等の遷移金属が挙げられる。
【0012】触媒は担体に担持されていても無担持でも
よく、ラネー型触媒でもよい。担持されている場合の担
体としては、例えば、炭素(活性炭)、アルミナ、シリ
カ、シリカ・アルミナ、ケイソウ土、軽石、硫酸バリウ
ム、炭酸カルシウム等が挙げられる。無担持の場合はブ
ラックあるいは酸化物等が使用可能であり、例えば、酸
化白金、白金ブラック、パラジウムブラック、ロジウム
ブラック、酸化ロジウム、ルテニウムブラック、酸化ル
テニウム等が挙げられる。更に、ラネー型触媒として
は、例えば、ラネーニッケル、ラネー銅等が挙げられ、
これらはモリブデン、クロム、鉄等を含んでいてもよ
い。その際、ラネー型触媒に対するそれぞれの金属含有
量は0.01〜30重量%の範囲のものが使用可能であ
る。
よく、ラネー型触媒でもよい。担持されている場合の担
体としては、例えば、炭素(活性炭)、アルミナ、シリ
カ、シリカ・アルミナ、ケイソウ土、軽石、硫酸バリウ
ム、炭酸カルシウム等が挙げられる。無担持の場合はブ
ラックあるいは酸化物等が使用可能であり、例えば、酸
化白金、白金ブラック、パラジウムブラック、ロジウム
ブラック、酸化ロジウム、ルテニウムブラック、酸化ル
テニウム等が挙げられる。更に、ラネー型触媒として
は、例えば、ラネーニッケル、ラネー銅等が挙げられ、
これらはモリブデン、クロム、鉄等を含んでいてもよ
い。その際、ラネー型触媒に対するそれぞれの金属含有
量は0.01〜30重量%の範囲のものが使用可能であ
る。
【0013】本発明においては、上記に挙げた触媒のう
ち、酸化白金、ロジウム/炭素、ロジウム/アルミナ、
ルテニウム/炭素、ラネーニッケルが好ましい。中で
も、ロジウム/炭素およびラネーニッケルを使用した場
合は、ピリミジンエーテル誘導体系除草剤の製造用中間
体として極めて有用なトランス体を高い割合で製造する
ことができる。
ち、酸化白金、ロジウム/炭素、ロジウム/アルミナ、
ルテニウム/炭素、ラネーニッケルが好ましい。中で
も、ロジウム/炭素およびラネーニッケルを使用した場
合は、ピリミジンエーテル誘導体系除草剤の製造用中間
体として極めて有用なトランス体を高い割合で製造する
ことができる。
【0014】また、担体に担持された触媒を使用する場
合、金属の含有量に特に制限はなく、0.01〜30重
量%の範囲のものが使用可能である。また、同時に2種
類以上の金属を含有する多元触媒も使用できる。具体例
を挙げれば、ロジウム−ルテニウム、ロジウム−白金、
ロジウム−酸化白金等の組み合わせがあり、これらの中
でロジウム−ルテニウムが好ましい。なお、多元触媒も
また、上記に挙げたような担体に担持されたものでもよ
く、その際のそれぞれの金属含有量も0.01〜30重
量%の範囲のものが使用可能である。また、触媒量は、
2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸に対して、
0.1〜500重量%の範囲で使用できるが、酸化白金
を触媒とするときは0.5〜10重量%の範囲が好まし
く、ロジウム/炭素またはロジウム/アルミナを触媒と
するときは、金属量が0.1〜10重量%の範囲が好ま
しく、ルテニウム/炭素を触媒として使用するときは金
属量が1〜20重量%の範囲が好ましく、ラネーニッケ
ルを触媒として使用するときは5〜200重量%の範囲
が好ましい。また、ロジウムとルテニウムを同時に含有
する多元触媒を触媒とするときは金属量の和が0.1〜
20重量%範囲が好ましい。
合、金属の含有量に特に制限はなく、0.01〜30重
量%の範囲のものが使用可能である。また、同時に2種
類以上の金属を含有する多元触媒も使用できる。具体例
を挙げれば、ロジウム−ルテニウム、ロジウム−白金、
ロジウム−酸化白金等の組み合わせがあり、これらの中
でロジウム−ルテニウムが好ましい。なお、多元触媒も
また、上記に挙げたような担体に担持されたものでもよ
く、その際のそれぞれの金属含有量も0.01〜30重
量%の範囲のものが使用可能である。また、触媒量は、
2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸に対して、
0.1〜500重量%の範囲で使用できるが、酸化白金
を触媒とするときは0.5〜10重量%の範囲が好まし
く、ロジウム/炭素またはロジウム/アルミナを触媒と
するときは、金属量が0.1〜10重量%の範囲が好ま
しく、ルテニウム/炭素を触媒として使用するときは金
属量が1〜20重量%の範囲が好ましく、ラネーニッケ
ルを触媒として使用するときは5〜200重量%の範囲
が好ましい。また、ロジウムとルテニウムを同時に含有
する多元触媒を触媒とするときは金属量の和が0.1〜
20重量%範囲が好ましい。
【0015】本発明による反応は、無溶媒で行ってもよ
いが、通常は酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等
の有機酸系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、第三ブチルアルコール等のアルコール系
溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等の
エステル系溶媒;ジメチルホルムアミド等の非プロトン
性極性溶媒;シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒また
は、水等の溶媒、あるいはこれらの混合溶媒を使用して
行うことができる。白金/炭素、酸化白金またはパラジ
ウム/炭素を触媒とするときは、水、エタノールが好ま
しく、ラネーニッケルを触媒とするときは、水、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコールが好まし
く、ロジウム/炭素またはロジウム/アルミナを触媒と
するときは、水が好ましく、ルテニウム/炭素を触媒と
するときはエタノール、水、あるいはその混合溶媒が好
ましい。ロジウム−ルテニウムの多元触媒を触媒とする
ときはエタノール、水、あるいはこれらの混合溶媒が好
ましい。溶媒の量は、2−オキソ−1−シクロアルカン
カルボン酸1gあたり、1〜100mlが適当である。
いが、通常は酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等
の有機酸系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、第三ブチルアルコール等のアルコール系
溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等の
エステル系溶媒;ジメチルホルムアミド等の非プロトン
性極性溶媒;シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒また
は、水等の溶媒、あるいはこれらの混合溶媒を使用して
行うことができる。白金/炭素、酸化白金またはパラジ
ウム/炭素を触媒とするときは、水、エタノールが好ま
しく、ラネーニッケルを触媒とするときは、水、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコールが好まし
く、ロジウム/炭素またはロジウム/アルミナを触媒と
するときは、水が好ましく、ルテニウム/炭素を触媒と
するときはエタノール、水、あるいはその混合溶媒が好
ましい。ロジウム−ルテニウムの多元触媒を触媒とする
ときはエタノール、水、あるいはこれらの混合溶媒が好
ましい。溶媒の量は、2−オキソ−1−シクロアルカン
カルボン酸1gあたり、1〜100mlが適当である。
【0016】本発明で用いられる水素としては、純粋な
水素ガスを使用することが好ましいが、必要に応じて、
例えば、窒素、メタン、アルゴン等の目的反応を妨害し
ない不活性ガスを任意の割合で混合して使用することも
できる。本発明による反応の際の圧力は特に制限はない
が、常圧から200kg/cm2の範囲が適当であり、ま
た、反応の際の温度にも、特に制限はないが、反応液の
凝固点から300℃の範囲が望ましい。さらに、本発明
による反応系に助触媒や、触媒能の上昇をもたらす促進
剤として、例えば、トリエチルアミン、水酸化ナトリウ
ム、燐酸、酢酸、硫酸等を添加して反応を行うこともで
き、あるいは、反応の阻害剤として塩酸、ピリジン等を
添加して反応を行うこともできる。反応時間は、使用す
る触媒や、上記の反応条件によって異なるが1〜120
時間で2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導
体から2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸
誘導体を得ることができる。反応終了後は、触媒を濾別
した後濾液を濃縮し、濃縮残渣を蒸留、再結晶またはシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー等の手段で精製する
ことにより、目的とする2−ヒドロキシ−1−シクロア
ルカンカルボン酸誘導体を単離することができる。
水素ガスを使用することが好ましいが、必要に応じて、
例えば、窒素、メタン、アルゴン等の目的反応を妨害し
ない不活性ガスを任意の割合で混合して使用することも
できる。本発明による反応の際の圧力は特に制限はない
が、常圧から200kg/cm2の範囲が適当であり、ま
た、反応の際の温度にも、特に制限はないが、反応液の
凝固点から300℃の範囲が望ましい。さらに、本発明
による反応系に助触媒や、触媒能の上昇をもたらす促進
剤として、例えば、トリエチルアミン、水酸化ナトリウ
ム、燐酸、酢酸、硫酸等を添加して反応を行うこともで
き、あるいは、反応の阻害剤として塩酸、ピリジン等を
添加して反応を行うこともできる。反応時間は、使用す
る触媒や、上記の反応条件によって異なるが1〜120
時間で2−オキソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導
体から2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸
誘導体を得ることができる。反応終了後は、触媒を濾別
した後濾液を濃縮し、濃縮残渣を蒸留、再結晶またはシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー等の手段で精製する
ことにより、目的とする2−ヒドロキシ−1−シクロア
ルカンカルボン酸誘導体を単離することができる。
【0017】本発明の方法において出発化合物として使
用される式(II)の化合物は、文献未記載の化合物であ
り、例えば、下記に示す方法(A法及びB法)により製
造することができる。
用される式(II)の化合物は、文献未記載の化合物であ
り、例えば、下記に示す方法(A法及びB法)により製
造することができる。
【0018】
【化5】
【0019】[但し式中、R1及びnは前記と同義であ
り、R3は低級アルキル基を示し、R21はアルカリ金属
を示す。] 上記の反応式において、一般式(II−1)で表される化
合物は、一般式(III)で表される2−アルコキシカル
ボニル−2−フルオロシクロアルカノンを一般式(IV)
で表されるアルカリ金属水酸化物と、適当な溶媒の存在
下、−20℃〜溶媒の沸点の温度範囲、好ましくは−5
℃〜25℃の温度範囲において、0.5〜24時間、好
ましくは0.5〜3時間反応させることにより製造する
ことができる。反応に使用される溶媒としては、例え
ば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、第三ブチルアルコール等のアルコール系溶媒、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、エチレングリコール、ジメチルホルム
アミド、ヘキサメチルホスファミド等の非プロトン性極
性溶媒、あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。
り、R3は低級アルキル基を示し、R21はアルカリ金属
を示す。] 上記の反応式において、一般式(II−1)で表される化
合物は、一般式(III)で表される2−アルコキシカル
ボニル−2−フルオロシクロアルカノンを一般式(IV)
で表されるアルカリ金属水酸化物と、適当な溶媒の存在
下、−20℃〜溶媒の沸点の温度範囲、好ましくは−5
℃〜25℃の温度範囲において、0.5〜24時間、好
ましくは0.5〜3時間反応させることにより製造する
ことができる。反応に使用される溶媒としては、例え
ば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、第三ブチルアルコール等のアルコール系溶媒、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、エチレングリコール、ジメチルホルム
アミド、ヘキサメチルホスファミド等の非プロトン性極
性溶媒、あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。
【0020】
【化6】
【0021】[但し式中、R1、R21およびnは前記と
同義である。R22はアンモニウム及び有機アンモニウム
を示し、Xはハロゲンを示す。] 一般式(II−2)で表される化合物は化合物(II−1)
を一般式(V)で表されるハロゲン化アンモニウム及び
ハロゲン化有機アンモニウムと適当な溶媒の存在下、−
20℃〜溶媒の沸点の温度範囲、好ましくは−5℃〜2
5℃の温度範囲において、0.5〜24時間、好ましく
は0.5〜3時間反応させて塩を交換することにより製
造することができる。反応に使用される溶媒としては、
例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、第三ブチルアルコール等のアルコール系溶
媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒、エチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、ヘキサメチルホスファミド等の非プロト
ン性極性溶媒、あるいはこれらの混合溶媒が挙げられ
る。反応終了後の反応液は、抽出および濃縮等の通常の
後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結
晶等の操作によって精製することができる。
同義である。R22はアンモニウム及び有機アンモニウム
を示し、Xはハロゲンを示す。] 一般式(II−2)で表される化合物は化合物(II−1)
を一般式(V)で表されるハロゲン化アンモニウム及び
ハロゲン化有機アンモニウムと適当な溶媒の存在下、−
20℃〜溶媒の沸点の温度範囲、好ましくは−5℃〜2
5℃の温度範囲において、0.5〜24時間、好ましく
は0.5〜3時間反応させて塩を交換することにより製
造することができる。反応に使用される溶媒としては、
例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、第三ブチルアルコール等のアルコール系溶
媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒、エチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、ヘキサメチルホスファミド等の非プロト
ン性極性溶媒、あるいはこれらの混合溶媒が挙げられ
る。反応終了後の反応液は、抽出および濃縮等の通常の
後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結
晶等の操作によって精製することができる。
【0022】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明を詳細に説明す
る。なお、変換率およびシス体とトランス体の生成比は
液体クロマトグラフィーで分析した結果である。
る。なお、変換率およびシス体とトランス体の生成比は
液体クロマトグラフィーで分析した結果である。
【0023】実施例1 200ml容ナスフラスコに、エチル 1−フルオロ−2
−オキソシクロヘキサンカルボシキレート0.5gを入
れ、エタノール10mlに溶解した。これへ氷冷下、水酸
化ナトリウム0.15gを溶解した水溶液10mlを滴下
し、室温で1時間撹拌した。5%ルテニウム/炭素(デ
グサ社製H101B/W、57%含水)0.40gを加え、フラ
スコ内部を水素ガスで置換した。マグネチックスターラ
ーで4時間室温にて激しく撹拌した。反応液を分析する
ことにより、生成物の全てがソジウム 1−フルオロ−
2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシレートであ
り、シス体とトランス体の比は55:45であることが
判明した。
−オキソシクロヘキサンカルボシキレート0.5gを入
れ、エタノール10mlに溶解した。これへ氷冷下、水酸
化ナトリウム0.15gを溶解した水溶液10mlを滴下
し、室温で1時間撹拌した。5%ルテニウム/炭素(デ
グサ社製H101B/W、57%含水)0.40gを加え、フラ
スコ内部を水素ガスで置換した。マグネチックスターラ
ーで4時間室温にて激しく撹拌した。反応液を分析する
ことにより、生成物の全てがソジウム 1−フルオロ−
2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシレートであ
り、シス体とトランス体の比は55:45であることが
判明した。
【0024】実施例2 200ml容ナスフラスコにソジウム 1−フルオロ−2
−オキソシクロヘキサンカルボキシレート0.5gを入
れ、水20mlに溶解した。5%ロジウム/炭素(デグサ
社製G101B/W、62%含水)0.42gを加え、フラスコ
内部を水素ガスで置換し、室温でマグネチックスターラ
ーを用いて4時間激しく撹拌した。反応液を分析するこ
とにより、原料が25%残存し、ソジウム 1−フルオ
ロ−2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシレートの
収率は55%であり、そのシス体とトランス体の比は
9:91であることが判明した。
−オキソシクロヘキサンカルボキシレート0.5gを入
れ、水20mlに溶解した。5%ロジウム/炭素(デグサ
社製G101B/W、62%含水)0.42gを加え、フラスコ
内部を水素ガスで置換し、室温でマグネチックスターラ
ーを用いて4時間激しく撹拌した。反応液を分析するこ
とにより、原料が25%残存し、ソジウム 1−フルオ
ロ−2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシレートの
収率は55%であり、そのシス体とトランス体の比は
9:91であることが判明した。
【0025】実施例3 200ml容ナスフラスコにソジウム 1−フルオロ−2
−オキソシクロヘキサンカルボキシレート0.5gを入
れ、水20mlに溶解した。ラネーニッケルW2(「新実
験化学講座」15巻II397ページ(日本化学会編 昭
和52年 丸善株式会社発行)に従って調整)0.5g
を加え、フラスコ内部を水素ガスで置換した。マグネチ
ックスターラーで4時間室温にて激しく撹拌した。反応
液を分析することにより、生成物の全てがソジウム 1
−フルオロ−2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシ
レートであり、シス体とトランス体の比は21:79で
あることが判明した。
−オキソシクロヘキサンカルボキシレート0.5gを入
れ、水20mlに溶解した。ラネーニッケルW2(「新実
験化学講座」15巻II397ページ(日本化学会編 昭
和52年 丸善株式会社発行)に従って調整)0.5g
を加え、フラスコ内部を水素ガスで置換した。マグネチ
ックスターラーで4時間室温にて激しく撹拌した。反応
液を分析することにより、生成物の全てがソジウム 1
−フルオロ−2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキシ
レートであり、シス体とトランス体の比は21:79で
あることが判明した。
【0026】実施例4〜8 表1に示した触媒、溶媒および添加剤を使用した以外
は、実施例2と同様の方法で反応を行った。得られた結
果を表1に示す。
は、実施例2と同様の方法で反応を行った。得られた結
果を表1に示す。
【0027】
【表1】
【0028】
【発明の効果】本発明は、2−ヒドロキシ−1−シクロ
アルカンカルボン酸誘導体を製造するにあたり、2−オ
キソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を不均一系
接触水素添加することを特徴とする製造法に関するもの
であり、本発明の方法により、除草剤の製造中間体とし
て有用な1−フルオロ−2−ヒドロキシシクロアルカン
カルボン酸誘導体を効率よく製造することができる。
アルカンカルボン酸誘導体を製造するにあたり、2−オ
キソ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体を不均一系
接触水素添加することを特徴とする製造法に関するもの
であり、本発明の方法により、除草剤の製造中間体とし
て有用な1−フルオロ−2−ヒドロキシシクロアルカン
カルボン酸誘導体を効率よく製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 哲也 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 青木 孝子 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I): 【化1】 [式中、R1は水素原子、ハロゲン原子または低級アル
キル基を示し、R2は水素原子、アルカリ金属、アンモ
ニウムまたは有機アンモニウムを示し、nは0、1また
は2の整数を示す。]で表される2−ヒドロキシ−1−
シクロアルカンカルボン酸誘導体を製造するにあたり、
下記一般式(II): 【化2】 [式中、R1、R2およびnは、上記一般式(I)におけ
る定義と同じ意味を示す。]で表される2−オキソ−1
−シクロアルカンカルボン酸誘導体を、不均一系接触水
素添加触媒の存在下、水素と接触させることを特徴とす
る2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導
体の製造法。 - 【請求項2】前記不均一系接触水素添加触媒が、ニッケ
ル、ロジウムまたはルテニウムを含有する触媒である請
求項1記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5205372A JPH0753454A (ja) | 1993-08-19 | 1993-08-19 | 2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5205372A JPH0753454A (ja) | 1993-08-19 | 1993-08-19 | 2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0753454A true JPH0753454A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16505755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5205372A Pending JPH0753454A (ja) | 1993-08-19 | 1993-08-19 | 2−ヒドロキシ−1−シクロアルカンカルボン酸誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0753454A (ja) |
-
1993
- 1993-08-19 JP JP5205372A patent/JPH0753454A/ja active Pending
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