JPH0751571A

JPH0751571A - 水素化反応用触媒、該触媒の製造法及び該触媒を用いた３−アミノメチル−３，５，５−トリアルキルシクロヘキシルアミンの製造法

Info

Publication number: JPH0751571A
Application number: JP5200790A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Hara; 善則原; Haruhiko Kusaka; 晴彦日下; Masamichi Onuki; 正道大貫
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1993-08-12
Filing date: 1993-08-12
Publication date: 1995-02-28
Anticipated expiration: 2017-11-11
Also published as: JP3344013B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【構成】ルテニウム化合物をコバルト塩上に担持した
触媒前駆体で、これら２金属の塩のアニオン根として、
触媒前駆体の全重量に対して１−５０重量％の範囲にあ
る炭酸根が存在し、更に水酸根及び／又はオキサイドハ
イドロオキサイド根が共存する触媒前駆体を還元処理し
てなる水素化反応用触媒及びその製造法並びに３−シア
ノ−３，５，５−トリアルキルシクロヘキサノンをアン
モニアの存在下、接触水素化して３−アミノメチル−
３，５，５−トリアルキルシクロヘキシルアミンを製造
するにあたり、該接触水素化を前記触媒を用いて行う事
を特徴とする３−アミノメチル−３，５，５−トリアル
キルシクロヘキシルアミンの製造法。【効果】反応速度が速く、効率的に還元生成物を与え
る効果的な水素化反応用触媒を提供出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、水素化反応用の触媒に
関するものである。更に本発明は該触媒を用いて３−シ
アノ−３，５，５−トリアルキルシクロヘキサノンをア
ンモニアの存在下で水素添加することにより、３−アミ
ノメチル−３，５，５−トリアルキルシクロヘキシルア
ミン、具体的には３−アミノメチル−３，５，５−トリ
メチルシクロヘキシルアミンを製造する方法に関するも
のである。３−アミノメチル−３，５，５−トリメチル
シクロヘキシルアミンは、エポキシ樹脂硬化剤あるいは
ウレタンエラストマーの原料としてすぐれた性質を有す
る化合物である。

【０００２】

【従来の技術】従来、水素化触媒における前駆体を得る
方法としては、沈澱法にて金属の不溶性の塩を得る手法
が良く用いられる。その中で、ヨーロッパ特許第４９６
４４８号では、ニッケルの担持型水素化触媒前駆体を得
るにあたり、ニッケルの塩の溶液に、アルカリ金属の水
酸化物とアルカリ金属の炭酸塩の１：３〜３：１の混合
溶液を加えて沈澱させ、さらに担体成分を可溶性の溶液
で加えて調製する製造法が開示されている。しかし、こ
の中では、触媒の組成に関してはなんら言及されてはい
ない。

【０００３】一方、３−シアノ−３，５，５−トリメチ
ルシクロヘキサノンをアンモニア、水素化触媒および水
素の存在下還元して３−アミノメチル−３，５，５−ト
リメチルシクロヘキシルアミンを製造する従来の方法と
しては、例えば特公昭３９−１０９２３号公報等により
公知であり、該公報では、珪酸担持コバルト触媒を用い
ることを開示している。また、特開昭６２−１２３１５
４号公報には、ラネーコバルトを反応触媒として使用す
る手法が述べられている。さらには、ヨーロッパ特許４
４９０８９号にはアルミナ担持ルテニウム触媒を用いる
手法が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法は、効率よく目的化合物を得るには少なからず問
題を有していた。すなわち、珪酸担持コバルト触媒、お
よびアルミナ担持ルテニウム触媒を用いる方法では、反
応を非常に高圧下で行わなければならないという欠点が
あった。

【０００５】一方、ラネーコバルトを使用する方法にお
いては、反応は比較的低圧で行うことができるものの、
副成物の生成が認められ、目的化合物の収率を低下させ
る原因となっていた。特に、この反応は、特開平３−４
７１５６号公報の実施例にも示されている様に、その原
料化合物の構造的な特徴により、反応の際、分子内環化
して生成する１，３，３−トリメチル−６−アザビシク
ロ［３，２，１］オクタン（以下ＴＡＯと略す）の副生
を避けることがきわめて困難で、目的物の収率を低下さ
せる主たる原因となっていた。

【０００６】そこで、本発明者らの研究の目的は、３−
アミノメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシル
アミンを製造するにあたり、より温和な条件で、かつ環
化物等の副生物の生成を可能な限り抑制し、効率よく目
的化合物を生成するための新たなる触媒を見いだし、そ
してその製造法を確立する事であった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この課題を解決すべく鋭
意検討を行った結果、ルテニウム化合物をコバルト塩上
に担持した触媒前駆体で、還元処理する前のこれら２金
属の塩のアニオン根として、触媒前駆体の全重量に対し
て１−５０重量％の範囲にある炭酸根が存在し、更に水
酸根及び／又はオキサイドハイドロオキサイド根が共存
する水素化反応用触媒の前駆体を還元処理して活性化し
た触媒の存在下に反応を行うと、低圧で、且つ速度が速
く、しかも非常に高い収率で目的化合物が得られること
が判明し、本発明に至った。

【０００８】すなわち、本発明の要旨は、ルテニウム化
合物をコバルト塩上に担持した触媒前駆体で、これら２
金属の塩のアニオン根として、触媒前駆体の全重量に対
して１−５０重量％の範囲にある炭酸根が存在し、更に
水酸根及び／又はオキサイドハイドロオキサイド根が共
存する触媒前駆体を還元処理して得られる水素化反応用
触媒に関する。さらには、この触媒前駆体の製造法に関
する。また、この触媒を用いて３−シアノ−３，５，５
−トリアルキルシクロヘキサノンをアンモニアの存在下
に接触水素化して３−アミノメチル−３，５，５−トリ
アルキルシクロヘキシルアミンを製造する製造法に関す
る。

【０００９】以下、本発明の方法を詳細に説明する。本
発明の触媒の調製法は、例えば、ルテニウム化合物を塩
基性炭酸コバルトに担持した触媒前駆体をアルカリで処
理する事により塩基性炭酸コバルトの炭酸イオンを一部
水酸化物イオンに変換して得た触媒前駆体を還元処理し
て本発明の触媒を製造する方法が挙げられる。

【００１０】ルテニウム化合物としては、硝酸、硫酸、
炭酸、塩酸等の鉱酸塩や水酸化物、アセチルアセトナー
ト塩等の錯塩や、酢酸塩等の有機酸塩などを使用するこ
とができる。担持方法は、一般に知られている共沈法、
エバポレーションやスプレー噴霧による強制担持法、含
浸法等が用いられるが、好適には、塩基性炭酸コバルト
の溶媒懸濁液に、溶媒に溶解させたルテニウム化合物を
添加して、塩基性炭酸コバルト上にルテニウム化合物を
担持させる。この時、ルテニウム化合物として、例えば
塩化ルテニウムなどの酸性を示すルテニウム化合物を使
用すると、塩基性炭酸コバルト上にルテニウム化合物が
吸着担持されるのが観察される。溶媒としては、水、有
機溶媒いずれも使用可能であるが、安全性とコストを考
えると、水が好適に用いられる。

【００１１】この塩基性炭酸コバルトの懸濁液にルテニ
ウム化合物の水溶液を添加したものは、この後アルカリ
で処理される。このアルカリで処理する事により、ルテ
ニウムの対イオン（例えば、塩化物イオンや、硝酸イオ
ンなど）は、水酸化物イオンに置き代わり、ルテニウム
化合物の担持が強化される。そして更に過剰量のアルカ
リの使用により、塩基性炭酸コバルトの対イオンであ
る、炭酸イオンの一部も水酸化物イオンに置き代わり、
水酸化コバルトが生成する。この時の、炭酸イオンの残
留量は、この後還元して触媒とした時の反応活性に重大
な影響を及ぼすものである。なお、生成した水酸化コバ
ルトの一部がコバルトオキサイドハイドロオキサイド
（ＣｏＯＯＨ）に酸化されるのが観察される。

【００１２】アルカリとして使用される化合物として
は、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチ
ウム、水酸化バリウム等のアルカリ金属、およびアルカ
リ土類金属の水酸化物が好適に使用される。その使用量
は、使用されるコバルト金属のモル量に対して、アルカ
リの水酸根のモル比として０．０１−５、好ましくは、
０．１−３の範囲から選択される。この範囲以上に、ア
ルカリを使用すると、炭酸根の残存量が少なくなりす
ぎ、本発明の効果が十分に得られなくなる。この炭酸根
の残存量は触媒前駆体の全重量に対して１−５０重量％
の範囲であるが、好ましくは５−４５重量％、更に好ま
しくは１０−３０重量％の範囲とするのが良い。

【００１３】ルテニウム化合物の塩基性炭酸コバルトに
対する担持量としては、特に制限はないものの、ルテニ
ウムのコストを考えるとルテニウムのコバルトに対する
割合が金属として０．１−２０ｍｏｌ％の範囲となるよ
うに使用されることが好ましい。このようにして得たア
ルカリ処理後の触媒前駆体の溶媒スラリーを次に乾燥さ
せる。

【００１４】乾燥は、水酸化コバルトが酸化を受けて、
酸化コバルトにならない条件で行なう必要がある。酸化
が進行し、水酸化コバルトが消失し、酸化コバルト（Ｃ
ｏ₃Ｏ₄，ＣｏＯ，Ｃｏ₂Ｏ₃など）が生じてしまう
と、水素化反応活性に重大な支障をきたす結果となるか
らである。水酸化コバルトの酸化の進行を抑制する乾燥
方法としては、減圧加熱乾燥（減圧度：０．１−１００
ｍｍＨｇ、温度：２０−１２０℃、好ましくは、５０−
１００℃）、窒素ガス等の不活性ガス下での加熱乾燥
（温度：２０−１２０℃、好ましくは、５０−１００
℃）などが好適であるが、酸化コバルトが生成しない手
法であれば、この限りではない。空気下で乾燥する場合
は、特に温度に注意しなければならない。高温の空気雰
囲気下で乾燥すると、水酸化コバルトは酸化コバルトへ
と酸化される。従って、空気下雰囲気で乾燥を行う場合
は、温度を８０℃以下、好適には、５０℃以下で行う必
要がある。

【００１５】これらの乾燥により、触媒を還元処理する
前の前駆体として、含水率を１０％以下にする。このも
のは、反応使用前に還元して活性化する。還元は、公知
の液相還元または気相還元により行うことができるが、
水素気流下で加熱する気相還元が好適に用いられる。

【００１６】水素気流還元の温度は、通常１００−５０
０℃、好ましくは１５０−４００℃の範囲で行われる。
こうして得られた触媒の構造に関しては今のところ明確
ではないが、この還元処理により、一部または全てのル
テニウムとコバルトが金属にまで還元されているものと
思われる。本発明の触媒においては、触媒としての成形
性を付与し、触媒としての強度を向上させる為に、触媒
全重量に対して０．１−４０重量％、好ましくは０．５
−３０重量％、更に好ましくは０．５−１０重量％のバ
インダー成分を使用しても良い。

【００１７】これらのバインダー成分は多すぎても好ま
しくない。その理由は明らかではないが、バインダー成
分が多すぎると、触媒を還元して活性化処理した場合に
コバルトやルテニウムの還元が充分でない場合がある
為、触媒活性の面で好ましくない影響があるものと思わ
れる。該バインダー成分としては、例えばシリカ、アル
ミナ、タルク及びグラファイト等が挙げられる。中でも
シリカ、アルミナが好ましい。

【００１８】これらのバインダー成分は、粉末状や水等
の溶媒の懸濁液で使用されるのが製造上好ましい。この
バインダー成分を触媒に使用する場合はルテニウム化合
物をコバルト塩に担持した触媒前駆体の溶媒懸濁液をア
ルカリ処理をする前あるいは処理後にバインダー成分を
加えて混合した後、乾燥したり、またアルカリ処理の
後、乾燥終了後に加えても良く、触媒前駆体の還元処理
以前であればどの段階でバインダー成分を添加して調製
したものであってもよい。

【００１９】この後、通常の場合と同様に還元処理をす
ることによって目的の触媒を得ることができる。本発明
の他の目的である３−アミノメチル−３，５，５−トリ
アルキルシクロヘキシルアミンの製造法において、水素
化反応における本触媒の使用量は、好ましくは、原料の
３−シアノ−３，５，５−トリアルキルシクロヘキサノ
ンの重量に対して１〜３０重量％の範囲から選ばれる。

【００２０】尚、本触媒による、水素化反応の反応基質
として採用可能な３−シアノ−３，５，５−トリメチル
シクロヘキサノンは、既知の方法、例えば特開昭５７−
１１６０３８等によりイソホロンと青酸とから容易に合
成することが可能である。３−シアノ−３，５，５−ト
リアルキルシクロヘキサノンの還元アミノ化反応では、
副生成物を抑制するためにアンモニアが使用されるが、
アンモニアの使用量は、好ましくは３−シアノ−３，
５，５−トリアルキルシクロヘキサノンに対して１−１
００モル倍量の範囲、更に好ましくは１−２０モル倍量
の範囲から選ばれる。

【００２１】反応圧力（全圧）は１〜３００ｋｇ／ｃｍ
²・Ｇ（ｋＧ）の範囲で実施することが可能であるが、
実用的な反応速度を得、かつ反応器にかかる建設コスト
を加味すると、好ましくは５−１００ｋＧの範囲、更に
好ましくは１０−８０ｋＧの範囲で行うことが好まし
い。また、反応温度は２０−２００℃の範囲、好ましく
は５０−１５０℃の範囲で行われる。この時、より低温
側では反応速度の低下が著しく、より高温側では副生す
る高沸点物質が増加するので不都合である。

【００２２】反応には、溶媒を使用しても良い。この溶
媒は反応に使用されるアンモニアを溶媒を兼ねて用いて
もよいし、別の溶媒を添加して行っても良い。別に添加
する反応溶媒としては、メタノール、エタノール、２−
プロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール
等のエーテル類が好適に使用される。その使用量は、３
−シアノ−３，５，５−トリアルキルシクロヘキサノン
に対して、１〜１０重量倍の範囲、好ましくは３〜６重
量倍の範囲で行われる。

【００２３】反応は、原料の３−シアノ−３，５，５−
トリアルキルシクロヘキサノン、溶媒、上記水素化触
媒、アンモニアを反応器に導入して行う。本発明の接触
水素化反応は、気相および液相のいずれでも行なうこと
ができるが、好ましくは液相で行なわれる。液相で接触
水素化を行なう場合、反応は、上記原料、溶媒、触媒、
アンモニアを同時に反応器に導入した後水素を導入して
行なうことができるが、また、あらかじめ溶媒に溶解さ
せた３−シアノ−３，５，５−トリアルキルシクロヘキ
サノンをアンモニアと適当な温度、すなわち、１０−１
００℃、好ましくは、２０−７０℃で加熱処理し、その
後、水素化触媒及び水素を導入して水素化反応を行うこ
とによっても３−アミノメチル−３，５，５−トリアル
キルシクロヘキシルアミンを製造することができる。一
般的に後者の方法を採用すると、３−アミノメチル−
３，５，５−トリアルキルシクロヘキサノールなどの副
生物の生成を更に抑制することができる。この後者の方
法を採る場合、３−シアノ−３，５，５−トリアルキル
シクロヘキサノンをアンモニアで処理する工程は、特に
反応器を設ける必要はなく、配管等で混合するだけでも
副生成物抑制の効果は得られる。

【００２４】反応方法としては、固定床方式、懸濁床方
式、移動床方式等が好適に採用される。かくして得られ
た３−アミノメチル−３，５，５−トリアルキルシクロ
ヘキシルアミンの反応粗液は周知の精製手段、例えば減
圧蒸留を利用すれば、純粋な目的化合物を得る事ができ
る。

【００２５】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明の方法をより具体
的に説明するが、その要旨を越えない限り本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。以下に示す収率
は特にことわらない限りｍｏｌ％を示す。また実施例中
では以下の略号を使用する。

【００２６】ＩＰＤＡ：３−アミノメチル−３，５，５
−トリメチルシクロヘキシルアミンＴＭＣＡ：３，３，５−トリメチルシクロヘキシルアミ
ンＩＰＡＡ：３−アミノメチル−３，５，５−トリメチル
シクロヘキサノールＴＡＯ：１，３，３−トリメチル−６−アザビシクロ
［３，２，１］オクタンｔ−ＩＰＡＮ：トランス−３−シアノ−３，５，５−ト
リメチルシクロヘキシルアミン

【００２７】＜触媒調製例１＞塩基性炭酸コバルト３
４．５ｇを脱塩水３００ｇに懸濁させ、これに塩化ルテ
ニウム（ＲｕＣ₁₃＊ｎＨ₂Ｏ）４．５ｇを脱塩水５０ｍ
ｌに溶かした溶液を撹拌しながら３０分かけて滴下す
る。滴下終了後、撹拌をさらに３時間続けた。この懸濁
液に、２０ｍｌの脱塩水中に水酸化ナトリウム２．５ｇ
を加えて調製した溶液を５分間かけて滴下し、さらに室
温で１時間撹拌した。沈澱を濾別し、４００ｍｌ脱塩水
で３回洗浄、濾別を繰り返した。このものを減圧下、７
０℃で６時間乾燥してルテニウム−コバルト触媒前駆体
を得た。

【００２８】この触媒前駆体中に含まれる炭素の量を、
炭素イオウ分析装置（堀場製作所製）で分析したとこ
ろ、乾燥触媒前駆体全重量の４１重量％の炭酸（ＣＯ₃
^2-）イオンが含まれていた。この触媒前駆体の粉末Ｘ
線回折の図を図１に示す。炭酸コバルトのみしか認めら
れなかった。

【００２９】＜粉末Ｘ線回折測定条件＞装置名ＰＨＩＬＩＰＳＰＷ１７００（商品名、フ
ィリップス社製）銅単色Ｘ線（グラファイト）電圧：４０ｋＶ電流：３０ｍＡこの触媒前駆体を水素気流下、２００℃で２ｈｒ還元処
理して触媒１を得た。

【００３０】＜実施例１＞３−シアノ−３，５，５−ト
リメチルシクロヘキサノン８ｇ、メタノール３５ｇ、ア
ンモニア１５ｇ、ＧＣ測定用内標としてのトリグライム
２ｇをオートクレーブに仕込み、４０℃、２．５時間処
理し、室温まで冷却した反応液に、触媒１を１．１ｇ加
え、オートクレーブ内を窒素ガスで置換した。その後、
水素ガス２０ｋｇ（室温）を導入し、１２０℃まで昇温
した。１２０℃に温度が達した時点でオートクレーブ内
の全圧が４０ｋＧとなるように水素ガスを導入し、吸収
される水素ガスを逐次補うことによりこの圧力を維持し
ながら１時間反応した。オートクレーブを室温まで冷却
したのち、放圧し、反応粗液をガスクロマトグラフィー
で分析した。その結果、ＩＰＤＡが８９．４％、ＴＭＣ
Ａが０．６％、ＩＰＡＡが０．３％、ＴＡＯが３．０
％、ｔ−ＩＰＡＮが１．８％生成していた。

【００３１】＜触媒調製２＞使用する水酸化ナトリウム
の量を、１０．０ｇとした以外は、＜触媒調製１＞と同
様にして触媒前駆体を調製した。この触媒前駆体中に含
まれる炭素の量を、炭素イオウ分析装置（堀場製作所
製）で分析したところ、乾燥触媒前駆体全重量の２７重
量％の炭酸（ＣＯ₃ ^2-）イオンが含まれていた。このも
のの粉末Ｘ線回折の図を図２に示す。炭酸コバルト、お
よび水酸化コバルトが空気で酸化されてできるコバルト
オキサイドハイドロオキサイドが含まれている事が解
る。この前駆体を触媒調製１と同様に還元処理して触媒
２を得た。

【００３２】＜実施例２＞触媒２を用いる以外は実施例
１と同様にして水素化反応を行った。その結果、ＩＰＤ
Ａが９１．８％、ＴＭＣＡが０．６％、ＩＰＡＡが０．
３％、ＴＡＯが２．２％、ｔ−ＩＰＡＮが０．９％生成
していた。

【００３３】＜触媒調製３＞使用する水酸化ナトリウム
の量を、１５．０ｇとした以外は、触媒調製１と同様に
して触媒前駆体を調製した。この触媒前駆体中に含まれ
る炭素の量を、炭素イオウ分析装置（堀場製作所製）で
分析したところ、乾燥触媒前駆体全重量の１６重量％の
炭酸（ＣＯ₃ ^2-）イオンが含まれていた。このものの粉
末Ｘ線回折の図を図３に示す。炭酸コバルト、水酸化コ
バルトおよび水酸化コバルトが空気で酸化されてできる
コバルトオキサイドハイドロオキサイドが含まれている
事が解るが、炭酸コバルトのシグナルが小さかった。こ
の触媒前駆体を触媒調製１と同様に還元処理して触媒３
を調製した。

【００３４】＜実施例３＞触媒３を用いる以外は実施例
１と同様にして水素化反応を行った。その結果、ＩＰＤ
Ａが９０．３％、ＴＭＣＡが１．０％、ＩＰＡＡが０．
５％、ＴＡＯが２．２％、ｔ−ＩＰＡＮが０．７％生成
していた。

【００３５】＜触媒調製４＞使用する水酸化ナトリウム
の量を、３０．０ｇとした以外は、触媒調製１と同様に
して触媒前駆体を調製した。この触媒前駆体中に含まれ
る炭素の量を、炭素イオウ分析装置（堀場製作所製）で
分析したところ、乾燥触媒前駆体全重量の５．２重量％
の炭酸（ＣＯ₃ ^2-）イオンが含まれていた。このものの
粉末Ｘ線回折の図を図４に示す。水酸化コバルトおよび
水酸化コバルトが空気で酸化されてできるコバルトオキ
サイドハイドロオキサイドが含まれている事が解るが、
炭酸コバルトのシグナルは認められない。この前駆体を
触媒調製１と同様に還元処理して触媒４を調製した。

【００３６】＜実施例４＞触媒４を用いる以外は実施例
１と同様にして水素化反応を行った。その結果、ＩＰＤ
Ａが８５．７％、ＴＭＣＡが１．５％、ＩＰＡＡが０．
４％、ＴＡＯが２．３％、ｔ−ＩＰＡＮが４．６％生成
していた。

【００３７】＜触媒調製５＞水酸化コバルト３０ｇを脱
塩水３００ｇに懸濁させ、これに塩化ルテニウム（Ｒｕ
Ｃｌ₃ ＊ｎＨ₂Ｏ）４．５ｇを脱塩水５０ｍｌに溶かし
た溶液を撹拌しながら３０分かけて滴下する。滴下終了
後、撹拌をさらに３時間続けた。この懸濁液に、２０ｍ
ｌの脱塩水中に水酸化ナトリウム１０ｇを加えて調製し
た溶液を５分間かけて滴下し、さらに１００℃で１時間
撹拌した。室温まで冷却した後、生成した沈澱を濾別
し、４００ｍｌ脱塩水で３回洗浄、濾別を繰り返した。
このものを減圧下、７０℃で９時間乾燥してルテニウム
−コバルト触媒前駆体を得た。

【００３８】この触媒前駆体中に含まれる炭素の量を、
炭素イオウ分析装置（堀場製作所製）で分析したとこ
ろ、乾燥触媒前駆体全重量の０．２％の炭素分が含まれ
ていた。しかし、炭素分を含む試薬は何も使用していな
いので、これは測定誤差、もしくは空気中の二酸化炭素
を吸着したものと考えられる。この触媒前駆体を触媒調
製１と同様に還元処理して触媒５を調製した。

【００３９】＜比較例１＞触媒５を用いる以外は実施例
１と同様にして水素化反応を行った。その結果、ＩＰＤ
Ａが８０．８％、ＴＭＣＡが２．２％、ＩＰＡＡが０．
４％、ＴＡＯが２．５％、ｔ−ＩＰＡＮが５．１％生成
していた。

【００４０】＜触媒調製６＞触媒調製２で得られたＲｕ
−Ｃｏ触媒前駆体７．２ｇにアルミナゾル（日産化学社
製、アルミナゾル−５２０、２０％水サスペンジョン）
１．３５ｇ、および脱塩水４．０５ｇを加え、良く練っ
た。このものを減圧下、７０℃で７時間乾燥してルテニ
ウム−コバルト−アルミナゾル触媒前駆体を得た。この
触媒前駆体を触媒調製１と同様に還元処理して触媒６を
調製した。

【００４１】＜実施例５＞触媒６を用いる以外は実施例
１と同様にして水素化反応を行った。その結果、ＩＰＤ
Ａが８９．９％、ＴＭＣＡが０．６％、ＩＰＡＡが０．
５％、ＴＡＯが３．０％、ｔ−ＩＰＡＮが０．３％生成
していた。

【００４２】＜触媒調製７＞触媒調製２で得られたＲｕ
−Ｃｏ触媒前駆体７．２ｇにシリカゾル（触媒化成社
製、ＣａｔａｌｏｉｄＳＩ−３５０、３０％水サスペ
ンジョン）０．９２ｇ、および脱塩水４．１４ｇを加
え、良く練った。このものを減圧下、７０℃で７時間乾
燥してルテニウム−コバルト−アルミナゾル触媒前駆体
を得た。この触媒前駆体を触媒調製１と同様に還元処理
して触媒７を調製した。

【００４３】＜実施例６＞触媒７を用いる以外は実施例
１と同様にして水素化反応を行った。その結果、ＩＰＤ
Ａが８９．８％、ＴＭＣＡが０．６％、ＩＰＡＡが０．
６％、ＴＡＯが３．５％、ｔ−ＩＰＡＮが１．４％生成
していた。

【００４４】

【発明の効果】本発明は、反応速度が速く、効率的に還
元生成物を与える効果的な水素化反応用触媒を提供し、
この触媒を３−シアノ−３，５，５−トリアルキルシク
ロヘキサノンをアンモニアの存在下還元して３−アミノ
メチル−３，５，５−トリアルキルシクロヘキシルアミ
ンを製造する反応に適用する事により、より温和な条件
で、かつ環化物等の副生物の生成を可能な限り抑制し、
効率よく目的化合物を生産する方法を提供するものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】触媒調製１で得られた触媒前駆体の粉末Ｘ線回
折図を示す。

【図２】触媒調製２で得られた触媒前駆体の粉末Ｘ線回
折図を示す。

【図３】触媒調製３で得られた触媒前駆体の粉末Ｘ線回
折図を示す。

【図４】触媒調製４で得られた触媒前駆体の粉末Ｘ線回
折図を示す。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ルテニウム化合物をコバルト塩上に担持
した触媒前駆体で、これら２金属の塩のアニオン根とし
て、触媒前駆体の全重量に対して１−５０重量％の範囲
にある炭酸根が存在し、更に水酸根及び／又はオキサイ
ドハイドロオキサイド根が共存する触媒前駆体を還元処
理してなる水素化反応用触媒。
【請求項２】ルテニウム化合物を塩基性炭酸コバルト
上に担持した触媒前駆体を、アルカリで処理する事によ
り、塩基性炭酸コバルトの炭酸イオンを一部水酸化物イ
オンに変換した後、還元処理することを特徴とする水素
化反応用触媒の製造法。
【請求項３】３−シアノ−３，５，５−トリアルキル
シクロヘキサノンをアンモニアの存在下、接触水素化し
て３−アミノメチル−３，５，５−トリアルキルシクロ
ヘキシルアミンを製造するにあたり、該接触水素化を請
求項１の触媒を用いて行う事を特徴とする３−アミノメ
チル−３，５，５−トリアルキルシクロヘキシルアミン
の製造法。
【請求項４】３−シアノ−３，５，５−トリアルキル
シクロヘキサノンをアンモニアの存在下、接触水素化し
て３−アミノメチル−３，５，５−トリアルキルシクロ
ヘキシルアミンを製造するにあたり、該接触水素化を請
求項２の手法で調製される触媒を用いて行う事を特徴と
する３−アミノメチル−３，５，５−トリアルキルシク
ロヘキシルアミンの製造法。