JPH07508904A - 液体/臨界超過二酸化炭素ドライクリーニング装置 - Google Patents

液体/臨界超過二酸化炭素ドライクリーニング装置

Info

Publication number
JPH07508904A
JPH07508904A JP6503550A JP50355094A JPH07508904A JP H07508904 A JPH07508904 A JP H07508904A JP 6503550 A JP6503550 A JP 6503550A JP 50355094 A JP50355094 A JP 50355094A JP H07508904 A JPH07508904 A JP H07508904A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
gas
container
drum
fluid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6503550A
Other languages
English (en)
Inventor
デウィーズ,トーマス・ジー
クナフェルク,フランク・エム
ミッシェル,ジェームス・ディー
テイラー,アール・グレゴリー
イリフ,ロバート・ジェー
カーティ,ダニエル・ティー
ラタム,ジェームズ・アール
リプトン,トーマス・エム
Original Assignee
ザ・クロロックス・カンパニー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ザ・クロロックス・カンパニー filed Critical ザ・クロロックス・カンパニー
Publication of JPH07508904A publication Critical patent/JPH07508904A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F43/00Dry-cleaning apparatus or methods using volatile solvents
    • D06F43/007Dry cleaning methods
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/0021Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by liquid gases or supercritical fluids
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F43/00Dry-cleaning apparatus or methods using volatile solvents
    • D06F43/02Dry-cleaning apparatus or methods using volatile solvents having one rotary cleaning receptacle only
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F43/00Dry-cleaning apparatus or methods using volatile solvents
    • D06F43/08Associated apparatus for handling and recovering the solvents

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Accessory Of Washing/Drying Machine, Commercial Washing/Drying Machine, Other Washing/Drying Machine (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 液体/臨界超過二酸化炭素ドライクリーニング装置発明分野 本発明は一般に、臨界超過二酸化炭素を利用し、汚れの再析出を減少させると共 に向上したクリーニングを提供するエネルギー効率のよいドライクリーニング装 置に関し、ポリマー基質に対する損傷を減少させる。
発明の背景 炭化水素及びハロゲン溶剤を使用する金属、機械、精密部品、及び織物(ドライ クリーニング)から汚れをクリーニングすることが、長年にわたって実施されて きた。古くからのドライクリーニング機械は典型的に以下のようにして動作する :汚れた衣類が、クリーニングチャンバ内の円筒状“バスケット″に位置され、 次いでクリーニングチャンバが密閉される。無極性炭化水素溶剤がチャンバ内に 送り込まれる。溶剤が連続的にチャンバで濾過され再び循環されるが、汚れ及び 染みを衣類から溶剤に分解させる目的のために、衣類と溶剤とは共にバスケット を回転させることによって混合される。クリーニングサイクルの後、溶剤のほと んどが除去され、濾過され再使用される。
最近、この実施に関連した環境的、健康的、及びコスト的なすスフが明白となっ てきた。二酸化炭素が、このタイプのクリーニングのための他の無極性溶剤の中 で潜在的な利点を保有する。それは、多くの環境的、健康的、偶発的、及びコス ト的な問題を回避する。
液体/臨界超過流体二酸化炭素が、有機及び無機の汚染物を金属部分の表面から 除去させること及び繊維をクリーニングすることにおいて、ハロカーボン(ha locarbon)溶剤に対する代替物として示唆されてきた。例えば、゛″臨 界超過co2を有するクリーニング(Cleaning With 5uper critical C02) ”と表題を付けられたNASA技術論文MFA− 29611(1979年3月)が、金属からのオイル及びカーボンテトラクロラ イドの残留物の除去を論じている。加えて、1977年3月15日発行のマフエ イ(Maffei)の米国特許第4012194号が、衣類に付着した汚れを取 り出すためにチルドリキッド(chilled 1iquid)二酸化炭素を使 用するドライクリーニング装置を説明している。
二酸化炭素のような濃密ガスで繊維をクリーニングするために示唆されるこのよ うな方法は、 “クリープ′な濃密ガスが基質をチャンバ内に送り込まれ“°汚 れた°′濃密ガスが排出されるところでそれらが標準的抽出(extracti on )プロセスを基本としてきたので、実用において限定されるようになって きた。この希釈プロセスは、迅速なプロセスにおいて必要であるクリーニング効 率を厳格に制限する。
クリーニングで二酸化炭素を使用するための試みでの他の問題は、濃密二酸化炭 素の溶剤の力が通常の液体溶剤と比較して高くないことである。よって、この溶 剤の制限を克服するために、試みがあった。
1990年8月23日に発行されたドイツ国特許出願第3904514号は、極 性クリーニング助触媒及び界面活性剤を含む臨界超過流体又は流体混合物が衣服 及び織物のクリーニング又は洗濯に実施され得るところのプロセスを説明してい る。
1990年6月14日に発行のPCT/US 89/ O4674は、温度を変 化させることによって液体状態と臨界超過状態との間で相が次にシフトされると ころの濃密相ガスに汚染基質を接触させることによって2個又はそれ以上の汚染 物を除去するためのプロセスを説明している。相をシフトさせることは、異なる 溶剤を使用する必要性なく、色々の汚染物を除去するといわれる。
しかし、比較的遅いプロセス、制限される溶剤の力、及び再沈澱の問題が、二酸 化炭素クリーニング方法の実用を大きく妨げる。
他の特定的な濃密ガスクリーニングの商業的受容性に対する大きな障害は、繊維 上のポリエステル製ボタン又はポリマー部品のような固体材料が濃密ガス処理か ら取り去られると、それが粉々にされるか又はひどく変形されがちであるという ことである。ボタン又は他の固体に対する表面損傷又はひび割れの問題は、商業 的な使用が消費者の衣服及び電子部品のための二酸化炭素クリーニングを妨害し てきた。
発明の概要 従って、本発明の目的は、濃密二酸化炭素のような環境的に安全な無極性溶剤が 迅速且つ効率的に使用され、ボタンのような固体構成成分の損傷を減少させ性能 を増加させるクリーニング装置を提供することである。
本発明の他の目的は、汚れの減少した再析出、つまり無極性溶剤に溶解可能であ る必要のない活性クリーニング物質の混合に適合可能なりリーニング装置を提供 することである。
本発明のその他の目的は、クリーニング中に基質を保持できるように設計された 回転可能な内部ドラムを利用し、装置内でクリーニング流体を再利用するクリー ニング装置を提供することである。
本発明の1つの態様において、装置が、汚れた基質をクリーニングするために提 供される。この装置は、基質を保持するために適合される回転可能なドラムを含 む密封可能なりリーニング容器と、クリーニング流体貯蔵容器と、使用したクリ ーニング流体を再利用するためのガス蒸発容器とを含む。ドラムは、電気的モー タに磁気的に接続され、クリーニングプロセス中に回転される。
本発明の装置は、特定的に自動化に適し、この装置がマイクロプロセッサによっ て制限される。さらに、自動化が、CO2ガス濃縮及び膨張に関連する加熱及び 冷却の影響が装置の種々の部品を加熱及び冷却するように利用されるときに、エ ネルギー効率を増加させることができる。
図面の簡単な説明 図1は、本発明の装置を示す図式的なフローシートである。
図2は、クリーニング容器の断面図である。
図3は、クリーニングがボタンの損傷を減少させるために好適に実行される斜線 領域内の温度と圧力との条件をグラフに図示する。
好適実施例の開示 クリーニング流体としての濃密二酸化炭素(CO2)のような実質的に無極性流 体を使用することができるクリーニング装置が図1に図式的に示される。装置は 一般に、3個の容器、クリーニング容器lO1好適に回転可能ドラム、ガス蒸発 容器1、及び貯蔵容器12から成り、全部が相互に接続されている。汚れた基質 (例えば、衣服)が受けられクリーニング流体との接触に位置されるところのク リーニング容器はまた、耐圧器として参照される。以下で更に説明されるように 、CO2クリーニング流体の多くがこの装置で再利用される。
CO2が、約300psi及び−18°Cで冷凍タンクに通常貯蔵され及び/又 は移送される。発明装置を002で満たすことにおいて、ポンプ21が適合され 、COzの温度を上昇させる補給加熱器42を通じて冷凍タンク(図示せず)に 接続されるライン92を通じて低圧液体CO2を引き入れる。加熱器は好適に、 細いコイルを有し、コイルを通じて雰囲気が流れ、抵抗電子加熱を利用する。ポ ンプ21は、直結駆動式単一ピストンポンプである。液体co2は、次に、約9 15psi及び25°Cで貯蔵容器12に貯蔵される。貯蔵容器は好適に、ステ ンレス鋼からなる。図1に示すように、在来の温度ゲージ(丸で囲まれた“Tl +で各々図示される)、圧力ゲージ(丸で囲まれたP″で各々図示される)、液 体CO2レベルメータ(丸で囲まれた°“L′で各々図示される)、及び流量メ ータ(丸で囲まれた“F″で各々図示される)が装置で使用される。加えて、在 来のバルブが使用される。
動作において、汚れた基質をクリーニング容器内に位置させた後に、クリーニン グ容器が(貯蔵容器から)約200−300psiの中間圧力へのガス状のCO 2で満たされ、チャンバに対する強烈な熱衝撃波を防止する。ガス状のCO2は 、ライン82及び84を通じてクリーニング容器内へと送られる。その後、液体 CO2が、好適に直結又は水圧/電気駆動式の2重ピストンを有するポンプ20 によってライン80.91.81及び82を通じて貯蔵容器からクリーニング容 器へと送り込まれる。ポンプは、液体CO2の圧力を約900から1500ps  iへと上昇させる。サブ冷却器30が、CO2の温度を沸点よりも2°から3 °低い温度へと下降させ、ポンプのキャビティションを防止する。CO2の温度 は、クリーニング容器内に位置される加熱/冷却コイル95によって調節される 。クリーニングサイクルの前又はその途中で、クリーニング添加剤が、ライン8 2及び83を通じてポンプ23によってクリーニング容器内へと加えられる。更 に、ライン82及び83に通じるポンプ23はまた、以下で説明するように、圧 縮ガスをクリーニング容器内へと運ghめに使用される。
本発明の実施が、液体又は臨界超過の状態である第1の実質的に無極性流体と汚 染物を有する基質の接触を要する。図3を参照すると、第1の流体としてCO2 を使用すると、その温度は、水平軸上に示されるように、約20°Cよりもやや 下方から100°Cのやや上方への広い範囲にあり、圧力は、縦軸上に示される ように、約1000ps iから約5000psiの範囲にある。しかし、この 温度及び圧力の広い範囲内において、ボタンのような構成部分に対する表面損傷 が減少される領域(左側又は凹状側の斜線領域で示される)があり、この領域外 の実施が、非常に重大なボタンの損傷を招いてきた。図3の斜線領域でわかるよ うに、好適な条件は、約20’Cから約45°Cの間の温度で約900ps i から2000ps iの間であり、一層好適な条件は、約20°Cから100’ Cの間の温度で約900psiから1500psiの間であるか、又は約206 Cから37°Cの間の温度で約3500psiから約5000ps iの間であ る。繊維がクリーンにされているところで、約20’Cから100°Cの間の温 度範囲内で好適に行われる。加えて、減圧に先だって温度を上昇させるプロセス がポリマーの部品に対する損傷を減少させることが、この領域内で見つけられた 。
第1の流体として適切な化合物が、図3に示す温度及び圧力の斜線領域内で液体 又は臨界超過の状態のいずれかである。本発明を実施する特定的に好適な第1の 流体は、二酸化炭素であり、これはその利用が迅速にでき環境的に安全であるた めである。二酸化炭素の臨界温度は31°Cであり、臨界温度以上で臨界圧力付 近(又は以上)の濃密(又は圧縮)ガス相は通常、“臨界超過流体″として参照 される。二酸化炭素と同様に臨界超過特性で知られる他の濃密ガスもまた、それ 自身又は混合物によって第1の流体として利用され得る。このようなガスは、メ タン、エタン、プロパン、アンモニウム−ブタン、n−ペンタン(n−pent ane)、n−ヘキサン(n−hexane) 、サイクロヘキサン、n−へブ タン(n−hcptane) 、エチレン、プロピレン、メタノール、エタノー ル、イソプロパツール、ベンゼン、トルエン、p−キシレン、クロロトリフルオ ロメタン、トリクロロフルオロメタン、パーフルオロプロパン(perfluo ropropane) 、タロロダイフルオロメタン、スルフル・ヘキサフルオ ライド(sulfur hexafluoride) N及び亜酸化窒素を含む 。
第1の流体それ自体が実質的に無極性であるが、ここで共通の譲渡人の、発明者 がミツシェル(M 1tchelle)らによる1991年9月4日に出願の係 属中の出願番号第754809号に説明されるように、ハイドロジン・パーオフ サイド(hydrogen peroxide)のソース及び有機漂白活性剤の ような他の成分を含み得る。例えば、ハイドロジン・パーオフサイドのソースは 、ハイドロジン・パーオフサイド又は無機バーオフサイドから選択され、有機漂 白活性剤は、例えば、アルカノイルオキシベンゼン(alkanoyloxyb enzene)のようなカーボニル・エステル(carbonyl ester )である。さらに、第1の流体は、ここで共通の譲渡人の、発明者がミツシェル (M 1tchelle)による1991年6月14日出願の出願番号第715 299号に説明されるように、他の流体(例えば、アルカン、アルコール、アル デヒド等、特にミネラル・オイル又はペトロラタム)のようなりリーニング添加 剤を含んでもよい。
本発明を実施する好適形態において、繊維が、第1の流体に接触される前に、最 初に前処理される。前処理は、はぼ環境圧力及び温度、又は上昇した温度で実行 され得る。例えば、前処理は、繊維を入れることを含むことができ、水、界面活 性剤、有機溶剤、及び酵素のような他の活性クリーニング物質の1個又はそれ以 上でクリーンにされる。驚いたことに、これら前処理成分が(前処理としてとい うよりもむしろ)濃密二酸化炭素のバルク溶液に加えられるのであれば、染みを 除去するプロセスが実際には妨害される。
水が二酸化炭素に非常によく溶けないことから、それが濃密二酸化炭素雰囲気で クリーンにされている基質に付着し、クリーニングプロセスを妨げる。よって、 前処理工程が水を含むと、第1の流体のクリーニングの後の工程が好適であり、 ここで、クリーニング流体がグリセロールのような吸湿性流体に接触され、水を 除去し、そうでなければ繊維に吸収される。
従来技術の二酸化炭素でのクリーニングは典型的に、抽出タイプのプロセスを含 み、ここで、 汚れた“濃密ガスが排水されるが、クリーンな濃密ガスが、基質 を入れるチャンバ内に送り込まれていた。このタイプの連続抽出は、迅速なプロ セスに対する能力を制限し、更に、クリーニングチャンバの圧力が解放されると 、残留した汚れが、基質及びチャンバの壁に再沈澱されるようになる。この問題 は、 (本発明も、所望されるのであれば、連続抽出プロセスとして使用するた めに適合されることができるのであるが、)本発明の方法を実施することによっ て回避される。
クリーンにされている物品が第1の流体に対して露出されている間の時間は、ク リーンにされている基質や汚れの程度などの特徴に従って変化するであろう。し かし、繊維と共に行うと、第1の流体に対する典型的な露出時間は、約1から1 20分、一層好適には約10から60分の間である。加えて、クリーンにされて いる物品は、クリーニング効率を増加させるために、撹拌又は回転され得る。当 然に、電子的構成成分のような繊細なものに対しては、撹拌は勧められ得ない。
本発明に従って、第1の流体は、圧縮空気又は圧縮窒素のような圧縮ガスである 第2の流体に取って代えられる。“圧縮″”は、第2の流体(ガス)が、大気圧 以上の圧力ではないが、第1の流体よりも低密度の条件であることを意味する。
二酸化炭素のような無極性の第1の流体は典型的且つ好適に、窒素又は空気のよ うな無極性の第2の流体に取って代えられる。よって、第1の流体は、基質との 接触から除去され、圧縮ガスである第2の流体に取って代えられる。この除去及 び代替は好適に、第1の流体を移すために第2の流体を使用することにより、以 て第2の流体が、基質と分離した汚染物との間に挿入され、基質上への汚染物の 再沈澱を遅らせる。よって、第2の流体は、浄化ガスとして見られ、好適な圧縮 窒素又は圧縮空気は、濃密二酸化炭素のような濃密された第1の流体よりも一層 ゆっくりと拡散するものと信じられている。より一層遅い拡散速度は、そうでな ければ起こり得る透過するポリマーの材料(例えば、ボタン)に対する損傷を、 回避又は減少させるのに有用であると信じられる。しかし、第1の流体は、漏れ ることによるように、基質との接触から除去され、次いで第2の流体が単に導入 される。この入れ代わりは、本発明を実施するための、より小さい好適な方法で ある。
最も好適に、第2の流体は、第1の流体を追い出すと、温度TIでPlにやや等 しい値に圧縮される。このP1/TIの圧力値は、汚染物が基質から分離すると きのチャンバの圧力及び温度とほぼ同等である。つまり、値P1は好適に、基質 との接触から除去されるときの第1の流体の最終圧力である。よって、圧力が好 適に概ね一定に維持されるが、モル体積は、第1の流体を満たしたチャンバが圧 縮した第2の流体で浄化されるときに顕著に変化される。
基質がクリーンにされる時間は、第1の流体と接触しているときの色々の要因に 従って変化し、また第2の流体と接触するための時間に従って変化するであろう 。一般に、繊維をクリーニングするとき、好適な接触時間は、1から120分の 間の範囲、一層好適には10から60分の範囲である。再び、クリーンにされて いる物品は、それが第2の流体に接触して効率を増加させるが、撹拌又は回転さ れ得る。Pl/Ttの好適な値は、0℃から100℃で約800から5000p  s il一層好適には20℃から60℃で約1oooから2500ps iで ある。
染み及び汚れのある衣類が、CO2と共に働くように設計されたフオーミュラ( 4ormula)を有して前処理される。この前処理は、漂白及び活性剤及び/ 又は合成りリーニング剤を含み得る。
衣類は次にクリーニングチャンバ内に位置される。変形的な方法として、前処理 は、衣類がチャンバ内に位置された後、CO2の付加に先だって、衣類に散布さ れてもよい。
チャンバはCO2で満たされ、適当な圧力及び温度のクリーニング経路を通じて プログラムされる。他のクリーニング剤がこの手順中に加えられてクリーニング を向上させる。次に、クリーニングチャンバのCO2は吸湿性流体との接触に位 置され、繊維からの水の除去を支援する。次に、第2の流体(圧縮ガス)は第1 の流体と同一の圧力及び温度でチャンバ内に送り込まれる。第2の流体は、この 工程で第1の流体を移す。一旦第1の流体がなだし出されると、チャンバは都議 に減圧されクリーンな衣類が取り除かれる。
圧縮がすによって入れ代えられるときにクリーニング容器からのCO2のほとん どを再利用させるために、CO2はクリーニング容器から、内部加熱交換器を組 み込んだ蒸発容器11へと排出される。クリーニング容器は、ポンプ20によっ てライン87.89.91及び88を通じて排出され、これにより、約200p slでガス状のCO2を復元させる。復元圧力中に、クリーニング容器は同時に 加熱され;復元されていないCO2が大気へと排出される。蒸発容器から、CO 2は、フィルタ50におt/)て活性化した木炭鉄と共にガス状のCO2を取り 出し、その後にコンデンサ31によってクリーンなガス状のCO2を濃縮させて 復元したCO2を後でしようするために貯蔵容器入れ戻すことによって、連続的 に元通りにされる。汚れ、水、添加剤、及び他の残留物が、バルブ66を通じて 蒸発容器から周期的に除去される。
図2は、繊維基質(例えば、衣服)を臨界超過Co2でクリーニングするのに特 に適当なりリーニング容器の断面概略図である。クリーニング容器は、ガス状C O2の入口及び出口ポート101及び102を有する外部チャンバ100と、圧 縮ガス(例えば、空気)の入口及び出口ポート103及び104と、液体CO2 の人口及び出口ポート105及び106とから成る。ガス状C02、圧縮ガス、 及び液体CO2は各々別々の入口及び出口ポートを有するが、クリーニング容器 は、各々の流体のための入口及び出口の機能のための1個のボートをそれに代え て有してもよい。チャンバの内部は、2組のローラ111及び1llaによって 支持されるバスケット又はドラム110である。バスケラI・は孔部130を有 し、ガス状及び液体CO2がバスケットに容易に出入りできるようになっている 。羽根部112が、ドラムが回転されると回転作用を創り出す。クリーンにされ る基質が、クリーニング容器が使用されるときにヒンジ扉113によって密閉さ れるチャンバの開口を通じてバスケット内に位置される。コイル114が外部チ ャンバの周囲に沿って位置され、コイル114を通じて冷却剤又は加熱流体が循 環される。バスケット110のドラムは、濃密流体に対して繊維基質の一層大き い表面積を露出させることにおいて利点があり、また、繊維からの汚れの幾つか の機構的区分に対しても寄与し得る。また、チャンバで確立されたインターフェ ース又は密度傾向がある場合、ドラムの回転が繊維を゛サイクルパさせ、繊維か らの汚れの区分をさせることになる。付加的に、濃密ガスは、ドラムの回転によ って繊維から分離されるのに有益である。
バスケットは、好適に電気的なモータ120に磁気的に接続され、バスケットが 回転される。バスケットを駆動するための他の原動手段が可能である。特に、内 部バスケットは、ボールベアリング122に回転的に位置するプラットフォーム 部材121及び駆動ディスク123に取り付けられている。プラットフォーム及 び駆動ディスクは、適当な数で各々の周囲にわたって対称的に配列した磁石12 4によって回転的に接続される。駆動ディスクは、ベルト125及び滑車126 又は他の適当な手段によってモータに接続される。バスケットが磁気的にモータ に接続されると、バスケットは、バスケットに入り込む駆動シャフト又は他の駆 動手段が取り除かれることから、密閉の完全性の損失がなく、外部環境から利点 的に密閉される。よって、磁気的接続を使用することによって、駆動シャフト及 び密閉ガスケット等が除去される。更に、もしバスケットが磁気的に接続される ならば、バスケットは、チャンバから容易に取り外せ、チャンバ内に位置させる ことが利点的にできる。この方法において、バスケットが構成成分ユニットであ り、所望とするならば、異なる洗濯必要条件の繊維の異なるロード(load) が異なるバスケットに一括され、よって、クリーニングの容易のためにチャンバ 内に相次いで個々にロードされる。クリーニング容器は一般に、ステンレス鋼又 はアルミニウムのようなプロセスを実行するために必要な圧力に耐えるに十分な 強さで、使用される濃密ガスと化学的に相性のよい材料から成る。図2に示すク リーニング容器は、図1に示すような装置において耐圧器10として使用される 。
発明が好適な特定的な実施例に関連して上に説明されたが、説明及び例は、図示 を意図とするものであり、発明の範囲を限定するものではなく、発明は、添付の 請求の範囲によって定義される。
FIG、2゜ (lscl) 9012 1−4 B フロントページの続き (72)発明者 ミツシェル、ジェームス・ディーアメリカ合衆国カリフォルニ ア用94507、アラモ、セルバト・サークル1694 (72)発明者 ティラー、アール・グレゴリ−アメリカ合衆国カリフォルニア 用945羽、(72)発明者 カーティ、ダニエル・ティーアメリカ合衆国カリ フォルニア用94526、ダンビル、ティレル・コート50 リバーモア、ウォーソー・ストリート1798(72)発明者 リプトン、トー マス・エムアメリカ合衆国カリフォルニア用94521、コンコルド、プアー・ クリーク4664

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.圧縮ガスで基質をクリーニングするための装置であって、温度変化手段と共 にコンパートメントを画成する密閉可能なクリーニング容器であって、前記温度 変化手段が、動作的にそれに関連し、前記コンパートメント内で温度を調節する ための手段であるところの、クリーニング容器と、 前記基質を受けるために適合される回転可能なドラムであって、前記ドラムが、 前記クリーニング容器のコンパートメントの内部に位置されることができる、回 転ドラムと、前記コンパートメントとの流体連通における貯蔵容器と、前記コン パートメントとの流体連通におけるガス蒸発容器であって、前記貯蔵容器が、第 1の伝導手段による前記ガス蒸発容器との流体連通である、ところのガス蒸発容 器と、前記濃密ガスを追い出すために、前記コンパートメント内に選択した圧力 で圧縮した第2の流体ガスを導入するための手段とから成る、装置。
  2. 2.請求項1記載のクリーニング装置であって、前記貯蔵手段が、第2の伝達手 段によって前記コンパートメントと流体連通であり、前記装置が更に:クリーニ ング添加剤を前記クリーニング容器に注入させるための手段から成る、ところの 装置。
  3. 3.請求項1記載のクリーニング装置であって、前記装置が更に:前記第2の伝 達手段に配置され、前記貯蔵容器からガスをその沸点以下に冷却するための冷却 手段から成る、ところの装置。
  4. 4.請求項1又は3記載のクリーニング装置であって、前記蒸発容器が更に:そ こでガス温度を調節するための手段から成る、ところの装置。
  5. 5.請求項4記載のクリーニング装置であって、前記第1の伝達手段においてガ スから揮発性汚染物を除去するためのフィルタ手段から更に成る、装置。
  6. 6.請求項5記載のクリーニング装置であって、前記装置が更に:前記フィルタ 手段から濾過されるガスを濃縮するためのコンデンサ手段から成る、ところの装 置。
  7. 7.請求項4記載のクリーニング装置であって、前記ドラムが、円筒状であり、 少なくとも2組のローラによって支持され、前記クリーニング容器が更に、前記 ドラムを回転させるための原動手段から成り、前記原動手段が、前記ドラムに磁 気的に接続される駆動を有する、ところの装置。
  8. 8.請求項7記載のクリーニング装置であって、前記原動手段が、前記ドラムを 回転させるモータを含む、ところの装置。
  9. 9.請求項8記載のクリーニング装置であって、前記モータが、電気的である、 ところの装置。
  10. 10.請求項4記載のクリーニング装置であって、前記ドラムが、前記クリーニ ング容器コンパートメントの内部に取り出し可能に位置できる、ところの装置。
JP6503550A 1992-07-13 1993-07-09 液体/臨界超過二酸化炭素ドライクリーニング装置 Pending JPH07508904A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/912,932 US5267455A (en) 1992-07-13 1992-07-13 Liquid/supercritical carbon dioxide dry cleaning system
US912,932 1992-07-13
PCT/US1993/006509 WO1994001613A1 (en) 1992-07-13 1993-07-09 Liquid/supercritical carbon dioxide dry cleaning system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07508904A true JPH07508904A (ja) 1995-10-05

Family

ID=25432714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6503550A Pending JPH07508904A (ja) 1992-07-13 1993-07-09 液体/臨界超過二酸化炭素ドライクリーニング装置

Country Status (10)

Country Link
US (2) US5267455A (ja)
EP (1) EP0651831B1 (ja)
JP (1) JPH07508904A (ja)
KR (1) KR950702708A (ja)
AU (1) AU666037B2 (ja)
BR (1) BR9306717A (ja)
CA (1) CA2139950A1 (ja)
DE (1) DE69329619T2 (ja)
ES (1) ES2151513T3 (ja)
WO (1) WO1994001613A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015509753A (ja) * 2012-01-17 2015-04-02 シーオーツー ネクサス インコーポレイテッド バリア高密度化流体クリーニングシステム

Families Citing this family (148)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5431843A (en) * 1991-09-04 1995-07-11 The Clorox Company Cleaning through perhydrolysis conducted in dense fluid medium
US6799587B2 (en) * 1992-06-30 2004-10-05 Southwest Research Institute Apparatus for contaminant removal using natural convection flow and changes in solubility concentrations by temperature
US5571122A (en) 1992-11-09 1996-11-05 Endovascular Instruments, Inc. Unitary removal of plaque
US5514220A (en) * 1992-12-09 1996-05-07 Wetmore; Paula M. Pressure pulse cleaning
US5400621A (en) * 1993-04-14 1995-03-28 Smejda; Richard K. Flexible machinery for the continuous processing of any axially centered masses; materials and sheeting in textiles, paper, plastics, metals; and combinations
US5377705A (en) * 1993-09-16 1995-01-03 Autoclave Engineers, Inc. Precision cleaning system
US5467492A (en) * 1994-04-29 1995-11-21 Hughes Aircraft Company Dry-cleaning of garments using liquid carbon dioxide under agitation as cleaning medium
US5655313A (en) * 1994-05-31 1997-08-12 Hope; Stephen F. Apparatus for fluidized, vacuum drying and gas treatment for powdered, granular, or flaked material
EP0711864B1 (en) * 1994-11-08 2001-06-13 Raytheon Company Dry-cleaning of garments using gas-jet agitation
EP0791093B1 (en) * 1994-11-09 2001-04-11 R.R. STREET & CO., INC. Method and system for rejuvenating pressurized fluid solvents used in cleaning substrates
EP0726099B1 (en) * 1995-01-26 2000-10-18 Texas Instruments Incorporated Method of removing surface contamination
US6148644A (en) 1995-03-06 2000-11-21 Lever Brothers Company, Division Of Conopco, Inc. Dry cleaning system using densified carbon dioxide and a surfactant adjunct
DE19509573C2 (de) * 1995-03-16 1998-07-16 Linde Ag Reinigung mit flüssigem Kohlendioxid
US5783082A (en) * 1995-11-03 1998-07-21 University Of North Carolina Cleaning process using carbon dioxide as a solvent and employing molecularly engineered surfactants
US5690703A (en) * 1996-03-15 1997-11-25 Valence Technology, Inc Apparatus and method of preparing electrochemical cells
US5669251A (en) * 1996-07-30 1997-09-23 Hughes Aircraft Company Liquid carbon dioxide dry cleaning system having a hydraulically powered basket
US6051421A (en) * 1996-09-09 2000-04-18 Air Liquide America Corporation Continuous processing apparatus and method for cleaning articles with liquified compressed gaseous solvents
US5881577A (en) * 1996-09-09 1999-03-16 Air Liquide America Corporation Pressure-swing absorption based cleaning methods and systems
WO1998013149A1 (fr) * 1996-09-25 1998-04-02 Shuzurifuresher Kaihatsukyodokumiai Systeme de lavage utilisant un gaz liquefie de haute densite
US5908510A (en) * 1996-10-16 1999-06-01 International Business Machines Corporation Residue removal by supercritical fluids
US5784905A (en) * 1996-12-03 1998-07-28 Hughes Electronics Liquid carbon dioxide cleaning system employing a static dissipating fluid
US6312528B1 (en) 1997-03-06 2001-11-06 Cri Recycling Service, Inc. Removal of contaminants from materials
US5822818A (en) * 1997-04-15 1998-10-20 Hughes Electronics Solvent resupply method for use with a carbon dioxide cleaning system
US6306564B1 (en) 1997-05-27 2001-10-23 Tokyo Electron Limited Removal of resist or residue from semiconductors using supercritical carbon dioxide
US6125667A (en) * 1997-05-27 2000-10-03 Tecminomet S.A. Psynchrometric apparatus and method for continuous air replacement/degassing of continuous multilayered fibers with a condensable gas
TW539918B (en) 1997-05-27 2003-07-01 Tokyo Electron Ltd Removal of photoresist and photoresist residue from semiconductors using supercritical carbon dioxide process
US6500605B1 (en) 1997-05-27 2002-12-31 Tokyo Electron Limited Removal of photoresist and residue from substrate using supercritical carbon dioxide process
US5789505A (en) * 1997-08-14 1998-08-04 Air Products And Chemicals, Inc. Surfactants for use in liquid/supercritical CO2
US6218353B1 (en) 1997-08-27 2001-04-17 Micell Technologies, Inc. Solid particulate propellant systems and aerosol containers employing the same
US6200352B1 (en) 1997-08-27 2001-03-13 Micell Technologies, Inc. Dry cleaning methods and compositions
US5858022A (en) * 1997-08-27 1999-01-12 Micell Technologies, Inc. Dry cleaning methods and compositions
US5970554A (en) * 1997-09-09 1999-10-26 Snap-Tite Technologies, Inc. Apparatus and method for controlling the use of carbon dioxide in dry cleaning clothes
US6294194B1 (en) 1997-10-14 2001-09-25 Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. Method for extraction and reaction using supercritical fluids
US6442980B2 (en) * 1997-11-26 2002-09-03 Chart Inc. Carbon dioxide dry cleaning system
US5904737A (en) * 1997-11-26 1999-05-18 Mve, Inc. Carbon dioxide dry cleaning system
US6216302B1 (en) * 1997-11-26 2001-04-17 Mve, Inc. Carbon dioxide dry cleaning system
FR2771661B1 (fr) * 1997-11-28 2000-02-25 Incam Solutions Procede et dispositif de nettoyage par voie des fluides supercritiques d'objets en matiere plastique de formes complexes
US6012307A (en) * 1997-12-24 2000-01-11 Ratheon Commercial Laundry Llc Dry-cleaning machine with controlled agitation
US6129451A (en) * 1998-01-12 2000-10-10 Snap-Tite Technologies, Inc. Liquid carbon dioxide cleaning system and method
EP1073530A1 (en) * 1998-02-27 2001-02-07 CRI Recycling Service, Inc. Removal of contaminants from materials
TW426775B (en) * 1998-03-16 2001-03-21 Ind Tech Res Inst Method of fibers scouring
US6098430A (en) * 1998-03-24 2000-08-08 Micell Technologies, Inc. Cleaning apparatus
US6120613A (en) * 1998-04-30 2000-09-19 Micell Technologies, Inc. Carbon dioxide cleaning and separation systems
US6506259B1 (en) 1998-04-30 2003-01-14 Micell Technologies, Inc. Carbon dioxide cleaning and separation systems
US5977045A (en) * 1998-05-06 1999-11-02 Lever Brothers Company Dry cleaning system using densified carbon dioxide and a surfactant adjunct
US5943721A (en) * 1998-05-12 1999-08-31 American Dryer Corporation Liquified gas dry cleaning system
US6048369A (en) * 1998-06-03 2000-04-11 North Carolina State University Method of dyeing hydrophobic textile fibers with colorant materials in supercritical fluid carbon dioxide
US6050112A (en) * 1998-06-15 2000-04-18 Alliance Laundry Systems Llc Apparatus and method for detecting a liquid level in a sealed storage vessel
US5996155A (en) * 1998-07-24 1999-12-07 Raytheon Company Process for cleaning, disinfecting, and sterilizing materials using the combination of dense phase gas and ultraviolet radiation
US6849614B1 (en) * 1998-07-28 2005-02-01 Ecosmart Technologies, Inc. Synergistic and residual pesticidal compositions containing plant essential oils
US6073292A (en) 1998-09-28 2000-06-13 Aga Ab Fluid based cleaning method and system
US6277753B1 (en) 1998-09-28 2001-08-21 Supercritical Systems Inc. Removal of CMP residue from semiconductors using supercritical carbon dioxide process
US6098306A (en) * 1998-10-27 2000-08-08 Cri Recycling Services, Inc. Cleaning apparatus with electromagnetic drying
US6351973B1 (en) 1999-02-04 2002-03-05 Micell Technologies, Inc. Internal motor drive liquid carbon dioxide agitation system
US6260390B1 (en) * 1999-03-10 2001-07-17 Sail Star Limited Dry cleaning process using rotating basket agitation
US6212916B1 (en) 1999-03-10 2001-04-10 Sail Star Limited Dry cleaning process and system using jet agitation
SE9901002D0 (sv) * 1999-03-19 1999-03-19 Electrolux Ab Anordning för rengöring av textilföremål med en förtätad vätskeformig behandlingsgas
SE9901403D0 (sv) * 1999-04-20 1999-04-20 Electrolux Ab Anordning för rengöring av textilföremål med en förtätad vätskeformig behandlingsgas
US6558622B1 (en) 1999-05-04 2003-05-06 Steris Corporation Sub-critical fluid cleaning and antimicrobial decontamination system and process
DE19922195A1 (de) 1999-05-12 2000-11-16 Linde Tech Gase Gmbh Reinigungsvorrichtung
US7044143B2 (en) * 1999-05-14 2006-05-16 Micell Technologies, Inc. Detergent injection systems and methods for carbon dioxide microelectronic substrate processing systems
US6148645A (en) * 1999-05-14 2000-11-21 Micell Technologies, Inc. Detergent injection systems for carbon dioxide cleaning apparatus
US6349947B1 (en) 1999-06-23 2002-02-26 Mve, Inc. High pressure chamber door seal with leak detection system
CA2380004A1 (en) * 1999-07-20 2001-01-25 Micell Technologies, Inc. Pre-treatment methods and compositions for carbon dioxide dry cleaning
US6612317B2 (en) * 2000-04-18 2003-09-02 S.C. Fluids, Inc Supercritical fluid delivery and recovery system for semiconductor wafer processing
DE19942282A1 (de) * 1999-09-04 2001-03-15 Messer Griesheim Gmbh Verfahren zur Reinigung von Substratoberflächen
US6397421B1 (en) * 1999-09-24 2002-06-04 Micell Technologies Methods and apparatus for conserving vapor and collecting liquid carbon dioxide for carbon dioxide dry cleaning
US6314601B1 (en) 1999-09-24 2001-11-13 Mcclain James B. System for the control of a carbon dioxide cleaning apparatus
US6309425B1 (en) * 1999-10-12 2001-10-30 Unilever Home & Personal Care, Usa, Division Of Conopco, Inc. Cleaning composition and method for using the same
US6748960B1 (en) 1999-11-02 2004-06-15 Tokyo Electron Limited Apparatus for supercritical processing of multiple workpieces
WO2001033615A2 (en) 1999-11-02 2001-05-10 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for supercritical processing of multiple workpieces
US6776801B2 (en) 1999-12-16 2004-08-17 Sail Star Inc. Dry cleaning method and apparatus
US6261326B1 (en) 2000-01-13 2001-07-17 North Carolina State University Method for introducing dyes and other chemicals into a textile treatment system
US6248136B1 (en) 2000-02-03 2001-06-19 Micell Technologies, Inc. Methods for carbon dioxide dry cleaning with integrated distribution
US20040025908A1 (en) * 2000-04-18 2004-02-12 Stephen Douglas Supercritical fluid delivery system for semiconductor wafer processing
AU2001255656A1 (en) * 2000-04-25 2001-11-07 Tokyo Electron Limited Method of depositing metal film and metal deposition cluster tool including supercritical drying/cleaning module
US6493964B1 (en) * 2000-05-25 2002-12-17 Tousimis Research Corp. Supercritical point drying apparatus for semiconductor device manufacturing and bio-medical sample processing
US6691536B2 (en) * 2000-06-05 2004-02-17 The Procter & Gamble Company Washing apparatus
SE516623C2 (sv) 2000-06-15 2002-02-05 Electrolux Ab Säkerhetsanordning vid en tvättmaskinslucka
AU2001290171A1 (en) 2000-07-26 2002-02-05 Tokyo Electron Limited High pressure processing chamber for semiconductor substrate
AU2002211546A1 (en) * 2000-10-13 2002-04-22 Micell Technologies, Inc. Device and process for dry-cleaning process using carbon dioxide and a divided pressure vessel
US6676710B2 (en) 2000-10-18 2004-01-13 North Carolina State University Process for treating textile substrates
FR2815559B1 (fr) * 2000-10-20 2002-11-29 Commissariat Energie Atomique Procede, dispositif et installation de nettoyage de pieces contaminees, par un fluide dense sous presssion
AU2001214756A1 (en) * 2000-11-08 2002-05-21 Micell Technologies, Inc. Carbon dioxide cleaning apparatus with rotating basket and external drive
SE522656C2 (sv) * 2000-11-24 2004-02-24 Electrolux Ab Indikeringsanordning vid en tvättmaskin
US6536059B2 (en) 2001-01-12 2003-03-25 Micell Technologies, Inc. Pumpless carbon dioxide dry cleaning system
US20030087774A1 (en) * 2001-07-26 2003-05-08 Smith Leslie C. Fragrance compositions for the CO2 washing process
CN1331562C (zh) * 2001-10-17 2007-08-15 普莱克斯技术有限公司 中心二氧化碳纯化器
TW497494U (en) * 2001-12-28 2002-08-01 Metal Ind Redearch & Amp Dev C Fluid driven stirring device for compressing gas cleaning system
CN1741863A (zh) * 2002-01-07 2006-03-01 普莱克斯技术有限公司 清洁物体的方法
AU2003215238A1 (en) * 2002-02-15 2003-09-09 Supercritical Systems Inc. Pressure enchanced diaphragm valve
US7001468B1 (en) 2002-02-15 2006-02-21 Tokyo Electron Limited Pressure energized pressure vessel opening and closing device and method of providing therefor
US6764552B1 (en) 2002-04-18 2004-07-20 Novellus Systems, Inc. Supercritical solutions for cleaning photoresist and post-etch residue from low-k materials
DK1516083T3 (da) * 2002-06-24 2008-08-04 Croda Int Plc Fremgangsmåde til rensning af tekstiler
US6960242B2 (en) * 2002-10-02 2005-11-01 The Boc Group, Inc. CO2 recovery process for supercritical extraction
US6722642B1 (en) 2002-11-06 2004-04-20 Tokyo Electron Limited High pressure compatible vacuum chuck for semiconductor wafer including lift mechanism
US6880560B2 (en) 2002-11-18 2005-04-19 Techsonic Substrate processing apparatus for processing substrates using dense phase gas and sonic waves
US20040112409A1 (en) * 2002-12-16 2004-06-17 Supercritical Sysems, Inc. Fluoride in supercritical fluid for photoresist and residue removal
US7021635B2 (en) * 2003-02-06 2006-04-04 Tokyo Electron Limited Vacuum chuck utilizing sintered material and method of providing thereof
US20040154647A1 (en) * 2003-02-07 2004-08-12 Supercritical Systems, Inc. Method and apparatus of utilizing a coating for enhanced holding of a semiconductor substrate during high pressure processing
US7225820B2 (en) * 2003-02-10 2007-06-05 Tokyo Electron Limited High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer
US7077917B2 (en) 2003-02-10 2006-07-18 Tokyo Electric Limited High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer
EP1462185A1 (en) * 2003-03-25 2004-09-29 Linde Aktiengesellschaft Detergent injection system
EP1459812A1 (en) * 2003-03-21 2004-09-22 Linde Aktiengesellschaft Parts cleaning
WO2004082858A1 (en) * 2003-03-21 2004-09-30 Linde Aktiengesellschaft Parts cleaning
US6938439B2 (en) * 2003-05-22 2005-09-06 Cool Clean Technologies, Inc. System for use of land fills and recyclable materials
US20050035514A1 (en) * 2003-08-11 2005-02-17 Supercritical Systems, Inc. Vacuum chuck apparatus and method for holding a wafer during high pressure processing
US20050034660A1 (en) * 2003-08-11 2005-02-17 Supercritical Systems, Inc. Alignment means for chamber closure to reduce wear on surfaces
CN100425525C (zh) * 2003-11-18 2008-10-15 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 纳米超流体
JP2007511357A (ja) * 2003-11-19 2007-05-10 エスセーエフ テクノロジーズ アクティーゼルスカブ 高密度流体プロセスの温度、圧力、密度を制御する方法とプロセス
US7186093B2 (en) * 2004-10-05 2007-03-06 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for cooling motor bearings of a high pressure pump
US20050183208A1 (en) * 2004-02-20 2005-08-25 The Procter & Gamble Company Dual mode laundry apparatus and method using the same
US7250374B2 (en) 2004-06-30 2007-07-31 Tokyo Electron Limited System and method for processing a substrate using supercritical carbon dioxide processing
US7307019B2 (en) 2004-09-29 2007-12-11 Tokyo Electron Limited Method for supercritical carbon dioxide processing of fluoro-carbon films
US20060065288A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Darko Babic Supercritical fluid processing system having a coating on internal members and a method of using
US7491036B2 (en) 2004-11-12 2009-02-17 Tokyo Electron Limited Method and system for cooling a pump
US20060130966A1 (en) * 2004-12-20 2006-06-22 Darko Babic Method and system for flowing a supercritical fluid in a high pressure processing system
US7434590B2 (en) 2004-12-22 2008-10-14 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for clamping a substrate in a high pressure processing system
US20060134332A1 (en) * 2004-12-22 2006-06-22 Darko Babic Precompressed coating of internal members in a supercritical fluid processing system
US7140393B2 (en) 2004-12-22 2006-11-28 Tokyo Electron Limited Non-contact shuttle valve for flow diversion in high pressure systems
US20060135047A1 (en) * 2004-12-22 2006-06-22 Alexei Sheydayi Method and apparatus for clamping a substrate in a high pressure processing system
NL1028037C2 (nl) * 2005-01-14 2006-07-17 Stork Prints Bv Inrichting voor het stuksgewijs of partij-gewijs onder hoge druk behandelen van stukken van een substraat met een superkritisch of nabij-kritisch behandelingsmedium.
US7435447B2 (en) 2005-02-15 2008-10-14 Tokyo Electron Limited Method and system for determining flow conditions in a high pressure processing system
US7291565B2 (en) 2005-02-15 2007-11-06 Tokyo Electron Limited Method and system for treating a substrate with a high pressure fluid using fluorosilicic acid
US7380984B2 (en) 2005-03-28 2008-06-03 Tokyo Electron Limited Process flow thermocouple
US7767145B2 (en) 2005-03-28 2010-08-03 Toyko Electron Limited High pressure fourier transform infrared cell
US7494107B2 (en) 2005-03-30 2009-02-24 Supercritical Systems, Inc. Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels
US7789971B2 (en) 2005-05-13 2010-09-07 Tokyo Electron Limited Treatment of substrate using functionalizing agent in supercritical carbon dioxide
US7524383B2 (en) 2005-05-25 2009-04-28 Tokyo Electron Limited Method and system for passivating a processing chamber
EP1747822A1 (en) * 2005-07-28 2007-01-31 Linde Aktiengesellschaft Cooling / heating system for CO2 cleaning machine
JP4519037B2 (ja) * 2005-08-31 2010-08-04 東京エレクトロン株式会社 加熱装置及び塗布、現像装置
CN102021803B (zh) * 2009-09-11 2014-04-23 海尔集团公司 洗衣系统以及洗衣方法
ES2491665T3 (es) 2010-01-05 2014-09-08 Co2Nexus Inc. Sistema y método para lavar artículos utilizando una solución limpiadora densificada y el uso de un dispositivo de desplazamiento de fluido en el mismo
US20130167558A1 (en) * 2010-05-28 2013-07-04 Electrolux Laundry Systems Sweden Ab Cooling device and method therefore for co2 washing machines
CN102345968B (zh) * 2010-07-30 2013-07-31 中国科学院微电子研究所 基于超临界二氧化碳微乳液干燥的装置及方法
US8153575B1 (en) 2011-03-07 2012-04-10 Empire Technology Development Llc Immobilized enzyme compositions for densified carbon dioxide dry cleaning
ITBO20120418A1 (it) * 2012-07-31 2014-02-01 F M B Fabbrica Macchine Bologna S P A Macchina e metodo per la pulizia di tessuti o similari.
US9908062B2 (en) 2012-11-20 2018-03-06 Andrew Paul Joseph Extraction apparatus and method
WO2014081881A2 (en) 2012-11-20 2014-05-30 Andrew Paul Joseph Fluid-based extractor
TWI564448B (zh) 2015-02-25 2017-01-01 財團法人紡織產業綜合研究所 染色單元及染色裝置
WO2018069778A1 (es) * 2016-09-20 2018-04-19 Universidad Industrial De Santander Sistema de recirculación de dióxido de carbono supercrítico que usa un dispositivo integrado de licuado y almacenamiento del fluido
EP3631072B1 (en) 2017-05-31 2022-09-07 Lafer S.p.A. Device to remove fluids, and washing apparatus comprising said device
WO2018224124A1 (en) 2017-06-05 2018-12-13 Lafer S.P.A. Process and apparatus for washing fabrics
US10589322B2 (en) * 2017-12-05 2020-03-17 Eric Carl Ritter Device for laminar flow fluid extraction
TR201903227A2 (tr) * 2019-03-04 2019-04-22 Brazzoli Srl Kumaş boyama maki̇nalarinda kule gövdesi̇ i̇çeri̇si̇nde dönen tambura kuvveti̇ i̇leti̇mi̇nde yeni̇li̇k
EP3730199A1 (en) * 2019-04-25 2020-10-28 Folium Biosciences Europe B.V. System and method for removal of gaseous contaminants from liquid or supercritical carbon dioxide
KR102562191B1 (ko) * 2021-01-25 2023-08-01 엘지전자 주식회사 의류처리장치
KR102594903B1 (ko) * 2021-01-25 2023-10-27 엘지전자 주식회사 의류처리장치 및 그 제어방법

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1493190C3 (de) * 1963-04-16 1980-10-16 Studiengesellschaft Kohle Mbh, 4330 Muelheim Verfahren zur Trennung von Stoffgemischen
DE2027003A1 (en) * 1970-06-02 1971-12-09 F.W. Means & Co., Chicago, 111. (V.StA.) Dry cleaning using petroleum mineral oil - as cleaning medium
US4012194A (en) * 1971-10-04 1977-03-15 Maffei Raymond L Extraction and cleaning processes
US4219333A (en) * 1978-07-03 1980-08-26 Harris Robert D Carbonated cleaning solution
US4308200A (en) * 1980-07-10 1981-12-29 Champion International Corporation Extraction of coniferous woods with fluid carbon dioxide and other supercritical fluids
US4820537A (en) * 1987-03-13 1989-04-11 General Foods Corporation Method for decaffeinating coffee with a supercritical fluid
DE68925469T2 (de) * 1988-11-30 1996-05-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Verfahren zum Zurückgewinnen des Lösungsmittels aus einem Apparat zum Trockenreinigen
US5013366A (en) * 1988-12-07 1991-05-07 Hughes Aircraft Company Cleaning process using phase shifting of dense phase gases
DE4004111C2 (de) * 1989-02-15 1999-08-19 Deutsches Textilforschzentrum Verfahren zur Vorbehandlung von textilen Flächengebilden oder Garnen
DE3904513A1 (de) * 1989-02-15 1990-08-16 Oeffentliche Pruefstelle Und T Verfahren zum desinfizieren und/oder sterilisieren
DE3904514C2 (de) * 1989-02-15 1999-03-11 Oeffentliche Pruefstelle Und T Verfahren zum Reinigen bzw. Waschen von Bekleidungsteilen o. dgl.
DE3906724C2 (de) * 1989-03-03 1998-03-12 Deutsches Textilforschzentrum Verfahren zum Färben von textilen Substraten
DE3906735C2 (de) * 1989-03-03 1999-04-15 Deutsches Textilforschzentrum Verfahren zum Bleichen
US5279615A (en) * 1991-06-14 1994-01-18 The Clorox Company Method and composition using densified carbon dioxide and cleaning adjunct to clean fabrics
US5431843A (en) * 1991-09-04 1995-07-11 The Clorox Company Cleaning through perhydrolysis conducted in dense fluid medium

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015509753A (ja) * 2012-01-17 2015-04-02 シーオーツー ネクサス インコーポレイテッド バリア高密度化流体クリーニングシステム
US9752273B2 (en) 2012-01-17 2017-09-05 Co2Nexus, Inc. Barrier densified fluid cleaning system

Also Published As

Publication number Publication date
EP0651831A4 (en) 1995-11-02
ES2151513T3 (es) 2001-01-01
CA2139950A1 (en) 1994-01-20
EP0651831A1 (en) 1995-05-10
US5412958A (en) 1995-05-09
WO1994001613A1 (en) 1994-01-20
BR9306717A (pt) 1998-12-08
DE69329619T2 (de) 2001-03-08
AU4672593A (en) 1994-01-31
KR950702708A (ko) 1995-07-29
EP0651831B1 (en) 2000-11-02
US5267455A (en) 1993-12-07
DE69329619D1 (de) 2000-12-07
AU666037B2 (en) 1996-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07508904A (ja) 液体/臨界超過二酸化炭素ドライクリーニング装置
US5370742A (en) Liquid/supercritical cleaning with decreased polymer damage
US5467492A (en) Dry-cleaning of garments using liquid carbon dioxide under agitation as cleaning medium
US5925192A (en) Dry-cleaning of garments using gas-jet agitation
US6736859B2 (en) Cleaning system utilizing an organic cleaning solvent and a pressurized fluid solvent
USRE41115E1 (en) Cleaning system utilizing an organic cleaning solvent and a pressurized fluid solvent
US6412312B1 (en) Cleaning apparatus
AU2003231689A1 (en) Liquid carbon dioxide cleaning utilising natural and modified natural solvents
KR20010053477A (ko) 천연 및 개질된 천연 용제를 이용한 액체 이산화탄소 세정법
Wang et al. Scouring and dyeing of polyester fibers in supercritical carbon dioxide
JP2004515560A5 (ja)
AU8021700B2 (ja)