JPH0750053Y2 - リフロー炉 - Google Patents

リフロー炉

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JPH0750053Y2
JPH0750053Y2 JP1991002658U JP265891U JPH0750053Y2 JP H0750053 Y2 JPH0750053 Y2 JP H0750053Y2 JP 1991002658 U JP1991002658 U JP 1991002658U JP 265891 U JP265891 U JP 265891U JP H0750053 Y2 JPH0750053 Y2 JP H0750053Y2
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JP
Japan
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target component
reflector
infrared
heat
infrared rays
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JP1991002658U
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Inventor
満 松田
Original Assignee
株式会社精工舎
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、赤外線を用いてはんだ
付けする場合に用いられるリフロー炉に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種のものとして、遠赤外線を
用いてはんだ付けされる物、即ち対象部品の全体を加熱
して熱を対象部品全体に一様に分布させてリフローする
もの、または近赤外線ヒータ、例えばハロゲンランプか
ら発した近赤外線を、集光用の凹面反射板例えば双曲
面反射板によって集光し、集光焦点位置で対象部品のは
んだ付けされる位置を局所的に加熱してリフローするも
のがある。このように遠赤外線を用いたものは、熱が対
象部品全体に一様に分布して安定するので、複数個所に
はんだ付けする個所がある場合にはすべてが均一にリフ
ローされるので、品質の向上に有利である。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】ところが、対象部品の
中に樹脂などの融点が低い物質が混在していると、全体
加熱によって熱に弱い部分が溶けてしまうなどの問題が
ある。また、近赤外線を用いたものでは、例えば対象部
品としてハイブリッドリードフレーム等、熱伝導効率が
高い金属が用いられる場合に、熱の拡散が大きくなり、
リフローに必要な所定の熱を得るために高エネルギーが
必要となる。また、エネルギーの絶対値が増大すると、
熱のばらつきが大きくなり、ひいては品質のばらつきと
なる等の問題がある。
【0004】そこで本考案の目的は、対象部品の局所加
熱に加えて、集光した赤外線のうち反射焦点からそれて
対象部品を通過した赤外線を利用して、その近傍の範囲
に限られた全体加熱を加味し、エネルギーのロスを少な
くし、熱のばらつきを少なくして熱分布の安定化を図
り、品質の向上を達成し、簡単でかつ自由な熱分布を達
成することのできるリフロー炉を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本考案のリフロー炉の
徴は、凹面反射板と反射板とを具備するものであって、
上記凹面反射板は、内部に赤外線ヒータを設け、上記赤
外線ヒータから発する赤外線を反射させその下方に上記
赤外線の反射焦点を形成し、上記反射焦点に位置する対
象部品に上記赤外線を照射させる集光用のものであり、
また、上記反射板は、上記対象部品の下部に設けてあ
り、集光した上記赤外線のうち上記反射焦点からそれて
上記対象部品を通過した部分を再び上方に反射させて上
記対象部品の上記反射焦点近傍をその下方から照射させ
るところにある。
【0006】
【作用】対象部品を挾んで凹面反射板と対向する位置に
配設した反射板は、集光焦点からそれて対象部品を通過
した赤外線再び上方に反射し、対象部品の裏面に照射
して焦点の近傍の対象部品を上下両面から同時に加熱す
る。
【0007】
【実施例】図1に示す、本考案の一実施例において、
外線ヒータ1として、ハロゲンランプ等の近赤外線ライ
ンヒータを用い、これを集光用の凹面反射板である双曲
面反射板2の内部に設置してある。近赤外線光として
は、波長0.5〜3.5μmのものを用いる。ハロゲン
ランプ1から発した近赤外線Lは、双曲面反射板2で反
射し、下方の所定の位置にある反射焦点Oに集光する。
対象部品3上のはんだ付けする位置は、この反射焦点O
に一致するようにセットしてあり、近赤外線Lの照射に
よってはんだをリフローするのに十分に局所加熱する
【0008】はんだ付けされる対象部品3は、支持体8
上の搬送装置4によって紙面に対して垂直方向に搬送さ
れる。搬送装置4の構成は、対象部品3の両端部を受け
る無端のベルト5が、図示しない回転手段によって回転
駆動されるもので、このベルト5の回転によって対象部
品3を移動させる。さらに、ベルト5に囲まれた空間内
に磁石6が設けてあり、この磁石6の磁気的吸引力によ
って、対象部品3が磁性材で作られている場合に、対象
部品3をベルト5に吸着してその位置が保持される。
【0009】対象部品3の下部、つまりこの対象部品を
挾んで双曲面反射板2と対向する位置に反射板7が配設
してある。そのため、集光した近赤外線Lのうち反射
点Oからそれて対象部品3を通過した近赤外線Lは、
の反射板で再び上方に向けて反射され、対象部品3の裏
面を照射してこの反射焦点の近傍を下方から照射して
体加熱する。
【0010】この構造によって、対象部品3の反射焦点
Oがリフローに十分な熱に局所加熱されるばかりでな
く、その近傍も反射光により全体加熱されるので、熱の
拡散の大きい金属などの対象部品の場合でも、熱の拡散
が反射光による熱によって補われ、エネルギーロスのな
いリフローが可能となる。
【0011】反射板7の材質や、対象部品3と反射板7
との距離や、反射効率などを調節することによって、自
由な熱分布を容易に作ることができる。
【0012】なお、搬送装置、凹面反射板等の形状は本
実施例に限らない。また赤外線ヒータは近赤外線ライン
ヒータに限らない
【0013】
【考案の効果】以上の構成を有する本考案のリフロー炉
は、凹面反射板の内部に設けてある赤外線ヒータにより
対象部品は上方から赤外線が照射され、さらに反射板を
設けたので、反射焦点からそれて対象部品を通過した
外線をこの反射板で再び反射し、対象部品の裏面を照射
して焦点の近傍を下方から加熱する、即ち対象部品の上
と下との両方から同時に加熱することができる。したが
って、対象部品の焦点がリフローに十分な熱に局所加熱
されるばかりでなく、その焦点近傍も反射光により全体
加熱されるので、熱の拡散の大きい金属などの対象部品
の場合でも、熱の拡散を反射光による熱によって補うこ
とができ、エネルギーロスを少なくすることができる。
従って従来より少ないエネルギーでリフローでき、エネ
ルギーを節約でき、また、熱のばらつきが少なく熱分布
が安定化するので、品質の向上を達成できる。対象部品
の中に樹脂などの融点が低い物質が混在していても、全
体加熱は反射焦点の近傍に限られているので、熱に弱い
部分が溶けてしまうなどの問題も生じない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 赤外線ヒータ(ハロゲンランプ) 2 凹面反射板(双曲面反射板) 3 対象部品 7 反射板 L 赤外線(近赤外線)反射焦点

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部に赤外線ヒータを設け、上記赤外線
    ヒータから発する赤外線を反射させその下方に上記赤外
    線の反射焦点を形成し、上記反射焦点に位置する対象部
    品に上記赤外線を照射させる集光用の凹面反射板と、上記対象部品の下部に設けてあり、集光した上記赤外線
    のうち上記反射焦点からそれて上記対象部品を通過した
    部分を再び上方に 反射させて上記対象部品の上記反射焦
    点近傍をその下方から照射させる反射板とを具備するこ
    とを特徴とするリフロー炉。
JP1991002658U 1991-01-30 1991-01-30 リフロー炉 Expired - Fee Related JPH0750053Y2 (ja)

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JPH0498363U JPH0498363U (ja) 1992-08-25
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4160893A (en) * 1977-12-29 1979-07-10 International Business Machines Corporation Individual chip joining machine
JPH0641713Y2 (ja) * 1985-12-28 1994-11-02 パイオニア株式会社 光ビ−ムを用いた加熱加工装置
JPH0335482Y2 (ja) * 1987-09-28 1991-07-26

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