JPH0750039A - 光磁気記録媒体の欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 不良媒体を高精度で判定することにより、光
磁気記録媒体の寿命信頼性を向上させる。 【構成】 第１の光ヘッド３及び第２の光ヘッド４が、
装着された光ディスク１の両面側でレーザビームを走査
する。そして、第１の欠陥検出部５へ入力された再生信
号に基づいて欠陥を検出し、その位置を求めて第１のデ
ータメモリ７へ格納する。同時に第２の欠陥検出部６へ
入力された再生信号に基づいて欠陥を検出し、その位置
を求めて第２のデータメモリ８へ格納される。これら位
置の情報は照合部９で照合され、両面で位置が一致する
欠陥の数を検出する。このような欠陥の所定数を越える
磁気記録媒体を不良品として除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、寿命信頼性が高い光磁
気記録媒体を選別するための欠陥検査方法及びその実施
に使用する欠陥検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録媒体には繰り返して書替えが
可能なものがあり、初期品質の向上及び長寿命が望まれ
ている。光磁気記録媒体の初期品質については、一般的
には記録再生特性、特にエラー品質を評価基準として検
査を行いこれを保証する。この検査方法は、光磁気記録
媒体のプリフォーマット領域に記録されたアドレス情報
のような所定パターンの信号を再生して、再生データの
記録データに対する誤り率（エラー率）を求める。そし
てこのエラー率が一定値よりも低い媒体に対して品質を
保証する。また、セクタ当たりのエラー数を計測し、こ
の値が許容値を上回り使用不可と判定される交替セクタ
の数が一定値よりも低い媒体に対して品質を保証する場
合もある。

【０００３】さらに初期品質の他の検査方法として、デ
ータが記録されていないトラックの再生信号レベルを計
測することにより欠陥を検出する方法がある。光磁気記
録媒体のトラック面に物理的な凹凸が形成されている場
合又は異物が付着している場合は、再生信号のレベルが
変動する。これにより、再生信号が一定レベル範囲を外
れたとき、この位置に欠陥が存在すると判断でき、欠陥
の大きさ，欠陥の数等を計測する。この結果、欠陥の大
きさ，欠陥の数等が所定の基準値を越えるものを不良媒
体として判別し、これを除去することにより出荷された
光磁気記録媒体の不良媒体率を低減し、媒体を母集団と
した統計的な初期品質を向上させている。

【０００４】一方、媒体の寿命管理については一般的に
は加速寿命試験が行われ、使用条件における寿命を統計
的に推定している。光磁気記録媒体の劣化は腐食によっ
て生じ、腐食速度は温度，湿度等の条件により加速され
ることは周知である。そこで加速寿命試験は、まず光磁
気記録媒体を高温多湿雰囲気に暴露し、上述のエラー
率，交替セクタ数等の経時変化を計測して個々の媒体寿
命を求める。そして、アレニウスモデル式又はアイリン
グモデル式に前記媒体寿命を代入し、残存率，信頼水準
を加味して使用条件における媒体寿命を予測する。アレ
ニウスモデル式及びアイリングモデル式は、短期間の寿
命試験データに基づいて寿命を推定する計算式である。
このような加速寿命試験は、媒体を母集団とした統計的
な寿命特性を得るのに有効な方法である。

【０００５】また、特開平３−203829号公報に、以下の
ような個々の媒体の寿命検知の方法が提案されている。
データの記録再生を行うユーザ領域を除く光記録媒体の
部分に寿命検知領域が設定されており、ユーザ領域に記
録される信号よりも小さなピッチピットで、光記録媒体
の寿命を検知するための基準情報が記録されている。こ
の光記録媒体を使用する都度、寿命検知領域に記録され
た情報を読出して、その信号の振幅を計測する。この振
幅の劣化判定から、記録された情報が正常に読出せなく
なるまでの寿命を検知する。以上の検査方法及び寿命検
知の方法では、何れも、再生の際に媒体の基板側から光
ビームを透過させ、記録膜で合焦させるようにしてい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前述の加速寿命試験で
は、寿命を短縮させる要因を有する媒体が混在したとき
に寿命のばらつきが大きくなり、媒体を母集団とする統
計的な寿命を短縮させる。寿命を短縮させる要因を有す
る媒体の判定は、前述の初期品質の検査方法にあるよう
に、再生信号のエラー率，検出された欠陥の大きさ，欠
陥数等を検出して行われ、これらが所定の基準値を越え
るものを不良媒体であると判定し除去している。この不
良媒体の判定の精度が充分でない場合に、寿命信頼性が
低下する。実際に、加速寿命試験を行い媒体の寿命を算
出すると、信頼幅を有する保証寿命の方が平均寿命より
も極めて小さい場合が多い。このように、従来の媒体欠
陥検査では、統計的な保証寿命に充分な精度が得られ
ず、また、光磁気記録媒体の個々の寿命のばらつきが大
きいという問題があった。

【０００７】また、前述の光記録媒体の寿命検知方法
は、全面が均一に劣化するような追記型媒体には有効で
あるが、光磁気記録媒体においては局部劣化を生じるた
めに、ユーザ領域内で発生した局部欠陥が与える寿命へ
の影響は加味することができず、光磁気記録媒体の寿命
信頼性が低いという問題があった。

【０００８】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、片面に記録膜を有する光磁気記録媒体の両面
から光ビームを照射して、腐食が進行し易い欠陥を検出
することにより、不良媒体を高精度で判定し、光磁気記
録媒体の寿命信頼性を向上させる光磁気記録媒体の欠陥
検査方法及び欠陥検査装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】第１発明に係る光磁気記
録媒体の欠陥検査方法は、記録膜を基板の一面に有する
光磁気記録媒体を回転せしめ、光ヘッドにより光ビーム
を記録膜に走査して、その反射光の強度及び走査の位置
を検出する光磁気記録媒体の欠陥検査方法において、光
磁気記録媒体の一面からビーム光を合焦させる第１の光
ヘッド及び他面から合焦させる第２の光ヘッドを同時に
走査する過程と、夫々の反射光の強度変化に基づいて欠
陥及びその位置を検出する過程と、両面から検出された
欠陥の位置とを照合する過程とを有することを特徴とす
る。

【００１０】第２発明に係る光磁気記録媒体の欠陥検査
方法は、記録膜を基板の一面に有する光磁気記録媒体を
回転せしめ、光ヘッドにより光ビームを記録膜に走査し
て、その反射光の強度及び走査の位置を検出する光磁気
記録媒体の欠陥検査方法において、光磁気記録媒体の一
面からビーム光を合焦させる第１の光ヘッドを走査する
過程と、その反射光の強度変化に基づいて欠陥及びその
位置を検出する過程と、検出された欠陥の位置を第１の
記憶部に格納する過程と、他面からビーム光を合焦させ
る第２の光ヘッドを走査する過程と、その反射光の強度
変化に基づいて欠陥及びその位置を検出する過程と、検
出された欠陥の位置を第２の記憶部に格納する過程と、
第１及び第２の記憶部に格納された欠陥の位置を照合す
る過程とを有することを特徴とする。

【００１１】第３発明に係る光磁気記録媒体の欠陥検査
装置は、記録膜を基板の一面に有する光磁気記録媒体を
回転せしめ、光ヘッドにより光ビームを記録膜に走査し
て、その反射光の強度及び走査の位置を検出する光磁気
記録媒体の欠陥検査装置において、光磁気記録媒体を回
転せしめる回転機構並びに光磁気記録媒体の一面からビ
ーム光を合焦させる第１の光ヘッド及び他面から合焦さ
せる第２の光ヘッドを備える光ヘッド装置と、夫々の光
ビームの反射光の強度変化に基づいて欠陥及びその位置
を検出する第１及び第２の欠陥検出部と、夫々で検出さ
れた欠陥の位置を照合する照合部とを備えることを特徴
とする。

【００１２】第４発明に係る光磁気記録媒体の欠陥検査
装置は、記録膜を基板の一面に有する光磁気記録媒体を
回転せしめ、光ヘッドにより光ビームを記録膜に走査し
て、その反射光の強度及び走査の位置を検出する光磁気
記録媒体の欠陥検査装置において、光磁気記録媒体を回
転せしめる第１の回転機構及び光磁気記録媒体の一面か
らビーム光を合焦させる第１の光ヘッドを備える第１の
光ヘッド装置と、第２の回転機構及び他面からビーム光
を合焦させる第２の光ヘッドを備える第２の光ヘッド装
置と、第１の光ヘッドからの光ビームの反射光の強度変
化に基づいて欠陥及びその位置を検出する第１の欠陥検
出部と、該欠陥の位置を格納する第１の記憶部と、第２
の光ヘッドからの光ビームの反射光の強度変化に基づい
て欠陥及びその位置を検出する第２の欠陥検出部と、該
欠陥の位置を格納する第２の記憶部と、第１及び第２の
記憶部に格納された欠陥の位置を照合する照合部とを備
えることを特徴とする。

【００１３】第５発明に係る光磁気記録媒体の欠陥検査
装置は、第３又は第４発明において、第１及び第２の光
ヘッドは同一焦点距離を有する対物レンズを備え、第１
又は第２の光ヘッドに、記録膜に光ビームを合焦させる
べき透明カバーを取り付けてなることを特徴とする。

【００１４】

【作用】第１発明及び第３発明の光磁気記録媒体の欠陥
検査方法及び欠陥検査装置では、第１及び第２の光ヘッ
ドにより、光磁気記録媒体の両面に同時に光ビームを走
査して夫々の信号の再生を行い、再生信号の強度変化に
基づいて第１及び第２の欠陥検出部夫々で欠陥及びその
位置を検出する。そして、光磁気記録媒体の両面夫々か
ら検出された欠陥の位置を照合部にて照合し、両面で一
致する位置に生じた欠陥の数を求める。この欠陥は腐食
が進行し易い欠陥であり、光磁気記録媒体の寿命を縮小
させる。このような欠陥の数が所定数を越える媒体を不
良媒体として除去することにより、光磁気記録媒体の寿
命信頼性を向上させる。

【００１５】第２発明の光磁気記録媒体の欠陥検査方法
では、第１の光ヘッドにより、光磁気記録媒体の一面か
ら光ビームを走査して信号の再生を行い、検出された欠
陥の位置を第１の記憶部に格納する。その後、第２の光
ヘッドにより、光磁気記録媒体の他面から光ビームを走
査して信号の再生を行い、検出された欠陥の位置を第２
の記憶部に格納する。そして、第１及び第２の記憶部に
格納された夫々の欠陥の位置を照合部にて照合し、両面
で一致する位置に生じた欠陥の数を求めることにより、
腐食進行型の欠陥の数を検出することができる。

【００１６】第４発明の光磁気記録媒体の欠陥検査装置
では、第１の回転機構及び第１の光ヘッドを有する第１
の光ヘッド装置と、第２の回転機構及び第２の光ヘッド
を有する第２の光ヘッド装置とを備え、光磁気記録媒体
の一面及び他面からの欠陥検出を第１及び第２の欠陥検
出部にて夫々行い、照合部にて位置が一致する欠陥の数
を検出している。これにより、１つの光ヘッドを備えた
通常の装置を用いて腐食進行型の欠陥の数を検出するこ
とができる。

【００１７】第５発明の光磁気記録媒体の欠陥検査装置
では、光ビームが基板側から記録膜に合焦するような焦
点距離を有する対物レンズが、第１及び第２の光ヘッド
に用いられている場合に、記録膜側から走査する光ヘッ
ドに透明カバーを取り付けることにより、光磁気記録媒
体の一面側から及び他面側から記録膜までの光路長の相
違分を補償し、記録膜側から走査した光ビームを記録膜
に合焦させる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明をその実施例を示す図面に基づ
き具体的に説明する。図１は本発明の欠陥検査装置の構
成を示すブロック図である。図中１は、 3.5インチの光
ディスクであり、基板１４及び記録膜１９を有してい
る。図２は、光ディスクの構造を示す断面図である。ガ
ラス，ポリカーボネイト樹脂又はアクリル樹脂からなる
透明の基板１４上に透明の誘電体層１５、信号を記録す
る記録層１６、透明の誘電体層１７及び金属からなる反
射層１８が積層されている。誘電体層１５，１７、記録
層１６及び反射層１８で記録膜１９が構成されている。
光ディスク１は同心円状に形成されたトラックを有し、
トラックは複数のセクタに分割されている。各セクタ
は、予めアドレス情報が記録されたプリフォーマット領
域と、ユーザによりデータが記録されるアドオン領域と
を有している。

【００１９】図１に示すように、光ディスク１は、モー
タ２の駆動により回転軸を回転せしめ、後述する第１及
び第２の光ヘッド３，４の走査を行う光ヘッド装置２３
に装着されている。光ディスク１の一面側及び他面側に
は第１の光ヘッド３及び第２の光ヘッド４が夫々配設さ
れている。第１の光ヘッド３には従来から用いられてい
る対物レンズが装着されており、この対物レンズにより
レーザビームは集束し、基板１４側から記録層に合焦す
る。そして、第２の光ヘッド４には、従来とは異なる焦
点距離を有する対物レンズが装着されており、この対物
レンズによりレーザビームは集束し、記録膜１９側から
記録層に合焦するようになっている。

【００２０】このような光ヘッド装置２３にて光ディス
ク１にデータを記録する際には、第１の光ヘッド３が基
板１４側から所定強度のレーザビームを照射し、記録膜
１９に焦点を合わす。また、記録されたデータを再生す
る際には、第１の光ヘッド３が基板１４側から記録のと
きよりも低い強度のレーザビームを照射し、記録膜１９
に焦点を合わすようになっている。

【００２１】そして、第１の光ヘッド３の走査により読
出した信号は、第１の欠陥検出部５へ入力される。第１
の欠陥検出部５では入力された信号に基づいて欠陥を検
出し、この欠陥が存在する光ディスク１上の位置を求め
る。求められた位置の情報は第１のデータメモリ７へ格
納され、この情報は第１のデータメモリ７から照合部９
へ入力される。

【００２２】一方、第２の光ヘッド４の走査により読出
した信号は第２の欠陥検出部６へ入力される。第２の欠
陥検出部６では、入力された信号により欠陥を検出し、
欠陥が存在する位置の情報を第２のデータメモリ８へ格
納する。格納された位置の情報は、照合部９へ入力され
る。そして、照合部９では第１のデータメモリ７及び第
２のデータメモリ８から入力された位置の情報を比較
し、一致する位置の情報を出力するようになっている。

【００２３】以上の如き構成の欠陥検査装置を用いて欠
陥を検査する方法を図３に従い説明する。図３は、本発
明の欠陥を検査する実施手順を示す説明図である。ま
ず、第１の光ヘッド３及び第２の光ヘッド４が、光ディ
スク１の基板１４側及び記録膜１９側で所定のセクタを
シークして、夫々等しい一定速度でレーザビームを走査
する（ステップＳ１１，ステップＳ１２）。

【００２４】そして、第１の欠陥検出部５では、第１の
光ヘッド３から入力された再生信号に基づいて欠陥を検
出し、その位置を求める（ステップＳ１３）。同時に第
２の欠陥検出部６では、第２の光ヘッド４から入力され
た再生信号に基づいて欠陥を検出し、その位置を求める
（ステップＳ１４）。欠陥及びその位置の検出は、例え
ば以下のように行う。まず、光ディスク１のセクターマ
ークを再生し、この再生信号の振幅の50％をスライスレ
ベルとする。そして、前記再生信号がスライスレベル以
上の振幅変化を生じ、その部分が１データビット以上の
長さである場合に、これを欠陥部分であると判定する。
なお、スライスレベルは、光ディスク又は対象とする欠
陥によって異ならせる。そして、検出された欠陥の位置
の情報は、光ヘッド３を走査してからのＣＰＵのクロッ
ク信号を数えることにより求められる。

【００２５】このように、第１の欠陥検出部５にて検出
された欠陥の位置の情報は、第１のデータメモリ７へ格
納され（ステップＳ１５）、照合部９に与えられる。ま
た、第２の欠陥検出部６にて検出された欠陥の位置の情
報は、第２のデータメモリ８へ格納され（ステップＳ１
６）、照合部９に与えられる。そして、照合部９ではこ
れらの位置の情報が照合され、一致する位置の情報を出
力する（ステップＳ１７）。

【００２６】

【表１】

【００２７】このような欠陥検出方法により欠陥を検出
した結果を表１に示す。 3.5インチのディスク状の光デ
ィスクの10枚について、両面の同位置に生じている欠陥
数が示されている。表１から、このような欠陥は光ディ
スクにより数にばらつきがあることが判る。この検出結
果により、欠陥数が50個以上の光ディスク（ケース
１）, 欠陥数が11〜49個の光ディスク（ケース２）及び
欠陥数が０〜10個の光ディスク（ケース３）の夫々10枚
を選別する。

【００２８】これらの光ディスクを80℃, 90％ＲＨ（相
対湿度）に暴露して加速劣化試験を行い、 500時間, 10
00時間及び2000時間後に、欠陥の形状を光学顕微鏡で観
察すると共に、エラー率の変化及びバッドセクタ数の変
化を求めた。欠陥の形状の観察は、光ディスクの両面の
同位置に生じた欠陥である両面一致欠陥、基板側だけに
生じた欠陥及び記録膜側だけに生じた欠陥について行っ
た。この結果、両面一致欠陥には腐食部分の拡大が見ら
れるが、基板側のみ及び記録膜のみに生じた欠陥には腐
食部分の拡大は見られなかった。

【００２９】図４は、両面一致欠陥の形状を基板側から
観察した模式図であり、図４(a) は試験前の形状を示
し、図４(b) は試験 500時間後での形状を示し、図４
(c) は試験1000時間後の形状を示している。図中１３は
透明な基板及び誘電体層を通して見える記録層であり、
基板側から観察した欠陥の形状は試験前は小さく、時間
と共に拡大し、 500時間後には中心部分の核１０が大き
く形成されている。核１０の周囲には光を透過する透明
な部分１１が形成され、その外側には反射層が見える部
分１２が形成されている。このように形成された核１
０，透明な部分１１及び反射層が見える部分１２には信
号が記録されず、エラーとなる。また、予め記録された
信号は消去され、エラー訂正処理限界を越えた場合には
その部分のデータは再生不可能となる。

【００３０】図５は、欠陥の形状を記録膜側から観察し
た模式図であり、図５(d) は試験前の形状を示し、図５
(e) は試験 500時間後の形状を示し、図５(f) は試験10
00時間後の形状を示している。記録膜側から観察した欠
陥の形状は、試験前の欠陥は基板側から観察した欠陥
（図４(a) ）よりも大きいが、時間の経過による拡大は
基板側から観察した欠陥にように顕著ではなかった。以
上の結果から、両面一致欠陥は腐食を促進させる傾向に
あり、例え欠陥の大きさが基板側のみ又は記録膜側のみ
に存在する欠陥よりも小さくあっても、時間と共に大き
く拡大されることが判る。

【００３１】

【表２】

【００３２】表２はエラー率の変化及びバッドセクタ数
の変化を示しており、図６は表２に示したエラー率の変
化のグラフである。ケース１を“○−○”で表し、ケー
ス２を“△−△”で表し、ケース３を“□−□”で表し
ている。エラー率の測定はアーカイバル測定を行った。
アーカイバル測定とは、試験前に記録したデータを試験
中に経時的に読み取り、エラーになるデータをカウント
してエラー率を測定する方法である。また、バッドセク
タ数とは、記録データの確認チェックの際にエラー訂正
不能となり交換処理を施したセクタ数であり、試験対象
の各10枚での最大値を示している。国際規格のISO10090
（ 3.5インチ）の光ディスクでは、バッドセクタ数が10
24セクタに達する時点までが寿命であると規定されてい
る。

【００３３】表２及び図６から明らかなように、初期の
エラー測定では差がない光ディスクでも、劣化の進行程
度には大差があり、両面一致欠陥を多く有する光ディス
クほどエラー率及びバッドセクタ数が大きく増加してい
ることが判る。両面一致欠陥の数が50個以上である光デ
ィスクは、試験時間1000時間で、寿命であるエラー率が
10^-4を越している。この光ディスクについて別に行った
加速寿命試験での加速係数をこのエラー率に当てはめる
と、30℃でのこの光ディスクの寿命は、信頼度97.5％，
信頼水準95％でおよそ８年となった。これに対して、両
面一致欠陥の数が10個以下である光ディスク及び11〜49
個である光ディスクでは、エラー率は2000時間で10^-4に
到っていない。特に両面一致欠陥の数が10個以下である
光ディスクはエラー率及びバッドセクタ数の増加率が低
く、充分に寿命が長いと言える。

【００３４】このように、従来では見逃していたよう
な、形状寸法は小さいけれども腐食進行型である欠陥を
多く有する光ディスクを検出し除去することにより、媒
体の寿命信頼性を向上させる。

【００３５】なお、上述の実施例では、第１の光ヘッド
３の対物レンズには、従来と同一の焦点距離を有するレ
ンズ、即ち光ディスク１の基板１４側から記録層１６に
レーザビームを合焦させるようなレンズを用いており、
第２の光ヘッド４の対物レンズには、光ディスク１の反
射層１８側から記録層１６にレーザビームを合焦させる
ような焦点距離を有するレンズを用いているが、これに
限るものではない。例えば、第２の光ヘッドに第１の光
ヘッドと同一種類の対物レンズを装着し、基板と光学的
に厚みが等しいガラス又は基板の材質と同じポリカーボ
ネート等からなる透明カバーを取り付けて、反射層１８
側から記録層１６にレーザビームを合焦させるようにし
ても良い。これにより、従来から使用されていた対物レ
ンズを用いることができる。

【００３６】次に、本発明の第２実施例を示す図面に基
づき具体的に説明する。図７は本発明の欠陥検査装置の
構成を示すブロック図である。モータ２の駆動により回
転軸を回転せしめ、第１の光ヘッド３の走査を行う第１
の光ヘッド装置と、モータ２２の駆動により回転軸を回
転せしめ、第２の光ヘッド２１の走査を行う第２の光ヘ
ッド装置２５とが配設されており、 3.5インチの光ディ
スク１は、第１の光ヘッド２が光ディスク１の基板１４
側に配設されるように第１の光ヘッド装置２４に装着さ
れる。第１の光ヘッド３には従来から用いられている対
物レンズが装着されており、この対物レンズによりレー
ザビームは集束し、基板１４側から記録層に合焦するよ
うになっている。このレーザビームの反射光が受光さ
れ、再生信号の強度変化に基づいて第１の欠陥検出部５
が欠陥を検出する。

【００３７】また光ディスク１は、第２の光ヘッド２１
が光ディスク１の記録膜１９側に配設されるように第２
の光ヘッド装置２５に装着される。第２の光ヘッド２１
には従来から用いられている対物レンズが装着されてお
り、対物レンズに基板１４と光学的に等しい厚さのガラ
ス又はポリカーボネートからなる透明カバー２０を取り
付けてある。この対物レンズによりレーザビームが集束
し、記録膜１９側から記録層に合焦するようになってい
る。このレーザビームの反射光が受光され、再生信号の
強度変化に基づいて第２の欠陥検出部６が欠陥を検出す
る。これ以外は上述の実施例の装置と同様であり、同部
分には同符号を付してこの説明を省略する。

【００３８】以上の如き構成の欠陥検査装置を用いて欠
陥を検査する方法を図８に従い説明する。図８は、本発
明の欠陥を検査する実施手順を示した説明図である。ま
ず、光ディスク１を第１の光ヘッド装置２４に装着し、
第１の光ヘッド３が光ディスク１の基板１４側で所定の
セクタをシークし、一定速度でレーザビームを走査する
（ステップＳ２１）。そして、第１の欠陥検出部５に入
力された再生信号に基づいて欠陥を検出し、その位置の
情報を求める（ステップＳ２２）。そして、求めた位置
の情報が第１のデータメモリ７へ格納される（ステップ
Ｓ２３）。

【００３９】次に、光ディスク１を第２の光ヘッド装置
２５に装着し、第２の光ヘッド２１が光ディスク１の記
録膜１９側で所定のセクタをシークし、一定速度でレー
ザビームを走査する（ステップＳ２４）。そして、第２
の欠陥検出部６に入力された再生信号に基づいて欠陥を
検出し、その位置の情報を求める（ステップＳ２５）。
そして、求めた位置の情報が第２のデータメモリ８へ格
納される（ステップＳ２６）。ステップＳ２３にて格納
された位置の情報と、ステップＳ２６にて格納された位
置の情報が照合部９に与えられ、照合して一致する位置
の情報を出力する（ステップＳ２７）。なお、欠陥及び
その位置の検出は、実施例１と同様に行う。

【００４０】以上の如き方法により、光ヘッドを１つ備
えた通常の光磁気装置を用いて、両面で位置の情報が一
致する欠陥を検出し、媒体の寿命信頼性を向上できる。

【００４１】なお、第１実施例では、両面一致欠陥の個
数が10個以下の光ディスクを長寿命媒体としたが、記録
層の構成, 材料及び厚み等により結果数値は異なり、長
寿命のめやすとなる欠陥の個数はこれに限るものではな
い。

【００４２】また、第２実施例では、第１の光ヘッド装
置２４と第２の光ヘッド装置２５の２つの光ヘッド装置
を用いているが、これに限るものではなく、１つの光ヘ
ッド装置の光ヘッドの透明カバーを脱着することによ
り、光磁気記録媒体の欠陥を基板側と記録膜側とから夫
々検出するようにしても良い。このとき、夫々の位置の
情報を格納するデータメモリは２つ備える。

【００４３】また、本実施例では単板状態の光磁気記録
媒体について検査を行う場合について説明しているが、
両面貼り合わせの媒体の場合は、貼り合わせる以前の単
板状態で検査することにより、不良媒体の選別を行うこ
とができる。

【００４４】

【発明の効果】以上のように、本発明においては、光磁
気記録媒体の両面から光ビームを走査して信号の再生を
行い、再生信号の強度変化に基いて検出した欠陥のう
ち、両面で位置が一致する腐食進行型の欠陥を検出する
ので、このような欠陥を多く有する光磁気記録媒体を選
別し除去することにより、光磁気記録媒体の寿命信頼性
が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の欠陥検査装置の構成を示すブロック図
である。

【図２】光ディスクの構造を示す断面図である。

【図３】本発明の欠陥を検査する実施手順を示す説明図
である。

【図４】両面一致欠陥の形状を基板側から観察した模式
図である。

【図５】欠陥の形状を記録膜側から観察した模式図であ
る。

【図６】エラー率の変化のグラフである。

【図７】本発明の第２実施例の欠陥検査装置の構成を示
すブロック図である。

【図８】本発明の第２実施例の欠陥を検査する実施手順
を示した説明図である。

【符号の説明】

１ 光ディスク ３ 第１の光ヘッド ４，２１ 第２の光ヘッド ５ 第１の欠陥検出部 ６ 第２の欠陥検出部 ７ 第１のデータメモリ ８ 第２のデータメモリ ９ 照合部 １４ 基板 １６ 記録層 １９ 記録膜 ２０ 透明カバー ２４，２５ 光ヘッド装置

【手続補正書】

【提出日】平成５年１２月２０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】

【実施例】以下、本発明をその実施例を示す図面に基づ
き具体的に説明する。図１は本発明の欠陥検査装置の構
成を示すブロック図である。図中１は、 3.5インチの光
ディスクであり、基板１４及び記録膜１９を有してい
る。図２は、光ディスクの構造を示す断面図である。ガ
ラス，ポリカーボネイト樹脂又はアクリル樹脂からなる
透明の基板１４上に透明の誘電体層１５、信号を記録す
る記録層１６、透明の誘電体層１７及び金属からなる反
射層１８が積層されている。誘電体層１５，１７、記録
層１６及び反射層１８で記録膜１９が構成されている。
光ディスク１はらせん状（スパイラル状）に形成された
トラックを有し、トラックは複数のセクタに分割されて
いる。各セクタは、予めアドレス情報が記録されたプリ
フォーマット領域と、ユーザによりデータが記録される
アドオン領域とを有している。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３０】図５は、欠陥の形状を記録膜側から観察し
た模式図であり、図５(d) は試験前の形状を示し、図５
(e) は試験 500時間後の形状を示し、図５(f) は試験10
00時間後の形状を示している。記録膜側から観察した欠
陥の形状は、試験前の欠陥は基板側から観察した欠陥
（図４(a) ）よりも大きいが、時間の経過による拡大は
基板側から観察した欠陥のように顕著ではなかった。以
上の結果から、両面一致欠陥は腐食を促進させる傾向に
あり、例え欠陥の大きさが基板側のみ又は記録膜側のみ
に存在する欠陥よりも小さくあっても、時間と共に大き
く拡大されることが判る。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 データが記録される記録膜を基板の一面
   に有する光磁気記録媒体を回転せしめ、光ヘッドにより
   光ビームを前記記録膜に走査し反射光を受光して、反射
   光の強度及び前記走査の位置を測定し、測定結果から欠
   陥及びその位置を検出する光磁気記録媒体の欠陥検査方
   法において、 第１の光ヘッドにより前記光磁気記録媒体の一面側から
   前記記録膜に光ビームを合焦させて走査すると共に、第
   ２の光ヘッドにより前記光磁気記録媒体の他面側から前
   記記録膜に光ビームを合焦させて走査する過程と、夫々
   の光ビームの反射光の強度変化に基づいて欠陥及びその
   位置を夫々検出する過程と、前記一面側から検出された
   欠陥の位置と他面側から検出された欠陥の位置とを照合
   する過程とを有することを特徴とする光磁気記録媒体の
   欠陥検査方法。
2. 【請求項２】 データが記録される記録膜を基板の一面
   に有する光磁気記録媒体を回転せしめ、光ヘッドにより
   光ビームを前記記録膜に走査し反射光を受光して、反射
   光の強度及び前記走査の位置を測定し、測定結果から欠
   陥及びその位置を検出する光磁気記録媒体の欠陥検査方
   法において、 欠陥が存在する位置を記憶する第１の記憶部及び第２の
   記憶部を設けておき、第１の光ヘッドにより前記光磁気
   記録媒体の一面側から前記記録膜に光ビームを合焦させ
   走査する過程と、第１の光ヘッドからの光ビームの反射
   光の強度変化に基づいて欠陥及びその位置を検出する過
   程と、検出された欠陥の位置を第１の記憶部に格納する
   過程と、第２の光ヘッドにより前記光磁気記録媒体の他
   面側から前記記録膜に光ビームを合焦させ走査する過程
   と、第２の光ヘッドからの光ビームの反射光の強度変化
   に基づいて欠陥及びその位置を検出する過程と、検出さ
   れた欠陥の位置を第２の記憶部に格納する過程と、第１
   の記憶部及び第２の記憶部に格納された欠陥の位置を照
   合する過程とを有することを特徴とする光磁気記録媒体
   の欠陥検査方法。
3. 【請求項３】 データが記録される記録膜を基板の一面
   に有する光磁気記録媒体を回転せしめ、光ヘッドにより
   光ビームを前記記録膜に走査し反射光を受光して、反射
   光の強度及び前記走査の位置を測定し、測定結果から欠
   陥及びその位置を検出する光磁気記録媒体の欠陥検査装
   置において、 前記光磁気記録媒体を回転せしめる回転機構並びに前記
   光磁気記録媒体の一面側から記録膜に光ビームを合焦さ
   せる第１の光ヘッド及び他面側から光ビームを合焦させ
   る第２の光ヘッドを備える光ヘッド装置と、夫々の光ビ
   ームの反射光の強度変化に基づいて欠陥及びその位置を
   夫々検出する第１及び第２の欠陥検出部と、該第１及び
   第２の欠陥検出部で検出された欠陥の位置を照合する照
   合部とを備えることを特徴とする光磁気記録媒体の欠陥
   検査装置。
4. 【請求項４】 データが記録される記録膜を基板の一面
   に有する光磁気記録媒体を回転せしめ、光ヘッドにより
   光ビームを前記記録膜に走査し反射光を受光して、反射
   光の強度及び前記走査の位置を測定し、測定結果から欠
   陥及びその位置を検出する光磁気記録媒体の欠陥検査装
   置において、 前記光磁気記録媒体を回転せしめる第１の回転機構及び
   前記光磁気記録媒体の一面側から記録膜に光ビームを合
   焦させる第１の光ヘッドを備える第１の光ヘッド装置
   と、前記光磁気記録媒体を回転せしめる第２の回転機構
   及び他面側から前記記録膜に光ビームを合焦させる第２
   の光ヘッドを備える第２の光ヘッド装置と、第１の光ヘ
   ッドからの光ビームの反射光の強度変化に基づいて欠陥
   及びその位置を検出する第１の欠陥検出部と、該欠陥の
   位置を記憶する第１の記憶部と、第２の光ヘッドからの
   光ビームの反射光の強度変化に基づいて欠陥及びその位
   置を検出する第２の欠陥検出部と、該欠陥の位置を記憶
   する第２の記憶部と、第１及び第２の記憶部に格納され
   た欠陥の位置を照合する照合部とを備えることを特徴と
   する光磁気記録媒体の欠陥検査装置。
5. 【請求項５】 第１及び第２の光ヘッドは同一焦点距離
   を有する対物レンズを備え、前記第１又は第２の光ヘッ
   ドに、前記記録膜に光ビームを合焦させるべき透明カバ
   ーを取り付けてなる請求項３又は４記載の光磁気記録媒
   体の欠陥検査装置。