JPH074673A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 加熱調理の繰返しによりヒータ反射板の表面
に酸化被膜が形成されてその反射率が低下するにして
も、被調理物を適切に加熱調理する。 【構成】 制御装置は、累積調理時間を読取り（ステッ
プＳ1 ）、その累積調理時間よりヒータ反射板の反射率
を呼出すと共に（ステップＳ2 ）、反射率より補正係数
を算出する（ステップＳ3 ）。続いて、制御装置は、補
正係数より補正調理時間を算出してから（ステップＳ4
）、加熱調理を実行すると共に（ステップＳ5 ）、累
積調理時間を加算する（ステップＳ6 ）。従って、加熱
調理回数の累積に応じて１回の加熱調理時間を補正する
ので、被調理物に対する加熱量を一定とすることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ヒータからの放射熱を
加熱室内に収納された被調理物に反射する金属製のヒー
タ反射板を備えた加熱調理器に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、グリル機能付きの電子レンジに
おいては、調理室の上面にヒータからの放射熱を下方に
反射する金属製のヒータ反射板を設けるようにしてい
る。従って、ヒータから上方に発せられた放射熱はヒー
タ反射板により反射されて被調理物に与えられるので、
ヒータからの放射熱を効率よく被調理物に与えることが
できる。この場合、１回の加熱調理時にヒータからの発
熱量は、ヒータの通電時間或いはヒータの通電量により
決定される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ヒータ反射
板は、反射面が高反射率となるように設計されているも
のの、ヒータからの放射熱を強く受けると反射面の表面
温度が上昇するので、反射面に酸化膜が形成されて反射
率が低下するという経時変化特性を有する。このため、
上記従来例のように、設定された発熱量でヒータに通電
する構成では、加熱調理回数の繰返しによってヒータ反
射板の反射率が低下してしまって、ヒータからの発熱量
が不足気味となり、被調理物を適切に加熱調理できなく
なるという欠点がある。

【０００４】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、ヒータからの放射熱を金属製のヒータ
反射板により反射することにより加熱室内に収納された
被調理物を加熱調理するものにおいて、加熱調理の繰返
し回数の増大にかかわらず被調理物を適切に加熱調理す
ることができる加熱調理器を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、ヒータからの
放射熱を加熱室内に収納された被調理物に反射する金属
製のヒータ反射板と、１回の加熱調理時に前記ヒータか
らの発熱量を設定する制御装置とを備えた加熱調理器に
おいて、前記ヒータの発熱量を累積記憶する使用実績記
憶手段を設けると共に、前記制御装置を、前記使用実績
記憶手段による累積値が大となる程１回の加熱調理時に
おける前記ヒータからの発熱量が大きくなるように補正
する構成としたものである。

【０００６】この場合、制御装置を、ヒータへの通電時
間の調整により発熱量を補正する構成としてもよい。ま
た、制御装置を、ヒータへの通電量の調整により発熱量
を補正する構成としてもよい。

【０００７】

【作用】請求項１記載の加熱調理器によれば、ヒータへ
の通電により加熱調理を実行すると、ヒータからの放射
熱の一部はヒータ反射板で反射されて被調理物に放射さ
れる。このとき、ヒータ反射板は、ヒータからの熱を受
けて温度が上昇してその反射面に酸化膜が形成されるの
で、加熱調理回数の繰返しによって反射率が低下する。

【０００８】ここで、使用実績記憶手段は、ヒータから
の発熱量を累積して記憶しているので、加熱調理回数が
多くなる程累積値は大きくなる。そして、制御装置は、
加熱調理を実行するときは、使用実績記憶手段に記憶さ
れた累積値が大となる程１回の加熱調理時にヒータから
の発熱量が大きくなるように補正する。この結果、金属
製のヒータ反射板の表面反射率が酸化膜の形成により低
下するにしても、その影響を回避して被調理物を適切に
加熱調理できる。

【０００９】請求項２記載の加熱調理器の場合、制御装
置は、ヒータへの通電時間の調整により発熱量を補正す
るので、発熱量を増大するときは通電時間を増大する。

【００１０】請求項３記載の加熱調理器の場合、制御装
置は、ヒータへの通電量の調整により発熱量を補正する
ので、発熱量を増大するときは通電量を増大する。

【００１１】

【実施例】以下、本発明をグリル機能付きの電子レンジ
に適用した第１実施例を図１乃至図６を参照して説明す
る。図２は電子レンジの全体構成を示している。この図
２において、本体１内には加熱室２が形成されており、
この加熱室２は扉３により閉鎖される。本体１の図示右
側には機械室４が設けられており、この機械室４内にマ
グネトロン５（図４参照）及びその駆動回路、冷却ファ
ン等が配設されている（何れも図示せず）。機械室４の
前面には操作パネル６が設けられている。この操作パネ
ル６には表示器７及び操作キー８が設けられている。

【００１２】図３は本体１の縦断面を示している。この
図３において、加熱室２の底面９にはターンテーブル１
０が回動可能に配設されており、これは、モータ１１
（図４参照）を主体とする駆動機構１２により回転す
る。また、底面９の裏側には絶縁体１３が配設され、そ
の絶縁体１３の上面に下ヒータ１４が添設されている。

【００１３】一方、加熱室２の天井板１５はステンレス
材から成り、その所定部位に上方に陥没形成されたヒー
タ反射板１６が一体に設けられている。そして、ヒータ
反射板１６に近接して上ヒータ１７が配設されており、
その上ヒータ１７からの放射熱はヒータ反射板１６によ
り下方に反射されるようになっている。

【００１４】図４は電子レンジの電気的構成を概略的に
示している。この図４において、制御装置１８は、操作
パネル６に設けられた各種キーの操作状態に応じて上ヒ
ータ１７，下ヒータ１４或いはマグネトロン５を通電制
御することにより加熱調理を実行する。

【００１５】ここで、制御装置１８にはＲＯＭ（Read O
nly Memory）１９及び使用実績記憶手段たるＥＥＰＲＯ
Ｍ（Electrical Erasable Programmable ROM）２０が接
続されている。ＲＯＭ１９には制御装置１８が加熱調理
動作するためのプログラムの他に、加熱調理時間補正用
のデータベースが記憶されている。また、ＥＥＰＲＯＭ
２０には、制御装置１８により加熱調理時間の累積時間
が記憶されるようになっている。

【００１６】次に上記構成の作用について説明する。図
１はグリル調理実行時の制御装置の動作順序を示してい
る。即ち、操作パネル６に設けられた操作キーにより例
えばトースト調理を設定すると、制御装置１８は、ＥＥ
ＰＲＯＭ２０に記憶されている累積調理時間を読取り
（ステップＳ1 ）、その累積調理時間によりＲＯＭ１９
の記憶データベースからヒータ反射板１６の反射率を求
める（ステップＳ2 ）。つまり、ヒータ反射板１６はス
テンレス材であることから、ヒータ反射板１６が上ヒー
タ１７から高熱を受けて温度が上昇すると、その反射面
に酸化膜が形成されて反射率が徐々に低下することか
ら、ＲＯＭ１９には調理時間とヒータ反射板１６の反射
率との関係がデータベースとして予め記憶されているの
である。

【００１７】以下に、ＲＯＭ１９に記憶されているデー
タベースについて説明する。図５は、トースト調理の繰
返し回数（累積調理実行回数）に対するヒータ反射板１
６の反射率の関係を示している。この場合、トースト調
理を１日に２回連続して行うことを想定しており、１回
のトースト調理としては４分５０秒のヒータ通電に続い
て１０秒の断電時間を設定した。従って、２回連続して
トースト調理する場合には、調理時間として１０分要す
ることになる。この図５から、使用者が製品の購入状態
からトースト調理を繰返すと、その繰返し回数（累積調
理時間）に従ってヒータ反射板１６の反射率が初期にお
いては大きく低下すると共に、トースト調理の繰返し回
数の増大に伴って反射率は略一定となることが分る。

【００１８】また、図５において、トーストの焼色ラン
クを電子レンジに設定されている１０ランクの焼色ラン
クのうち例えば「７．５」若しくは「８」に設定したと
きに、トースト調理の繰返し回数によってトースト調理
の終了による焼色ランクの変化を示している。この場
合、トーストの焼色ランクが初期では「７．５〜８」で
あったものが、調理時間が４８時間（約６００回のトー
スト）によるヒータ反射板１６の反射率の低下により焼
色ランクが「６．５〜７」に低下している。ここで、Ｒ
ＯＭ１９には図５に示す加熱調理時間とヒータ反射板１
６との関係を示すデータテーブルが記憶されており、制
御装置１８は、ＥＥＰＲＯＭ２０に記憶されている累積
調理時間に基づいてヒータ反射板１６の反射率を求め
る。

【００１９】尚、図５では、ヒータ反射板１６の反射率
の低下をトースト調理の繰返し回数に従って示したが、
上ヒータ１７を使用する加熱調理としてはトースト調理
以外のグリル調理に一般的に使用されるものであるの
で、実際には上ヒータ１７の通電時間がＥＥＰＲＯＭ２
０に記憶される。

【００２０】続いて、制御装置１８は、上述のように求
めたヒータ反射板１６の反射率から補正係数を求める
（ステップＳ3 ）。つまり、上ヒータ１７への通電時間
が長くなる程ヒータ反射板１６の反射率が低下して１回
の加熱調理時におけるパンに対する加熱量が低下するこ
とから、加熱量を維持するために調理時間を補正するの
である。この場合、ヒータ反射板１６の反射率が低下す
る程調理時間を増大させる必要から、図６に示すように
補正係数βとしては反射率αと反比例関係となるよう
に、β＝１／（１−α）を求めるようになっている。

【００２１】そして、制御装置１８は、トースト調理時
間に補正係数βを掛合わすことにより補正調理時間を求
めると共に（ステップＳ4 ）、斯様な補正調理時間だけ
上ヒータ１７及び下ヒータ１４に通電することによりト
ースト調理を実行し（ステップＳ5 ）、調理が終了した
ところで調理時間の累積時間を求めて（ステップＳ6）
ステップＳ1 に戻る。

【００２２】上記構成のものによれば、制御装置１８に
より調理時間の累積時間に応じて調理時間を長くするよ
うに補正したので、調理時間の累積時間に応じてヒータ
反射板１６の反射率が低下することによりパンに対する
１回の加熱調理時における加熱量が低下するにしても、
調理時間を長く補正することにより全体としての加熱量
を一定とすることができる。従って、調理時間の累積時
間が長くなるにしても調理時間が一定の従来例のものと
違って、調理回数にかかわらずパンを設定された焼具合
で焼くことができる。

【００２３】図７は本発明の第２実施例における制御装
置の動作順序を示している。この第２実施例が第１実施
例と異なる点は、調理時間の累積時間に応じて調理時間
を長く補正するのに代えて、ヒータ出力を高くなるよう
に補正したことである。つまり、調理回数の増大に伴っ
てヒータ反射板１６の反射率が低下するにしても、ヒー
タ出力を増大することにより１回の調理時間中において
パンに与えられる加熱量は同等になるので、第１実施例
と同様に、パンを設定された焼具合で焼くことができ
る。

【００２４】尚、高周波を出力するマグネトロンも駆動
時間の累積によってその加熱出力が低下することから、
調理時間の累積に応じてマグネトロンの出力を向上する
ように補正してもよい。この場合、被調理物の出来具合
をさらに均一化することができる。

【００２５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の加熱調理器によれば、使用実績記憶手段によりヒータ
からの発熱量を累積記憶すると共に、制御装置を、使用
実績記憶手段による累積値が大となる程１回の加熱調理
時におけるヒータの発熱量が大きくなるように補正する
構成として、ヒータ反射板が酸化被膜により反射率が低
下してしまうことに対処するようにしたので、ヒータか
らの放射熱を金属製のヒータ反射板により反射すること
により加熱室内に収納された被調理物を加熱調理するも
のにおいて、加熱調理の繰返し回数の増大にかかわらず
被調理物を適切に加熱調理することができるという優れ
た効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例を示す制御装置の動作手順
を示す図

【図２】電子レンジの斜視図

【図３】電子レンジの縦断側面図

【図４】電気的構成を示す概略図

【図５】加熱調理の繰返し回数に対するヒータ反射板の
反射率の関係を示す図

【図６】加熱調理累積時間に対する反射率及び補正係数
の関係を示す図

【図７】本発明の第２実施例を示す図１相当図

【符号の説明】

２は加熱室、１６はヒータ反射板、１７は上ヒータ、１
８は制御装置、２０はＥＥＰＲＯＭ（使用実績記憶手
段）である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ヒータからの放射熱を加熱室内に収納さ
   れた被調理物に反射する金属製のヒータ反射板と、１回
   の加熱調理時に前記ヒータからの発熱量を設定する制御
   装置とを備えた加熱調理器において、 前記ヒータの発熱量を累積記憶する使用実績記憶手段を
   設け、 前記制御装置を、前記使用実績記憶手段による累積値が
   大となる程１回の加熱調理時における前記ヒータからの
   発熱量が大きくなるように補正する構成としたことを特
   徴とする加熱調理器。
2. 【請求項２】 制御装置を、ヒータへの通電時間の調整
   により発熱量を補正する構成としたことを特徴とする請
   求項１記載の加熱調理器。
3. 【請求項３】 制御装置を、ヒータへの通電量の調整に
   より発熱量を補正する構成としたことを特徴とする請求
   項１記載の加熱調理器。