JPH0745646A - はんだ塗布装置 - Google Patents

はんだ塗布装置

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JPH0745646A
JPH0745646A JP20569593A JP20569593A JPH0745646A JP H0745646 A JPH0745646 A JP H0745646A JP 20569593 A JP20569593 A JP 20569593A JP 20569593 A JP20569593 A JP 20569593A JP H0745646 A JPH0745646 A JP H0745646A
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JP
Japan
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solder
wire
contact time
time
amount
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JP20569593A
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English (en)
Inventor
Kenji Abe
健二 阿部
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors

Abstract

(57)【要約】 【目的】 はんだ塗布量をリアルタイムで自動的に検出
できるはんだ塗布装置を提供する。 【構成】 はんだワイヤ20が被塗布面2に接触されつ
つ溶融されてはんだ塗布層20Bが形成されるはんだ塗
布装置10において、ワイヤ20と被塗布面2との間に
通電回路21が接続され、通電回路21にはワイヤと被
塗布面2とのオン・オフ時間を測定する測定器22が介
設されている。 【効果】 はんだ塗布量は接触時間に依存するため、測
定器22により、はんだ塗布量が測定される。ワーク相
互間において、ワイヤの接触時間を均一に制御してワー
ク相互間のはんだ塗布量を均一に調整できるため、ワー
クのはんだ付け状態を均一でき、製品の品質信頼性を向
上できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、はんだ塗布技術、特
に、はんだ塗布量の制御技術に係り、例えば、レーザー
ダイオードの製造工程に利用して有効なものに関する。
【0002】
【従来の技術】レーザーダイオードの製造工程におい
て、レーザーダイオードの主要部品であるレーザーチッ
プをサブマウントに接着するに際して、サブマウントの
接着面に予備はんだ層が予め形成される場合がある。
【0003】この予備はんだ層を形成する手段として、
次のようなはんだ塗布装置を使用することが、考えられ
る。
【0004】すなわち、このはんだ塗布装置は、線状に
形成されたはんだ材料が被塗布面に接触されつつ溶融さ
れて、被塗布面に溶融したはんだ材料が塗布されるよう
に構成されている。
【0005】なお、線状はんだによる予備はんだ技術を
述べてある例としては、株式会社工業調査会発行「電子
材料のはんだ付技術」1983年9月5日発行 P11
9およびP174、がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ようなはんだ塗布装置においては、はんだ塗布時にはん
だ塗布量を検出することができないため、はんだ塗布作
業の後に、オフラインにてはんだ塗布量を画像認識装置
等を使用してはんだ塗布量を測定する必要があるという
問題点があることが、本発明者によって明らかにされ
た。
【0007】本発明の第1の目的は、はんだ塗布量をリ
アルタイムで自動的に検出することができるはんだ塗布
装置を提供することにある。
【0008】本発明の第2の目的は、検出したはんだ塗
布量を利用してはんだ塗布作業をフィードバック制御す
ることができるはんだ塗布装置を提供することにある。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0011】すなわち、線状に形成されたはんだ材料が
被塗布面に接触されつつ溶融されて、被塗布面に溶融し
たはんだ材料が塗布されるように構成されているはんだ
塗布装置において、前記はんだ材料と溶融はんだとの接
触時間が測定されることにより、前記塗布面に塗布され
たはんだ塗布量が検出されることを特徴とする。
【0012】
【作用】前記した手段によれば、はんだ塗布量がリアル
タイムで自動的に検出されるため、はんだ塗布量のばら
つきを抑制することができ、その結果、はんだ付けの精
度の向上に寄与することができる。
【0013】すなわち、線状はんだが被塗布面に接触さ
れつつ溶融されて、塗布面にはんだ層が形成される場合
には、はんだ塗布量は線はんだと溶融はんだとの接触時
間に依存することが、本発明によって究明された。本発
明はこの究明に基づいて創意されたものであり、線はん
だと溶融はんだとの接触時間を測定することにより、そ
の時間に応じた塗布量が検出される。そして、接触時間
と塗布量との具体的数値は、線はんだの径や送り量、被
塗布面の材質や表面粗さ、加熱温度等の諸条件に応じ
て、実験やコンピュータによる模擬実験等の経験的手法
によって予め求めておくことが望ましい。
【0014】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるはんだ塗布装
置を示す模式的な正面図である。図2(a)、(b)は
その作用を説明するための各模式図である。図3は同じ
く各線図である。
【0015】本実施例において、本発明に係るはんだ塗
布装置は、レーザーダイオードの製造工程において、レ
ーザーチップがはんだ付けされるサブマウントのはんだ
付け面に予備はんだ層を形成するものとして構成されて
いる。
【0016】このはんだ塗布装置10はフィーダ11を
備えており、フィーダ11はワークとしてのサブマウン
ト(以下、ワークという。)1をピッチ送りし得るよう
に構成されている。ワーク1は複数個が、長方形の板形
状に形成された治具に装着されており、この治具がフィ
ーダ11により長さ方向に歩進送りされるようになって
いる。フィーダ11にはヒートブロック12が所定の位
置に配設されており、このヒートブロック12はワーク
1を所定の温度に加熱するように構成されている。
【0017】フィーダ11の外部には昇降ヘッド13が
ヒートブロック12に対向するように配設されている。
このヘッド13には塗布アーム14が基端を回転自在に
軸支されて支持されており、このヘッド13はアーム1
4の先端部に固定されたキャピラリー15を上下動させ
るように、カム機構(図示せず)等によって構成されて
いる。塗布アーム14の上側には一対のクランパアーム
16、17が電磁プランジャ機構等の手段(図示せず)
により開閉作動されるように設備されており、両アーム
16、17の各先端部はキャピラリー15の真上位置に
配されてクランパ18を構成している。
【0018】一方、はんだ材料は線状に形成されてお
り、この線はんだ(以下、ワイヤという。)20はリー
ル19に巻装されている。リール19はクランパ18の
上方に配置されて回転自在に軸架されており、ワイヤ2
0はリール19から繰り出されてクランパ18を介して
キャピラリー15に挿通され、その先端部がキャピラリ
ー15から突き出されている。
【0019】本実施例において、クランパ18とヒート
ブロック12との間には通電回路21が接続されてお
り、この通電回路21はワイヤ20がワーク1に接触さ
れた状態において極微弱の電流が流れるようになってい
る。そして、通電回路21にはこの通電によりオンオフ
する接触時間測定器22が介設されており、この測定器
22は比較器23の一方の入力端子接続されている。比
較器23の他方の入力端子にはタイマー等から構成され
ている設定器24が接続されており、この設定器24に
は図3(b)、(c)に示されているような時系列パタ
ーンが予め設定されている。
【0020】さらに、本実施例においては、比較器23
の出力端子は昇降ヘッド13をシーケンス制御するコン
トローラ25の入力端子に接続されている。コントロー
ラ25は比較器23の出力結果に基づいてヘッド13に
よるキャピラリー15の昇降時間を加減するように構成
されている。つまり、コントローラ25は測定結果に基
づいてフィードバック制御されるようになっている。
【0021】次に作用を説明する。ヒートブロック12
にワーク1が供給されて所定の温度(はんだ材料の融点
以上)に加熱されると、クランパ18が閉じられた状態
で、アーム14全体が下降される。キャピラリー15の
下端から突出されたワイヤ20の先端は、この下降によ
ってワーク1の被塗布面2に接触される。
【0022】ワーク1はヒートブロック12によっては
んだ材料の融点以上に加熱されているため、ワーク1に
接触したワイヤ20の先端部は溶融する。ワーク1の被
塗布面2には金めっき皮膜等が形成されることによっ
て、はんだ濡れ性が高められているため、溶融したはん
だ20Aは被塗布面2にきわめて効果的に塗布された状
態になる。この溶融はんだ20Aによって、はんだ塗布
層20Bが形成されることになる。
【0023】アーム14全体が下降されて予め設定され
た時間が経過すると、コントローラ25によってクラン
パ18が開かれるとともに、アーム14が所定の高さだ
け上昇される。この動作によってキャピラリー15の下
端からワイヤ20の先端部が所定の長さだけ、相対的に
突き出された状態になる。
【0024】続いて、クランパ18が閉じられてワイヤ
20の中間部が挟持されるとともに、アーム14が上昇
される。アーム14が上昇されると、ワイヤ20の先端
はワーク1に形成されたはんだ塗布層20Bにおいて引
き千切られるとともに、そこから離れる。この一連の作
動によってキャピラリー15の下端にはワイヤ20の先
端部が所定の長さだけ突き出されることになる。所謂、
テール出し作動である。
【0025】一方、ワイヤ20がワーク1に接触される
と同時に、通電回路21には電流が流れ始め、接触が解
除されると同時に通電は停止する。この通電のオンから
オフまでの時間が接触時間測定器22によって測定さ
れ、比較器23の一方の入力端子に入力される。
【0026】以降、前記作動が繰り返されることによ
り、治具に装着されたワーク1について、はんだ塗布層
20Bが順次形成されて行く。
【0027】ところで、はんだ塗布層20Bの質量、す
なわち、はんだ塗布量は、ワイヤ20の先端と溶融はん
だ20Aとの接触時間に依存することが、本発明者によ
って究明された。
【0028】すなわち、図2(a)に示されているよう
に、ワイヤ20の先端と、溶融はんだ20Aとの接触が
短い時間Taの場合には、ワイヤ20の先端部から被塗
布面2に供給されるはんだの量が少ないため、その塗布
量は少なくなる。
【0029】逆に、図2(b)に示されているように、
ワイヤ20の先端と溶融はんだ20Aとの接触が長い時
間Tbの場合には、ワイヤ20の先端部から被塗布面2
に供給されるはんだの量が多いため、その塗布量は多く
なる。
【0030】そして、このように被塗布面2におけるは
んだ塗布量がばらつくと、サブマウント1にレーザーチ
ップ(図示せず)がはんだ付けされた際に、はんだ付け
状態にばらつきが発生するため、はんだ付け不良の原因
になる。したがって、被塗布面2におけるはんだ塗布量
のばらつきは可及的に抑制して、ワーク1、1間におい
て均一に保つことが望ましい。
【0031】ここで、前記作動において、アーム14の
昇降作動およびクランパ18の開閉作動は一定にシーケ
ンス制御されている。しかし、ワイヤ20のテール出し
量には、ワイヤ20のキャピラリー15内の摺動摩擦の
変動やリール19の張力の変動等によってばらつきが発
生する。そして、ワイヤ20のテール出し量が長くなる
と、ワイヤ20の先端がワーク1に正規の長さの場合よ
りも早い時期に早く接触するため、ワイヤ20と溶融は
んだ20Aとの接触時間は長期化する。逆に、ワイヤ2
0のテール出し量が短くなると、接触時期が遅くなるた
め、接触時間は短期化する。
【0032】また、ヒートブロック12の加熱温度は一
定になるように制御されているが、はんだ塗布装置10
が設置されている環境自体の温度変化や気流の変化によ
って、加熱されるワーク1の実際の温度にはばらつきが
発生する。そして、ワーク1の加熱温度が高い方へばら
つくと、溶融はんだ20Aが表面張力でワイヤ20の先
端に引き上げられてしまうため、接触時間が長期化す
る。逆に、ワーク1の加熱温度が低い方へばらつくと、
ワイヤ20の先端が早く離れるため、接触時間は短期化
する。
【0033】本実施例において、以上のようなテール出
し量のばらつきや、ワーク1の加熱温度のばらつきによ
るワイヤ20と溶融はんだ20Aとの接触時間のばらつ
きは、通電回路21に介設された接触時間測定器22に
よって測定され、比較器23に入力されることになる。
【0034】すなわち、ワイヤ20がワーク1に接触す
ると同時に、通電回路21が通電して接触時間測定器2
2が測定を開始する。つまり、図3(a)に示されてい
るように、測定器22がオンされ、比較器23にそのオ
ン状態が送信される。
【0035】ワイヤ20がテール出しされた後に、ワイ
ヤ20の先端が溶融はんだ20Aから離れると、通電回
路21が開かれるため、接触時間測定器22は測定を停
止する。つまり、図3(a)に示されているように、測
定器22がオフされ、比較器23にそのオフ状態が送信
される。
【0036】図3(b)および(c)に示されているよ
うに、接触時間測定器22がオンされると同時に、設定
器24のタイマーがONされ、そのON状態が比較器2
3の他方の入力端に送信される。
【0037】まず、図3(b)に示されている短か過ぎ
る接触時間を規制するための下限値信号(以下、下限値
信号という。)と、図3(a)に示されている実際の接
触時間信号(以下、実信号という。)とが比較器23に
より比較される。すなわち、比較器23は下限値信号が
オフになった時点で、実信号がオン状態であるかを比較
する。オンである場合には接触時間は短過ぎないと、判
定される。
【0038】オフである場合には接触時間が短過ぎると
判定される。この場合には、比較器23は実信号のオン
時間と下限値信号のオン時間との差を求め、その差値か
ら補正値を演算する。この補正値信号がヘッド13のコ
ントローラ25に送信され、コントローラ25はアーム
14の昇降作動シーケンスを適宜に修正する。
【0039】次いで、図3(c)に示されている長過ぎ
る時間を規制するための上限値信号(以下、上限値信号
という。)と、実信号とが比較器23により比較され
る。すなわち、比較器23は上限値信号がオフになった
時点で、実信号がオフ状態であるかを比較する。オフで
ある場合には接触時間は長過ぎないと、判定される。
【0040】オンである場合には接触時間が長過ぎる
と、判定される。この場合には、比較23は実信号のオ
ン時間と上限値信号のオン時間との差を求め、その差値
から補正値を演算する。この補正値信号がヘッド13の
コントローラ25に送信され、コントローラ25はアー
ム14の昇降作動シーケンスを適宜に修正する。
【0041】以上のようにして、アーム14の昇降作動
がワイヤ20の溶融はんだ20Aとの接触時間のばらつ
きに対応して、適宜にフィードバック制御されることに
より、当該接触時間はワーク1、1間において均一に制
御される。そして、ワーク1の被塗布面2のはんだ塗布
量はその接触時間に依存するため、接触時間が均一に制
御されることにより、ワーク1、1間の被塗布面2のは
んだ塗布量は均一になる。その結果、ワーク1であるサ
ブマウントに対するレーザーチップのはんだ付け状態
が、製品相互間で均一になるため、製品の品質および信
頼性が向上することになる。
【0042】以上説明した前記実施例によれば次の効果
が得られる。 (1) ワーク相互間において、ワイヤの接触時間を均
一に制御することにより、ワーク相互間のはんだ塗布量
を均一に調整することができるため、ワークのはんだ付
け作業間においてはんだ付け状態を均一にすることがで
き、製品の品質および信頼性を向上させることができ
る。
【0043】(2) ワイヤとワークとの間に通電回路
を介設し、通電のオン・オフによってワイヤとワークと
の接触時間が測定されるように構成されているため、構
造簡単にして、ワイヤ先端と溶融はんだとの接触時間を
高精度に測定することができる。
【0044】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0045】例えば、前記実施例においては、ワイヤ先
端と溶融はんだとの接触時間の測定に基づきワイヤのワ
ークに対する移動がフィードバック制御されるように構
成されている場合について説明したが、その接触時間の
測定結果によって、接触時間が短過ぎる状態になってい
る旨や、長過ぎる状態になっている旨が作業者に警報さ
れるように構成してもよい。
【0046】また、ワイヤ先端と溶融はんだとの接触時
間の測定手段は、通電回路、オン・オフ時間測定器およ
び比較器等が使用された前記実施例による構成を用いる
に限らず、タッチセンサや、光ファイバセンサおよび圧
力センサ等が使用された構成を用いてもよい。
【0047】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるレーザ
ーチップとサブマウントとのはんだ付け技術に適用した
場合について説明したが、それに限定されるものではな
く、他の半導体ペレットのリードフレームへのはんだ付
け技術等の被塗布面にワイヤによってはんだ塗布層を形
成するはんだ塗布技術全般に適用することができる。
【0048】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0049】ワーク相互間において、ワイヤの接触時間
を均一に制御することにより、ワーク相互間のはんだ塗
布量を均一に調整することができるため、ワークのはん
だ付け作業間においてはんだ付け状態を均一にすること
ができ、製品の品質および信頼性を向上させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるはんだ塗布装置を示す
模式的な正面図である。
【図2】(a)、(b)はその作用を説明するための各
模式図である。
【図3】(a)、(b)、(c)は同じく各線図であ
る。
【符合の説明】
1…サブマウント(ワーク)、2…被塗布面、10…は
んだ塗布装置、11…フィーダ、12…ヒートシンク、
13…昇降ヘッド、14…塗布アーム、15…キャピラ
リー、16、17…クランパアーム、18…クランパ、
19…リール、20…線はんだ(ワイヤ)、20A…溶
融はんだ、20B…はんだ塗布層、21…通電回路、2
2…接触時間測定器、23…比較器、24…設定器、2
5…コントローラ。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年1月14日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】 じく線図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 線状に形成されたはんだ材料が被塗布面
    に接触されつつ溶融されて、被塗布面に溶融したはんだ
    材料が塗布されるように構成されているはんだ塗布装置
    において、 前記はんだ材料と溶融はんだとの接触時間が測定される
    ことにより、前記塗布面に塗布されたはんだ塗布量が検
    出されることを特徴とするはんだ塗布装置。
  2. 【請求項2】 はんだ材料と被塗布面との接触時間の前
    記測定が、はんだ材料と被塗布面との間に通電回路が形
    成され、その通電回路の通電時間が計測されることによ
    り実行されるように構成されていることを特徴とする請
    求項1に記載のはんだ塗布装置。
  3. 【請求項3】 測定された前記接触時間により、前記は
    んだ材料と被塗布面との接触時間がフィードバック制御
    され、前記はんだ塗布量が一定に制御されるように構成
    されていることを特徴とする請求項1に記載のはんだ塗
    布装置。
JP20569593A 1993-07-28 1993-07-28 はんだ塗布装置 Pending JPH0745646A (ja)

Priority Applications (1)

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JP20569593A JPH0745646A (ja) 1993-07-28 1993-07-28 はんだ塗布装置

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JP20569593A JPH0745646A (ja) 1993-07-28 1993-07-28 はんだ塗布装置

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JP (1) JPH0745646A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011238924A (ja) * 2010-05-04 2011-11-24 Asm Assembly Automation Ltd 複数のハンダワイヤを使用して半導体チップの搭載のための軟質ハンダをディスペンスするためのシステム
US9339885B2 (en) 2012-07-05 2016-05-17 Besi Switzerland Ag Method and apparatus for dispensing flux-free solder on a substrate

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JP2011238924A (ja) * 2010-05-04 2011-11-24 Asm Assembly Automation Ltd 複数のハンダワイヤを使用して半導体チップの搭載のための軟質ハンダをディスペンスするためのシステム
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