JPH0745495B2 - ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体および該誘導体を含有する除草剤 - Google Patents
ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体および該誘導体を含有する除草剤Info
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- JPH0745495B2 JPH0745495B2 JP14753287A JP14753287A JPH0745495B2 JP H0745495 B2 JPH0745495 B2 JP H0745495B2 JP 14753287 A JP14753287 A JP 14753287A JP 14753287 A JP14753287 A JP 14753287A JP H0745495 B2 JPH0745495 B2 JP H0745495B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は新規なピラゾールスルホニルウレア誘導体とそ
の塩および当該化合物を有効成分とする除草剤に関する
ものである。
の塩および当該化合物を有効成分とする除草剤に関する
ものである。
イネ、小麦、ワタ、トウモロコシ等重要な作物を雑草害
から守り増収をはかる為に除草剤を使用することは欠く
ことができない。特に近年はこれらの有用作物と雑草の
混在する耕地において、作物と雑草の茎葉部へ同時処理
しても作物に対して薬害を示さず雑草のみを選択的に枯
殺しうる選択性除草剤が望まれている。また、環境汚染
防止、輸送、散布の際の経済コスト低減等の観点から、
できるだけ低薬量で高い除草効果をあげる化合物の探索
研究が長年にわたり続けられている。このような特性を
有する化合物のいくつかは選択性除草剤として現在使用
されているが、依然としてこれらの性質を備える新しい
化合物の需要も存在する。
から守り増収をはかる為に除草剤を使用することは欠く
ことができない。特に近年はこれらの有用作物と雑草の
混在する耕地において、作物と雑草の茎葉部へ同時処理
しても作物に対して薬害を示さず雑草のみを選択的に枯
殺しうる選択性除草剤が望まれている。また、環境汚染
防止、輸送、散布の際の経済コスト低減等の観点から、
できるだけ低薬量で高い除草効果をあげる化合物の探索
研究が長年にわたり続けられている。このような特性を
有する化合物のいくつかは選択性除草剤として現在使用
されているが、依然としてこれらの性質を備える新しい
化合物の需要も存在する。
本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたる研鑽をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果一
般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を表わし、 R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキルア
ルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、低級アルキルチオアルキル基、低級アルコキ
シカルボニルアルキル基または低級シアノアルキル基を
表わし、 R3，R4，R5，R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、
低級アルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルキ
ルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロ
ゲノアルコキシ基、低級アルカンスルホニル基、ハロゲ
ン原子またはニトロ基を表わし、 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基または置換されてい
てもよいフェニルチオメチル基（置換基は低級アルキル
基またはハロゲン原子）を表わす。〕 で表わされるピラゾールスルホニルウレア誘導体および
その塩が土壌処理、茎葉処理のいずれの場合にも多くの
種類の雑草に対して強い殺草力を有し、かつ重要作物で
あるイネ、小麦、トウモロコシに対して高い安全性を有
することを見いだして本発明を完成した。一方、本発明
化合物は従来の除草剤に比して非常に低薬量で高い除草
活性を示すことから果樹園、非耕地用の除草剤としても
有用である。
開発するため長年にわたる研鑽をつづけ殺草力のより高
い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの化
合物についてその除草特性を検討してきた。その結果一
般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を表わし、 R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキルア
ルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、低級アルキルチオアルキル基、低級アルコキ
シカルボニルアルキル基または低級シアノアルキル基を
表わし、 R3，R4，R5，R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、
低級アルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルキ
ルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロ
ゲノアルコキシ基、低級アルカンスルホニル基、ハロゲ
ン原子またはニトロ基を表わし、 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基または置換されてい
てもよいフェニルチオメチル基（置換基は低級アルキル
基またはハロゲン原子）を表わす。〕 で表わされるピラゾールスルホニルウレア誘導体および
その塩が土壌処理、茎葉処理のいずれの場合にも多くの
種類の雑草に対して強い殺草力を有し、かつ重要作物で
あるイネ、小麦、トウモロコシに対して高い安全性を有
することを見いだして本発明を完成した。一方、本発明
化合物は従来の除草剤に比して非常に低薬量で高い除草
活性を示すことから果樹園、非耕地用の除草剤としても
有用である。
本発明に先行する技術としては、１−フェニルまたは１
−置換フェニルピラゾール−５−スルホニルウレア誘導
体が、特開昭58−219179号、特開昭59−219281号、特開
昭60−78980号公報およびヨーロッパ特許出願0087780に
開示されている。しかし、本発明化合物一般式（Ｉ）の
ごとき、ジメチルピリミジン構造を有する１−フェニル
または１−置換フェニルピラゾール−５−スルホニルウ
レアは全く例示及び実施ともにされていない。
−置換フェニルピラゾール−５−スルホニルウレア誘導
体が、特開昭58−219179号、特開昭59−219281号、特開
昭60−78980号公報およびヨーロッパ特許出願0087780に
開示されている。しかし、本発明化合物一般式（Ｉ）の
ごとき、ジメチルピリミジン構造を有する１−フェニル
または１−置換フェニルピラゾール−５−スルホニルウ
レアは全く例示及び実施ともにされていない。
さらに、本発明化合物は前記先行技術にて実施されてい
る１−フェニルまたは１−置換フェニルピラゾール−５
−スルホニルウレアに比して、著しく強い殺草力を有し
ている。
る１−フェニルまたは１−置換フェニルピラゾール−５
−スルホニルウレアに比して、著しく強い殺草力を有し
ている。
次に、本発明化合物の具体的な合成例を以下に説明する
が、本発明はこれらの限定されるものではない。
が、本発明はこれらの限定されるものではない。
実施例１ Ｎ−（4,6−ジメチルピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル−４−メトキシカルボニル−１−フェニルピラ
ゾール−５−スルホンアミド（化合物No.1） （１）５−アミノ−４−メトキシカルボニル−１−フェ
ニルピラゾール 氷冷したフェニルヒドラジン20g及びブタノール300mlの
溶液にエトキシメチレンシアノ酢酸メチル28.7g及びブ
タノール50mlの溶液を滴下した後、室温にて一夜撹拌し
た。次に４時間加熱還流後、室温放置して析出した結晶
を濾取した。これをヘキサンにて洗浄することにより、
目的物28.8gを得た。
ルボニル−４−メトキシカルボニル−１−フェニルピラ
ゾール−５−スルホンアミド（化合物No.1） （１）５−アミノ−４−メトキシカルボニル−１−フェ
ニルピラゾール 氷冷したフェニルヒドラジン20g及びブタノール300mlの
溶液にエトキシメチレンシアノ酢酸メチル28.7g及びブ
タノール50mlの溶液を滴下した後、室温にて一夜撹拌し
た。次に４時間加熱還流後、室温放置して析出した結晶
を濾取した。これをヘキサンにて洗浄することにより、
目的物28.8gを得た。
融点152〜153℃ （２）５−クロル−４−メトキシカルボニル−１−フェ
ニルピラゾール ５−アミノ−４−メトキシカルボニル−１−フェニルピ
ラゾール12g及び濃塩酸100mlの溶液を−５℃以下に保ち
ながら亜硝酸ナトリウム4.6g及び水8mlの溶液を滴下し
た。同温度にて30分間撹拌した反応混合物を氷冷したク
ロロホルム200ml、塩化第１銅1.0g及び亜硫酸ガス3.2g
の溶液に少量ずつ添加した。室温撹拌1.5時間後、反応
混合物を氷水に注ぎ、有機層を分離した。水層をクロロ
ホルムにて抽出し、有機層に合わせ、水洗、乾燥後溶媒
を減圧下留去して粗製の目的物12gを得た。
ニルピラゾール ５−アミノ−４−メトキシカルボニル−１−フェニルピ
ラゾール12g及び濃塩酸100mlの溶液を−５℃以下に保ち
ながら亜硝酸ナトリウム4.6g及び水8mlの溶液を滴下し
た。同温度にて30分間撹拌した反応混合物を氷冷したク
ロロホルム200ml、塩化第１銅1.0g及び亜硫酸ガス3.2g
の溶液に少量ずつ添加した。室温撹拌1.5時間後、反応
混合物を氷水に注ぎ、有機層を分離した。水層をクロロ
ホルムにて抽出し、有機層に合わせ、水洗、乾燥後溶媒
を減圧下留去して粗製の目的物12gを得た。
融点89〜92℃ （３）５−ベンジルメルカプト−４−メトキシカルボニ
ル−１−フェニルピラゾール ５−クロル−４−メトキシカルボニル−１−フェニルピ
ラゾール12g及びジメチルホルムアミド100mlの溶液に室
温にてベンジルメルカプタン6.3gを少量ずつ添加した。
60℃にて２時間撹拌後、放冷した反応混合物を氷水に投
入し、クロロホルムで抽出した。抽出した有機層を炭酸
カリウム希水溶液次いで水で洗浄し、乾燥後、溶媒を減
圧下留去して粗製の目的物12g（油状物）を得た。
ル−１−フェニルピラゾール ５−クロル−４−メトキシカルボニル−１−フェニルピ
ラゾール12g及びジメチルホルムアミド100mlの溶液に室
温にてベンジルメルカプタン6.3gを少量ずつ添加した。
60℃にて２時間撹拌後、放冷した反応混合物を氷水に投
入し、クロロホルムで抽出した。抽出した有機層を炭酸
カリウム希水溶液次いで水で洗浄し、乾燥後、溶媒を減
圧下留去して粗製の目的物12g（油状物）を得た。
（４）４−メトキシカルボニル−１−フェニルピラゾー
ル−５−スルホンアミド ５−ベンジルメルカプト−４−メトキシカルボニル−１
−フェニルピラゾール粗製物12g、酢酸150ml及び水15ml
の混合物を５℃から15℃に保ちながら、塩素ガスを30分
間吹き込んだ。反応混合物に冷水150mlを加えた後、ク
ロロホルムにて抽出した。有機層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水、続いて水で洗浄した後、乾燥、溶媒を減圧下留去
して粗製の４−メトキシカルボニルー１ーフェニルピラ
ゾール−５−スルホニルクロリドを得た。これにクロロ
ホルム200mlを加えて氷冷し、アンモニア水（28％）4g
を滴下した。２時間室温撹拌後塩酸で酸性にしてから減
圧濃縮した。生じた固体を水洗、次いでイソプロピルエ
ーテルで洗浄することにより、目的物5.6gを得た。
ル−５−スルホンアミド ５−ベンジルメルカプト−４−メトキシカルボニル−１
−フェニルピラゾール粗製物12g、酢酸150ml及び水15ml
の混合物を５℃から15℃に保ちながら、塩素ガスを30分
間吹き込んだ。反応混合物に冷水150mlを加えた後、ク
ロロホルムにて抽出した。有機層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水、続いて水で洗浄した後、乾燥、溶媒を減圧下留去
して粗製の４−メトキシカルボニルー１ーフェニルピラ
ゾール−５−スルホニルクロリドを得た。これにクロロ
ホルム200mlを加えて氷冷し、アンモニア水（28％）4g
を滴下した。２時間室温撹拌後塩酸で酸性にしてから減
圧濃縮した。生じた固体を水洗、次いでイソプロピルエ
ーテルで洗浄することにより、目的物5.6gを得た。
融点207〜209℃ （５）N,4−ビス（メトキシカルボニル）−１−フェニ
ルピラゾール−５−スルホンアミド ４−メトキシカルボニル−１−フェニルピラゾール−５
−スルホンアミド5g、クロルギ酸メチル1.8g、炭酸カリ
ウム2.5g及びエチレンジクロリド100mlの混合物を70〜8
0℃で５時間加熱還流した。冷却後水500mlを加えて撹
拌、有機層を廃棄し、水層に濃塩酸を加えて酸性にし
た。析出した不溶物をクロロホルムで抽出し乾燥後、溶
媒を留去して目的物4.3gを得た。
ルピラゾール−５−スルホンアミド ４−メトキシカルボニル−１−フェニルピラゾール−５
−スルホンアミド5g、クロルギ酸メチル1.8g、炭酸カリ
ウム2.5g及びエチレンジクロリド100mlの混合物を70〜8
0℃で５時間加熱還流した。冷却後水500mlを加えて撹
拌、有機層を廃棄し、水層に濃塩酸を加えて酸性にし
た。析出した不溶物をクロロホルムで抽出し乾燥後、溶
媒を留去して目的物4.3gを得た。
融点153〜156℃ （６）Ｎ−（4,6−ジメチルピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル−４−メトキシカルボニル−１−フェニ
ルピラゾール−５−スルホンアミド N,4−ビス（メトキシカルボニル）−１−フェニルピラ
ゾール−５−スルホンアミド4.3g、２−アミノ−4,6−
ジメチルピリミジン1.56g、トルエン100mlをメタノール
を抜きながら２時間加熱還流した。冷却後、溶媒を留去
した残渣に少量のアセトニトリルを加えて、結晶を析出
させて目的物3.6gを得た。
ミノカルボニル−４−メトキシカルボニル−１−フェニ
ルピラゾール−５−スルホンアミド N,4−ビス（メトキシカルボニル）−１−フェニルピラ
ゾール−５−スルホンアミド4.3g、２−アミノ−4,6−
ジメチルピリミジン1.56g、トルエン100mlをメタノール
を抜きながら２時間加熱還流した。冷却後、溶媒を留去
した残渣に少量のアセトニトリルを加えて、結晶を析出
させて目的物3.6gを得た。
融点166〜169℃ 実施例２ Ｎ−（4,6−ジメチルピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−メトキシ
カルボニルピラゾール−５−スルホンアミド（化合物N
o.5） （１）５−アミノ−１−（４−クロロフェニル）−４−
メトキシカルボニルピラゾール 氷冷した４−クロロフェニルヒドラジン25g及びブタノ
ール200mlの溶液にエトキシメチレンシアノ酢酸メチル1
4.6g及びブタノール30mlの溶液を滴下した後、室温にて
一夜撹拌した。次に４時間加熱還流後、室温放置して析
出した結晶を濾取した。これをヘキサンにて洗浄するこ
とにより、目的物22.1gを得た。
ルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−メトキシ
カルボニルピラゾール−５−スルホンアミド（化合物N
o.5） （１）５−アミノ−１−（４−クロロフェニル）−４−
メトキシカルボニルピラゾール 氷冷した４−クロロフェニルヒドラジン25g及びブタノ
ール200mlの溶液にエトキシメチレンシアノ酢酸メチル1
4.6g及びブタノール30mlの溶液を滴下した後、室温にて
一夜撹拌した。次に４時間加熱還流後、室温放置して析
出した結晶を濾取した。これをヘキサンにて洗浄するこ
とにより、目的物22.1gを得た。
融点187〜189℃ （２）５−クロル−１−（４−クロロフェニル）−４−
メトキシカルボニルピラゾール ５−アミノ−１−（４−クロロフェニル）−４−メトキ
シカルボニルピラゾール20.4g及び濃塩酸150mlの溶液を
−５℃以下に保ちながら亜硝酸ナトリウム7.2g及び水10
mlの溶液を滴下した。同温度にて30分間撹拌した反応混
合物を、氷冷したクロロホルム200ml、塩化第一銅1.0g
及び亜硫酸ガス5.0gの溶液に少量ずつ添加した。室温撹
拌1.5時間後、反応混合物を氷水に注ぎ、有機層を分離
した。水層をクロロホルムにて抽出し、有機層に合わ
せ、水洗、乾燥後、溶媒を減圧下留去して粗製の目的物
22.5gを得た。
メトキシカルボニルピラゾール ５−アミノ−１−（４−クロロフェニル）−４−メトキ
シカルボニルピラゾール20.4g及び濃塩酸150mlの溶液を
−５℃以下に保ちながら亜硝酸ナトリウム7.2g及び水10
mlの溶液を滴下した。同温度にて30分間撹拌した反応混
合物を、氷冷したクロロホルム200ml、塩化第一銅1.0g
及び亜硫酸ガス5.0gの溶液に少量ずつ添加した。室温撹
拌1.5時間後、反応混合物を氷水に注ぎ、有機層を分離
した。水層をクロロホルムにて抽出し、有機層に合わ
せ、水洗、乾燥後、溶媒を減圧下留去して粗製の目的物
22.5gを得た。
融点125〜129℃ （３）１−（４−クロルフェニル）−５−メルカプト−
４−メトキシカルボニルピラゾール ５−クロロ−１−（４−クロロフェニル）−４−メトキ
シカルボニルピラゾール19.8g及びジメチルホルムアミ
ド100mlの溶液に室温にて水硫化ナトリウム（70％）14.
6gを少量ずつ添加した。60℃にて２時間撹拌後、放冷し
た反応混合物を氷水に投入し、析出した不溶物を濾別し
た。濾液を濃塩酸にて酸性にし、析出した固体を濾取
し、これを水洗、乾燥して目的物14.1gを得た。
４−メトキシカルボニルピラゾール ５−クロロ−１−（４−クロロフェニル）−４−メトキ
シカルボニルピラゾール19.8g及びジメチルホルムアミ
ド100mlの溶液に室温にて水硫化ナトリウム（70％）14.
6gを少量ずつ添加した。60℃にて２時間撹拌後、放冷し
た反応混合物を氷水に投入し、析出した不溶物を濾別し
た。濾液を濃塩酸にて酸性にし、析出した固体を濾取
し、これを水洗、乾燥して目的物14.1gを得た。
融点155〜158℃ （４）１−（４−クロルフェニル）−４−メトキシカル
ボニルピラゾ−ル−５−スルホンアミド １−（４−クロルフェニル）−５−メルカプト−４−メ
トキシカルボニルピラゾール6g、酢酸120ml及び水10ml
の混合物を５℃から15℃に保ちながら、塩素ガスを１時
間吹き込んだ。反応混合物に冷水150mlを加えた後、ク
ロロホルムにて抽出した。有機層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水、続いて水で洗浄した後、乾燥し、溶媒を留去して
粗製の１−（４−クロルフェニル）−４−メトキシカル
ボニルピラゾール−５−スルホニルクロリドを得た。こ
れにクロロホルム200mlを加えて氷冷し、アンモニア水
（28％）4.1gを滴下した。２時間室温撹拌後塩酸で酸性
にしてから減圧濃縮した。生じた固体を水洗、次いでイ
ソプロピルエーテルで洗浄することにより、目的物5.8g
を得た。
ボニルピラゾ−ル−５−スルホンアミド １−（４−クロルフェニル）−５−メルカプト−４−メ
トキシカルボニルピラゾール6g、酢酸120ml及び水10ml
の混合物を５℃から15℃に保ちながら、塩素ガスを１時
間吹き込んだ。反応混合物に冷水150mlを加えた後、ク
ロロホルムにて抽出した。有機層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水、続いて水で洗浄した後、乾燥し、溶媒を留去して
粗製の１−（４−クロルフェニル）−４−メトキシカル
ボニルピラゾール−５−スルホニルクロリドを得た。こ
れにクロロホルム200mlを加えて氷冷し、アンモニア水
（28％）4.1gを滴下した。２時間室温撹拌後塩酸で酸性
にしてから減圧濃縮した。生じた固体を水洗、次いでイ
ソプロピルエーテルで洗浄することにより、目的物5.8g
を得た。
融点201〜202℃ （５）Ｎ−（4,6−ジメチルピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−メ
トキシカルボニルピラゾール−５−スルホンアミド １−（４−クロルフェニル）−４−メトキシカルボニル
ピラゾール−５−スルホンアミド1.0g、Ｎ−（4,6−ジ
メチルピリミジン−２−イル）カルバミン酸フェニル0.
77g及びアセトニトリル30mlの混合物に1,8−ジアザビシ
クロ〔5.4.0〕−７−ウンデセン0.53gを加えて、室温に
て１時間撹拌した。反応混合物に氷水100mlを加えて撹
拌し、不溶物を濾別した。濾液を塩酸で酸性にして生じ
た固体を濾取、水洗後、イソプロピルエーテルで洗浄し
て目的物0.8gを得た。
ミノカルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−メ
トキシカルボニルピラゾール−５−スルホンアミド １−（４−クロルフェニル）−４−メトキシカルボニル
ピラゾール−５−スルホンアミド1.0g、Ｎ−（4,6−ジ
メチルピリミジン−２−イル）カルバミン酸フェニル0.
77g及びアセトニトリル30mlの混合物に1,8−ジアザビシ
クロ〔5.4.0〕−７−ウンデセン0.53gを加えて、室温に
て１時間撹拌した。反応混合物に氷水100mlを加えて撹
拌し、不溶物を濾別した。濾液を塩酸で酸性にして生じ
た固体を濾取、水洗後、イソプロピルエーテルで洗浄し
て目的物0.8gを得た。
融点184〜187℃ 実施例３ Ｎ−（4,6−ジメチルピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−エトキシ
カルボニルピラゾールー５ースルホンアミド（化合物N
o.12） （１）１−（４−クロロフェニル）−４−エトキシカル
ボニルピラゾール−５−スルホンアミド ５−アミノ−１−（４−クロロフェニル）−４−エトキ
シカルボニルピラゾール39.8g、酢酸30ml、リン酸60ml
および濃塩酸85mlの混合物に、−20℃以下にて亜硝酸ナ
トリウム11.3gの水25ml溶液を滴下した。同温度にて20
分間撹拌後、得られたジアゾニウム塩溶液を、あらかじ
め亜硝酸ガスにて飽和した酢酸270ml（塩化第一銅3.8g
を含む）溶液に−５〜０℃にて滴下した。室温撹拌２時
間後、反応混合物を氷水に注ぎ、エーテルにて抽出し
た。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去すると粗製
の１−（４−クロロフェニル）−４−エトキシカルボニ
ルピラゾール−５−スルホニルクロリド46.5gを得た。
得られたピラゾールスルホニルクロリド誘導体46.5gを
テトラヒドロフラン150mlに溶解し、−10℃以下にて、
アンモニア水（28％）65mlを滴下した。室温撹拌３時間
後、反応混合物を減圧濃縮して得られた結晶を濾過し、
水洗、次いでエーテルにて洗浄することにより、目的物
26.1gを得た。
ルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−エトキシ
カルボニルピラゾールー５ースルホンアミド（化合物N
o.12） （１）１−（４−クロロフェニル）−４−エトキシカル
ボニルピラゾール−５−スルホンアミド ５−アミノ−１−（４−クロロフェニル）−４−エトキ
シカルボニルピラゾール39.8g、酢酸30ml、リン酸60ml
および濃塩酸85mlの混合物に、−20℃以下にて亜硝酸ナ
トリウム11.3gの水25ml溶液を滴下した。同温度にて20
分間撹拌後、得られたジアゾニウム塩溶液を、あらかじ
め亜硝酸ガスにて飽和した酢酸270ml（塩化第一銅3.8g
を含む）溶液に−５〜０℃にて滴下した。室温撹拌２時
間後、反応混合物を氷水に注ぎ、エーテルにて抽出し
た。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去すると粗製
の１−（４−クロロフェニル）−４−エトキシカルボニ
ルピラゾール−５−スルホニルクロリド46.5gを得た。
得られたピラゾールスルホニルクロリド誘導体46.5gを
テトラヒドロフラン150mlに溶解し、−10℃以下にて、
アンモニア水（28％）65mlを滴下した。室温撹拌３時間
後、反応混合物を減圧濃縮して得られた結晶を濾過し、
水洗、次いでエーテルにて洗浄することにより、目的物
26.1gを得た。
融点197〜198℃ （２）Ｎ−（4,6−ジメチルピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−エ
トキシカルボニルピラゾール−５−スルホンアミド 実施例２（５）に準じて合成した。
ミノカルボニル−１−（４−クロルフェニル）−４−エ
トキシカルボニルピラゾール−５−スルホンアミド 実施例２（５）に準じて合成した。
融点158〜159℃ 実施例１〜３に準じて合成した化合物の物性値を実施例
１〜３の化合物を含めて、以下の表に示す。
１〜３の化合物を含めて、以下の表に示す。
次に本発明に含まれる化合物の例を前記第５表の化合物
を含めて以下に示すが、本発明化合物はこれらに限定さ
れるものではない。
を含めて以下に示すが、本発明化合物はこれらに限定さ
れるものではない。
本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては一般
には適当な担体，例えばクレー，タルク，ベントナイ
ト，珪藻土等の固体担体あるいは水，アルコール（メタ
ノール，エタノール等），芳香族炭化水素類（ベンゼ
ン，トルエン，キシレン等），塩素化炭化水素類，エー
テル類，ケトン類，エステル類（酢酸エチル等），酸ア
ミド類（ジメチルホルムアミド等）などの液体担体と混
用して適用することができ，所望により乳化剤，分散
剤，懸濁剤，浸透剤，展着剤，安定剤などを添加し，液
剤，乳剤，水和剤，粉剤，粒剤，フロアブル剤等任意の
剤型にて実用に供することができる。
には適当な担体，例えばクレー，タルク，ベントナイ
ト，珪藻土等の固体担体あるいは水，アルコール（メタ
ノール，エタノール等），芳香族炭化水素類（ベンゼ
ン，トルエン，キシレン等），塩素化炭化水素類，エー
テル類，ケトン類，エステル類（酢酸エチル等），酸ア
ミド類（ジメチルホルムアミド等）などの液体担体と混
用して適用することができ，所望により乳化剤，分散
剤，懸濁剤，浸透剤，展着剤，安定剤などを添加し，液
剤，乳剤，水和剤，粉剤，粒剤，フロアブル剤等任意の
剤型にて実用に供することができる。
次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下
の配合例において「部」は重量部を意味する。
すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下
の配合例において「部」は重量部を意味する。
配合例１ 水和剤 本発明化合物 No.1 ……50部 ジークライトPFP ……46部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール5039 ……５部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤） ……２部 （ホライトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤） ……２部 （ホライトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例２ 水和剤 本発明化合物 No.3 ……45部 ジークライトＡ ……51部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール5039 ……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤） ……４部 （ホライトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤） ……４部 （ホライトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
配合例３ 乳剤 本発明化合物 No.1 ……２部 キシレン ……78部 ジメチルホルムアミド ……15部 ソルポール2680 ……５部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を10〜10,000倍に希釈して有効成分量がヘクタール
当たり0.005kg〜10kgになるように散布する。
合物：東邦化学（株）商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を10〜10,000倍に希釈して有効成分量がヘクタール
当たり0.005kg〜10kgになるように散布する。
配合例４ フロアブル 本発明化合物 No.1 ……25部 アグリゾールＳ−710 ……10部 （非イオン性界面活性剤：花王（株）商品名） ルノックス1000C ……0.5部 （アニオン性界面活性剤：東邦化学（株）商品名） １％ロドポール水 ……20部 （増粘剤：ローン・プーラン社商品名） 水 ……44.5部 以上を均一に混合してフロアブル剤とする。
配合例５ 粒剤 本発明化合物 No.1 ……0.5部 ベントナイト ……55.0部 タルク ……44.5部 以上を均一に混合粉砕して後，少量の水を加えて撹拌混
捏和し，押出式造粒機で造粒し，乾燥して粒剤にする。
捏和し，押出式造粒機で造粒し，乾燥して粒剤にする。
配合例６ 粒剤 本発明化合物 No.9 ……1.0部 ベントナイト ……55.0部 タルク ……44.0部 以上を均一に混合粉砕して後，少量の水を加えて撹拌混
合捏和し，押出式造粒機で造粒し，乾燥して粒剤にす
る。
合捏和し，押出式造粒機で造粒し，乾燥して粒剤にす
る。
また、本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に
他種の除草剤，各種殺虫剤，殺菌剤，共力剤などと混合
施用しても良い。
他種の除草剤，各種殺虫剤，殺菌剤，共力剤などと混合
施用しても良い。
上記の他種の除草剤としては，例えば，ファーム・ケミ
カルズ．ハンドブック（Farm Chemicals Handbook）198
6年版に記載されている化合物などがある。
カルズ．ハンドブック（Farm Chemicals Handbook）198
6年版に記載されている化合物などがある。
なお、本発明化合物は畑地，水田，果樹園などの農園芸
分野以外に運動場，空地，線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ，その施用薬量
は適用場面，施用時期，施用方法，対象草種，栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり0.25〜10kg程度が適当である。
分野以外に運動場，空地，線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ，その施用薬量
は適用場面，施用時期，施用方法，対象草種，栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり0.25〜10kg程度が適当である。
次に，本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。
験例において具体的に説明する。
試験例−１ 除草効果試験 縦33cm,横30cm,深さ9cmのプラスチック製箱に殺菌した
洪積土壌を入れ，コムギ、ススメノカタビラ、イヌタ
デ、コアカザ、コシカギク、ノボロギク、オオイヌノフ
グリ、イヌホーズキ、ノハラガラシ、ハコベ、トウモロ
コシの種子をスポット状に播種し，約1cm覆土した。各
種植物が２〜３葉期に達したとき、有効成分量が所定の
割合となるように茎葉部へ均一に散布した。
洪積土壌を入れ，コムギ、ススメノカタビラ、イヌタ
デ、コアカザ、コシカギク、ノボロギク、オオイヌノフ
グリ、イヌホーズキ、ノハラガラシ、ハコベ、トウモロ
コシの種子をスポット状に播種し，約1cm覆土した。各
種植物が２〜３葉期に達したとき、有効成分量が所定の
割合となるように茎葉部へ均一に散布した。
散布の際の薬液は，前記配合剤の水和剤を水で稀釈して
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布４週間後に作
物および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に
従い調査した。
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布４週間後に作
物および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に
従い調査した。
結果は第18表に示す。
本発明化合物のいくつかは，ある種の作物に対して選択
性を有する。
性を有する。
判定基準 ５……殺草率 90％以上（ほとんど完全枯死） ４……殺草率 70〜90％ ３……殺草率 40〜70％ ２……殺草率 20〜40％ １……殺草率 5〜20％ ０……殺草率 5％以下（ほとんど効力なし） 但し，上記の殺草率は，薬剤処理区の地上部生草重およ
び無処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求
めたものである。
び無処理区の地上部生草重を測定して下記の式により求
めたものである。
フロントページの続き (72)発明者 大屋 栄一 千葉県船橋市坪井町722番地１ 日産化学 工業株式会社中央研究所内 (72)発明者 猪飼 隆 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 (72)発明者 縄巻 勤 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 (72)発明者 渡辺 重臣 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 審査官 池田 正人
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を表わし、 R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキルア
ルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、低級アルキルチオアルキル基、低級アルコキ
シカルボニルアルキル基または低級シアノアルキル基を
表わし、 R3，R4，R5，R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、
低級アルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルキ
ルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロ
ゲノアルコキシ基、低級アルカンスルホニル基、ハロゲ
ン原子またはニトロ基を表わし、 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基または置換されてい
てもよいフェニルチオメチル基（置換基は低級アルキル
基またはハロゲン原子）を表わす。〕 で表わされるピラゾールスルホニルウレア誘導体および
その塩。 - 【請求項２】一般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を表わし、 R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキルア
ルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、低級アルキルチオアルキル基、低級アルコキ
シカルボニルアルキル基または低級シアノアルキル基を
表わし、 R3，R4，R5，R6およびR7はそれぞれ独立して水素原子、
低級アルキル基、低級ハロゲノアルキル基、低級アルキ
ルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロ
ゲノアルコキシ基、低級アルカンスルホニル基、ハロゲ
ン原子またはニトロ基を表わし、 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基または置換されてい
てもよいフェニルチオメチル基（置換基は低級アルキル
基またはハロゲン原子）を表わす。〕 で表わされるピラゾールスルホニルウレア誘導体および
その塩の１種あるいは２種以上を有効成分として含有す
ることを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14753287A JPH0745495B2 (ja) | 1987-06-13 | 1987-06-13 | ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体および該誘導体を含有する除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14753287A JPH0745495B2 (ja) | 1987-06-13 | 1987-06-13 | ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体および該誘導体を含有する除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63310885A JPS63310885A (ja) | 1988-12-19 |
| JPH0745495B2 true JPH0745495B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=15432440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14753287A Expired - Fee Related JPH0745495B2 (ja) | 1987-06-13 | 1987-06-13 | ピラゾ−ルスルホニルウレア誘導体および該誘導体を含有する除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745495B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103396367B (zh) * | 2013-08-06 | 2015-09-09 | 贵州大学 | 含扁桃酸基团的吡唑双酰胺类化合物及制备方法和用途 |
-
1987
- 1987-06-13 JP JP14753287A patent/JPH0745495B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63310885A (ja) | 1988-12-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |