JPH0737778A - 排気制御システム - Google Patents
排気制御システムInfo
- Publication number
- JPH0737778A JPH0737778A JP5177789A JP17778993A JPH0737778A JP H0737778 A JPH0737778 A JP H0737778A JP 5177789 A JP5177789 A JP 5177789A JP 17778993 A JP17778993 A JP 17778993A JP H0737778 A JPH0737778 A JP H0737778A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust
- damper
- pipe
- leak
- exhaust pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
自動化が図れるようにする。 【構成】 レジスト液を半導体ウェハ2に吐出してレジ
スト塗布を行うと共に排気系としての排気管7を備える
ほか、塗布カップ1及びスピンナモータ3を回転させる
スピンナモータ3を備えて構成されるスピン式のレジス
ト塗布装置であって、ドレインチャンバ4にリーク排気
管6を接続し、または排気管7の途中に排気量測定管1
0を接続し、排気管7にダンパー8を設けた場合の不都
合を解消する。
Description
る排気制御技術、特に、スピンナー式のレジスト塗布装
置、現像装置または洗浄装置における高精度の排気制御
が要求される装置に用いて効果のある技術に関するもの
である。
セス工程にはレジスト塗布があり、スピンナー式レジス
ト塗布装置によってレジスト液を半導体ウェハに塗布し
ている。このレジスト塗布は、半導体ウェハ上に均一な
厚みになるように行う必要がある。塗布厚を均一にする
ためには、半導体ウェハのセンタリングの最適化、
排気速度、空気の巻き込み防止、ノズル及びカップ
の形状、レジスト液の種類(特に粘度)等を考慮する
必要がある。
く、半導体ウェハ2の表面にレジスト膜を均一に形成す
る為には排気量の制御が重要であり、高精度の排気制御
が要求されることから、排気ラインに風速センサ及びダ
ンパーを設け、定められた頻度で排気量を測定しながら
調整及びメンテナンスを行っている。
ののち現像を行うが、この現像がスプレー法による場合
には、塗布装置と同一構造の装置が用いられる。
ば、排気量の制御を排気ラインに設けた風速センサ及び
ダンパーによって行う従来の排気制御技術は、排気ライ
ンに設けられたダンパーがレジストミスト等によりダク
トを低下させ、正確な排気制御ができなくなり、手動に
よるダンパー開閉操作を強いられ、定期的にダクト量の
チェック、調整及びメンテナンスを行わねばならないと
いう問題がある。
自動化を達成することのできる技術を提供することにあ
る。
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
導体ウェハに接触させて所定の処理を行うと共に排気系
を備えたスピンナー式の装置であって、この装置に付属
する排気チャンバまたは排気管の途中にリーク排気用の
系を接続している。
出用のセンサは従来のように排気側には設けず、リーク
排気系に設け、排気系内の圧力がダンパーによる直接的
な影響を受けないようにする。これにより、本圧の変動
に応じて的確にダンパーを開閉でき、膜厚精度等を向上
させることが可能になると共に、定期的なダクト量のチ
ェック、調整及びメンテナンス等を不要にすることがで
きる。
施例を示す系統図である。図1においては、スピンナー
式レジスト塗布装置に適用した例を示し、その一部につ
いては断面図で示している。
部には半導体ウェハ2を保持して回転させるためのスピ
ンナモータ3が配設されている。塗布カップ1の下部に
は、ドレインチャンバ4(排気チャンバ)が配設され、
このドレインチャンバ4の下端には排出口5が設けられ
ている。
(リーク排気系)及び排気管7(本排気系)が接続さ
れ、リーク排気管6内にはダンパー8が配設されてい
る。このダンパー8は不図示のパルスモータまたはサー
ボモータを駆動源としており、このモータは排気ダンパ
ーコントローラ9によって制御される。また、排気管7
には排気量測定管10が接続され、この排気量測定管1
0には風速センサ11が取り付けられている。風速セン
サ11には、例えば信頼性に優れる感熱式のセンサが適
している。なお、このように排気管7に排気量測定管1
0を分岐させ、この排気量測定管10に風速センサ11
を設けるようにした理由は、排気が有機ガスであった場
合、熱式のセンサが本排気系内にあると加熱による爆発
等を招く恐れがあり、好ましくないためである。
ットしてスピンナモータ3を回転し、塗布カップ1の上
部から不図示のノズルよりレジスト液を吐出する。そし
て、使用済みのレジスト液及び気体はドレインチャンバ
4内へ回収される。一方、ダンパー8は、排気ダンパー
コントローラ9によって或る開度に制御されており、そ
の開度に応じたリーク排気12がリーク排気管6に取り
込まれ、ドレインチャンバ4へ供給される。
分が排出口5から取り出される。また、リーク排気管6
から供給されたリーク排気12及び塗布カップ1からの
気体分は、排気管7を介して排気量13として排出され
る。このとき、排気管7の排気量13に応じて排気量測
定管10に流入するリーク排気14が変動する。そこ
で、このリーク排気14を風速センサ11によって測定
する。風速センサ11の測定値は排気量の増減に応じて
変化することから、この測定結果を排気ダンパーコント
ローラ9にフィードバックし、ダンパー8を開閉駆動す
る。
の初期設定を(排気量13+リーク排気12+リーク排
気14)として設定しておく。この設定値に対し、排気
ダンパーコントローラ9は風速センサ11による排気量
が増加したときにダンパー8を開くようにモータを駆動
し、逆に、減少したときにはダンパー8を閉じるように
駆動する。
内にダンパーを設けることなく排気圧を一定に制御でき
るようになり、メンテナンスフリーが可能になり、準備
時間の短縮を図ることができる。また、ダクト量の変動
による不良率の低減、プロセスマージン拡大による膜厚
精度の向上が可能になる。
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
8をリーク排気の取り込み側に設けたが、排気量測定管
10内に設けてもよい。
によってなされた発明をその利用分野であるレジスト塗
布装置の排気制御に適用した場合について説明したが、
これに限定されるものではなく、例えば、スピンナー式
の現像装置やスピンナー式の洗浄装置のように排気系を
有する装置に対しても本発明を適用可能である。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
導体ウェハに接触させて所定の処理を行うと共に排気系
を備えたスピンナー式の装置であって、この装置に付属
する排気チャンバまたは排気管の途中にリーク排気用の
系を接続するようにしたので、本圧の変動に応じて的確
にダンパーを開閉でき、膜厚精度等を向上させることが
可能になると共に、定期的なダクト量のチェック、調整
及びメンテナンス等を不要にすることができる。
す系統図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 レジスト液または有機溶剤を半導体ウェ
ハに接触させて所定の処理を行うと共に排気系を備えた
スピンナー式の装置であって、この装置に付属する排気
チャンバまたは排気管の途中にリーク排気用の系を接続
したことを特徴とする排気制御システム。 - 【請求項2】 前記排気管の途中に接続される排気量測
定管と、この排気量測定管に配設した風速センサと、前
記リーク排気用の系内または前記排気管の途中に配設さ
れるダンパーと、前記風速センサの測定結果に基づいて
前記ダンパーを開閉する制御手段とを具備することを特
徴とする請求項1記載の排気制御システム。 - 【請求項3】 前記風速センサは、感熱式であることを
特徴とする請求項2記載の排気制御システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5177789A JPH0737778A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 排気制御システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5177789A JPH0737778A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 排気制御システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0737778A true JPH0737778A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16037137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5177789A Pending JPH0737778A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 排気制御システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737778A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011204933A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2012190823A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-10-04 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 |
-
1993
- 1993-07-19 JP JP5177789A patent/JPH0737778A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011204933A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2012190823A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-10-04 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 |
KR101524334B1 (ko) * | 2011-03-08 | 2015-05-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액처리 장치, 액처리 방법 및 이 액처리 방법을 실행하기 위한 컴퓨터 프로그램이 기록된 기록 매체 |
US9073103B2 (en) | 2011-03-08 | 2015-07-07 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and recording medium having computer program for performing the same method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7485188B2 (en) | Coating process method and coating process apparatus | |
US8574674B2 (en) | Coating treatment method, computer-readable storage medium, and coating treatment apparatus | |
US20040083953A1 (en) | Spin-coating methods and apparatus for spin-coating, including pressure sensor | |
KR0138097B1 (ko) | 도포장치 | |
US6878401B2 (en) | Substrate processing method | |
JPH0737778A (ja) | 排気制御システム | |
JPS62102854A (ja) | 回転処理装置 | |
JPS63119531A (ja) | 半導体製造におけるフオトレジスト塗布装置 | |
JPH01207164A (ja) | 回転塗布装置 | |
JP2952626B2 (ja) | 処理装置 | |
JPS57166033A (en) | Applying device for resist with adjusting mechanism for quantity of exhaust gas | |
JP2764812B2 (ja) | レジスト処理装置 | |
JPH0346518A (ja) | 流速測定装置 | |
JP2674756B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH05146736A (ja) | スピン式コーテイング装置 | |
JPH02307566A (ja) | 塗布装置 | |
JPH06347394A (ja) | 流動体の粘度測定方法および装置 | |
JPH0234908A (ja) | 回転塗布装置 | |
JP2901364B2 (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
JPH02133916A (ja) | レジスト塗布装置 | |
JPH11169774A (ja) | 処理装置 | |
JPH05144721A (ja) | フオトレジスト塗布装置 | |
JPH04213815A (ja) | 半導体装置のフォトレジスト塗布装置 | |
JPH03186379A (ja) | 処理装置 | |
JPH10156261A (ja) | レジスト塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 12 |