JPH0736441U - 薄膜気相成長装置 - Google Patents
薄膜気相成長装置Info
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- JPH0736441U JPH0736441U JP7145193U JP7145193U JPH0736441U JP H0736441 U JPH0736441 U JP H0736441U JP 7145193 U JP7145193 U JP 7145193U JP 7145193 U JP7145193 U JP 7145193U JP H0736441 U JPH0736441 U JP H0736441U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 サセプタに対しウエハのみを搬出入するこ
と。 【構成】 成膜時、ウエハ5はサセプタ6の上面に載置
されている。処理済みウエハを搬出するとき、サセプタ
を下降させる。サセプタに嵌合している搬送リング10
はサセプタから分離し、そのリング部11はサポートリ
ング21の段部22で支持され、ウエハは搬送リングの
リング部上方に形成されている複数のアーム部12の段
部17で支持される。ウエハの下に搬送ロボットのハン
ド24を挿入し、ハンドを上昇させて、ウエハを搬送リ
ングからハンドに載せる。搬送ロボットで未処理ウエハ
をサセプタに載せるときは、逆の操作手順が実行され
る。
と。 【構成】 成膜時、ウエハ5はサセプタ6の上面に載置
されている。処理済みウエハを搬出するとき、サセプタ
を下降させる。サセプタに嵌合している搬送リング10
はサセプタから分離し、そのリング部11はサポートリ
ング21の段部22で支持され、ウエハは搬送リングの
リング部上方に形成されている複数のアーム部12の段
部17で支持される。ウエハの下に搬送ロボットのハン
ド24を挿入し、ハンドを上昇させて、ウエハを搬送リ
ングからハンドに載せる。搬送ロボットで未処理ウエハ
をサセプタに載せるときは、逆の操作手順が実行され
る。
Description
【0001】
本考案は、ロードロック機能を有する薄膜気相成長装置に係り、成長室内のサ セプタに対しウエハのみを搬出入できる薄膜気相成長装置に関する。
【0002】
薄膜気相成長装置の成長室のサセプタに対するウエハのセット、ウエハの取外 しは、成長装置にロードロック機構が用いられている場合には、成長室の扉を開 け、操作者が直接行っている。薄膜気相成長装置にロードロック機構を採用した 場合は、ウエハ移載用の専用トレイを用いてウエハの搬出入を行っている。
【0003】 かかる専用トレイを用いた薄膜気相成長装置の一例を図5,6に示す。成長室 31に設けられたサセプタ32は中央部に同心状の突設部33が形成されており 、このサセプタに嵌合するリング34即ちウエハ移載用の専用トレイには、中央 部に前記突設部33に対する開口部35と、上端周部に鍔部36が形成されてい る。サセプタ32にリング34が嵌合してウエハ37を載置し、ウエハは成膜処 理される。成長室31にゲートバルブ38を介して前室39が結合されており、 リング34の鍔部36に係合するウエハ搬送フォーク40は搬送棒41で支持さ れ、同棒は前室側面に気密に貫通している。さらに、前室39の底部を気密に貫 通する移載棒42は、その上端部にリング34の開口部35を挿通し得る大きさ の移載板43が取り付けられており、この移載板にウエハ37を載置して前室と 外部との間を昇降する。
【0004】 成膜処理済みのウエハ37を外部に取り出すときには、ゲートバルブ38を開 け、搬送フォーク40を成長室31側に前進させて、ウエハを載置するリング3 4を保持した後、前室39内の実線で示す所定位置に搬送フォークを後退させる 。ゲートバルブ38を閉じた状態で前室39の上部に形成されているウエハ搬入 口を開け、移載板43をリング34の開口部35を挿通してウエハ37を載置し 、そのまま移載板を外部まで上昇させてウエハを搬出する。そして、未処理ウエ ハの外部から成長室31への搬入は上述とは逆の手順で行われる(例えば、特開 昭61−131542号公報参照)。
【0005】
このように、成長室に対するウエハの搬出入に際し、リング33のような専用 トレイが用いられるが、かかる専用トレイは成膜処理中、ウエハと同じにサセプ タ上にあるから、専用トレイには生成物が付着する。したがって、専用トレイに 付着した生成物がウエハの搬出入に伴い成長室から他室へ混入することになり、 パーティクル汚染の原因となる。また、成長室よりウエハのみを取り出せないか ら、他室内で専用トレイからウエハを分離する機構が必要となり、構造的に複雑 となり、操作も複雑となる。
【0006】 本考案は、成長室内のサセプタに対しウエハのみを搬出入できる薄膜気相成長 装置の提供を目的とするものである。
【0007】
本考案は、多数枚のウエハを収納するカセットが設置されているカセット室と 、回転,伸縮,上下可能な搬送ロボットが設置される搬送室と、原料ガスが導入 され、サセプタ上のウエハに薄膜を気相成長させる成長室とからなる薄膜気相成 長装置において、ウエハが載置される昇降可能のサセプタと、このサセプタの周 辺部に嵌合するリング部及びこのリング部の上方に形成されてウエハを支持する 複数のアーム部を有する搬送リングと、サセプタから分離した搬送リングを支持 するサポートリングとを備え、前記搬送ロボットのハンドがウエハのみを搬送可 能に構成されていることを特徴とするものである。
【0008】
成膜時、搬送リングはサセプタに嵌合し、ウエハはサセプタに載置されている 。処理済みウエハをサセプタから搬出するとき、サセプタを下降させる。搬送リ ングはサセプタから分離し、サポートリングで支持され、ウエハは搬送リングに おける複数のアーム部によって、リング部より高い位置で支持される。ウエハの 下に搬送ロボットのハンドを挿入し、ハンドを上昇させることによりウエハをハ ンドに載せることができる。サセプタに未処理ウエハを搬送するときは逆の操作 手順が実行される。
【0009】
本考案の実施例について図面を参照して説明する。図1はロードロック機能を 有する薄膜気相成長装置の全体構成図であり、成長室1、搬送ロボットが設置さ れた搬送室2及びカセット室3の各室は、ゲ−トバルブ4a,4bによって気密 遮断可能に、所要の雰囲気状態にすることができるように、カセット室を含む3 室ロードロック方式に構成されている。成長室1にはウエハを載置する昇降可能 のサセプタ6、搬送室2には回転,伸縮,上下可能の搬送ロボット7、そしてカ セット室3には多数枚のウエハを収納できるウエハカセット8がそれぞれ設けら れており、搬送ロボットは電動機構部9によって駆動操作される。
【0010】 成長室1のサセプタ6上の処理済みウエハ5は、搬送ロボット7によって成長 室からカセット室3に搬送される。図2は成長室のサセプタ部と搬送ロボットの ハンド部の断面図、図3は同両部の上面図であり、図2は図3のA−A線での断 面を示しており、図4は実施例における各部、搬送ロボットのハンド、搬送リン グ、サセプタ及びサポートリングの斜視図である。サセプタ6の周囲にはサセプ タからウエハ5のみを分離するための搬送リング10が嵌合している。この搬送 リングのリング部11の外径はサセプタ6の外径より大きく、同リング部の上方 に等角度間隔で3個のアーム部12が設けられており、リング部の内周テーパ部 13と下端面14がサセプタ6のテーパ部15と段部16に係合することにより 搬送リングはサセプタに嵌合し、サセプタ6の上に載置されているウエハ5の周 縁の下に搬送リングの各アーム部11に形成された段部17が位置している。サ セプタ6の上面にはウエハが載置される凹部、ウエハの厚み分だけ凹んだザグリ 部18が形成されており、またサセプタには搬送リング10の各アーム部12が 入るザグリ部19が形成されている。成膜処理時、ウエハ5は搬送リング10と は接触せずにサセプタのザグリ部18に載置され、このとき、搬送リング10に おけるアーム部12の上面とサセプタ6の上面及びウエハ5の上面はフラットと なるように構成されており、サセプタ上面のガスフローの乱れをなくしている。
【0011】 サセプタ6に対するウエハの搬出入時、搬送室2及びカセット室3は真空状態 にあり、サセプタからウエハ5を搬出するときゲートバルブ4aは開く。搬送リ ング10を嵌合支持した状態のままサセプタ6を下降させる。成長室1にはサセ プタ6及びその昇降シャフト120と同心状にサポートリング21が設けられて おり、サセプタの下降に伴い、搬送リング10はサポートリングに係合し、その 段部22で支持される。このサセプタ6の下降過程で、ウエハ5は、サセプタか ら分離され、搬送リング10におけるアーム部12の段部17に載ることになり 、ウエハは搬送リングのリング部より高い位置で支持され、サセプタは一点鎖線 の位置まで下がる。サポートリング21における搬送リング支持用段部22の上 方にはテーパ部23が形成されており、段部22に搬送リング10を載せるとき の位置決めを行う。
【0012】 サセプタ6が下降し、搬送リング10がサポートリング21に置かれると、搬 送ロボット7のハンド24が挿入される。同ハンドは、搬送リング10のリング 部11と、アーム部12に形成された段部13で支持されているウエハ5との隙 間に挿入されて図3の二点鎖線で示す位置まで進出し、そこから搬送ロボットが 上昇することによりウエハはハンドの上に載る。このときウエハ5はハンド24 のエッジ部に形成されたテーパ部25により位置決めされる。ハンド24を図2 の二点鎖線で示すように後退させ、処理済みウエハ5は搬送室2に入り、ゲート バルブ4bを開けて、カセット室3のカセット8に収納される。次いで未処理ウ エハが上述した搬送手順とは逆の手順のもとでカセット室3からサセプタ6に搬 送される。
【0013】
【考案の効果】 本考案は、以上説明したように構成したので、成長室に対しウエハのみを搬出 入できるから、成長室から他室にパーティクル物質が混入せず、ウエハの搬出入 に伴うウエハの汚染を防止することができる。
【0014】 従来の専用トレイのような各室間を移動するウエハの置き換え機構を要するこ となくウエハのみの搬送が可能となり、構造が簡素化されると共に搬送時間を短 縮することができる。
【図1】ロードロック機能を有する薄膜気相成長装置の
実施例の全体構成図である。
実施例の全体構成図である。
【図2】実施例の要部である成長室のサセプタ部と搬送
ロボットのハンド部の断面図である。
ロボットのハンド部の断面図である。
【図3】実施例の要部である成長室のサセプタ部と搬送
ロボットのハンド部の上面図である。
ロボットのハンド部の上面図である。
【図4】実施例における搬送ロボットのハンド、搬送リ
ング、サセプタ、サポートリングの斜視図である。
ング、サセプタ、サポートリングの斜視図である。
【図5】従来のウエハ移載機構を備えた気相成長装置の
一例を示す正面断面図である。
一例を示す正面断面図である。
【図6】ウエハ移載機構の一部を構成するサセプタとリ
ングの斜視図である。
ングの斜視図である。
1 成長室 2 搬送室 3 カセット室 4a,4b ゲートバルブ 5 ウエハ 6 サセプタ 7 搬送ロボット 8 ウエハカセット 10 搬送リング 11 搬送リングのリング部 12 搬送リングのアーム部 13 アーム部に形成された段部 14,15 サセプタに形成されたザグリ部 21 サポートリング 22 サポートリングに形成された段部 24 搬送ロボットのハンド
Claims (1)
- 【請求項1】 多数枚のウエハを収納するカセットが設
置されているカセット室と、回転,伸縮,上下可能な搬
送ロボットが設置される搬送室と、原料ガスが導入さ
れ、サセプタ上のウエハに薄膜を気相成長させる成長室
とからなる薄膜気相成長装置において、ウエハが載置さ
れる昇降可能のサセプタと、このサセプタの周辺部に嵌
合するリング部及びこのリング部の上方に形成されてウ
エハを支持する複数のアーム部を有する搬送リングと、
サセプタから分離した搬送リングを支持するサポートリ
ングとを備え、前記搬送ロボットのハンドがウエハのみ
を搬送可能に構成されていることを特徴とする薄膜気相
成長装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7145193U JP2583675Y2 (ja) | 1993-12-08 | 1993-12-08 | 薄膜気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7145193U JP2583675Y2 (ja) | 1993-12-08 | 1993-12-08 | 薄膜気相成長装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0736441U true JPH0736441U (ja) | 1995-07-04 |
JP2583675Y2 JP2583675Y2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=13460945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7145193U Expired - Lifetime JP2583675Y2 (ja) | 1993-12-08 | 1993-12-08 | 薄膜気相成長装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2583675Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231795A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-16 | Sony Corp | サセプタ |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6539929B2 (ja) | 2015-12-21 | 2019-07-10 | 昭和電工株式会社 | ウェハ支持機構、化学気相成長装置およびエピタキシャルウェハの製造方法 |
-
1993
- 1993-12-08 JP JP7145193U patent/JP2583675Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231795A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-16 | Sony Corp | サセプタ |
JP4507414B2 (ja) * | 2001-02-05 | 2010-07-21 | ソニー株式会社 | サセプタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2583675Y2 (ja) | 1998-10-27 |
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