JPH0736167A - 感光材料処理装置の処理液温度制御方式 - Google Patents
感光材料処理装置の処理液温度制御方式Info
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- JPH0736167A JPH0736167A JP5183687A JP18368793A JPH0736167A JP H0736167 A JPH0736167 A JP H0736167A JP 5183687 A JP5183687 A JP 5183687A JP 18368793 A JP18368793 A JP 18368793A JP H0736167 A JPH0736167 A JP H0736167A
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 より小さい電源容量で効率のよい温度制御が
可能な感光材料処理装置の処理液温度制御方式。 【構成】 感光材料Ｆ処理のための複数の処理槽１３〜
１９と乾燥装置３０を有する感光材料処理装置におい
て、少なくとも１つの処理槽１３にその中の処理液を加
熱可能な複数の電熱ヒーターＮ１−１〜３を設け、各電
熱ヒーターを個別に制御可能に構成する。各処理槽に必
要な熱容量に応じて、負荷の少ない処理槽のヒーターへ
の通電を装置全体の消費電力が大きい時に停止するよう
にすることができ、電力分配の効率化が行われ、極めて
少ない容量の電源設備で対応可能となる。
可能な感光材料処理装置の処理液温度制御方式。 【構成】 感光材料Ｆ処理のための複数の処理槽１３〜
１９と乾燥装置３０を有する感光材料処理装置におい
て、少なくとも１つの処理槽１３にその中の処理液を加
熱可能な複数の電熱ヒーターＮ１−１〜３を設け、各電
熱ヒーターを個別に制御可能に構成する。各処理槽に必
要な熱容量に応じて、負荷の少ない処理槽のヒーターへ
の通電を装置全体の消費電力が大きい時に停止するよう
にすることができ、電力分配の効率化が行われ、極めて
少ない容量の電源設備で対応可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光材料処理装置に関
し、特に、その中の現像液等の処理液の温度制御方式に
関する。
し、特に、その中の現像液等の処理液の温度制御方式に
関する。
【０００２】
【従来の技術】感光材料処理装置の一種である自動現像
装置では、写真ネガフィルム、写真印画紙等の帯状感光
材料を搬送ローラで搬送させながら現像槽、定着槽、水
洗槽中の各処理液に浸漬させて、現像、定着、水洗の各
処理を行う。このような処理が済んだ感光材料は、乾燥
装置によって乾燥された後、機外に排出される。
装置では、写真ネガフィルム、写真印画紙等の帯状感光
材料を搬送ローラで搬送させながら現像槽、定着槽、水
洗槽中の各処理液に浸漬させて、現像、定着、水洗の各
処理を行う。このような処理が済んだ感光材料は、乾燥
装置によって乾燥された後、機外に排出される。
【０００３】このように、複数の処理槽がある感光材料
処理装置の場合、現像液、定着液、水洗液を一定の温度
に保つ必要があり、そのため、個々の処理槽に対応して
複数のヒーターが設置されている。すなわち、Ｎ個の処
理槽に対して各々１個ずつ合計Ｎ個のヒーターが設置さ
れている。また、１つの処理槽に複数のヒーターを設置
する場合には、処理槽の数より多くのヒーターが備えら
れることになる。また、処理が済んだ感光材料を乾燥さ
せる乾燥装置用のヒーターも必要である。
処理装置の場合、現像液、定着液、水洗液を一定の温度
に保つ必要があり、そのため、個々の処理槽に対応して
複数のヒーターが設置されている。すなわち、Ｎ個の処
理槽に対して各々１個ずつ合計Ｎ個のヒーターが設置さ
れている。また、１つの処理槽に複数のヒーターを設置
する場合には、処理槽の数より多くのヒーターが備えら
れることになる。また、処理が済んだ感光材料を乾燥さ
せる乾燥装置用のヒーターも必要である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように、複数のヒ
ーターを備える感光材料処理装置において、従来は、乾
燥装置を含めた全てのヒーターを同時にオンさせる可能
性があり、装置に必要な電気容量は大きな値になるた
め、大型の電源設備を必要としていた。
ーターを備える感光材料処理装置において、従来は、乾
燥装置を含めた全てのヒーターを同時にオンさせる可能
性があり、装置に必要な電気容量は大きな値になるた
め、大型の電源設備を必要としていた。
【０００５】本発明はこのような従来技術の問題点に鑑
みてなされたものであり、その目的は、感光材料処理装
置において、より小さい電源容量で効率のよい温度制御
が可能な処理液温度制御方式を提供することである。
みてなされたものであり、その目的は、感光材料処理装
置において、より小さい電源容量で効率のよい温度制御
が可能な処理液温度制御方式を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の感光材料処理装置の処理液温度制御方式は、感光材
料処理のための複数の処理槽と乾燥装置を有する感光材
料処理装置において、少なくとも１つの処理槽にその中
の処理液を加熱可能な複数の電熱ヒーターを設け、各電
熱ヒーターを個別に制御可能に構成したことを特徴とす
るものである。
明の感光材料処理装置の処理液温度制御方式は、感光材
料処理のための複数の処理槽と乾燥装置を有する感光材
料処理装置において、少なくとも１つの処理槽にその中
の処理液を加熱可能な複数の電熱ヒーターを設け、各電
熱ヒーターを個別に制御可能に構成したことを特徴とす
るものである。
【０００７】この場合、複数の電熱ヒーターの中の一部
の電熱ヒーターを装置立ち上げ時の昇温時にのみ通電
し、処理液温度制御時に停止するようにすることもでき
る。また、乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停止させる
ようにすることもできる。
の電熱ヒーターを装置立ち上げ時の昇温時にのみ通電
し、処理液温度制御時に停止するようにすることもでき
る。また、乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停止させる
ようにすることもできる。
【０００８】本発明のもう１つの感光材料処理装置の処
理液温度制御方式は、感光材料処理のための複数の処理
槽と乾燥装置を有する感光材料処理装置において、少な
くとも１つの処理槽を他の処理槽から処理液が流れ込む
ことにより処理液が補充されるように構成し、かつ、こ
の処理槽にその中の処理液を加熱可能な電熱ヒーターを
設け、この電熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電
時に停止させるように構成したことを特徴とするもので
ある。
理液温度制御方式は、感光材料処理のための複数の処理
槽と乾燥装置を有する感光材料処理装置において、少な
くとも１つの処理槽を他の処理槽から処理液が流れ込む
ことにより処理液が補充されるように構成し、かつ、こ
の処理槽にその中の処理液を加熱可能な電熱ヒーターを
設け、この電熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電
時に停止させるように構成したことを特徴とするもので
ある。
【０００９】さらにもう１つの本発明の感光材料処理装
置の処理液温度制御方式は、感光材料処理のための複数
の処理槽と乾燥装置を有する感光材料処理装置におい
て、少なくとも１つの処理槽を他の処理槽から処理液が
流れ込むことにより処理液が補充されるように構成し、
かつ、この処理槽にその中の処理液を加熱可能な複数の
電熱ヒーターを設け、前記複数の電熱ヒーターの中の一
部の電熱ヒーターを装置立ち上げ時の昇温時にのみ通電
し、処理液温度制御時に停止するようにしたことを特徴
とするものである。
置の処理液温度制御方式は、感光材料処理のための複数
の処理槽と乾燥装置を有する感光材料処理装置におい
て、少なくとも１つの処理槽を他の処理槽から処理液が
流れ込むことにより処理液が補充されるように構成し、
かつ、この処理槽にその中の処理液を加熱可能な複数の
電熱ヒーターを設け、前記複数の電熱ヒーターの中の一
部の電熱ヒーターを装置立ち上げ時の昇温時にのみ通電
し、処理液温度制御時に停止するようにしたことを特徴
とするものである。
【００１０】この場合、複数の電熱ヒーターの中の一部
の電熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停止
させるようにすることもできる。
の電熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停止
させるようにすることもできる。
【００１１】さらに、本発明は、感光材料処理のための
複数の処理槽と乾燥装置を有する感光材料処理装置にお
いて、何れか１つ以上の処理槽にその中の処理液を循環
させる複数の循環路が設けられ、各循環路に処理液を加
熱する電熱ヒータが設けられ、少なくとも２以上の循環
路は電熱ヒーター部において一体に熱良導体内に鋳込ま
れて加熱部が構成され、この加熱部に冷却手段が設けら
れていることを特徴とする感光材料処理装置の処理液温
度制御方式、及び、感光材料処理のための複数の処理槽
と乾燥装置を有する感光材料処理装置において、何れか
１つ以上の処理槽にその中の処理液を循環させる複数の
循環路が設けられ、各循環路は処理液を加熱する電熱ヒ
ータと共に個別に熱良導体に鋳込まれ、共通の金属ブラ
ケットに少なくとも２以上の前記熱良導体を通風路を形
成する間隔をおいて取り付けて加熱部が構成され、この
加熱部に冷却手段が設けられていることを特徴とする感
光材料処理装置の処理液温度制御方式、を含むものであ
る。
複数の処理槽と乾燥装置を有する感光材料処理装置にお
いて、何れか１つ以上の処理槽にその中の処理液を循環
させる複数の循環路が設けられ、各循環路に処理液を加
熱する電熱ヒータが設けられ、少なくとも２以上の循環
路は電熱ヒーター部において一体に熱良導体内に鋳込ま
れて加熱部が構成され、この加熱部に冷却手段が設けら
れていることを特徴とする感光材料処理装置の処理液温
度制御方式、及び、感光材料処理のための複数の処理槽
と乾燥装置を有する感光材料処理装置において、何れか
１つ以上の処理槽にその中の処理液を循環させる複数の
循環路が設けられ、各循環路は処理液を加熱する電熱ヒ
ータと共に個別に熱良導体に鋳込まれ、共通の金属ブラ
ケットに少なくとも２以上の前記熱良導体を通風路を形
成する間隔をおいて取り付けて加熱部が構成され、この
加熱部に冷却手段が設けられていることを特徴とする感
光材料処理装置の処理液温度制御方式、を含むものであ
る。
【００１２】
【作用】本発明においては、複数の電熱ヒーターを各々
個別に制御可能に構成したので、各処理槽に必要な熱容
量に応じて、負荷の少ない処理槽のヒーターへの通電を
装置全体の消費電力が大きい時に停止するようにするこ
とができ、電力分配の効率化が行われ、極めて少ない容
量の電源設備で対応可能となる。そのため、装置の小型
化が容易になるばかりか、ユーザーの電気設備の容量が
小さくても使用可能になる。
個別に制御可能に構成したので、各処理槽に必要な熱容
量に応じて、負荷の少ない処理槽のヒーターへの通電を
装置全体の消費電力が大きい時に停止するようにするこ
とができ、電力分配の効率化が行われ、極めて少ない容
量の電源設備で対応可能となる。そのため、装置の小型
化が容易になるばかりか、ユーザーの電気設備の容量が
小さくても使用可能になる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の感光材料処理装置の処理液温
度制御方式を実施例に基づいて詳しく説明する。まず、
図１に感光材料処理装置としてネガフィルム用自動現像
装置１０の全体の構成を模式的に示す。この自動現像装
置１０では、ハウジング１２内に、カラー現像槽１３、
漂白槽１４、漂白定着槽１５、定着槽１６、水洗槽１
７、リンス槽１８、リンス槽１９で構成される処理部２
０が設けられ、感光材料のネガフィルムＦがフィルム供
給部２２からハウジング１２内に入り、そして複数の搬
送ローラ２４によって搬送路２６に沿い、カラー現像槽
１３、漂白槽１４、漂白定着槽１５、定着槽１６、水洗
槽１７、リンス槽１８、リンス槽１９に順に送られ、現
像、漂白定着、水洗安定の各処理が行われる。
度制御方式を実施例に基づいて詳しく説明する。まず、
図１に感光材料処理装置としてネガフィルム用自動現像
装置１０の全体の構成を模式的に示す。この自動現像装
置１０では、ハウジング１２内に、カラー現像槽１３、
漂白槽１４、漂白定着槽１５、定着槽１６、水洗槽１
７、リンス槽１８、リンス槽１９で構成される処理部２
０が設けられ、感光材料のネガフィルムＦがフィルム供
給部２２からハウジング１２内に入り、そして複数の搬
送ローラ２４によって搬送路２６に沿い、カラー現像槽
１３、漂白槽１４、漂白定着槽１５、定着槽１６、水洗
槽１７、リンス槽１８、リンス槽１９に順に送られ、現
像、漂白定着、水洗安定の各処理が行われる。
【００１４】また、ハウジング１２内には、処理部２０
に続いて、乾燥装置２８が設けられている。乾燥装置２
８では、乾燥ボックス３０がリンス槽１９に隣接して配
置され、乾燥ボックス３０内には乾燥風が循環供給され
てこの乾燥風によって、現像等の処理済みのネガフィル
ムＦが乾燥ボックス３０内をＵ字型に搬送される過程で
乾燥される。そして、乾燥されたネガフィルムＦは、排
出部３３から機外に排出される。
に続いて、乾燥装置２８が設けられている。乾燥装置２
８では、乾燥ボックス３０がリンス槽１９に隣接して配
置され、乾燥ボックス３０内には乾燥風が循環供給され
てこの乾燥風によって、現像等の処理済みのネガフィル
ムＦが乾燥ボックス３０内をＵ字型に搬送される過程で
乾燥される。そして、乾燥されたネガフィルムＦは、排
出部３３から機外に排出される。
【００１５】このように、この実施例の自動現像装置１
０は７つの処理槽１３〜１９を備えている。図２は、こ
れら処理槽１３〜１９と乾燥ボックス３０、及び、各処
理槽に付属するヒータ等を模式的に示す図であり、各処
理槽には、図示の矢印方向に進む処理液循環路Ｌと循環
ポンプＰが付属している。この中、処理槽１４〜１９に
は各々１本の循環路Ｌと循環ポンプＰが付属し、各循環
路ＬにそれぞれヒーターＮ２、Ｎ３−１、Ｎ３−２、Ｎ
Ｓ、Ｎ４−１、Ｎ４−２が並列して設けられ、循環する
処理液を加熱できるようになっている。また、カラー現
像槽１３には３本の循環路Ｌと循環ポンプＰが付属し、
各循環路にそれぞれヒーターＮ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１
−３が設けられている。したがって、処理部２０には９
個のヒーターを備えている。また、乾燥ボックス３０内
には乾燥ヒーター１が設けられている。
０は７つの処理槽１３〜１９を備えている。図２は、こ
れら処理槽１３〜１９と乾燥ボックス３０、及び、各処
理槽に付属するヒータ等を模式的に示す図であり、各処
理槽には、図示の矢印方向に進む処理液循環路Ｌと循環
ポンプＰが付属している。この中、処理槽１４〜１９に
は各々１本の循環路Ｌと循環ポンプＰが付属し、各循環
路ＬにそれぞれヒーターＮ２、Ｎ３−１、Ｎ３−２、Ｎ
Ｓ、Ｎ４−１、Ｎ４−２が並列して設けられ、循環する
処理液を加熱できるようになっている。また、カラー現
像槽１３には３本の循環路Ｌと循環ポンプＰが付属し、
各循環路にそれぞれヒーターＮ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１
−３が設けられている。したがって、処理部２０には９
個のヒーターを備えている。また、乾燥ボックス３０内
には乾燥ヒーター１が設けられている。
【００１６】そして、カラー現像槽１３用の３本の循環
路Ｌは、図３（ａ）に示すように、ヒーターＮ１−１、
Ｎ１−２、Ｎ１−３部においてこれらと共に一体にアル
ミニウムのような熱良導体Ｍ内に鋳込まれ、加熱部Ｈ１
を構成しており、この加熱部Ｈ１にはファンｆが同時に
取り付けられ、冷却もできるようになっている。また、
漂白槽１４、漂白定着槽１５、定着槽１６各用の３本の
循環路Ｌも、それらのヒーターＮ２、Ｎ３−１、Ｎ３−
２部においてこれらと共に同様に一体に熱良導体内に鋳
込まれ、加熱部Ｈ２を構成しており、この加熱部Ｈ２に
もファンｆが同時に取り付けられ、冷却もできるように
なっている。同様に、水洗槽１７、リンス槽１８、リン
ス槽１９各用の３本の循環路Ｌも、それらのヒーターＮ
Ｓ、Ｎ４−１、Ｎ４−２部において一体に熱良導体内に
鋳込まれ、加熱部Ｈ３を構成しており、この加熱部Ｈ３
にもファンｆが同時に取り付けられ、冷却もできるよう
になっている。
路Ｌは、図３（ａ）に示すように、ヒーターＮ１−１、
Ｎ１−２、Ｎ１−３部においてこれらと共に一体にアル
ミニウムのような熱良導体Ｍ内に鋳込まれ、加熱部Ｈ１
を構成しており、この加熱部Ｈ１にはファンｆが同時に
取り付けられ、冷却もできるようになっている。また、
漂白槽１４、漂白定着槽１５、定着槽１６各用の３本の
循環路Ｌも、それらのヒーターＮ２、Ｎ３−１、Ｎ３−
２部においてこれらと共に同様に一体に熱良導体内に鋳
込まれ、加熱部Ｈ２を構成しており、この加熱部Ｈ２に
もファンｆが同時に取り付けられ、冷却もできるように
なっている。同様に、水洗槽１７、リンス槽１８、リン
ス槽１９各用の３本の循環路Ｌも、それらのヒーターＮ
Ｓ、Ｎ４−１、Ｎ４−２部において一体に熱良導体内に
鋳込まれ、加熱部Ｈ３を構成しており、この加熱部Ｈ３
にもファンｆが同時に取り付けられ、冷却もできるよう
になっている。
【００１７】なお、加熱部Ｈ１〜Ｈ３の構成について
は、図３（ａ）のような構成に代えて、同図（ｂ）に示
すように、各循環路Ｌは、ヒーターＮ１−１部等におい
てヒーターと共に個別に熱良導体Ｍ内に鋳込まれ、共通
の金属ブラケットＢに熱良導体Ｍを複数、間に通風路を
開けるように離間して取り付けて加熱部Ｈ１等を構成し
てもよく、この場合も各加熱部にはファンｆが同時に取
り付け、冷却もできるように構成する。
は、図３（ａ）のような構成に代えて、同図（ｂ）に示
すように、各循環路Ｌは、ヒーターＮ１−１部等におい
てヒーターと共に個別に熱良導体Ｍ内に鋳込まれ、共通
の金属ブラケットＢに熱良導体Ｍを複数、間に通風路を
開けるように離間して取り付けて加熱部Ｈ１等を構成し
てもよく、この場合も各加熱部にはファンｆが同時に取
り付け、冷却もできるように構成する。
【００１８】これら処理槽中の処理液温度は、例えば、
カラー現像槽１３は３７．６±０．１５℃に、漂白槽１
４は３８±３℃に、漂白定着槽１５は３８±３℃に、定
着槽１６は３８±３℃に、水洗槽１７は３８±３℃に、
リンス槽１８、１９は３８±３℃に、それぞれ温度制御
される必要がある。
カラー現像槽１３は３７．６±０．１５℃に、漂白槽１
４は３８±３℃に、漂白定着槽１５は３８±３℃に、定
着槽１６は３８±３℃に、水洗槽１７は３８±３℃に、
リンス槽１８、１９は３８±３℃に、それぞれ温度制御
される必要がある。
【００１９】そして、９個のヒーターの各々の容量が例
えば２４０Ｖ，３６０Ｗであるとし、２４０Ｖで全ての
ヒーターを同時に使用すると、全体に必要な容量は３６
０Ｗ×９＝３２４０Ｗになる。処理液ヒーターのみでこ
れだけの容量の電源設備が必要になってくる。
えば２４０Ｖ，３６０Ｗであるとし、２４０Ｖで全ての
ヒーターを同時に使用すると、全体に必要な容量は３６
０Ｗ×９＝３２４０Ｗになる。処理液ヒーターのみでこ
れだけの容量の電源設備が必要になってくる。
【００２０】そこで、本発明においては、各処理槽に必
要な熱容量に応じて（負荷の大きさに応じて）、負荷の
少ない処理槽のヒーターへの通電を、装置全体の消費電
力が大きい時に停止するようにする。図１のような自動
現像装置１０において、装置全体の負荷が大きい時と
は、フィルムＦ処理中のドライブ状態の時で乾燥ヒータ
ー１（図２）に通電されている時である。この装置の例
では、乾燥ヒーター１は２４００Ｗを使用しているの
で、本発明の方式を採用しない場合は、処理液ヒーター
Ｎ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３
−２、ＮＳ、Ｎ４−１、Ｎ４−２と乾燥ヒーター１のみ
の電気容量の合計値の最大は、３２４０＋２４００＝５
６４０Ｗにもなり、これに相当する電源設備が必要であ
る。ところが、以下に例示する本発明の方式を採用する
と、電力の分配の効率化が行われ、極めて少ない容量の
電源設備で対応が可能となる。
要な熱容量に応じて（負荷の大きさに応じて）、負荷の
少ない処理槽のヒーターへの通電を、装置全体の消費電
力が大きい時に停止するようにする。図１のような自動
現像装置１０において、装置全体の負荷が大きい時と
は、フィルムＦ処理中のドライブ状態の時で乾燥ヒータ
ー１（図２）に通電されている時である。この装置の例
では、乾燥ヒーター１は２４００Ｗを使用しているの
で、本発明の方式を採用しない場合は、処理液ヒーター
Ｎ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３
−２、ＮＳ、Ｎ４−１、Ｎ４−２と乾燥ヒーター１のみ
の電気容量の合計値の最大は、３２４０＋２４００＝５
６４０Ｗにもなり、これに相当する電源設備が必要であ
る。ところが、以下に例示する本発明の方式を採用する
と、電力の分配の効率化が行われ、極めて少ない容量の
電源設備で対応が可能となる。
【００２１】以下、第１の例として、図４に各ヒーター
への通電制御のタイミングチャートを示す。この例は、
装置１０全体の消費電力を少なくするために、カラー現
像槽１３用のヒーターＮ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１−３の
無駄な電力を極力減らすものである。朝の装置立ち上げ
時等の昇温時は、処理液流量の多い槽１３では大きな容
量（Ｗ数大）のヒーターが必要で、その容量が少ない
と、昇温速度が遅くなり不便である。本例では、カラー
現像槽１３には１０８０Ｗのヒーターが必要であるが、
これを１０８０Ｗの１個のヒーターで行うのではなく、
図２に示すようにあえて３６０Ｗ×３本のヒーターに分
割し、各々を別々に通電制御している。このようにし
て、昇温後の温調過程では少ない容量のヒーターで液の
温度保持を行うことができる。より具体的には、図４に
示すように、昇温時には３本のヒーターＮ１−１、Ｎ１
−２、Ｎ１−３を同時に通電し、昇温後は１本Ｎ１−３
は完全に停止とし、残る２本Ｎ１−１、Ｎ１−２で液温
コントロールを行う。さらに、装置全体の負荷の大きい
乾燥ヒーター１通電時には、さらに１本Ｎ１−２を停止
し、残る１本Ｎ１−１で液温保持を行うようにしてい
る。
への通電制御のタイミングチャートを示す。この例は、
装置１０全体の消費電力を少なくするために、カラー現
像槽１３用のヒーターＮ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１−３の
無駄な電力を極力減らすものである。朝の装置立ち上げ
時等の昇温時は、処理液流量の多い槽１３では大きな容
量（Ｗ数大）のヒーターが必要で、その容量が少ない
と、昇温速度が遅くなり不便である。本例では、カラー
現像槽１３には１０８０Ｗのヒーターが必要であるが、
これを１０８０Ｗの１個のヒーターで行うのではなく、
図２に示すようにあえて３６０Ｗ×３本のヒーターに分
割し、各々を別々に通電制御している。このようにし
て、昇温後の温調過程では少ない容量のヒーターで液の
温度保持を行うことができる。より具体的には、図４に
示すように、昇温時には３本のヒーターＮ１−１、Ｎ１
−２、Ｎ１−３を同時に通電し、昇温後は１本Ｎ１−３
は完全に停止とし、残る２本Ｎ１−１、Ｎ１−２で液温
コントロールを行う。さらに、装置全体の負荷の大きい
乾燥ヒーター１通電時には、さらに１本Ｎ１−２を停止
し、残る１本Ｎ１−１で液温保持を行うようにしてい
る。
【００２２】ところで、図５に図２の各処理槽１３〜１
９への処理液補充及び廃液系統図を示す。この実施例の
場合、図５に示すように、処理液補充部３４の５つの補
充液タンク３５〜３９から図示のような経路を辿ってポ
ンプＰにより各処理液が補充されるようになっている。
各処理槽への液補充は、処理したネガフィルムＦの量を
その供給部に設けられてフォトセンサーで測定し、その
処理量に応じて個々の処理液の補充が行われる。また、
処理槽１３、１５、１８のみから廃液が外置き廃液タン
クに排出されるよになっている。図５から明らかなよう
に、漂白定着槽１５とリンス槽１８には処理液補充部３
４から直接に処理液補充がなされず、漂白定着槽１５に
は隣接する漂白槽１４と定着槽１６からのオーバフロー
により処理液が流入し、リンス槽１８には下流のリンス
槽１９からのオーバフローにより処理液が流入すること
により処理液が補充されるようになっており、また、定
着槽１６には処理液補充部３４からの直接処理液補充と
共に、水洗槽１７からオーバフローにより処理液が流入
するようになっている。
９への処理液補充及び廃液系統図を示す。この実施例の
場合、図５に示すように、処理液補充部３４の５つの補
充液タンク３５〜３９から図示のような経路を辿ってポ
ンプＰにより各処理液が補充されるようになっている。
各処理槽への液補充は、処理したネガフィルムＦの量を
その供給部に設けられてフォトセンサーで測定し、その
処理量に応じて個々の処理液の補充が行われる。また、
処理槽１３、１５、１８のみから廃液が外置き廃液タン
クに排出されるよになっている。図５から明らかなよう
に、漂白定着槽１５とリンス槽１８には処理液補充部３
４から直接に処理液補充がなされず、漂白定着槽１５に
は隣接する漂白槽１４と定着槽１６からのオーバフロー
により処理液が流入し、リンス槽１８には下流のリンス
槽１９からのオーバフローにより処理液が流入すること
により処理液が補充されるようになっており、また、定
着槽１６には処理液補充部３４からの直接処理液補充と
共に、水洗槽１７からオーバフローにより処理液が流入
するようになっている。
【００２３】第２の例として、漂白定着槽１５、リンス
槽１８のように他の処理槽からのオーバーフローによる
処理液の流入がある槽であって補充タンクからの補充液
が直接入らない処理槽のためのヒーター通電制御を説明
する。図６は漂白定着槽１５用ヒーターへの通電制御の
タイミングチャート、図７はリンス槽１８用ヒーターへ
の通電制御のタイミングチャートを示す。漂白定着槽１
５とリンス槽１８には、補充タンクの補充液のように冷
たい補充液は入らず、単に他の槽で温度調製された処理
液が流れ込むため、液の温度制御に必要な熱量は少なく
て済む。したがって、このような槽のヒーターは、朝の
立ち上げ時の昇温には、必要な昇温速度を得るための容
量のヒーターが必要であるが、昇温後の温調過程ではよ
り小さい容量のヒーターで十分である。より具体的に
は、漂白定着槽１５用ヒーターＮ３−１については、図
６に示すように、昇温時には定着槽１６用ヒーターＮ３
−２等と共に同時に通電し、昇温後は、装置全体の負荷
の大きい乾燥ヒーター１通電時を外して液温保持のため
に通電するようにしている。また、リンス槽１８用ヒー
ターＮ４−１については、図７に示すように、昇温時に
はリンス槽１９用ヒーターＮ４−２等と共に同時に通電
し、昇温後は、乾燥ヒーター１通電時を外して液温保持
のために通電するようにしている。本例では、漂白定着
槽１５、リンス槽１８各々に３６０Ｗ１本のヒーターを
使用しているが、この容量は昇温時に必要な容量で、温
調時には半分以下で十分である。例えば、これらヒータ
ーを１８０Ｗ×２個で構成し、温調時に１個を停止させ
るようにすることも可能である。
槽１８のように他の処理槽からのオーバーフローによる
処理液の流入がある槽であって補充タンクからの補充液
が直接入らない処理槽のためのヒーター通電制御を説明
する。図６は漂白定着槽１５用ヒーターへの通電制御の
タイミングチャート、図７はリンス槽１８用ヒーターへ
の通電制御のタイミングチャートを示す。漂白定着槽１
５とリンス槽１８には、補充タンクの補充液のように冷
たい補充液は入らず、単に他の槽で温度調製された処理
液が流れ込むため、液の温度制御に必要な熱量は少なく
て済む。したがって、このような槽のヒーターは、朝の
立ち上げ時の昇温には、必要な昇温速度を得るための容
量のヒーターが必要であるが、昇温後の温調過程ではよ
り小さい容量のヒーターで十分である。より具体的に
は、漂白定着槽１５用ヒーターＮ３−１については、図
６に示すように、昇温時には定着槽１６用ヒーターＮ３
−２等と共に同時に通電し、昇温後は、装置全体の負荷
の大きい乾燥ヒーター１通電時を外して液温保持のため
に通電するようにしている。また、リンス槽１８用ヒー
ターＮ４−１については、図７に示すように、昇温時に
はリンス槽１９用ヒーターＮ４−２等と共に同時に通電
し、昇温後は、乾燥ヒーター１通電時を外して液温保持
のために通電するようにしている。本例では、漂白定着
槽１５、リンス槽１８各々に３６０Ｗ１本のヒーターを
使用しているが、この容量は昇温時に必要な容量で、温
調時には半分以下で十分である。例えば、これらヒータ
ーを１８０Ｗ×２個で構成し、温調時に１個を停止させ
るようにすることも可能である。
【００２４】以上のような通電制御方法の採用によっ
て、本例では、次のように装置全体の負荷を少なくする
ことができる。 ドライブ時（フィルム処理時）： 液ヒーター 乾燥ヒーター 計 本例を採用しない時 （３６０Ｗ×９）＋（２４００Ｗ）＝ ５６４０Ｗ 本例採用時 （３６０Ｗ×５）＋（２４００Ｗ）＝ ４２００Ｗ （Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ３−１、Ｎ４−１停止のた め、２５％容量減少ができる。） スタンバイ時（フィルムが通っていない待機時）： 液ヒーター 計 本例を採用しない時 （３６０Ｗ×９） ＝ ３２４０Ｗ 本例採用時 （３６０Ｗ×８） ＝ ２８８０Ｗ （Ｎ１−３停止のため、１２％容量減少ができる。） ところで、上記のように、複数のヒーター１、Ｎ１−
１、Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３−２、
ＮＳ、Ｎ４−１、Ｎ４−２を単一の電源に並列に接続し
て、各々の通電タイミングを独立に制御するには、例え
ば、図８に示すような回路で構成すればよい。すなわ
ち、商用電源４０に、各ヒーターＮ１−１、Ｎ１−２、
Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３−２、ＮＳ、Ｎ４−
１、Ｎ４−２、１をそれぞれサイリスタのようなスイッ
チ回路４１〜５０を介して並列に接続する。そして、ス
イッチ回路４１〜５０各々のＯＮ、ＯＦＦ動作を制御す
る信号をＣＰＵ６０から各スイッチ回路４１〜５０に供
給できるように接続する。また、処理槽１３〜１９中の
処理液の温度を検出するための温度検出器５３〜５９を
各処理槽１３〜１９中に設け、それらからの検出信号を
ＣＰＵ６０に入力するように接続する。このように制御
回路を構成し、図４、図６、図７に例示したようなタイ
ミングで各ヒーターへの通電を制御する。
て、本例では、次のように装置全体の負荷を少なくする
ことができる。 ドライブ時（フィルム処理時）： 液ヒーター 乾燥ヒーター 計 本例を採用しない時 （３６０Ｗ×９）＋（２４００Ｗ）＝ ５６４０Ｗ 本例採用時 （３６０Ｗ×５）＋（２４００Ｗ）＝ ４２００Ｗ （Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ３−１、Ｎ４−１停止のた め、２５％容量減少ができる。） スタンバイ時（フィルムが通っていない待機時）： 液ヒーター 計 本例を採用しない時 （３６０Ｗ×９） ＝ ３２４０Ｗ 本例採用時 （３６０Ｗ×８） ＝ ２８８０Ｗ （Ｎ１−３停止のため、１２％容量減少ができる。） ところで、上記のように、複数のヒーター１、Ｎ１−
１、Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３−２、
ＮＳ、Ｎ４−１、Ｎ４−２を単一の電源に並列に接続し
て、各々の通電タイミングを独立に制御するには、例え
ば、図８に示すような回路で構成すればよい。すなわ
ち、商用電源４０に、各ヒーターＮ１−１、Ｎ１−２、
Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３−２、ＮＳ、Ｎ４−
１、Ｎ４−２、１をそれぞれサイリスタのようなスイッ
チ回路４１〜５０を介して並列に接続する。そして、ス
イッチ回路４１〜５０各々のＯＮ、ＯＦＦ動作を制御す
る信号をＣＰＵ６０から各スイッチ回路４１〜５０に供
給できるように接続する。また、処理槽１３〜１９中の
処理液の温度を検出するための温度検出器５３〜５９を
各処理槽１３〜１９中に設け、それらからの検出信号を
ＣＰＵ６０に入力するように接続する。このように制御
回路を構成し、図４、図６、図７に例示したようなタイ
ミングで各ヒーターへの通電を制御する。
【００２５】さて、図３の関連で説明したように、各処
理槽の処理液循環路Ｌはヒーター部において複数まとめ
て一体に熱良導体内に鋳込まれて加熱部Ｈ１〜Ｈ３が構
成されるか、各循環路Ｌはヒーター部において個別に熱
良導体Ｍに鋳込まれ、共通の金属ブラケットに複数、間
に通風路を開けるように離間して取り付けて加熱部Ｈ１
〜Ｈ３が構成されており、かつ、これら加熱部Ｈ１〜Ｈ
３にはファンｆ等の冷却手段が設けられているので、各
処理槽の処理液を効率良く加熱できると共に、ヒーター
停止時に冷却を必要とする場合、そのラジエータ作用に
より効率よく冷却ができる。例えば、加熱部Ｈ１の場
合、昇温後は２個のヒーターＮ１−１、Ｎ１−２のみで
１個のヒーターＮ１−３は全く使用しないが、冷却が必
要な場合、加熱部Ｈ１がヒーターＮ１−３も含めて一体
で構成されているため、冷却に必要な表面積が確保さ
れ、効率よく冷却ができる。仮に、ヒーター部が１個又
は２個のヒーターのみで構成されている場合、冷却不足
になってくる。なお、処理液温度がほぼ同じ処理槽をま
とめてそれに１つの加熱部を付属させるようにすること
が望ましい。
理槽の処理液循環路Ｌはヒーター部において複数まとめ
て一体に熱良導体内に鋳込まれて加熱部Ｈ１〜Ｈ３が構
成されるか、各循環路Ｌはヒーター部において個別に熱
良導体Ｍに鋳込まれ、共通の金属ブラケットに複数、間
に通風路を開けるように離間して取り付けて加熱部Ｈ１
〜Ｈ３が構成されており、かつ、これら加熱部Ｈ１〜Ｈ
３にはファンｆ等の冷却手段が設けられているので、各
処理槽の処理液を効率良く加熱できると共に、ヒーター
停止時に冷却を必要とする場合、そのラジエータ作用に
より効率よく冷却ができる。例えば、加熱部Ｈ１の場
合、昇温後は２個のヒーターＮ１−１、Ｎ１−２のみで
１個のヒーターＮ１−３は全く使用しないが、冷却が必
要な場合、加熱部Ｈ１がヒーターＮ１−３も含めて一体
で構成されているため、冷却に必要な表面積が確保さ
れ、効率よく冷却ができる。仮に、ヒーター部が１個又
は２個のヒーターのみで構成されている場合、冷却不足
になってくる。なお、処理液温度がほぼ同じ処理槽をま
とめてそれに１つの加熱部を付属させるようにすること
が望ましい。
【００２６】以上、本発明の感光材料処理装置の処理液
温度制御方式を実施例に基づいて説明してきたが、本発
明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能であ
る。
温度制御方式を実施例に基づいて説明してきたが、本発
明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能であ
る。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の感光材料処理装置の処理液温度制御方式によると、複
数の電熱ヒーターを各々個別に制御可能に構成したの
で、各処理槽に必要な熱容量に応じて、負荷の少ない処
理槽のヒーターへの通電を装置全体の消費電力が大きい
時に停止するようにすることができ、電力分配の効率化
が行われ、極めて少ない容量の電源設備で対応可能とな
る。そのため、装置の小型化が容易になるばかりか、ユ
ーザーの電気設備の容量が小さくても使用可能になる。
の感光材料処理装置の処理液温度制御方式によると、複
数の電熱ヒーターを各々個別に制御可能に構成したの
で、各処理槽に必要な熱容量に応じて、負荷の少ない処
理槽のヒーターへの通電を装置全体の消費電力が大きい
時に停止するようにすることができ、電力分配の効率化
が行われ、極めて少ない容量の電源設備で対応可能とな
る。そのため、装置の小型化が容易になるばかりか、ユ
ーザーの電気設備の容量が小さくても使用可能になる。
【図１】本発明を適用する自動現像装置の１例の全体の
構成を模式的に示す図である。
構成を模式的に示す図である。
【図２】図１の装置の処理槽、乾燥ボックス、各処理槽
に付属するヒータ等を模式的に示す図である。
に付属するヒータ等を模式的に示す図である。
【図３】加熱部の構成を示す断面図である。
【図４】現像槽用ヒーターへの通電制御のタイミングチ
ャートである。
ャートである。
【図５】各処理槽への処理液補充及び廃液系統図であ
る。
る。
【図６】漂白定着槽用ヒーターへの通電制御のタイミン
グチャートである。
グチャートである。
【図７】リンス槽用ヒーターへの通電制御のタイミング
チャートである。
チャートである。
【図８】制御回路の１例を示す図である。
Ｆ…ネガフィルム Ｌ…処理液循環路 Ｐ…ポンプ Ｎ１−１、Ｎ１−２、Ｎ１−３、Ｎ２、Ｎ３−１、Ｎ３
−２、ＮＳ、Ｎ４−１、Ｎ４−２…ヒーター Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３…加熱部 Ｍ…熱良導体 Ｂ…金属ブラケット ｆ…ファン １…乾燥ヒーター １０…自動現像装置 １２…ハウジング １３…カラー現像槽 １４…漂白槽 １５…漂白定着槽 １６…定着槽 １７…水洗槽 １８、１９…リンス槽 ２０…処理部 ２２…フィルム供給部 ２４…搬送ローラ ２６…搬送路 ２８…乾燥装置 ３０…乾燥ボックス ３３…排出部 ３４…処理液補充部 ３５〜３９…補充液タンク ４０…商用電源 ４１〜５０…スイッチ回路 ６０…ＣＰＵ ５３〜５９…温度検出器
−２、ＮＳ、Ｎ４−１、Ｎ４−２…ヒーター Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３…加熱部 Ｍ…熱良導体 Ｂ…金属ブラケット ｆ…ファン １…乾燥ヒーター １０…自動現像装置 １２…ハウジング １３…カラー現像槽 １４…漂白槽 １５…漂白定着槽 １６…定着槽 １７…水洗槽 １８、１９…リンス槽 ２０…処理部 ２２…フィルム供給部 ２４…搬送ローラ ２６…搬送路 ２８…乾燥装置 ３０…乾燥ボックス ３３…排出部 ３４…処理液補充部 ３５〜３９…補充液タンク ４０…商用電源 ４１〜５０…スイッチ回路 ６０…ＣＰＵ ５３〜５９…温度検出器
Claims (8)
- 【請求項１】 感光材料処理のための複数の処理槽と乾
燥装置を有する感光材料処理装置において、少なくとも
１つの処理槽にその中の処理液を加熱可能な複数の電熱
ヒーターを設け、各電熱ヒーターを個別に制御可能に構
成したことを特徴とする感光材料処理装置の処理液温度
制御方式。 - 【請求項２】 前記複数の電熱ヒーターの中の一部の電
熱ヒーターを装置立ち上げ時の昇温時にのみ通電し、処
理液温度制御時に停止するようにしたことを特徴とする
請求項１記載の感光材料処理装置の処理液温度制御方
式。 - 【請求項３】 前記複数の電熱ヒーターの中の一部の電
熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停止させ
るようにしたことを特徴とする請求項１記載の感光材料
処理装置の処理液温度制御方式。 - 【請求項４】 感光材料処理のための複数の処理槽と乾
燥装置を有する感光材料処理装置において、少なくとも
１つの処理槽を他の処理槽から処理液が流れ込むことに
より処理液が補充されるように構成し、かつ、この処理
槽にその中の処理液を加熱可能な電熱ヒーターを設け、
この電熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停
止させるように構成したことを特徴とする感光材料処理
装置の処理液温度制御方式。 - 【請求項５】 感光材料処理のための複数の処理槽と乾
燥装置を有する感光材料処理装置において、少なくとも
１つの処理槽を他の処理槽から処理液が流れ込むことに
より処理液が補充されるように構成し、かつ、この処理
槽にその中の処理液を加熱可能な複数の電熱ヒーターを
設け、前記複数の電熱ヒーターの中の一部の電熱ヒータ
ーを装置立ち上げ時の昇温時にのみ通電し、処理液温度
制御時に停止するように構成したことを特徴とする感光
材料処理装置の処理液温度制御方式。 - 【請求項６】 前記複数の電熱ヒーターの中の一部の電
熱ヒーターを乾燥装置の電熱ヒーター通電時に停止させ
るようにしたことを特徴とする請求項５記載の感光材料
処理装置の処理液温度制御方式。 - 【請求項７】 感光材料処理のための複数の処理槽と乾
燥装置を有する感光材料処理装置において、何れか１つ
以上の処理槽にその中の処理液を循環させる複数の循環
路が設けられ、各循環路に処理液を加熱する電熱ヒータ
が設けられ、少なくとも２以上の循環路は電熱ヒーター
部において一体に熱良導体内に鋳込まれて加熱部が構成
され、この加熱部に冷却手段が設けられていることを特
徴とする感光材料処理装置の処理液温度制御方式。 - 【請求項８】 感光材料処理のための複数の処理槽と乾
燥装置を有する感光材料処理装置において、何れか１つ
以上の処理槽にその中の処理液を循環させる複数の循環
路が設けられ、各循環路は処理液を加熱する電熱ヒータ
と共に個別に熱良導体に鋳込まれ、共通の金属ブラケッ
トに少なくとも２以上の前記熱良導体を通風路を形成す
る間隔をおいて取り付けて加熱部が構成され、この加熱
部に冷却手段が設けられていることを特徴とする感光材
料処理装置の処理液温度制御方式。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368793A JP3165290B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | 感光材料処理装置の処理液温度制御方式 |
| US08/278,221 US5486890A (en) | 1993-07-26 | 1994-07-21 | System for controlling the temperatures of processing solutions in photosensitive material processors |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368793A JP3165290B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | 感光材料処理装置の処理液温度制御方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0736167A true JPH0736167A (ja) | 1995-02-07 |
| JP3165290B2 JP3165290B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=16140180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18368793A Expired - Fee Related JP3165290B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | 感光材料処理装置の処理液温度制御方式 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5486890A (ja) |
| JP (1) | JP3165290B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006133390A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Noritsu Koki Co Ltd | 現像処理装置及び現像処理液の温度調整方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07333802A (ja) * | 1994-06-13 | 1995-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真感光材料の処理方法及び写真処理装置 |
| JP3643165B2 (ja) * | 1996-01-31 | 2005-04-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58105150A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−写真処理装置 |
| US4813440A (en) * | 1985-02-11 | 1989-03-21 | Entek Manufacturing Inc. | Apparatus for degreasing a continuous sheet of thin material |
| US4755843A (en) * | 1987-06-12 | 1988-07-05 | Eastman Kodak Company | Temperature control system for a photographic processor |
| EP0327674A3 (de) * | 1988-02-12 | 1990-09-05 | ING. HERMANN KÜMMERL, LABORGERÄTEBAU, Inh. Ing. Klaus Kümmerl | Fotografische Entwicklungsmaschine |
| US5168296A (en) * | 1988-04-20 | 1992-12-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| US5148206A (en) * | 1988-10-07 | 1992-09-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Automatic film processor using ultrasonic wave generators |
| US5235371A (en) * | 1990-03-16 | 1993-08-10 | Eastman Kodak Company | Modification of film processor chemistry proportional heating during replenishment |
| US5313241A (en) * | 1992-11-25 | 1994-05-17 | Eastman Kodak Company | Processor diagnostics using switch settings |
-
1993
- 1993-07-26 JP JP18368793A patent/JP3165290B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-07-21 US US08/278,221 patent/US5486890A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006133390A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Noritsu Koki Co Ltd | 現像処理装置及び現像処理液の温度調整方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3165290B2 (ja) | 2001-05-14 |
| US5486890A (en) | 1996-01-23 |
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