JPH0735993A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
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- JPH0735993A JPH0735993A JP5181610A JP18161093A JPH0735993A JP H0735993 A JPH0735993 A JP H0735993A JP 5181610 A JP5181610 A JP 5181610A JP 18161093 A JP18161093 A JP 18161093A JP H0735993 A JPH0735993 A JP H0735993A
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- laser
- scanning direction
- luminous flux
- light flux
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
- B23K26/0613—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光焼付用マスクを使用せず、描画速度を向
上できるレーザ描画装置において、複数の描画用光束の
調整作業を簡単に行ない得る構造のレーザ描画装置を提
供すること。 【構成】 アルゴンレーザ装置からのレーザ光を、複数
の描画用光束からなる少なくとも二列の描画用光束群に
分割するハーフプリズム、ビームセパレータ；上記二列
の描画用光束群を描画面に対して走査するポリゴンミラ
ー；上記二列の描画用光束群の少なくとも一方を回転さ
せるビームセパレータ；上記二列の描画用光束群の少な
くとも一方を、上記走査手段の主走査方向に移動させる
ピッチ変換用集光光学系；および、上記二列の描画用光
束群の少なくとも一方を、上記主走査方向と直交する副
走査方向に移動させるビームベンダ、偏光ビームスプリ
ッタを備えたレーザ描画装置。
上できるレーザ描画装置において、複数の描画用光束の
調整作業を簡単に行ない得る構造のレーザ描画装置を提
供すること。 【構成】 アルゴンレーザ装置からのレーザ光を、複数
の描画用光束からなる少なくとも二列の描画用光束群に
分割するハーフプリズム、ビームセパレータ；上記二列
の描画用光束群を描画面に対して走査するポリゴンミラ
ー；上記二列の描画用光束群の少なくとも一方を回転さ
せるビームセパレータ；上記二列の描画用光束群の少な
くとも一方を、上記走査手段の主走査方向に移動させる
ピッチ変換用集光光学系；および、上記二列の描画用光
束群の少なくとも一方を、上記主走査方向と直交する副
走査方向に移動させるビームベンダ、偏光ビームスプリ
ッタを備えたレーザ描画装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板に回路パターンを
形成するとき等に使用されるレーザ描画装置に関する。
形成するとき等に使用されるレーザ描画装置に関する。
【０００２】
【従来技術およびその問題点】基板に回路パターンを形
成する場合、例えば銅等の導電金属材料からなる薄膜を
均一に付着させた基板上に、フォトポリマー等を均一に
付着させ、この基板を露光焼付用マスク（フォトマスク
フィルム）によって覆い、この状態の基板に紫外光等を
照射して、露光焼付用マスクに形成した回路パターンを
露光焼付する方法が用いられる。この方法において、露
光焼付後、基板上の露光されたフォトポリマーを溶剤に
よって洗い流し、銅等を腐食させる薬液で処理すると、
フォトポリマーが付着したままの部分が腐食されずに残
るため、露光焼付用マスクの回路パターンと同一の回路
パターンを基板上に形成することができる。
成する場合、例えば銅等の導電金属材料からなる薄膜を
均一に付着させた基板上に、フォトポリマー等を均一に
付着させ、この基板を露光焼付用マスク（フォトマスク
フィルム）によって覆い、この状態の基板に紫外光等を
照射して、露光焼付用マスクに形成した回路パターンを
露光焼付する方法が用いられる。この方法において、露
光焼付後、基板上の露光されたフォトポリマーを溶剤に
よって洗い流し、銅等を腐食させる薬液で処理すると、
フォトポリマーが付着したままの部分が腐食されずに残
るため、露光焼付用マスクの回路パターンと同一の回路
パターンを基板上に形成することができる。
【０００３】しかし、このような回路パターンの製造方
法によると、製造過程において不可欠な露光焼付用マス
クの検査に要する時間的、工数的な負担が大きく、また
伸縮防止のために露光焼付用マスクを湿度、温度変化か
ら保護し、ゴミや傷による障害からも保護しなければな
らない等、管理上の負担が大きい。さらにこの回路パタ
ーン製造方法によると、他品種少量生産における初期コ
ストアップや、マスクパターンの位置合わせ精度の限界
等の問題も生じる。他方、露光焼付用マスクを使用せ
ず、レーザ光を、ポリゴンミラー等によって基板に対し
走査して、基板に直接的に描画（露光）する製造方法も
知られている。この方法によれば、上記問題点を緩和で
きるものの、その描画速度は極めて遅い。
法によると、製造過程において不可欠な露光焼付用マス
クの検査に要する時間的、工数的な負担が大きく、また
伸縮防止のために露光焼付用マスクを湿度、温度変化か
ら保護し、ゴミや傷による障害からも保護しなければな
らない等、管理上の負担が大きい。さらにこの回路パタ
ーン製造方法によると、他品種少量生産における初期コ
ストアップや、マスクパターンの位置合わせ精度の限界
等の問題も生じる。他方、露光焼付用マスクを使用せ
ず、レーザ光を、ポリゴンミラー等によって基板に対し
走査して、基板に直接的に描画（露光）する製造方法も
知られている。この方法によれば、上記問題点を緩和で
きるものの、その描画速度は極めて遅い。
【０００４】そこで、レーザ光源から発せられるレーザ
光を、例えば複数の描画用光束に分割しこの複数の描画
用光束を一列状をなす状態で走査することにより、露光
焼付用マスクを用いずに描画速度を向上させたレーザ描
画装置が、本出願人によって考えられている。しかし、
レーザ描画装置をこのような構成とする場合、一列状を
なす複数の描画用光束を適正に走査するための調整作業
が煩雑となることが予想されるため、この調整作業を簡
単に行ない得る装置構造が切望される。
光を、例えば複数の描画用光束に分割しこの複数の描画
用光束を一列状をなす状態で走査することにより、露光
焼付用マスクを用いずに描画速度を向上させたレーザ描
画装置が、本出願人によって考えられている。しかし、
レーザ描画装置をこのような構成とする場合、一列状を
なす複数の描画用光束を適正に走査するための調整作業
が煩雑となることが予想されるため、この調整作業を簡
単に行ない得る装置構造が切望される。
【０００５】
【発明の目的】本発明は、このような問題意識に基づい
て成されたものであって、露光焼付用マスクを使用せ
ず、描画速度を向上できるレーザ描画装置において、複
数の描画用光束の調整作業を簡単に行ない得る構造のレ
ーザ描画装置を提供することを目的とする。
て成されたものであって、露光焼付用マスクを使用せ
ず、描画速度を向上できるレーザ描画装置において、複
数の描画用光束の調整作業を簡単に行ない得る構造のレ
ーザ描画装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【発明の概要】上記目的を達成する本発明は、レーザ光
源からのレーザ光を、複数の描画用光束からなる少なく
とも二列の描画用光束群に分割する分割手段；上記二列
の描画用光束群を描画面に対して走査する走査手段；上
記二列の描画用光束群の少なくとも一方を回転させる第
一の調整手段；上記二列の描画用光束群の少なくとも一
方を、上記走査手段の主走査方向に移動させる第二の調
整手段；および、上記二列の描画用光束群の少なくとも
一方を、上記主走査方向と直交する副走査方向に移動さ
せる第三の調整手段を備えたことを特徴としている。
源からのレーザ光を、複数の描画用光束からなる少なく
とも二列の描画用光束群に分割する分割手段；上記二列
の描画用光束群を描画面に対して走査する走査手段；上
記二列の描画用光束群の少なくとも一方を回転させる第
一の調整手段；上記二列の描画用光束群の少なくとも一
方を、上記走査手段の主走査方向に移動させる第二の調
整手段；および、上記二列の描画用光束群の少なくとも
一方を、上記主走査方向と直交する副走査方向に移動さ
せる第三の調整手段を備えたことを特徴としている。
【０００７】
【実施例】以下図示実施例に基づいて本発明を説明す
る。図１は、本発明を適用したレーザ描画装置１１の全
体を示す外観斜視図であり、図２は、レーザ描画装置１
１の主要な構成部材を概略的に示す図である。
る。図１は、本発明を適用したレーザ描画装置１１の全
体を示す外観斜視図であり、図２は、レーザ描画装置１
１の主要な構成部材を概略的に示す図である。
【０００８】レーザ描画装置１１は、テーブル１０上
に、アルゴンレーザ装置１２を有し、ビームベンダ１
３、２３〜２５、２８〜２９、３０、３５、４１、４
４、４５、５４、調整用ターゲット１５、１７、３３、
ハーフプリズム１６、ビームベンダ（ハーフミラー）１
４、およびレンズ５２、５３、６５〜７１を有してい
る。レーザ描画装置１１はさらに、音響光学変調器１
９、２０、ビームセパレータ２１、２２、ピッチ変換用
集光光学系２６、３１、２７、３２、８チャンネルの音
響光学変調器３６、３７、ビームベンダ３８、集光光学
系３４、λ／２板３９、偏光ビームスプリッタ４０、イ
メージローテータ４３、ポリゴンミラー４６、ｆθレン
ズ４７、Ｘスケール用集光レンズ４８、コンデンサレン
ズ４９、Ｘスケール５０、ミラー６０、モニター光用ミ
ラー５１ａ、５１ｂ、およびＸスケール用フォトディテ
クタ６２を有している。調整用ターゲット１５、１７、
３３は、アルゴンレーザ装置１２の交換時等に、描画用
光束Ｌ２、Ｌ３およびモニター光Ｌｍの光路を確認する
ための指標である（図６参照）。
に、アルゴンレーザ装置１２を有し、ビームベンダ１
３、２３〜２５、２８〜２９、３０、３５、４１、４
４、４５、５４、調整用ターゲット１５、１７、３３、
ハーフプリズム１６、ビームベンダ（ハーフミラー）１
４、およびレンズ５２、５３、６５〜７１を有してい
る。レーザ描画装置１１はさらに、音響光学変調器１
９、２０、ビームセパレータ２１、２２、ピッチ変換用
集光光学系２６、３１、２７、３２、８チャンネルの音
響光学変調器３６、３７、ビームベンダ３８、集光光学
系３４、λ／２板３９、偏光ビームスプリッタ４０、イ
メージローテータ４３、ポリゴンミラー４６、ｆθレン
ズ４７、Ｘスケール用集光レンズ４８、コンデンサレン
ズ４９、Ｘスケール５０、ミラー６０、モニター光用ミ
ラー５１ａ、５１ｂ、およびＸスケール用フォトディテ
クタ６２を有している。調整用ターゲット１５、１７、
３３は、アルゴンレーザ装置１２の交換時等に、描画用
光束Ｌ２、Ｌ３およびモニター光Ｌｍの光路を確認する
ための指標である（図６参照）。
【０００９】レーザ描画装置１１に隣接させて、描画テ
ーブル面Ｔに位置するように基板Ｓをセットする基板セ
ット装置（図示せず）が設けられている。この基板セッ
ト装置は、Ｙ方向（ポリゴンミラー４６の副走査方向で
あり同図の左右方向）に移動自在なＹテーブル（図示せ
ず）と、図示しない回動軸を中心として同図上下方向に
揺動するスイング機構（図示せず）を有している。
ーブル面Ｔに位置するように基板Ｓをセットする基板セ
ット装置（図示せず）が設けられている。この基板セッ
ト装置は、Ｙ方向（ポリゴンミラー４６の副走査方向で
あり同図の左右方向）に移動自在なＹテーブル（図示せ
ず）と、図示しない回動軸を中心として同図上下方向に
揺動するスイング機構（図示せず）を有している。
【００１０】アルゴンレーザ装置（レーザ光源）１２
は、水冷式、出力１．８Ｗで、波長４８８ｎｍのレーザ
光Ｌ１を出射するように構成されている。音響光学変調
器１９、２０はそれぞれ、ハーフプリズム（分割手段）
１６によって分割された描画用光束Ｌ２、Ｌ３の光量差
を除去する補正を行ない、またポリゴンミラー（走査手
段）４６の各反射面４６ａ毎の微細な面倒れを、制御手
段（図示せず）の記憶部にメモリされた各反射面４６ａ
の面倒れに関するデータに基づいて補正する。光量過多
による破損を防ぐため、音響光学変調器１９、２０に
は、レーザ光Ｌ１を分割させて描画用光束Ｌ２、Ｌ３と
してから入射させる構成としている。
は、水冷式、出力１．８Ｗで、波長４８８ｎｍのレーザ
光Ｌ１を出射するように構成されている。音響光学変調
器１９、２０はそれぞれ、ハーフプリズム（分割手段）
１６によって分割された描画用光束Ｌ２、Ｌ３の光量差
を除去する補正を行ない、またポリゴンミラー（走査手
段）４６の各反射面４６ａ毎の微細な面倒れを、制御手
段（図示せず）の記憶部にメモリされた各反射面４６ａ
の面倒れに関するデータに基づいて補正する。光量過多
による破損を防ぐため、音響光学変調器１９、２０に
は、レーザ光Ｌ１を分割させて描画用光束Ｌ２、Ｌ３と
してから入射させる構成としている。
【００１１】音響光学変調器１９、２０から出射される
描画用光束Ｌ２、Ｌ３は、ビームセパレータ（分割手
段、第一の調整手段）２１、２２にそれぞれ入射し、該
ビームセパレータ２１、２２によって各々８本ずつの第
一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６に分割される。該ビー
ムセパレータ２１、２２はそれぞれ、図３に示されるよ
うに、その長手方向（同図上下方向）に沿わせた８個の
出射孔ｈを有し、図７に示される揺動調整機構７９によ
り、最上方の出射孔ｈと同位置を回動軸として同図矢印
Ａ方向（第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の光路と直
交する方向）に揺動可能に支持されている。
描画用光束Ｌ２、Ｌ３は、ビームセパレータ（分割手
段、第一の調整手段）２１、２２にそれぞれ入射し、該
ビームセパレータ２１、２２によって各々８本ずつの第
一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６に分割される。該ビー
ムセパレータ２１、２２はそれぞれ、図３に示されるよ
うに、その長手方向（同図上下方向）に沿わせた８個の
出射孔ｈを有し、図７に示される揺動調整機構７９によ
り、最上方の出射孔ｈと同位置を回動軸として同図矢印
Ａ方向（第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の光路と直
交する方向）に揺動可能に支持されている。
【００１２】揺動調整機構７９は、載置部８０から上方
に立ち上げられた支持壁８１を有し、この支持壁８１か
ら載置部８０の上方に向けて突出させた突出支持壁８２
を有している。支持壁８１には、マイクロメーターヘッ
ド８４が図７の左右方向（即ち図１のＹ方向）に沿わせ
て取付けられており、突出支持壁８２には、ビームセパ
レータ２１（２２）の最上方の出射孔ｈと同じ位置に回
動軸８３が設けられている。該ビームセパレータ２１
（２２）は、回動軸８３を中心として図７の時計方向に
付勢手段（図示せず）によって回動付勢されて、その一
側下部をマイクロメーターヘッド８４のスピンドル８５
先端に当接させている。よって、マイクロメーターヘッ
ド８４を操作してスピンドル８５を進退させることによ
り、ビームセパレータ２１（２２）を回動軸８３を中心
として同図矢印Ａ方向に揺動させて、一列状の描画光束
Ｌ５（Ｌ６）を回転させ、描画用光束Ｌ５とＬ６を互い
に平行となるように位置調整することができる（図１３
参照）。
に立ち上げられた支持壁８１を有し、この支持壁８１か
ら載置部８０の上方に向けて突出させた突出支持壁８２
を有している。支持壁８１には、マイクロメーターヘッ
ド８４が図７の左右方向（即ち図１のＹ方向）に沿わせ
て取付けられており、突出支持壁８２には、ビームセパ
レータ２１（２２）の最上方の出射孔ｈと同じ位置に回
動軸８３が設けられている。該ビームセパレータ２１
（２２）は、回動軸８３を中心として図７の時計方向に
付勢手段（図示せず）によって回動付勢されて、その一
側下部をマイクロメーターヘッド８４のスピンドル８５
先端に当接させている。よって、マイクロメーターヘッ
ド８４を操作してスピンドル８５を進退させることによ
り、ビームセパレータ２１（２２）を回動軸８３を中心
として同図矢印Ａ方向に揺動させて、一列状の描画光束
Ｌ５（Ｌ６）を回転させ、描画用光束Ｌ５とＬ６を互い
に平行となるように位置調整することができる（図１３
参照）。
【００１３】ビームセパレータ２１、２２から出射され
た第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６は、ピッチ変換用
集光光学系２６、３１および２７、３２にそれぞれに入
射される。このピッチ変換用集光光学系２６、３１およ
び２７、３２はそれぞれ、ビームセパレータ２１、２２
によって、一列状をなす８本ずつの光束に分割された第
一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各々のピッチを、８
チャンネルの音響光学変調器３６、３７のピッチに合わ
せる。またピッチ変換用集光光学系２６、３１は、Ｘ方
向調整機構９１を介してＸ方向（図１、図１１の上下方
向）に適宜移動調節されることにより、一列状をなす第
一の描画用光束Ｌ５を、一列状の第二の描画用光束Ｌ６
に向けて移動させて（図１４参照）、Ｘ方向における位
置ズレを調整するＸ方向調整手段（第二の調整手段）を
構成している。
た第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６は、ピッチ変換用
集光光学系２６、３１および２７、３２にそれぞれに入
射される。このピッチ変換用集光光学系２６、３１およ
び２７、３２はそれぞれ、ビームセパレータ２１、２２
によって、一列状をなす８本ずつの光束に分割された第
一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各々のピッチを、８
チャンネルの音響光学変調器３６、３７のピッチに合わ
せる。またピッチ変換用集光光学系２６、３１は、Ｘ方
向調整機構９１を介してＸ方向（図１、図１１の上下方
向）に適宜移動調節されることにより、一列状をなす第
一の描画用光束Ｌ５を、一列状の第二の描画用光束Ｌ６
に向けて移動させて（図１４参照）、Ｘ方向における位
置ズレを調整するＸ方向調整手段（第二の調整手段）を
構成している。
【００１４】Ｘ方向調整機構９１は、図１０に示される
ように、載置部９２から上方に立ち上げられた固定支持
壁９３を有し、この固定支持壁９３に対して上下方向に
移動可能な移動支持壁９４を有している。この移動支持
壁９４の上部には、マイクロメーターヘッド９５が、同
図の上下方向（Ｘ方向）に沿わせて取付けられている。
移動支持壁９４を貫通する支持孔９４ａには、ピッチ変
換用集光光学系２６（３１）が固定されており、このピ
ッチ変換用集光光学系２６（３１）の環状部２６ａ（３
１ａ）が、固定支持壁９３を貫通する貫通孔９３ａに挿
通されている。この貫通孔９３ａは、上記環状部２６ａ
（３１ａ）より大径にされていて、移動支持壁９４の上
下動によって移動するこの環状部２６ａ（３１ａ）の上
下移動を許容する。この移動支持壁９４は、付勢手段
（図示せず）によって下方に向けて移動付勢されてい
て、ピッチ変換用集光光学系２６（３１）と共にマイク
ロメーターヘッド９５を下方に向けて移動付勢して、こ
のマイクロメーターヘッド９５のスピンドル９６先端を
固定支持壁９３上端に当接させている。よって、マイク
ロメーターヘッド９５を操作してスピンドル９６を進退
させれば、ピッチ変換用集光光学系２６（３１）を、移
動支持壁９４を介して同図上下方向（Ｘ方向）にスライ
ド調整することができる。
ように、載置部９２から上方に立ち上げられた固定支持
壁９３を有し、この固定支持壁９３に対して上下方向に
移動可能な移動支持壁９４を有している。この移動支持
壁９４の上部には、マイクロメーターヘッド９５が、同
図の上下方向（Ｘ方向）に沿わせて取付けられている。
移動支持壁９４を貫通する支持孔９４ａには、ピッチ変
換用集光光学系２６（３１）が固定されており、このピ
ッチ変換用集光光学系２６（３１）の環状部２６ａ（３
１ａ）が、固定支持壁９３を貫通する貫通孔９３ａに挿
通されている。この貫通孔９３ａは、上記環状部２６ａ
（３１ａ）より大径にされていて、移動支持壁９４の上
下動によって移動するこの環状部２６ａ（３１ａ）の上
下移動を許容する。この移動支持壁９４は、付勢手段
（図示せず）によって下方に向けて移動付勢されてい
て、ピッチ変換用集光光学系２６（３１）と共にマイク
ロメーターヘッド９５を下方に向けて移動付勢して、こ
のマイクロメーターヘッド９５のスピンドル９６先端を
固定支持壁９３上端に当接させている。よって、マイク
ロメーターヘッド９５を操作してスピンドル９６を進退
させれば、ピッチ変換用集光光学系２６（３１）を、移
動支持壁９４を介して同図上下方向（Ｘ方向）にスライ
ド調整することができる。
【００１５】ビームベンダ３８および偏光ビームスプリ
ッタ４０はそれぞれ、その位置変更により第一の描画用
光束Ｌ５をＹ方向、即ち第二の描画用光束Ｌ６に向けて
移動させ（図１５参照）、両者の位置合わせをするＹ方
向調整手段（第三の調整手段）を構成している。ビーム
ベンダ３８は、Ｘ方向に沿わせた回動支軸（図示せず）
を中心として回動されることにより、第一の描画用光束
Ｌ５をＹ方向に移動調整することができ、また偏光ビー
ムスプリッタ４０は、図８に示されるＹ方向調整機構８
５を操作されることにより、第一の描画用光束Ｌ５をＹ
方向に移動調整することができる（図９参照）。Ｙ方向
調整機構８５は、載置部８６と、この載置部８６に対し
て同図の上下方向（Ｙ方向）に移動可能な移動部８７を
有している。載置部８６には、マイクロメーターヘッド
８９が同図上下方向に沿わせて固定され、移動部８７に
は、偏光ビームスプリッタ４０が、ハーフミラー面４０
ａを同図Ｙ方向に対して４５゜傾斜させた状態で固定さ
れている。この移動部８７は、付勢手段（図示せず）に
よって同図下方に移動付勢されていて、その下側面をマ
イクロメーターヘッド８９のスピンドル９０先端に当接
させている。よって、マイクロメーターヘッド８９を操
作してスピンドル９０を進退させれば、偏光ビームスプ
リッタ４０を同図の矢印Ｙ方向にスライド調整すること
ができる。
ッタ４０はそれぞれ、その位置変更により第一の描画用
光束Ｌ５をＹ方向、即ち第二の描画用光束Ｌ６に向けて
移動させ（図１５参照）、両者の位置合わせをするＹ方
向調整手段（第三の調整手段）を構成している。ビーム
ベンダ３８は、Ｘ方向に沿わせた回動支軸（図示せず）
を中心として回動されることにより、第一の描画用光束
Ｌ５をＹ方向に移動調整することができ、また偏光ビー
ムスプリッタ４０は、図８に示されるＹ方向調整機構８
５を操作されることにより、第一の描画用光束Ｌ５をＹ
方向に移動調整することができる（図９参照）。Ｙ方向
調整機構８５は、載置部８６と、この載置部８６に対し
て同図の上下方向（Ｙ方向）に移動可能な移動部８７を
有している。載置部８６には、マイクロメーターヘッド
８９が同図上下方向に沿わせて固定され、移動部８７に
は、偏光ビームスプリッタ４０が、ハーフミラー面４０
ａを同図Ｙ方向に対して４５゜傾斜させた状態で固定さ
れている。この移動部８７は、付勢手段（図示せず）に
よって同図下方に移動付勢されていて、その下側面をマ
イクロメーターヘッド８９のスピンドル９０先端に当接
させている。よって、マイクロメーターヘッド８９を操
作してスピンドル９０を進退させれば、偏光ビームスプ
リッタ４０を同図の矢印Ｙ方向にスライド調整すること
ができる。
【００１６】また偏光ビームスプリッタ４０は、ビーム
ベンダ３８で偏向されて入射する、一列状をなす第一の
描画用光束Ｌ５と、λ／２板３９を透過して入射する、
一列状をなす第二の描画用光束Ｌ６を、所定のピッチで
交互に混在させ、Ｘ方向に沿って再び一列状に整列させ
る光合成手段を構成している。第一の描画用光束Ｌ５は
偏光方向を変更されないが、第二の描画用光束Ｌ６は、
λ／２板３９によって偏光方向を描画用光束Ｌ５のそれ
に対して９０゜回転される。このように偏向方向を互い
に９０゜異ならせた描画用光束Ｌ５とＬ６が、上記のよ
うに偏光ビームスプリッタ４０によって交互に組合わさ
れ、一列状に整列される。
ベンダ３８で偏向されて入射する、一列状をなす第一の
描画用光束Ｌ５と、λ／２板３９を透過して入射する、
一列状をなす第二の描画用光束Ｌ６を、所定のピッチで
交互に混在させ、Ｘ方向に沿って再び一列状に整列させ
る光合成手段を構成している。第一の描画用光束Ｌ５は
偏光方向を変更されないが、第二の描画用光束Ｌ６は、
λ／２板３９によって偏光方向を描画用光束Ｌ５のそれ
に対して９０゜回転される。このように偏向方向を互い
に９０゜異ならせた描画用光束Ｌ５とＬ６が、上記のよ
うに偏光ビームスプリッタ４０によって交互に組合わさ
れ、一列状に整列される。
【００１７】８チャンネルの音響光学変調器３６、３７
はそれぞれ、８本に分割した第一、第二の描画用光束Ｌ
５、Ｌ６の光量のバラツキを取り除く機能と、８本ずつ
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を、所定データに基づく制御部
（図示せず）によって各々独立にオンオフし、ビームセ
パレータ２１、２２で分割された描画用光束Ｌ５、Ｌ６
の各分割描画光束にそれぞれ、個別のオンオフの描画情
報を与える機能を有する。音響光学変調器３６、３７は
それぞれ、二酸化テルル等の結晶に超音波を印加したと
き該結晶の屈折率が超音波の周波数に比例する形で微小
変化するという音響光学効果を基に構成されており、結
晶の両端に設けたトランスデューサーに高周波の電界を
印加したときに、結晶内部に進行波形の超音波を発生さ
せてレーザ光を回折させ、高周波の電界を印加しないと
きには、結晶にブラッグ条件を満たす方向から入射する
レーザ光を透過することができる。従って、音響光学変
調器３６（３７）に対する高周波の印加を切り換えれ
ば、入射光つまり描画用光束Ｌ５とＬ６のオンオフを自
在に切換えることができる。音響光学変調器３６（３
７）が有する８個の各チャンネルは、一列状をなす第
一、第二の描画光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれに入射させ、
その入射した光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれ左右方向（図１
のＹ方向）に変調させるべく一列状をなしており、８個
の各チャンネルに合わせて上下方向（図１のＸ方向）に
形成したスリット７８を有している（図５）。
はそれぞれ、８本に分割した第一、第二の描画用光束Ｌ
５、Ｌ６の光量のバラツキを取り除く機能と、８本ずつ
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を、所定データに基づく制御部
（図示せず）によって各々独立にオンオフし、ビームセ
パレータ２１、２２で分割された描画用光束Ｌ５、Ｌ６
の各分割描画光束にそれぞれ、個別のオンオフの描画情
報を与える機能を有する。音響光学変調器３６、３７は
それぞれ、二酸化テルル等の結晶に超音波を印加したと
き該結晶の屈折率が超音波の周波数に比例する形で微小
変化するという音響光学効果を基に構成されており、結
晶の両端に設けたトランスデューサーに高周波の電界を
印加したときに、結晶内部に進行波形の超音波を発生さ
せてレーザ光を回折させ、高周波の電界を印加しないと
きには、結晶にブラッグ条件を満たす方向から入射する
レーザ光を透過することができる。従って、音響光学変
調器３６（３７）に対する高周波の印加を切り換えれ
ば、入射光つまり描画用光束Ｌ５とＬ６のオンオフを自
在に切換えることができる。音響光学変調器３６（３
７）が有する８個の各チャンネルは、一列状をなす第
一、第二の描画光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれに入射させ、
その入射した光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれ左右方向（図１
のＹ方向）に変調させるべく一列状をなしており、８個
の各チャンネルに合わせて上下方向（図１のＸ方向）に
形成したスリット７８を有している（図５）。
【００１８】またモニター光Ｌｍは、描画用光束Ｌ２(
Ｌ５) 、Ｌ３( Ｌ６) とは別系統の光束とされて光路長
を長くされ、描画用光束Ｌ５とＬ６に対し空間的に所定
距離離れた位置を光路としている。モニター光Ｌｍは、
ミラー５４、２５によって偏向され、第一、第二の描画
用光束Ｌ５、Ｌ６から所定距離離れた位置を通り、さら
にミラー３５、６０によって偏向された後描画用光束Ｌ
５、Ｌ６に接近し、レンズ７１、ビームベンダ４１およ
びレンズ５２等を介して、描画用光束Ｌ５、Ｌ６の光路
の真横に位置するようにその光路が変えられる。
Ｌ５) 、Ｌ３( Ｌ６) とは別系統の光束とされて光路長
を長くされ、描画用光束Ｌ５とＬ６に対し空間的に所定
距離離れた位置を光路としている。モニター光Ｌｍは、
ミラー５４、２５によって偏向され、第一、第二の描画
用光束Ｌ５、Ｌ６から所定距離離れた位置を通り、さら
にミラー３５、６０によって偏向された後描画用光束Ｌ
５、Ｌ６に接近し、レンズ７１、ビームベンダ４１およ
びレンズ５２等を介して、描画用光束Ｌ５、Ｌ６の光路
の真横に位置するようにその光路が変えられる。
【００１９】イメージローテータ４３は、ポリゴンミラ
ー４６による走査時に、隣接する第一、第二の描画用光
束Ｌ５、Ｌ６の各スポットを互いに重ね合わせることが
できるように、一列状に１６本並んだ描画用光束Ｌ５と
Ｌ６を、描画テーブル面Ｔに斜めに配置させるためのミ
ラー系である。従って、第一、第二の描画用光束Ｌ５、
Ｌ６は、イメージローテータ４３に入射するまでは、ポ
リゴンミラー４６の主走査方向であるＸ方向に沿って一
列状に１６本並んでいるが、イメージローテータ４３か
ら出射するときには、例えば図１４に示されるように、
同図の時計方向に所定角度回転される。
ー４６による走査時に、隣接する第一、第二の描画用光
束Ｌ５、Ｌ６の各スポットを互いに重ね合わせることが
できるように、一列状に１６本並んだ描画用光束Ｌ５と
Ｌ６を、描画テーブル面Ｔに斜めに配置させるためのミ
ラー系である。従って、第一、第二の描画用光束Ｌ５、
Ｌ６は、イメージローテータ４３に入射するまでは、ポ
リゴンミラー４６の主走査方向であるＸ方向に沿って一
列状に１６本並んでいるが、イメージローテータ４３か
ら出射するときには、例えば図１４に示されるように、
同図の時計方向に所定角度回転される。
【００２０】第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６および
モニター光Ｌｍは、さらにビームベンダ４４と４５によ
って偏向された後ポリゴンミラー４６の反射面４６ａに
入射される。ポリゴンミラー４６は、回転軸７３を中心
として図１２の反時計方向に回転するとき、描画テーブ
ル面Ｔに対する傾きθを連続的に変化させて同方向に回
転移動する各反射面４６ａによって、第一、第二の描画
用光束Ｌ５、Ｌ６およびモニター光Ｌｍを走査する。こ
れにより、第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６がそれぞ
れ、ｆθレンズ４７およびコンデンサレンズ４９を透過
して、描画テーブル面Ｔに位置する基板Ｓ上に結像され
る。またポリゴンミラー４６は、図示しない手段を介し
てその回転軸７３を角度β分回転移動されることが可能
で、これにより主走査線の副走線に対する垂直度を自在
に調整することができる。
モニター光Ｌｍは、さらにビームベンダ４４と４５によ
って偏向された後ポリゴンミラー４６の反射面４６ａに
入射される。ポリゴンミラー４６は、回転軸７３を中心
として図１２の反時計方向に回転するとき、描画テーブ
ル面Ｔに対する傾きθを連続的に変化させて同方向に回
転移動する各反射面４６ａによって、第一、第二の描画
用光束Ｌ５、Ｌ６およびモニター光Ｌｍを走査する。こ
れにより、第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６がそれぞ
れ、ｆθレンズ４７およびコンデンサレンズ４９を透過
して、描画テーブル面Ｔに位置する基板Ｓ上に結像され
る。またポリゴンミラー４６は、図示しない手段を介し
てその回転軸７３を角度β分回転移動されることが可能
で、これにより主走査線の副走線に対する垂直度を自在
に調整することができる。
【００２１】ｆθレンズ４７は、描画テーブル面Ｔ（図
１）の走査面上において描画光束のスポット位置が、傾
きθに比例せず、走査面の上方ほど tanθで速く走査し
てしまうという問題を解消するもので、凹レンズと凸レ
ンズを数枚組合わせ、走査面上での走査距離をｆθとし
て傾きθに比例させ、描画用光束を等速に走査すること
ができる。
１）の走査面上において描画光束のスポット位置が、傾
きθに比例せず、走査面の上方ほど tanθで速く走査し
てしまうという問題を解消するもので、凹レンズと凸レ
ンズを数枚組合わせ、走査面上での走査距離をｆθとし
て傾きθに比例させ、描画用光束を等速に走査すること
ができる。
【００２２】また第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６と
共にｆθレンズ４７、コンデンサレンズ４９を透過した
モニター光Ｌｍは、モニター光用ミラー５１ａと５１ｂ
で順に反射されて１８０゜偏向され、描画テーブル面Ｔ
の結像面と等価な位置に配置されたＸスケール５０に入
射する。このＸスケール５０は、リニアなエンコーダと
同じように、ガラスにスリットを形成したものである。
そしてモニター光Ｌｍは、Ｘスケール５０を透過した
後、長尺のミラー６３、６４でそれぞれに反射、集光さ
れ、Ｘスケール用集光レンズ４８でさらに集光されて、
Ｘスケール用フォトディテクタ６２に入射する。このＸ
スケール用フォトディテクタ６２により検出されるモニ
ター光Ｌｍの位置に基づき、１６本並んだ第一、第二の
描画用光束Ｌ５、Ｌ６の位置が判定され、この判定デー
タに基づく制御部（図示せず）からの信号により、第
一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の１６本の光束はそれ
ぞれ個別にオンオフされる。
共にｆθレンズ４７、コンデンサレンズ４９を透過した
モニター光Ｌｍは、モニター光用ミラー５１ａと５１ｂ
で順に反射されて１８０゜偏向され、描画テーブル面Ｔ
の結像面と等価な位置に配置されたＸスケール５０に入
射する。このＸスケール５０は、リニアなエンコーダと
同じように、ガラスにスリットを形成したものである。
そしてモニター光Ｌｍは、Ｘスケール５０を透過した
後、長尺のミラー６３、６４でそれぞれに反射、集光さ
れ、Ｘスケール用集光レンズ４８でさらに集光されて、
Ｘスケール用フォトディテクタ６２に入射する。このＸ
スケール用フォトディテクタ６２により検出されるモニ
ター光Ｌｍの位置に基づき、１６本並んだ第一、第二の
描画用光束Ｌ５、Ｌ６の位置が判定され、この判定デー
タに基づく制御部（図示せず）からの信号により、第
一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の１６本の光束はそれ
ぞれ個別にオンオフされる。
【００２３】描画テーブル面Ｔに対しやや傾斜して結像
する第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各スポット
は、８チャンネルの音響光学変調器３６、３７を介し
て、スポット径が例えば３０μｍとなるように光量補正
される。これにより、図１８に示すような各スポットの
光量のバラツキが、図１９に示すように調整される。本
実施例において、描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各スポット
は、音響光学変調器３６、３７を介して、相互の間隔ａ
（図１６）が例えば５μｍとなるようにピッチ調整され
る。
する第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各スポット
は、８チャンネルの音響光学変調器３６、３７を介し
て、スポット径が例えば３０μｍとなるように光量補正
される。これにより、図１８に示すような各スポットの
光量のバラツキが、図１９に示すように調整される。本
実施例において、描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各スポット
は、音響光学変調器３６、３７を介して、相互の間隔ａ
（図１６）が例えば５μｍとなるようにピッチ調整され
る。
【００２４】副走査方向に沿わせた各スポットによる描
画ラインＬ（図１９）は、音響光学変調器３６、３７を
適時オンオフすることにより描画できる。その場合、描
画用光束Ｌ５とＬ６のスポット同士の干渉を防止する間
隔ｃが必要で、例えば図１９において最下部の描画用光
束Ｌ５を露光した後次ぎなる描画用光束Ｌ６を直に露光
させると、描画ラインＬは線にならない。そこで、本レ
ーザ描画装置１１では、最下部の描画用光束Ｌ５を露光
した後次ぎなる描画用光束Ｌ６を直に露光させずに、所
定時間置いてから露光させる。これにより、前に露光さ
れた描画用光束Ｌ５のスポットに対し次ぎなる描画用光
束Ｌ６のスポットを適正に重ねることができるから、こ
の操作を連続して行なうことにより図１９のようなライ
ンＬを描画することができる。その場合、図１６のよう
に、ラインＬの各スポット位置にバラツキが出るとき
は、８チャンネルの音響光学変調器３６、３７の変調タ
イミングを適宜変えることにより、図１７のように補正
することができる。
画ラインＬ（図１９）は、音響光学変調器３６、３７を
適時オンオフすることにより描画できる。その場合、描
画用光束Ｌ５とＬ６のスポット同士の干渉を防止する間
隔ｃが必要で、例えば図１９において最下部の描画用光
束Ｌ５を露光した後次ぎなる描画用光束Ｌ６を直に露光
させると、描画ラインＬは線にならない。そこで、本レ
ーザ描画装置１１では、最下部の描画用光束Ｌ５を露光
した後次ぎなる描画用光束Ｌ６を直に露光させずに、所
定時間置いてから露光させる。これにより、前に露光さ
れた描画用光束Ｌ５のスポットに対し次ぎなる描画用光
束Ｌ６のスポットを適正に重ねることができるから、こ
の操作を連続して行なうことにより図１９のようなライ
ンＬを描画することができる。その場合、図１６のよう
に、ラインＬの各スポット位置にバラツキが出るとき
は、８チャンネルの音響光学変調器３６、３７の変調タ
イミングを適宜変えることにより、図１７のように補正
することができる。
【００２５】また各ビームベンダ１３、１４、２３〜２
５、２８〜３０、３５、３８、４１、４４、４５、５４
はそれぞれ、図４に示す環状のミラー支持部材７４を有
しており、このミラー支持部材７４はその前面側に、当
て付け面を構成する内周フランジ７４ａを有している。
この内周フランジ７４ａの裏面に、ミラー支持部材７４
に嵌合させたミラー７５の外周部を当接させ、該ミラー
７５の後面に緩衝材７６を位置させた状態で、後方から
押え環７７を螺合させれば、ミラー７５の交換作業を極
めて簡単に行なうことができ、ミラー７５を常に基準位
置に適正に位置させることができる。
５、２８〜３０、３５、３８、４１、４４、４５、５４
はそれぞれ、図４に示す環状のミラー支持部材７４を有
しており、このミラー支持部材７４はその前面側に、当
て付け面を構成する内周フランジ７４ａを有している。
この内周フランジ７４ａの裏面に、ミラー支持部材７４
に嵌合させたミラー７５の外周部を当接させ、該ミラー
７５の後面に緩衝材７６を位置させた状態で、後方から
押え環７７を螺合させれば、ミラー７５の交換作業を極
めて簡単に行なうことができ、ミラー７５を常に基準位
置に適正に位置させることができる。
【００２６】上記構成を有する本レーザ描画装置１１
は、次のように作動させることができる。先ず、回路パ
ターンを形成すべき基板Ｓの位置決め孔（図示せず）
を、基板セット装置の対応する部位に合わせ、この基板
Ｓを該装置に対して適正にセットする。これにより基板
Ｓは、この基板セット装置のＹテーブルおよびスイング
機構（図示せず）により、図１のＹ方向にスライド自
在、かつその位置において回動軸（図示せず）を軸とし
て揺動自在にセットされる。
は、次のように作動させることができる。先ず、回路パ
ターンを形成すべき基板Ｓの位置決め孔（図示せず）
を、基板セット装置の対応する部位に合わせ、この基板
Ｓを該装置に対して適正にセットする。これにより基板
Ｓは、この基板セット装置のＹテーブルおよびスイング
機構（図示せず）により、図１のＹ方向にスライド自
在、かつその位置において回動軸（図示せず）を軸とし
て揺動自在にセットされる。
【００２７】この状態において、アルゴンレーザ装置１
２を発振させてレーザ光Ｌ１の照射を開始させると、こ
のレーザ光Ｌ１は、先ず、ビームベンダ１３で偏向さ
れ、調整用ターゲット１５を通過した後ハーフプリズム
１６に入射し、このハーフプリズム１６によって、その
まま直進する描画用光束Ｌ２と、９０゜偏向されてハー
フミラー１４に向かう描画用光束とに分割される。この
描画用光束は、ハーフミラー１４を介して、９０゜偏向
されて上記描画用光束Ｌ２と並んで進む描画用光束Ｌ
３、およびミラー５４に向かい該ミラー５４で９０゜偏
向されるモニター光Ｌｍとに分割される。
２を発振させてレーザ光Ｌ１の照射を開始させると、こ
のレーザ光Ｌ１は、先ず、ビームベンダ１３で偏向さ
れ、調整用ターゲット１５を通過した後ハーフプリズム
１６に入射し、このハーフプリズム１６によって、その
まま直進する描画用光束Ｌ２と、９０゜偏向されてハー
フミラー１４に向かう描画用光束とに分割される。この
描画用光束は、ハーフミラー１４を介して、９０゜偏向
されて上記描画用光束Ｌ２と並んで進む描画用光束Ｌ
３、およびミラー５４に向かい該ミラー５４で９０゜偏
向されるモニター光Ｌｍとに分割される。
【００２８】描画用光束Ｌ２は、レンズ６５、調整用タ
ーゲット１７およびレンズ６７を介して音響光学変調器
１９に入射され、また描画用光束Ｌ３は、レンズ６６、
６８を透過して音響光学変調器２０に入射される。そし
て該描画用光束Ｌ２、Ｌ３両者間の光量差は、音響光学
変調器１９と２０によって除去される。該描画用光束Ｌ
２、Ｌ３はさらに、ビームセパレータ２１と２２によ
り、Ｘ方向に互いに並列する８本の第一の描画用光束Ｌ
５と第二の描画用光束Ｌ６とにそれぞれ分割される。該
第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６はさらに、ピッチ変
換用集光光学系２６、２７をそれぞれに透過し、ビーム
ベンダ２８、２９で９０゜偏向された後、ピッチ変換用
集光光学系３１、３２を介して音響光学変調器３６、３
７にそれぞれ入射される。
ーゲット１７およびレンズ６７を介して音響光学変調器
１９に入射され、また描画用光束Ｌ３は、レンズ６６、
６８を透過して音響光学変調器２０に入射される。そし
て該描画用光束Ｌ２、Ｌ３両者間の光量差は、音響光学
変調器１９と２０によって除去される。該描画用光束Ｌ
２、Ｌ３はさらに、ビームセパレータ２１と２２によ
り、Ｘ方向に互いに並列する８本の第一の描画用光束Ｌ
５と第二の描画用光束Ｌ６とにそれぞれ分割される。該
第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６はさらに、ピッチ変
換用集光光学系２６、２７をそれぞれに透過し、ビーム
ベンダ２８、２９で９０゜偏向された後、ピッチ変換用
集光光学系３１、３２を介して音響光学変調器３６、３
７にそれぞれ入射される。
【００２９】描画用光束Ｌ５とＬ６は、８本に分割され
た描画用光束それぞれの光量のバラツキを、８チャンネ
ルの音響光学変調器３６と３７の音響光学効果によって
個々に除去され、また音響光学変調器３６、３７の制御
部に基づく高周波の印加の切換えによって適時オンオフ
される。
た描画用光束それぞれの光量のバラツキを、８チャンネ
ルの音響光学変調器３６と３７の音響光学効果によって
個々に除去され、また音響光学変調器３６、３７の制御
部に基づく高周波の印加の切換えによって適時オンオフ
される。
【００３０】音響光学変調器３６から出射される描画用
光束Ｌ５は、ビームベンダ３８で９０゜偏向された後偏
光ビームスプリッタ４０に入射され、また音響光学変調
器３７から出射される描画用光束Ｌ６は、λ／２板３９
を透過して偏光方向を変えられた後偏光ビームスプリッ
タ４０に入射される。これらの描画用光束Ｌ５とＬ６
は、それぞれ８本ずつ有する個々の描画用光束を、偏光
ビームスプリッタ４０により順に組合わされて、Ｘ方向
に一列に並ぶように合成される。
光束Ｌ５は、ビームベンダ３８で９０゜偏向された後偏
光ビームスプリッタ４０に入射され、また音響光学変調
器３７から出射される描画用光束Ｌ６は、λ／２板３９
を透過して偏光方向を変えられた後偏光ビームスプリッ
タ４０に入射される。これらの描画用光束Ｌ５とＬ６
は、それぞれ８本ずつ有する個々の描画用光束を、偏光
ビームスプリッタ４０により順に組合わされて、Ｘ方向
に一列に並ぶように合成される。
【００３１】さらに制御部が、ポリゴンミラー４６から
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の走査に同期させて基板セット
装置を作動させて、基板Ｓを、描画テーブル面Ｔ上でＹ
方向にスライドさせる。よって、Ｘ方向に対しやや斜め
に１６本並列して適時オンオフされる描画用光束Ｌ５、
Ｌ６により、基板Ｓ上に、回路パターンが二次元的に描
画（露光）される。このときの描画速度は、例えば１本
の描画光束によって描画する従来装置と比較した場合、
単純計算しただけでも１６倍となることが分かる。
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の走査に同期させて基板セット
装置を作動させて、基板Ｓを、描画テーブル面Ｔ上でＹ
方向にスライドさせる。よって、Ｘ方向に対しやや斜め
に１６本並列して適時オンオフされる描画用光束Ｌ５、
Ｌ６により、基板Ｓ上に、回路パターンが二次元的に描
画（露光）される。このときの描画速度は、例えば１本
の描画光束によって描画する従来装置と比較した場合、
単純計算しただけでも１６倍となることが分かる。
【００３２】また、レーザ描画装置１１による描画開始
に先立って、次のような描画用光束の調整を行なうこと
ができる。例えば描画テーブル面ＴにＣＣＤ等の検出器
をセットしておき、上記基板Ｓに対して描画するときと
同様に、アルゴンレーザ装置１２からレーザ光Ｌ１を照
射させ、分割した第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を
ＣＣＤ上に露光させる。そしてＣＣＤによって検出され
る描画像を観察しながら、揺動調整機構７９のマイクロ
メーターヘッド８４を操作することにより、ビームセパ
レータ２２を、回動軸８３を中心に図７の矢印Ａ方向に
揺動させ、描画用光束Ｌ５を図１３の例えばα方向に回
転させて、描画用光束Ｌ５が描画用光束Ｌ６に対して平
行となるように調整することができる。反対に、ビーム
セパレータ２１を、回動軸８３を中心に揺動させ、列状
の描画用光束Ｌ６を図１３の例えばα方向と反対方向に
回転させて、描画用光束Ｌ６が描画用光束Ｌ５に対して
平行となるように調整することができる。
に先立って、次のような描画用光束の調整を行なうこと
ができる。例えば描画テーブル面ＴにＣＣＤ等の検出器
をセットしておき、上記基板Ｓに対して描画するときと
同様に、アルゴンレーザ装置１２からレーザ光Ｌ１を照
射させ、分割した第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を
ＣＣＤ上に露光させる。そしてＣＣＤによって検出され
る描画像を観察しながら、揺動調整機構７９のマイクロ
メーターヘッド８４を操作することにより、ビームセパ
レータ２２を、回動軸８３を中心に図７の矢印Ａ方向に
揺動させ、描画用光束Ｌ５を図１３の例えばα方向に回
転させて、描画用光束Ｌ５が描画用光束Ｌ６に対して平
行となるように調整することができる。反対に、ビーム
セパレータ２１を、回動軸８３を中心に揺動させ、列状
の描画用光束Ｌ６を図１３の例えばα方向と反対方向に
回転させて、描画用光束Ｌ６が描画用光束Ｌ５に対して
平行となるように調整することができる。
【００３３】さらに、ＣＣＤによって検出される描画像
を観察しながらＸ方向調整機構９１を操作することによ
り、ピッチ変換用集光光学系２６、３１を、ポリゴンミ
ラー４６の主走査方向であるＸ方向に適宜スライドさ
せ、描画テーブル面Ｔに共に傾きを持って描画される描
画用光束Ｌ５、Ｌ６のうち描画用光束Ｌ５をＸ方向に移
動させ（図１４）、またＹ方向調整機構８５のマイクロ
メーターヘッド８９の操作により、偏光ビームスプリッ
タ４０をＹ方向に適宜スライドさせ、描画用光束Ｌ５を
ポリゴンミラー４６の副走査方向であるＹ方向に移動さ
せて（図１５）、描画用光束Ｌ５とＬ６の各スポットが
それぞれ適正なピッチで並ぶように調整することができ
る。なお、揺動調整機構７９、Ｘ方向調整機構９１、Ｙ
方向調整機構８５による調整は、上記の順序に限らず、
他の順序で行なってもよい。
を観察しながらＸ方向調整機構９１を操作することによ
り、ピッチ変換用集光光学系２６、３１を、ポリゴンミ
ラー４６の主走査方向であるＸ方向に適宜スライドさ
せ、描画テーブル面Ｔに共に傾きを持って描画される描
画用光束Ｌ５、Ｌ６のうち描画用光束Ｌ５をＸ方向に移
動させ（図１４）、またＹ方向調整機構８５のマイクロ
メーターヘッド８９の操作により、偏光ビームスプリッ
タ４０をＹ方向に適宜スライドさせ、描画用光束Ｌ５を
ポリゴンミラー４６の副走査方向であるＹ方向に移動さ
せて（図１５）、描画用光束Ｌ５とＬ６の各スポットが
それぞれ適正なピッチで並ぶように調整することができ
る。なお、揺動調整機構７９、Ｘ方向調整機構９１、Ｙ
方向調整機構８５による調整は、上記の順序に限らず、
他の順序で行なってもよい。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、露
光焼付用マスクを使用せず、描画速度を向上できるレー
ザ描画装置において、複数の描画用光束の調整作業を簡
単に行ない得る構造のレーザ描画装置を提供することが
できる。
光焼付用マスクを使用せず、描画速度を向上できるレー
ザ描画装置において、複数の描画用光束の調整作業を簡
単に行ない得る構造のレーザ描画装置を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用したレーザ描画装置の全体を示す
斜視外観図である。
斜視外観図である。
【図２】同レーザ描画装置の主要な構成部材を抜粋して
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
【図３】同レーザ描画装置に用いられるビームセパレー
タを示す拡大斜視図である。
タを示す拡大斜視図である。
【図４】同レーザ描画装置に用いられるビームベンダの
構造を示す断面図である。
構造を示す断面図である。
【図５】同レーザ描画装置に用いられる音響光学変調器
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図６】アルゴンレーザ装置から発せられる描画用光束
の位置を確認するための調整用ターゲットを示す概略図
である。
の位置を確認するための調整用ターゲットを示す概略図
である。
【図７】揺動調整機構を示す正面図である。
【図８】Ｙ方向調整機構を示す平面図である。
【図９】同Ｙ方向調整機構によってＹ方向にスライドさ
れる偏光ビームスプリッタを詳示する平面図である。
れる偏光ビームスプリッタを詳示する平面図である。
【図１０】Ｘ方向調整機構を示す側面断面図である。
【図１１】Ｘ方向調整手段示す斜視図である。
【図１２】ポリゴンミラーを示す拡大斜視図である。
【図１３】二列の描画用光束群を回転させるときの状態
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図１４】二列の描画用光束群のうち、一方の列をポリ
ゴンミラーの主走査方向に移動させるときの状態を示す
説明図である。
ゴンミラーの主走査方向に移動させるときの状態を示す
説明図である。
【図１５】二列の描画用光束群のうち、一方の列をポリ
ゴンミラーの副走査方向に移動させるときの状態を示す
説明図である。
ゴンミラーの副走査方向に移動させるときの状態を示す
説明図である。
【図１６】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。
【図１７】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。
【図１８】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。
【図１９】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。
１０ テーブル １１ レーザ描画装置 １２ アルゴンレーザ装置（レーザ光源） １６ ハーフプリズム（分割手段） １９ ２０ ３６ ３７ 音響光学変調器 ２１ ２２ ビームセパレータ（分割手段、第一の調整
手段） ２６ ３１ ピッチ変換用集光光学系（第二の調整手
段） ２７ ３２ ピッチ変換用集光光学系 ３８ ビームベンダ（第三の調整手段） ３９ λ／２板 ４０ 偏光ビームスプリッタ（第三の調整手段） ４３ イメージローテータ ４６ ポリゴンミラー（走査手段） ４９ コンデンサレンズ ７９ 揺動調整機構 ８４ ８９ ９５ マイクロメーターヘッド ８５ Ｙ方向調整機構 ８６ Ｘ方向調整機構 Ｌ１ レーザ光 Ｌ２ Ｌ３ Ｌ５ Ｌ６ 描画用光束 Ｌｍ モニター光 Ｓ 基板 Ｔ 描画テーブル面
手段） ２６ ３１ ピッチ変換用集光光学系（第二の調整手
段） ２７ ３２ ピッチ変換用集光光学系 ３８ ビームベンダ（第三の調整手段） ３９ λ／２板 ４０ 偏光ビームスプリッタ（第三の調整手段） ４３ イメージローテータ ４６ ポリゴンミラー（走査手段） ４９ コンデンサレンズ ７９ 揺動調整機構 ８４ ８９ ９５ マイクロメーターヘッド ８５ Ｙ方向調整機構 ８６ Ｘ方向調整機構 Ｌ１ レーザ光 Ｌ２ Ｌ３ Ｌ５ Ｌ６ 描画用光束 Ｌｍ モニター光 Ｓ 基板 Ｔ 描画テーブル面
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年１０月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】レーザ描画装置１１に隣接させて、描画テ
ーブル面Ｔに位置するように基板Ｓをセットする基板セ
ット装置（図示せず）が設けられている。この基板セッ
ト装置は、Ｙ方向（ポリゴンミラー４６の副走査方向で
あり図１の左右方向）に移動自在なＹテーブル（図示せ
ず）と、図示しない回動軸を中心として図１の上下方向
に揺動するスイング機構（図示せず）を有している。
ーブル面Ｔに位置するように基板Ｓをセットする基板セ
ット装置（図示せず）が設けられている。この基板セッ
ト装置は、Ｙ方向（ポリゴンミラー４６の副走査方向で
あり図１の左右方向）に移動自在なＹテーブル（図示せ
ず）と、図示しない回動軸を中心として図１の上下方向
に揺動するスイング機構（図示せず）を有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】８チャンネルの音響光学変調器３６、３７
はそれぞれ、８本に分割した第一、第二の描画用光束Ｌ
５、Ｌ６の光量のバラツキを取り除く機能と、８本ずつ
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を、所定データに基づく制御部
（図示せず）によって各々独立にオンオフし、ビームセ
パレータ２１、２２で分割された描画用光束Ｌ５、Ｌ６
の各分割描画光束にそれぞれ、個別のオンオフの描画情
報を与える機能を有する。音響光学変調器３６、３７は
それぞれ、二酸化テルル等の結晶に超音波を印加したと
き該結晶の屈折率が超音波の周波数に比例する形で微小
変化するという音響光学効果を基に構成されており、結
晶の端面に設けたトランスデューサーに高周波の電界を
印加したときに、結晶内部に進行波形の超音波を発生さ
せてレーザ光を回折させ、高周波の電界を印加しないと
きには、結晶にブラッグ条件を満たす方向から入射する
レーザ光を透過することができる。従って、音響光学変
調器３６（３７）に対する高周波の印加を切り換えれ
ば、入射光つまり描画用光束Ｌ５とＬ６のオンオフを自
在に切換えることができる。音響光学変調器３６（３
７）が有する８個の各チャンネルは、一列状をなす第
一、第二の描画光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれに入射させ、
その入射した光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれ左右方向（図１
のＹ方向）に変調させるべく一列状をなしており、８個
の各チャンネルに合わせて上下方向（図１のＸ方向）に
形成したスリット７８を有している（図５）。
はそれぞれ、８本に分割した第一、第二の描画用光束Ｌ
５、Ｌ６の光量のバラツキを取り除く機能と、８本ずつ
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を、所定データに基づく制御部
（図示せず）によって各々独立にオンオフし、ビームセ
パレータ２１、２２で分割された描画用光束Ｌ５、Ｌ６
の各分割描画光束にそれぞれ、個別のオンオフの描画情
報を与える機能を有する。音響光学変調器３６、３７は
それぞれ、二酸化テルル等の結晶に超音波を印加したと
き該結晶の屈折率が超音波の周波数に比例する形で微小
変化するという音響光学効果を基に構成されており、結
晶の端面に設けたトランスデューサーに高周波の電界を
印加したときに、結晶内部に進行波形の超音波を発生さ
せてレーザ光を回折させ、高周波の電界を印加しないと
きには、結晶にブラッグ条件を満たす方向から入射する
レーザ光を透過することができる。従って、音響光学変
調器３６（３７）に対する高周波の印加を切り換えれ
ば、入射光つまり描画用光束Ｌ５とＬ６のオンオフを自
在に切換えることができる。音響光学変調器３６（３
７）が有する８個の各チャンネルは、一列状をなす第
一、第二の描画光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれに入射させ、
その入射した光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれ左右方向（図１
のＹ方向）に変調させるべく一列状をなしており、８個
の各チャンネルに合わせて上下方向（図１のＸ方向）に
形成したスリット７８を有している（図５）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１１】
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ光源からのレーザ光を、複数の描
画用光束からなる少なくとも二列の描画用光束群に分割
する分割手段；上記二列の描画用光束群を描画面に対し
て走査する走査手段；上記二列の描画用光束群の少なく
とも一方を回転させる第一の調整手段；上記二列の描画
用光束群の少なくとも一方を、上記走査手段の主走査方
向に移動させる第二の調整手段；および、 上記二列の描画用光束群の少なくとも一方を、上記主走
査方向と直交する副走査方向に移動させる第三の調整手
段；を備えたことを特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項２】 請求項１において、第一の調整手段は、
上記二列の描画用光束群の少なくとも一方の光路と直交
する方向に揺動可能に支持されたビームセパレータであ
る、レーザ描画装置。 - 【請求項３】 請求項１において、第二の調整手段は、
上記走査手段の主走査方向に沿って移動可能に支持さ
れ、上記二列の描画用光束群の少なくとも一方を入射す
るピッチ変換用集光光学系である、レーザ描画装置。 - 【請求項４】 請求項１において、第三の調整手段は、
上記走査手段の副走査方向に移動可能に支持され、上記
二列の描画用光束群の少なくとも一方を偏向させる偏光
ビームスプリッタである、レーザ描画装置。 - 【請求項５】 請求項３において、さらに、第三の調整
手段は、上記偏光ビームスプリッタに対する、上記二列
の描画用光束群の少なくとも一方の入射方向を変えるビ
ームベンダを有している、レーザ描画装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18161093A JP3266703B2 (ja) | 1993-07-22 | 1993-07-22 | レーザ描画装置 |
| DE4426070A DE4426070C2 (de) | 1993-07-22 | 1994-07-22 | Laser-Zeicheneinrichtung und Verfahren zum Justieren einer Laser-Zeicheneinrichtung |
| US08/279,745 US5805198A (en) | 1993-07-22 | 1994-07-22 | Laser drawing apparatus and method for adjusting the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18161093A JP3266703B2 (ja) | 1993-07-22 | 1993-07-22 | レーザ描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0735993A true JPH0735993A (ja) | 1995-02-07 |
| JP3266703B2 JP3266703B2 (ja) | 2002-03-18 |
Family
ID=16103818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18161093A Expired - Fee Related JP3266703B2 (ja) | 1993-07-22 | 1993-07-22 | レーザ描画装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5805198A (ja) |
| JP (1) | JP3266703B2 (ja) |
| DE (1) | DE4426070C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006251517A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光走査装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3890891B2 (ja) | 2000-12-25 | 2007-03-07 | 株式会社オーク製作所 | レーザー描画装置 |
| GB2403313B (en) * | 2003-05-27 | 2007-10-17 | Smith International | Drill bit |
| JP4508743B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-07-21 | 日立ビアメカニクス株式会社 | パターン露光方法およびパターン露光装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3820123A (en) * | 1973-04-04 | 1974-06-25 | Quantor Corp | Laser microfilm recorder |
| US4856169A (en) * | 1982-03-26 | 1989-08-15 | Micro-Precision Operations Inc. | Apparatus for compressing a retainer ring to assembly size |
| JP2696364B2 (ja) * | 1988-12-01 | 1998-01-14 | 旭光学工業株式会社 | 走査式光学装置のモニター機構 |
| US5107351A (en) * | 1990-02-16 | 1992-04-21 | Grumman Aerospace Corporation | Image enhanced optical correlator system |
-
1993
- 1993-07-22 JP JP18161093A patent/JP3266703B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-07-22 DE DE4426070A patent/DE4426070C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-22 US US08/279,745 patent/US5805198A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006251517A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光走査装置 |
| JP4533195B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2010-09-01 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4426070C2 (de) | 2003-11-13 |
| JP3266703B2 (ja) | 2002-03-18 |
| DE4426070A1 (de) | 1995-01-26 |
| US5805198A (en) | 1998-09-08 |
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