JP3477246B2 - レーザ描画装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、基板に回路パターンを
形成する場合等に使用されるレーザ描画装置に関する。 【０００２】 【従来技術及びその問題点】基板に回路パターンを形成
する場合、例えば銅等の導電金属材料からなる薄膜を均
一に付着させた基板上に、フォトポリマー等を均一に付
着させ、この基板を露光焼付用マスク（フォトマスクフ
ィルム）によって覆い、この状態の基板に紫外光等を照
射して、露光焼付用マスクの回路パターンを露光焼付す
る方法が用いられる。この方法において、露光焼付後、
基板上の露光されたフォトポリマーを溶剤によって洗い
流した後、所定の薬液で処理すると、フォトポリマーが
付着したままの部分が腐食せずに残るため、露光焼付用
マスクの回路パターンと同一のパターンを基板上に形成
することができる。しかしこの製造方法によると、製造
過程において不可欠な露光焼付用マスクの検査に要する
時間的、工数的な負担が大きく、また伸縮防止のために
露光焼付用マスクを湿度、温度変化から保護し、ゴミや
傷による障害からも保護しなければならない等、管理上
の負担が大きい。 【０００３】他方、露光焼付用マスクを使用せず、レー
ザ光を、ポリゴンミラー等によって基板に対し走査し
て、基板に直接的に描画（露光）する製造方法も知られ
ている。この方法によれば、露光焼付用マスクを用いる
製造方法での上記問題点を緩和することはできるが、レ
ーザ光を基板に走査する場合、レーザ光を出射するレー
ザ装置と基板の間のレンズに対する、レーザ光が有する
異なる偏光成分同士の反射率の違いに起因して、次のよ
うな問題が生じてしまう。つまり、レーザ光がレンズの
光軸を透過するときはよいが、光軸を外れて透過する場
合には、異なる偏光成分同士の反射率の違いにより、出
射時のレーザ光が入射時のそれに対してねじれ、あたか
も回転したようになって出射時の光量が減少してしま
う。 【０００４】 【発明の目的】本発明は、このような問題意識に基づい
て成されたものであり、レンズに入射するときの光束の
振動方向を適正に定めることにより、このレンズから出
射される光束の光量が減少することのないレーザ描画装
置を提供することを目的としている。 【０００５】 【発明の概要】上記目的を達成するための本発明は、レ
ーザ装置からのレーザ光を一列状の複数の分割光束に分
割する分割手段；この分割手段によって分割された上記
分割光束を入射させるレンズ；及び、このレンズから出
射される複数の分割光束を描画面に対して走査する走査
手段を備え、上記レーザ装置と分割手段とが、上記分割
光束を上記レンズの子午線上に一列に並ばせ得るように
構成されていること；及び、上記複数の分割光束は、そ
れぞれに直線偏光であり、かつそれぞれの振動方向が上
記レンズの子午線に対して平行または垂直とされて該レ
ンズに入射されることを特徴としている。 【０００６】 【発明の実施例】以下図示実施例に基づいて本発明を説
明する。図１は本発明を適用したレーザ描画装置１１の
全体を示す外観斜視図、図２は該レーザ描画装置１１を
示す概略平面図、及び、図３は該レーザ描画装置１１の
主要な構成部材を抜粋して概略的に示す図である。 【０００７】レーザ描画装置１１は、テーブル１０上
に、アルゴンレーザ装置１２を有し、ビームベンダ１
３、２３〜２５、２８〜２９、３０、３５、４１、４
４、４５、５４、調整用ターゲット１５、１７、３３、
ハーフプリズム１６、ビームベンダ（ハーフミラー）１
４、及びレンズ５２、５３、６５〜７１を有している。
レーザ描画装置１１はさらに、音響光学変調器１９、２
０、ビームセパレータ２１、２２、ピッチ変換用集光光
学系２６、３１、２７、３２、８チャンネルの音響光学
変調器３６、３７、ビームベンダ３８、集光光学系３
４、λ／２板３９、偏光ビームスプリッタ４０、イメー
ジローテータ４３、ポリゴンミラー４６、ｆθレンズ４
７、Ｘスケール用集光レンズ４８、コンデンサレンズ４
９、Ｘスケール５０、ミラー６０、モニター光用ミラー
５１ａ、５１ｂ、及びＸスケール用フォトディテクタ６
２を有している。調整用ターゲット１５、１７、３３
は、アルゴンレーザ装置１２の交換時等に、光束Ｌ２、
Ｌ３及びモニター光Ｌｍの光路を確認するための指標で
ある。 【０００８】レーザ描画装置１１に近接させて、像面で
ある描画テーブル面Ｔ（面の位置のみ二点鎖線で示して
いる）に位置するように基板Ｓをセットする基板セット
装置（図示せず）が設けられている。この基板セット装
置は、Ｙ方向（ポリゴンミラー４６の副走査方向であり
図１の左右方向）に移動自在なＹテーブル（図示せず）
と、図示しない回動軸を中心として図１の上下方向に揺
動するスイング機構（図示せず）を有している。 【０００９】アルゴンレーザ装置（レーザ光源）１２
は、水冷式、出力１．８Ｗで、波長４８８ｎｍのレーザ
光Ｌ１を出射するように構成されている。音響光学変調
器１９、２０はそれぞれ、ハーフプリズム１６によって
分割された描画用光束Ｌ２、Ｌ３の光量差を除去する補
正を行ない、またポリゴンミラー（走査手段）４６の各
反射面４６ａ毎の微細な面倒れを、制御手段８の記憶部
にメモリされた各反射面４６ａの面倒れに関するデータ
に基づいて補正する。 【００１０】音響光学変調器１９、２０から出射される
光束Ｌ２、Ｌ３は、ビームセパレータ２１、２２にそれ
ぞれ入射し、該ビームセパレータ２１、２２によって各
々８本ずつの第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６に分割
される。該ビームセパレータ２１、２２はそれぞれ、図
６に示されるように、その長手方向（同図上下方向）に
沿わせた８個の出射孔ｈを有し、揺動調整機構７９によ
り、最上方の出射孔ｈと同位置を回動軸として同図矢印
Ａ方向（第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の光路と直
交する方向）に揺動可能に支持されている。 【００１１】揺動調整機構７９は、載置部８０から上方
に立ち上げられた支持壁８１を有し、この支持壁８１か
ら載置部８０の上方に向けて突出させた突出支持壁８２
を有している。支持壁８１には、マイクロメーターヘッ
ド８４が図６の左右方向（即ち図１のＹ方向）に沿わせ
て取付けられており、突出支持壁８２には、ビームセパ
レータ２１（２２）の最上方の出射孔ｈと同じ位置に回
動軸８３が設けられている。該ビームセパレータ２１
（２２）は、回動軸８３を中心として図６の時計方向に
付勢手段（図示せず）によって回動付勢されて、その一
側下部をマイクロメーターヘッド８４のスピンドル８５
先端に当接させている。よって、マイクロメーターヘッ
ド８４を操作してスピンドル８５を進退させることによ
り、ビームセパレータ２１（２２）を回動軸８３を中心
として同図矢印Ａ方向に揺動させて、一列状の描画光束
Ｌ５（Ｌ６）からなる平面を回転させ、描画用光束Ｌ５
とＬ６を互いに平行となるように位置調整することがで
きる（図１２参照）。 【００１２】ビームセパレータ２１、２２から出射され
た第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６は、ピッチ変換用
集光レンズ２６、３１及び２７、３２にそれぞれに入射
される。このピッチ変換用集光レンズ２６、３１及び２
７、３２はそれぞれ、ビームセパレータ２１、２２によ
って、一列状をなす８本ずつの光束に分割された第一、
第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各々のピッチを、８チャ
ンネルの音響光学変調器３６、３７のピッチに合わせ
る。またピッチ変換用集光レンズ２６、３１は、Ｘ方向
調整機構９１を介してＸ方向（図１、図８の上下方向）
に適宜移動調節されることにより、一列状をなす第一の
描画用光束Ｌ５からなる平面を、一列状の第二の描画用
光束Ｌ６に向けて移動させて（図１２参照）、Ｘ方向に
おける位置ズレを調整するＸ方向調整手段を構成してい
る。 【００１３】Ｘ方向調整機構９１は、図９に示されるよ
うに、載置部９２から上方に立ち上げられた固定支持壁
９３を有し、この固定支持壁９３に対して上下方向に移
動可能な移動支持壁９４を有している。この移動支持壁
９４の上部には、マイクロメーターヘッド９５が、同図
の上下方向（Ｘ方向）に沿わせて取付けられている。移
動支持壁９４を貫通する支持孔９４ａには、ピッチ変換
用集光レンズ２６（３１）が固定されており、このピッ
チ変換用集光レンズ２６（３１）の環状部２６ａ（３１
ａ）が、固定支持壁９３を貫通する貫通孔９３ａに挿通
されている。この貫通孔９３ａは、上記環状部２６ａ
（３１ａ）より大径にされていて、移動支持壁９４の上
下動によって移動するこの環状部２６ａ（３１ａ）の上
下移動を許容する。この移動支持壁９４は、付勢手段
（図示せず）によって下方に向けて移動付勢されてい
て、ピッチ変換用集光レンズ２６（３１）と共にマイク
ロメーターヘッド９５を下方に向けて移動付勢して、こ
のマイクロメーターヘッド９５のスピンドル９６先端を
固定支持壁９３上端に当接させている。よって、マイク
ロメーターヘッド９５を操作してスピンドル９６を進退
させれば、ピッチ変換用集光レンズ２６（３１）を、移
動支持壁９４を介して同図上下方向（Ｘ方向）にスライ
ド調整することができる。 【００１４】ビームベンダ３８及び偏光ビームスプリッ
タ４０はそれぞれ、その位置変更により第一の描画用光
束Ｌ５をＹ方向、即ち第二の描画用光束Ｌ６に向けて移
動させ、両者の位置合わせをするＹ方向調整手段を構成
している。ビームベンダ３８は、Ｘ方向に沿わせた回動
支軸（図示せず）を中心として回動されることにより、
第一の描画用光束Ｌ５をＹ方向に移動調整することがで
き、また偏光ビームスプリッタ４０は、図７に示される
Ｙ方向調整機構８５を操作されることにより、第一の描
画用光束Ｌ５をＹ方向に移動調整することができる（図
８参照）。Ｙ方向調整機構８５は、載置部８６と、この
載置部８６に対して同図の上下方向（Ｙ方向）に移動可
能な移動部８７を有している。載置部８６には、マイク
ロメーターヘッド８９が同図上下方向に沿わせて固定さ
れ、移動部８７には、偏光ビームスプリッタ４０が、ハ
ーフミラー面４０ａを同図Ｙ方向に対して４５゜傾斜さ
せた状態で固定されている。この移動部８７は、付勢手
段（図示せず）によって同図下方に移動付勢されてい
て、その下側面をマイクロメーターヘッド８９のスピン
ドル９０先端に当接させている。よって、マイクロメー
ターヘッド８９を操作してスピンドル９０を進退させれ
ば、偏光ビームスプリッタ４０を同図の矢印Ｙ方向にス
ライド調整することができる。 【００１５】また偏光ビームスプリッタ４０は、ビーム
ベンダ３８で偏向されて入射する、一列状をなす第一の
描画用光束Ｌ５と、λ／２板３９を透過して入射する、
一列状をなす第二の描画用光束Ｌ６を、所定のピッチで
交互に混在させ、Ｘ方向に沿って再び一列状に整列させ
る光合成手段を構成している。第一の描画用光束Ｌ５は
偏光方向を変更されないが、第二の描画用光束Ｌ６は、
λ／２板３９によって偏光方向を描画用光束Ｌ５のそれ
に対して９０゜回転される。このように偏向方向を互い
に９０゜異ならせた描画用光束Ｌ５とＬ６が、上記のよ
うに偏光ビームスプリッタ４０によって交互に組合わさ
れ、一列状に整列される。 【００１６】８チャンネルの音響光学変調器３６、３７
はそれぞれ、８本に分割した第一、第二の描画用光束Ｌ
５、Ｌ６の光量のバラツキを取り除く機能と、８本ずつ
の描画用光束Ｌ５、Ｌ６を、所定データに基づく制御部
８によって各々独立にオンオフし、ビームセパレータ２
１、２２で分割された描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各分割描
画光束にそれぞれ、個別のオンオフの描画情報を与える
機能を有する。音響光学変調器３６、３７はそれぞれ、
二酸化テルル等の結晶に超音波を印加したとき該結晶の
屈折率が超音波の周波数に比例する形で微小変化すると
いう音響光学効果を基に構成されており、結晶の端面に
設けたトランスデューサーに高周波の電界を印加したと
きに、結晶内部に進行波形の超音波を発生させてレーザ
光をブラッグ回折させ、高周波の電界を印加しないとき
に、入射するレーザ光を透過することができる。従っ
て、音響光学変調器３６（３７）に対する高周波の印加
を切り換えれば、入射光つまり描画用光束Ｌ５とＬ６の
オンオフを自在に切換えることができる。音響光学変調
器３６（３７）が有する８個の各チャンネルは、一列状
をなす第一、第二の描画光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれに入
射させ、その入射した光束Ｌ５、Ｌ６をそれぞれ左右方
向（図１のＹ方向）に変調させるべく一列状をなしてお
り、８個の各チャンネルに合わせて上下方向（図１のＸ
方向）に形成したスリット７８を有している（図１
０）。 【００１７】またモニター光Ｌｍは、光束Ｌ２( Ｌ５)
、Ｌ３( Ｌ６) とは別系統の光束とされて光路長を長
くされ、描画用光束Ｌ５とＬ６に対し空間的に所定距離
離れた位置を光路としている。モニター光Ｌｍは、ミラ
ー５４、２５によって偏向され、第一、第二の描画用光
束Ｌ５、Ｌ６から所定距離離れた位置を通り、さらにミ
ラー３５、６０によって偏向された後描画用光束Ｌ５、
Ｌ６に接近し、レンズ７１、ビームベンダ４１及びレン
ズ５２等を介して、描画用光束Ｌ５、Ｌ６の光路の真横
に位置するようにその光路が変えられる。 【００１８】イメージローテータ４３は、ポリゴンミラ
ー４６による走査時に、隣接する第一、第二の描画用光
束Ｌ５、Ｌ６の各スポットを互いに重ね合わせることが
できるように、一列状に１６本並んだ描画用光束Ｌ５と
Ｌ６を、描画テーブル面Ｔに斜めに配置させるためのミ
ラー系である。従って、第一、第二の描画用光束Ｌ５、
Ｌ６は、イメージローテータ４３に入射するまでは、ポ
リゴンミラー４６の主走査方向であるＸ方向と平行な方
向に沿って一列状に１６本並んでいるが、イメージロー
テータ４３から出射するときには、各描画用光束Ｌ５
（Ｌ６）の位置する平面が、例えば図１２に示されるよ
うに、同図の時計方向に所定角度回転される。 【００１９】第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６及びモ
ニター光Ｌｍは、さらにビームベンダ４４と４５によっ
て偏向された後ポリゴンミラー４６の反射面４６ａに入
射される。ポリゴンミラー４６は、回転軸７３を中心と
して図１１の反時計方向に回転するとき、描画テーブル
面Ｔに対する傾きθを連続的に変化させて同方向に回転
移動する各反射面４６ａによって、第一、第二の描画用
光束Ｌ５、Ｌ６及びモニター光Ｌｍを走査する。これに
より、第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６がそれぞれ、
ｆθレンズ４７及びコンデンサレンズ４９を透過して、
描画テーブル面Ｔに位置する基板Ｓ上に結像される。 【００２０】また第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６と
共にｆθレンズ４７、コンデンサレンズ４９を透過した
モニター光Ｌｍは、モニター光用ミラー５１ａと５１ｂ
で順に反射されて１８０゜偏向され、描画テーブル面Ｔ
の結像面と等価な位置に配置されたＸスケール５０に入
射する。このＸスケール５０は、リニアなエンコーダと
同じように、ガラスにスリットを形成したものである。
そしてモニター光Ｌｍは、Ｘスケール５０を透過した
後、長尺のミラー６３、６４でそれぞれに反射、集光さ
れ、Ｘスケール用集光レンズ４８でさらに集光されて、
Ｘスケール用フォトディテクタ６２に入射する。このＸ
スケール用フォトディテクタ６２により検出されるモニ
ター光Ｌｍの位置に基づき、１６本並んだ第一、第二の
描画用光束Ｌ５、Ｌ６の位置が判定され、この判定デー
タに基づく制御部８からの信号により、第一、第二の描
画用光束Ｌ５、Ｌ６の１６本の光束はそれぞれ個別にオ
ンオフされる。 【００２１】描画テーブル面Ｔに対しやや傾斜して結像
する第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各スポット
は、８チャンネルの音響光学変調器３６、３７を介し
て、スポット径が例えば３０μｍとなるように補正され
る。これにより、図１７に示すような各スポットの光量
のバラツキが、図１８に示すように調整される。本実施
例において、描画用光束Ｌ５、Ｌ６の各スポットは、音
響光学変調器３６、３７を介して、相互の間隔ｂ（図１
５）が例えば５μｍとなるようにピッチ調整される。 【００２２】副走査方向に沿わせた各スポットによる描
画ラインＬ（図１８）は、音響光学変調器３６、３７を
適時オンオフすることにより描画できる。その場合、描
画用光束Ｌ５とＬ６のスポット同士の干渉を防止する間
隔ｃが必要で、例えば図１８において最下部の描画用光
束Ｌ５を露光した後次ぎなる描画用光束Ｌ６を直に露光
させると、描画ラインＬは線にならない。そこで、本レ
ーザ描画装置１１では、最下部の描画用光束Ｌ５を露光
した後次ぎなる描画用光束Ｌ６を直に露光させずに、所
定時間置いてから露光させる。これにより、前に露光さ
れた描画用光束Ｌ５のスポットに対し次ぎなる描画用光
束Ｌ６のスポットを適正に重ねることができるから、こ
の操作を連続して行なうことにより図１８のようなライ
ンＬを描画することができる。その場合、図１５のよう
に、ラインＬの各スポット位置にバラツキが出るとき
は、８チャンネルの音響光学変調器３６、３７の変調タ
イミングを適宜変えることにより、図１６のように補正
することができる。 【００２３】アルゴンレーザ装置１２及びビームセパレ
ータ２１、２２は、該ビームセパレータ２１、２２から
それぞれに出射される第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ
６の個々の光束Ｌ５、Ｌ６を、ピッチ変換用集光レンズ
２６、２７それぞれの子午線Ｍ上に一列状に並ばせるこ
とができるように配置されている。さらにアルゴンレー
ザ装置１２及びビームセパレータ２１、２２は、個々の
第一、第二の描画用光束Ｌ５、Ｌ６それぞれの入射時の
振動方向が、ピッチ変換用集光レンズ２６、２７それぞ
れの子午線Ｍに対して平行または垂直（図４、図５）と
なるように、その位置が精密に設定されている。 【００２４】上記構成を有する本レーザ描画装置１１
は、次のように作動させることができる。先ず、回路パ
ターンを形成すべき基板Ｓの位置決め孔（図示せず）
を、基板セット装置の対応する部位に合わせ、この基板
Ｓを該装置に対して適正にセットする。これにより基板
Ｓは、この基板セット装置のＹテーブル及びスイング機
構（図示せず）により、図１のＹ方向にスライド自在、
かつその位置において回動軸（図示せず）を軸として揺
動自在にセットされる。 【００２５】この状態において、アルゴンレーザ装置１
２を発振させてレーザ光Ｌ１の照射を開始させると、こ
のレーザ光Ｌ１は、先ず、ビームベンダ１３で偏向さ
れ、調整用ターゲット１５を通過した後ハーフプリズム
１６に入射し、このハーフプリズム１６によって、その
まま直進する光束Ｌ２と、９０゜偏向されてハーフミラ
ー１４に向かう描画用光束とに分割される。この描画用
光束は、ハーフミラー１４を介して、９０゜偏向されて
上記光束Ｌ２と並んで進む描画用光束Ｌ３、及びミラー
５４に向かい該ミラー５４で９０゜偏向されるモニター
光Ｌｍとに分割される。 【００２６】光束Ｌ２は、レンズ６５、調整用ターゲッ
ト１７及びレンズ６７を介して音響光学変調器１９に入
射され、また描画用光束Ｌ３は、レンズ６６、６８を透
過して音響光学変調器２０に入射される。そして該光束
Ｌ２、Ｌ３両者間の光量差は、音響光学変調器１９と２
０によって除去される。該光束Ｌ２、Ｌ３はさらに、ビ
ームセパレータ２１と２２により、Ｘ方向に互いに並列
する８本の第一の描画用光束Ｌ５と第二の描画用光束Ｌ
６とにそれぞれ分割される。該第一、第二の描画用光束
Ｌ５、Ｌ６はさらに、ピッチ変換用集光レンズ２６、２
７をそれぞれに透過し、ビームベンダ２８、２９で９０
゜偏向された後、ピッチ変換用集光レンズ３１、３２を
介して音響光学変調器３６、３７にそれぞれ入射され
る。 【００２７】ここで、ピッチ変換用集光レンズ２６、２
７に入射する分割光束群Ｌ５、Ｌ６のうち、該集光レン
ズ２６、２７の光軸を透過する光束に問題はないが、光
軸から離れた位置を透過する軸外光束はその偏光方向に
よっては次の問題を招く。つまり、この軸外光束は、集
光レンズ２６、２７のレンズ面に対する入射角が０では
ないため、そのＰ偏光成分とＳ偏光成分はそれぞれに表
面反射率が異なる。このため、図１９に示すように、軸
外光束ａがその偏光方向を回転させた状態で集光レンズ
２６、２７に入射した場合は、図２０に示すように、軸
外光束ａのＰ偏光成分とＳ偏光成分が、互いの偏光方向
の違いと集光レンズ２６、２７に対する反射率の違いに
より、互いの透過率に違いを生じる。よって、このＰ偏
光成分とＳ偏光成分が合成されている軸外光束ａの振動
方向は、集光レンズ２６、２７からの出射時には、図２
０の二点鎖線ｅで示すように、入射時に比して偏光方向
があたかも回転したようになる。 【００２８】このように、ピッチ変換用集光レンズ２
６、２７を複数の光束が透過するときその偏光方向が回
転されると（図２１、図２２）、例えばレンズ透過後の
光束群を偏光ビームスプリッタ４０に入射する場合に、
出射光量が減少する等の不都合を招くことが考えられ
る。また、例えば集光レンズ２６、２７透過後の光束を
音響光学変調器３６、３７に入射させようとする場合に
は、集光レンズ２６、２７を透過した偏光状態のそれぞ
れに異なる複数の光束が、音響光学変調器３６、３７に
よる回折効率をそれぞれに変化させられる等の不都合を
招く虞がある。 【００２９】上述のように、本発明に係るレーザ描画装
置１１では、アルゴンレーザ装置１２及びビームセパレ
ータ２１、２２は、このビームセパレータ２１、２２か
らそれぞれに出射される描画用光束Ｌ５、Ｌ６個々の光
束Ｌ５、Ｌ６を、図４、図５のように、ピッチ変換用集
光レンズ２６、２７それぞれの子午線（光軸を含む線）
Ｍ上に並ばせることができるように配置されている。さ
らに、アルゴンレーザ装置１２から出射されるレーザ光
は直線偏光であり、ハーフプリズム１６によって分割さ
れてビームセパレータ２１、２２のそれぞれに、直線偏
光の分割光束Ｌ５、Ｌ６として入射される。この分割光
束Ｌ５、Ｌ６は、アルゴンレーザ装置１２及びビームセ
パレータ２１、２２の配置により、ピッチ変換用集光レ
ンズ２６、２７に入射するときのそれぞれの振動方向
が、図４、図５に示すように、該集光レンズ２６、２７
の子午線Ｍに対して平行または垂直とされる。このた
め、ピッチ変換用集光レンズ２６、２７を透過後に、偏
光ビームスプリッタ４０に入射する描画用光束Ｌ５、Ｌ
６の光量が減少する等の不具合は生じない。また、ピッ
チ変換用集光レンズ２６、２７の透過後、描画用光束Ｌ
５、Ｌ６を音響光学変調器３６、３７に入射する場合
に、偏光状態が個々の光束毎に異なることによって生じ
る、該音響光学変調器３６、３７による回折効率の違い
等の不具合も生じることはない。 【００３０】上記ピッチ変換用集光レンズ２６、３１を
透過した描画用光束Ｌ５、Ｌ６は、ビームベンダ２８、
２９で９０゜偏向された後、ピッチ変換用集光レンズ３
１、３２を介して音響光学変調器３６、３７にそれぞれ
入射される。描画用光束Ｌ５とＬ６は、８本に分割され
た描画用光束それぞれの光量のバラツキを、８チャンネ
ルの音響光学変調器３６と３７の音響光学効果によって
個々に除去され、また音響光学変調器３６、３７の制御
手段８に基づく高周波の印加の切換えによって適時オン
オフされる。 【００３１】音響光学変調器３６から出射される描画用
光束Ｌ５は、ビームベンダ３８で９０゜偏向された後偏
光ビームスプリッタ４０に入射され、ハーフミラー面４
０ａで反射されて９０゜偏向される。また、音響光学変
調器３７から出射される描画用光束Ｌ６は、λ／２板３
９を透過して偏光方向を変えられた後偏光ビームスプリ
ッタ４０に入射され、ハーフミラー面４０ａを透過す
る。よって、これらの描画用光束Ｌ５とＬ６は、それぞ
れ８本ずつ有する個々の描画用光束を、偏光ビームスプ
リッタ４０により順に組合わされて、Ｘ方向に一列に並
ぶように合成される。 【００３２】さらに制御手段８が、ポリゴンミラー４６
からの描画用光束Ｌ５、Ｌ６の走査に同期させて図示し
ない基板セット装置を作動させて、基板Ｓを、描画テー
ブル面Ｔ上でＹ方向にスライドさせる。よって、Ｘ方向
に対しやや斜めに１６本並列して適時オンオフされる描
画用光束Ｌ５、Ｌ６により、基板Ｓ上に、回路パターン
が二次元的に描画（露光）される。 【００３３】 【発明の効果】以上説明したように本発明のレーザ描画
装置によれば、レンズから出射する光束の振動方向を適
正に定め、レンズ透過後の分割光束群の光量が減少する
等の不具合をなくすることができる。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明を適用したレーザ描画装置の全体を示す
斜視外観図である。 【図２】同レーザ描画装置の全体を示す概略平面図であ
る。 【図３】同レーザ描画装置の主要な構成部材を抜粋して
概略的に示す図である。 【図４】描画用光束のピッチ変換用集光レンズへの入射
時と出射時の様子を概略的に示す説明図である。 【図５】描画用光束のピッチ変換用集光レンズへの入射
時と出射時の様子を概略的に示す説明図である。 【図６】揺動調整機構を示す正面図である。 【図７】Ｙ方向調整機構を示す平面図である。 【図８】同Ｙ方向調整機構によってＹ方向にスライドさ
れる偏光ビームスプリッタを詳示する平面図である。 【図９】Ｘ方向調整機構を示す側面断面図である。 【図１０】音響光学変調器を示す拡大斜視図である。 【図１１】ポリゴンミラーを示す拡大斜視図である。 【図１２】描画用光束群を回転させるときの状態を示す
説明図である。 【図１３】二列の描画用光束群の一方をポリゴンミラー
の主走査方向に移動させるときの状態を示す説明図であ
る。 【図１４】二列の描画用光束群の一方をポリゴンミラー
の副走査方向に移動させるときの状態を示す説明図であ
る。 【図１５】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。 【図１６】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。 【図１７】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正前の状態で示す図
である。 【図１８】一列状の描画用光束と、この描画用光束によ
って描画されるラインとの関係を補正後の状態で示す図
である。 【図１９】偏光方向を傾けてレンズに入射させる時の不
具合を説明するための説明図である。 【図２０】偏光方向を傾けてレンズに入射させる時の不
具合を説明するための説明図である。 【図２１】偏光方向を傾けてレンズに入射させる時の不
具合を説明するための説明図である。 【図２２】偏光方向を傾けてレンズに入射させる時の不
具合を説明するための説明図である。 【符号の説明】 １０ テーブル １１ レーザ描画装置 １２ アルゴンレーザ装置（レーザ装置） １６ ハーフプリズム １９ ２０ ３６ ３７ 音響光学変調器 ２１ ２２ ビームセパレータ（分割手段） ２６ ３１ ピッチ変換用集光レンズ（レンズ） ２７ ３２ ピッチ変換用集光レンズ（レンズ） ３８ ビームベンダ ３９ λ／２板 ４０ 偏光ビームスプリッタ ４３ イメージローテータ ４６ ポリゴンミラー（走査手段） ４９ コンデンサレンズ ７９ 揺動調整機構 ８５ Ｙ方向調整機構 ８６ Ｘ方向調整機構 Ｌ１ レーザ光 Ｌ２ Ｌ３ 光束 Ｌ５ Ｌ６ 描画用光束 Ｌｍ モニター光 Ｓ 基板 Ｔ 描画テーブル面

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 レーザ装置からのレーザ光を一列状の複
   数の分割光束に分割する分割手段；この分割手段によっ
   て分割された上記分割光束を入射させるレンズ；及び、 このレンズから出射される複数の分割光束を描画面に対
   して走査する走査手段；を備え、 上記レーザ装置と分割手段とが、上記分割光束を上記レ
   ンズの子午線上に一列に並ばせ得るように構成されてい
   ること；及び、 上記複数の分割光束は、それぞれに直線偏光であり、か
   つそれぞれの振動方向が上記レンズの子午線に対して平
   行または垂直とされて該レンズに入射されること；を特
   徴とするレーザ描画装置。