JPH0733347B2 - 光学活性化合物の製造方法 - Google Patents
光学活性化合物の製造方法Info
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- JPH0733347B2 JPH0733347B2 JP60223866A JP22386685A JPH0733347B2 JP H0733347 B2 JPH0733347 B2 JP H0733347B2 JP 60223866 A JP60223866 A JP 60223866A JP 22386685 A JP22386685 A JP 22386685A JP H0733347 B2 JPH0733347 B2 JP H0733347B2
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- Japan
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- tocopherol
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/32—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by aldehydo- or ketonic radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C46/00—Preparation of quinones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C50/00—Quinones
- C07C50/02—Quinones with monocyclic quinoid structure
- C07C50/06—Quinones with monocyclic quinoid structure with unsaturation outside the quinoid structure
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は（2RS,4′R,8′Ｒ）−トコフエロールの新規な
製造方法に関する。また、本発明は本方法における新規
な出発物質及び新規な中間体に関する。
製造方法に関する。また、本発明は本方法における新規
な出発物質及び新規な中間体に関する。
本発明による方法は式 の化合物を一般式 式中、R3は離脱性基を表わす、 の化合物と反応させ、かくして得られる式 の化合物を式 の化合物に転化し、そしてかくして得られる式IVの化合
物を式 の化合物、すなわち（2RS,4′R,8′Ｒ）−トコフエロー
ルに転化することからなる。
物を式 の化合物、すなわち（2RS,4′R,8′Ｒ）−トコフエロー
ルに転化することからなる。
「離脱性基」（leaving group）なる用語は、本発明の
範囲において、特にハロゲン、例えばフツ素、塩素、臭
素及びヨウ素、臭素及び塩素が好ましい。並びにメシル
基、トシル基、アセテート基等の基を表わす。更に、記
号 は対応する残基が分子の面の上に位置することを表わ
し、そして記号 は対応する残基が分子の面の下に位置することを表わ
す。
範囲において、特にハロゲン、例えばフツ素、塩素、臭
素及びヨウ素、臭素及び塩素が好ましい。並びにメシル
基、トシル基、アセテート基等の基を表わす。更に、記
号 は対応する残基が分子の面の上に位置することを表わ
し、そして記号 は対応する残基が分子の面の下に位置することを表わ
す。
式Ｉ、III及びIVの化合物は親規なものである。
式Ｉの化合物と式IIの化合物との反応は、反応条件下で
不活性である有機溶媒中で且つ強塩基の存在下において
行うことができる。溶媒として有極性溶媒のみならず、
また無極性溶媒も考えられる。無極性の非プロトン性溶
媒、例えば脂肪族または芳香族炭化水素、例えばヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン等、並びに有極性のプロトン性
溶媒としてtert−ブタノールが好ましい。またこれらの
溶媒混合物が好ましい。強塩基として、特に本発明の範
囲において、有機塩基、例えばアルカリ金属（Li、Na、
Ｋ）アミドの如きアミド類またはリチウムジアルキルア
ミド、アルコレート、例えばアルカリ金属tert−ブチレ
ート、並びに水素化物、例えば水素化ナトリウムまたは
水素化カリウム等が考えられる。更に、この反応は約−
70℃乃至＋50℃、好ましくは約０℃乃至＋30℃の温度、
そして特にほぼ室温で行うことができる。
不活性である有機溶媒中で且つ強塩基の存在下において
行うことができる。溶媒として有極性溶媒のみならず、
また無極性溶媒も考えられる。無極性の非プロトン性溶
媒、例えば脂肪族または芳香族炭化水素、例えばヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン等、並びに有極性のプロトン性
溶媒としてtert−ブタノールが好ましい。またこれらの
溶媒混合物が好ましい。強塩基として、特に本発明の範
囲において、有機塩基、例えばアルカリ金属（Li、Na、
Ｋ）アミドの如きアミド類またはリチウムジアルキルア
ミド、アルコレート、例えばアルカリ金属tert−ブチレ
ート、並びに水素化物、例えば水素化ナトリウムまたは
水素化カリウム等が考えられる。更に、この反応は約−
70℃乃至＋50℃、好ましくは約０℃乃至＋30℃の温度、
そして特にほぼ室温で行うことができる。
式IIIの化合物の式IVの化合物への転化は逆デイールス
−アルダー（retro Diels−Alder）反応を表わし、それ
自体公知の方法において行うことができる。不活性溶媒
の不存在下でまたは存在下で例えば約140℃乃至200℃の
温度、好ましくは約150℃乃至170℃の温度に加熱を行う
ことができる。
−アルダー（retro Diels−Alder）反応を表わし、それ
自体公知の方法において行うことができる。不活性溶媒
の不存在下でまたは存在下で例えば約140℃乃至200℃の
温度、好ましくは約150℃乃至170℃の温度に加熱を行う
ことができる。
式IVの化合物の式Ｖの化合物への転化はそれ自体公知の
方法において行うことができる。この転化はエポキシ基
の還元的開裂によつて有利に行うことができる。特に適
当な還元剤は酢酸中の亜鉛、酢酸中の亜鉛アマルガム、
重亜硫酸ナトリウム、ジエチルアミン中のリチウム等で
ある。好ましい還元系は酢酸中の亜鉛または亜鉛アマル
ガムである。またこの還元においてカルボニル基が還元
される場合、これによつて得られるヒドロキノンを続い
て酸化しなければならない。またこの酸化はそれ自体公
知の方法において行うことができる。酸化剤として、酸
素、空気、ジヤベル水（Javelle water）、アルカリ金
属クロム酸塩等を用いることができ、酸素（空気）及び
ジヤベル水が特に適当である。
方法において行うことができる。この転化はエポキシ基
の還元的開裂によつて有利に行うことができる。特に適
当な還元剤は酢酸中の亜鉛、酢酸中の亜鉛アマルガム、
重亜硫酸ナトリウム、ジエチルアミン中のリチウム等で
ある。好ましい還元系は酢酸中の亜鉛または亜鉛アマル
ガムである。またこの還元においてカルボニル基が還元
される場合、これによつて得られるヒドロキノンを続い
て酸化しなければならない。またこの酸化はそれ自体公
知の方法において行うことができる。酸化剤として、酸
素、空気、ジヤベル水（Javelle water）、アルカリ金
属クロム酸塩等を用いることができ、酸素（空気）及び
ジヤベル水が特に適当である。
式Ｖの化合物は公知のものであり、公知の方法において
（2RS,4′R,8′Ｒ）−トコフエロールに転化することが
できる。例えばこの転化をアイスラー（Isler,O.）等、
ビタミンズ・アンド・ホルモンズ（Vitamins and Hormo
nes）、20、389（1962）に記載の方法に従つて行うこと
ができる。
（2RS,4′R,8′Ｒ）−トコフエロールに転化することが
できる。例えばこの転化をアイスラー（Isler,O.）等、
ビタミンズ・アンド・ホルモンズ（Vitamins and Hormo
nes）、20、389（1962）に記載の方法に従つて行うこと
ができる。
本発明による方法において出発物質として用いる式Ｉの
化合物は新規なものである。しかしながら、このものは
それ自体公知の方法において式 の化合物をエポキシド化することによつて容易に得るこ
とができる。このエポキシド化は炭素原子１〜４個を有
する低級アルコール中で、塩基、例えばアルカリ金属及
びアルカリ土類金属炭酸塩または水酸化物の存在下にお
いて、ほぼ室温乃至反応混合物のほぼ還流温度、好まし
くは約50℃乃至70℃の温度で30％H2O2によつて有利に行
われる。
化合物は新規なものである。しかしながら、このものは
それ自体公知の方法において式 の化合物をエポキシド化することによつて容易に得るこ
とができる。このエポキシド化は炭素原子１〜４個を有
する低級アルコール中で、塩基、例えばアルカリ金属及
びアルカリ土類金属炭酸塩または水酸化物の存在下にお
いて、ほぼ室温乃至反応混合物のほぼ還流温度、好まし
くは約50℃乃至70℃の温度で30％H2O2によつて有利に行
われる。
実施例１ 撹拌機、還流冷却器及びアルゴン通気孔を備えた容量35
0mlのスルホン化用フラスコ中にアルゴン下にてtert−
ブタノール／トルエン（4:1）の混合物180ml及びカリウ
ム9.6g（0.25モル）を入れ、還流下で２時間加熱した。
次に混合物を氷浴によつて＋３℃に冷却し、（1aRS,2aR
S,3SR,6RS,6aSR,7aSR）−1a,2a,3,6,6a,7a−ヘキサヒド
ロ−1a,2a,7a−トリメチル−3,6−メタノオキシレノ
〔ｂ〕ナフタレン−2,7−ジオン26.6g（0.112モル）で
処理した。その後、tert−ブタノール／トルエン（4:
1）80ml中の（2E,7R,11R）−フイチルブロマイド56.5g
（0.157モル）を＋５℃で30分間以内に滴下し、この混
合物を室温で更に30分間撹拌した。次に水20mlを加え、
混合物を回転蒸発機にて30℃で濃縮した。残渣をヘキサ
ン各500mlに２回採り入れ、半飽和NaCl溶液で２回洗浄
し、次にNa2SO4上で乾燥した。粗製の褐色生成物68.3g
が得られた。このものから、シリカゲル上でヘキサン／
エーテル（97:3）を用いてクロマトグラフイーにかけ、
HPLCによる含有量99％の淡黄色油として、（1aRS,2aRS,
3SR,6RS,6aSR,7aSR）−1a,2a,3,6,6a,7a−ヘキサヒドロ
−1a,6a,7a−トリメチル−2a−〔（E,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニル〕−3,6−メ
タノキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−2,7−ジオン40.2gが得
られた。
0mlのスルホン化用フラスコ中にアルゴン下にてtert−
ブタノール／トルエン（4:1）の混合物180ml及びカリウ
ム9.6g（0.25モル）を入れ、還流下で２時間加熱した。
次に混合物を氷浴によつて＋３℃に冷却し、（1aRS,2aR
S,3SR,6RS,6aSR,7aSR）−1a,2a,3,6,6a,7a−ヘキサヒド
ロ−1a,2a,7a−トリメチル−3,6−メタノオキシレノ
〔ｂ〕ナフタレン−2,7−ジオン26.6g（0.112モル）で
処理した。その後、tert−ブタノール／トルエン（4:
1）80ml中の（2E,7R,11R）−フイチルブロマイド56.5g
（0.157モル）を＋５℃で30分間以内に滴下し、この混
合物を室温で更に30分間撹拌した。次に水20mlを加え、
混合物を回転蒸発機にて30℃で濃縮した。残渣をヘキサ
ン各500mlに２回採り入れ、半飽和NaCl溶液で２回洗浄
し、次にNa2SO4上で乾燥した。粗製の褐色生成物68.3g
が得られた。このものから、シリカゲル上でヘキサン／
エーテル（97:3）を用いてクロマトグラフイーにかけ、
HPLCによる含有量99％の淡黄色油として、（1aRS,2aRS,
3SR,6RS,6aSR,7aSR）−1a,2a,3,6,6a,7a−ヘキサヒドロ
−1a,6a,7a−トリメチル−2a−〔（E,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニル〕−3,6−メ
タノキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−2,7−ジオン40.2gが得
られた。
出発物質として用いた（1aRS,2aRS,3SR,6RS,6aSR,7aS
R）−1a,2a,3a,6,6a,7a−ヘキサヒドロ−1a,2a,7a−ト
リメチル−3,6−メタノオキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−
2,7−ジオンは次の如くして製造した： 撹拌機、還流冷却器及びアルゴン通気孔を備えた容量2.
5のスルホン化用フラスコ中のエタノール1.1に1,4,
4a,8aα−テトラヒドロ−4aα,6,7−トリメチル−１α,
4α−メタノナフタレン−5,8−ジオン143.1g（0.663モ
ル）をアルゴン下にて50℃で溶解した。次に水500ml及
び30％H2O2115ml（1.5当量）中、のNa2CO323g（0.3当
量）の溶液を50℃で1.5時間にわたつて滴下し、この混
合物を50℃で30分間撹拌した。次に混合物を室温に冷却
し、エーテル各１で３回抽出し、水、希釈NaHCO3溶液
及び飽和NaCl溶液で洗浄し、次に乾燥し、そして濃縮し
た。白色結晶165.7gが得られた。メタノールから再結晶
後、融点72〜73℃の（1aRS,2aRS,3SR,6RS,6aSR,7aSR）
−1a,2a,3,6,6a,7a−ヘキサヒドロ−1a,2a,7a−トリメ
チル−3,6−メタノオキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−2,7−
ジオン146.6gが得られた。
R）−1a,2a,3a,6,6a,7a−ヘキサヒドロ−1a,2a,7a−ト
リメチル−3,6−メタノオキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−
2,7−ジオンは次の如くして製造した： 撹拌機、還流冷却器及びアルゴン通気孔を備えた容量2.
5のスルホン化用フラスコ中のエタノール1.1に1,4,
4a,8aα−テトラヒドロ−4aα,6,7−トリメチル−１α,
4α−メタノナフタレン−5,8−ジオン143.1g（0.663モ
ル）をアルゴン下にて50℃で溶解した。次に水500ml及
び30％H2O2115ml（1.5当量）中、のNa2CO323g（0.3当
量）の溶液を50℃で1.5時間にわたつて滴下し、この混
合物を50℃で30分間撹拌した。次に混合物を室温に冷却
し、エーテル各１で３回抽出し、水、希釈NaHCO3溶液
及び飽和NaCl溶液で洗浄し、次に乾燥し、そして濃縮し
た。白色結晶165.7gが得られた。メタノールから再結晶
後、融点72〜73℃の（1aRS,2aRS,3SR,6RS,6aSR,7aSR）
−1a,2a,3,6,6a,7a−ヘキサヒドロ−1a,2a,7a−トリメ
チル−3,6−メタノオキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−2,7−
ジオン146.6gが得られた。
実施例２ （1aRS,2aRS,3SR,6RS,6aSR,7aSR）−1a,2a,3,6,6a,7a−
ヘキサヒドロ−1a,6a,7a−トリメチル−2a−〔（E,7R,1
1R）−3,7,11,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニ
ル〕−3,6−メタノオキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−2,7−
ジオン（実施例１に従つて製造したもの）40.2g（78.6
ミリモル）を容量150mlの丸底フラスコ中で、アルゴン
下にて170℃に４時間加熱した。次に混合物を室温に冷
却し、SiO2上で酢酸エチル／ヘキサン（5:95）を用いて
クロマトグラフイーにかけた。純粋な溶離液を濃縮し
て、HPLCによる含有量99％の黄色油として、（1SR,6R
S）−1,4,6−トリメチル−３−〔（E,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニル〕−７−オキ
サビシクロ〔4.1.0〕ヘプト−３−エン−2,5−ジオン3
4.1gが得られた。
ヘキサヒドロ−1a,6a,7a−トリメチル−2a−〔（E,7R,1
1R）−3,7,11,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニ
ル〕−3,6−メタノオキシレノ〔ｂ〕ナフタレン−2,7−
ジオン（実施例１に従つて製造したもの）40.2g（78.6
ミリモル）を容量150mlの丸底フラスコ中で、アルゴン
下にて170℃に４時間加熱した。次に混合物を室温に冷
却し、SiO2上で酢酸エチル／ヘキサン（5:95）を用いて
クロマトグラフイーにかけた。純粋な溶離液を濃縮し
て、HPLCによる含有量99％の黄色油として、（1SR,6R
S）−1,4,6−トリメチル−３−〔（E,7R,11R）−3,7,1
1,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニル〕−７−オキ
サビシクロ〔4.1.0〕ヘプト−３−エン−2,5−ジオン3
4.1gが得られた。
実施例３ 撹拌機、還流冷却器及びアルゴン通気孔を備えた容量50
0mlのスルホン化用フラスコ中の酢酸350mlにアルゴン下
で（1SR,6RS）−1,4,6−トリメチル−３−〔（E,7R,11
R）−3,7,11,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニル〕
−７−オキサビシクロ〔4.1.0〕ヘプト−３−エン−2,5
−ジオン（実施例２に従つて製造したもの）34.1g（76.
8ミリモル）を溶解し、この溶液をアマルガム化した亜
鉛20.5gで処理し、混合物を加熱した。1.5時間撹拌した
後、混合物をヘキサン0.5で２回抽出した。合液した
抽出液を3NHCl、次に飽和NaHCO3溶液で洗浄した。ヘキ
サン相を2N NaOH50mlで処理し、この混合物に撹拌しな
がら酸素を１時間導入した。次に混合物をヘキサン各0.
5で２回抽出し、抽出液を水各0.5で２回洗浄し、乾
燥し、水流ポンプによる真空下にて40℃で濃縮した。
0mlのスルホン化用フラスコ中の酢酸350mlにアルゴン下
で（1SR,6RS）−1,4,6−トリメチル−３−〔（E,7R,11
R）−3,7,11,15−テトラメチル−２−ヘキサデセニル〕
−７−オキサビシクロ〔4.1.0〕ヘプト−３−エン−2,5
−ジオン（実施例２に従つて製造したもの）34.1g（76.
8ミリモル）を溶解し、この溶液をアマルガム化した亜
鉛20.5gで処理し、混合物を加熱した。1.5時間撹拌した
後、混合物をヘキサン0.5で２回抽出した。合液した
抽出液を3NHCl、次に飽和NaHCO3溶液で洗浄した。ヘキ
サン相を2N NaOH50mlで処理し、この混合物に撹拌しな
がら酸素を１時間導入した。次に混合物をヘキサン各0.
5で２回抽出し、抽出液を水各0.5で２回洗浄し、乾
燥し、水流ポンプによる真空下にて40℃で濃縮した。
黄色油状物として粗製の生成物32.8gが得られた。SiO2
上でエーテル／ヘキサン（1:19）を用いてクロマトグラ
フイーにかけた後、HPLCによる含有量99％を有する2,5,
6−トリメチル−３−〔（E,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−２−ヘキサデセニル〕−ベンゾキノン32.5g
が得られた。
上でエーテル／ヘキサン（1:19）を用いてクロマトグラ
フイーにかけた後、HPLCによる含有量99％を有する2,5,
6−トリメチル−３−〔（E,7R,11R）−3,7,11,15−テト
ラメチル−２−ヘキサデセニル〕−ベンゾキノン32.5g
が得られた。
Claims (5)
- 【請求項１】式 の化合物を一般式 式中、R3は離脱性基を表わす、 の化合物と反応させ、かくして得られる式 の化合物を加熱することにより式 の化合物に転化し、そしてかくして得られる式IVの化合
物を還元剤を用いる還元的開裂により式 の化合物、すなわち（2RS,4′R,8′Ｒ）−トコフエロー
ルに転化することを特徴とする（2RS,4′R,8′Ｒ）−ト
コフエロールの製造方法。 - 【請求項２】式Ｉの化合物と式IIの化合物との反応を不
活性有機溶媒中で且つ強塩基の存在下において行う特許
請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項３】不活性有機溶媒として、有極性の非プロト
ン性溶媒、有極性のプロトン性溶媒またはその混合物を
用いる特許請求の範囲第２項記載の方法。 - 【請求項４】強塩基として、アルカリ金属アミド、リチ
ウムジアルキルアミドまたはアルカリ金属tert−ブチレ
ートを用いる特許請求の範囲第２項または第３項記載の
方法。 - 【請求項５】式Ｉの化合物と式IIの化合物との反応を約
−70℃乃至＋50℃、好ましくは約０℃乃至＋30℃の温
度、そして特にほぼ室温で行う特許請求の範囲第１〜４
項のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH04871/84-9 | 1984-10-11 | ||
| CH487184 | 1984-10-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6191152A JPS6191152A (ja) | 1986-05-09 |
| JPH0733347B2 true JPH0733347B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=4284001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60223866A Expired - Lifetime JPH0733347B2 (ja) | 1984-10-11 | 1985-10-09 | 光学活性化合物の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4642361A (ja) |
| EP (1) | EP0183927B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0733347B2 (ja) |
| CN (1) | CN1009549B (ja) |
| AT (1) | ATE46315T1 (ja) |
| DE (1) | DE3572965D1 (ja) |
| DK (1) | DK464985A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06312950A (ja) * | 1993-03-01 | 1994-11-08 | Eezai Kagaku Kk | キノン誘導体の製造法および中間体 |
| JP3319069B2 (ja) * | 1993-08-17 | 2002-08-26 | チッソ株式会社 | 光学活性化合物とその製造法 |
| CN104488351A (zh) | 2012-07-24 | 2015-04-01 | Al·伯恩斯坦 | 具有多个加热区的辐射体元件 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1233858A (ja) * | 1968-10-16 | 1971-06-03 | ||
| DE2645207A1 (de) * | 1976-10-07 | 1978-04-20 | Basf Ag | Cyclohexadienonylmono- und -polyenacetale und verfahren zu ihrer herstellung |
| EP0107738A3 (en) * | 1982-07-12 | 1984-06-13 | Herculite Products, Inc. | Process and intermediates for the production of periplanone-b |
| DK172072B1 (da) * | 1983-07-28 | 1997-10-13 | Hoffmann La Roche | Fremgangsmåde til fremstilling af K-vitaminderivater og ubiquinoner samt forbindelser, som er nyttige til anvendelse ved denne fremgangsmåde |
-
1985
- 1985-09-13 DE DE8585111584T patent/DE3572965D1/de not_active Expired
- 1985-09-13 EP EP85111584A patent/EP0183927B1/de not_active Expired
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