JPH07326568A - 回転塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜形成後の基板の周辺部に針状ノズルから
溶解液を吐出して、基板周辺部の不要薄膜を溶解除去す
る薄膜除去装置を備えた回転塗布装置において、針状ノ
ズルの先端に残留した溶解液の雫を無接触状態で除去し
て、基板へのぼた落ちや有効エリアに飛散付着するのを
確実に防止する。 【構成】 針状ノズル３の先端近傍に、針状ノズル先端
に残存する溶解液の雫を吸引除去する吸引ノズル４を臨
設し、針状ノズル３と吸引ノズル４とを一体に作用位置
と待機位置とに亘って移動可能に構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、回転テーブル上に載置
保持した基板の表面に回転塗布によって薄膜を形成する
回転塗布装置に係り、特には、薄膜形成後の基板の周辺
部に針状ノズルから溶解液を吐出して、基板周辺部の不
要薄膜を溶解除去するように構成した回転塗布装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程等において、基板の表面
にフォトレジスト等の薄膜が形成された後、その基板は
各種処理工程を経る間に、カセットに挿抜されたり、搬
送機構に保持されたりする。このとき、基板の周辺部が
カセット内の収納溝や搬送機構のチャック部に接触する
ことにより、基板周辺部の薄膜が剥離して発塵源になる
ことが知られている。

【０００３】そこで、薄膜を回転塗布する工程の最終段
階で、基板周辺の薄膜を予め除去しておく処理が施され
る。この薄膜除去には、例えば実開昭６１−１１１１５
１号公報、特開昭６１−１２１３３３号公報、あるい
は、実開昭６２−８９１３４号公報で開示されているよ
うに、回転塗布が終了した基板を回転させながら、その
周辺上方から細い針状のノズルを用いて溶解液を吐出す
ることで、基板周辺部の薄膜を溶解除去する手段が採ら
れている。

【０００４】しかし、上記手段においては、溶解液の吐
出が完了すると針状ノズルへの溶解液の供給を停止し
て、基板から針状ノズルを離反移動させ、次の薄膜除去
まで待機させるのであるが、このときノズル先端に溶解
液の雫が残存することがあり、この状態で次の薄膜除去
処理のために針状ノズルが基板上に接近移動した際に、
機械的振動等でこの雫が落下して基板上の有効エリア内
に飛散したり、あるいは次の溶解液吐出時に針状ノズル
の先端から雫が飛散して基板の有効エリアの薄膜を溶解
するという問題があった。

【０００５】このような不具合を解消するために、本出
願人は、実開平４−１１１７２９号公報で開示されてい
るように、溶解液の吐出が完了し、溶解液の供給を停止
した後、基板から針状ノズルを離反移動させて次の薄膜
除去まで待機させる際、その待機位置において、針状ノ
ズルの先端を板状の接触部材に接触させて、ノズル先端
に残存した溶解液の雫を接触部材に移し取るように構成
した回転塗布装置を提案した。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記提案装置による
と、次の薄膜除去処理のために針状ノズルが基板上に接
近移動した際に、機械的振動等でこの雫が落下して基板
上の有効エリア内に飛散したり、あるいは次の溶解液吐
出時に針状ノズルの先端から雫が飛散して基板の有効エ
リアの薄膜を溶解するという従来の問題点は解消できた
のであるが、次のような問題点があることが判明した。

【０００７】 待機位置において針状ノズルの先端を
接触部材に接触させる際に、接触部材への接触具合によ
っては、繰り返し接触している内に細い針状ノズルが曲
がってしまうおそれがある。針状ノズルが曲がると、基
板周辺部に対する針状ノズル先端位置のズレが発生して
薄膜除去領域が変化してしまう。

【０００８】 板状の接触部材が比較的大きい占有ス
ペースをもって固定配備されるために、メンテナンスの
邪魔になりがちである。

【０００９】 溶解液の吐出が完了し、溶解液の供給
を停止した後、基板から針状ノズルを離反移動させる途
中での溶解液雫のぼた落ちに対しては対処できない。

【００１０】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、針状ノズルへの溶解液の供給が停止さ
れると直ちに溶解液雫の除去を行って、上記不具合を未
然に回避することができる回転塗布装置提供することを
目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、このようなも
を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、
請求項１に記載の発明は、回転テーブル上に載置保持し
た基板の表面に回転塗布によって薄膜を形成するととも
に、薄膜形成後の基板の周辺部に針状ノズルから溶解液
を吐出して、基板周辺部の不要薄膜を溶解除去する薄膜
除去装置を備えた回転塗布装置において、前記針状ノズ
ルの先端近傍に、針状ノズル先端に残存する溶解液の雫
を吸引除去する吸引ノズルを臨設し、針状ノズルと吸引
ノズルとを一体に作用位置と待機位置とに亘って移動可
能に構成してあることを特徴とする。

【００１２】請求項２に記載の発明は、前記針状ノズル
と吸引ノズルとを同芯状に配備して構成してある。

【００１３】

【作用】請求項１に記載の発明によれば、針状ノズルか
らの溶解液の吐出が完了し、溶解液の供給を停止した
後、吸引ノズルによる吸引を行うことで、ノズル先端の
溶解液の雫が残存していても直ちに吸引除去されること
になり、待機位置へのノズル移動中に溶解液の雫が基板
上にぼた落ちすることはなく、また、次の薄膜除去処理
のために針状ノズルが基板上に接近移動した際に、機械
的振動等でこの雫が落下して基板上の有効エリア内に飛
散したり、あるいは次の溶解液吐出時に針状ノズルの先
端から雫が飛散して基板の有効エリアの薄膜を溶解する
といった現象もなくなる。

【００１４】また、請求項２のように、針状ノズルと吸
引ノズルとを同芯状に配備すると、溶解液の雫の吸引除
去がより確実に行われる。また、薄膜除去装置のノズル
部がコンパクトになり、メンテナンス時の邪魔になるこ
とがない。

【００１５】

【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る回転塗布
装置の実施例を説明する。図１は実施例装置の要部を示
した斜視図、図２は要部の側面図、図３は要部の拡大正
面図、また、図４は要部の拡大した縦断正面図である。

【００１６】図において、符号１は半導体基板Ｗを載置
して吸着保持する回転テーブルであり、この回転テーブ
ル１の上方にフォトレジスト液等を供給するための図示
しないノズルがあり、このノズルから基板中心部にフォ
トレジスト液等を滴下供給し、基板Ｗを回転させること
により、基板表面に薄膜を形成するよう構成されてい
る。

【００１７】符号２は、回転テーブル１の側方に設置さ
れた薄膜除去装置であり、薄膜溶解液を吐出して供給す
る針状ノズル３、このノズル３と同芯状に設けられた吸
引ノズル４、および、これらを移動させる移動手段とか
らなる。針状ノズル３および吸引ノズル４は、エアーシ
リンダ５によって昇降される可動枠６に縦軸心Ｐ回りに
旋回可能に取り付けたアーム７の先端にブラケット８を
介して以下のように支持されている。

【００１８】前記ブラケット８の先端部には金属パイプ
９がクランプ金具１０を介して所定の傾斜姿勢で固定さ
れている。この金属パイプ９の下端にノズルホルダ１１
が袋ナット１２で締め付け固定されている。このノズル
ホルダ１１内に、針状ノズル３の上部に連設した大径の
ノズル基部３ａが内嵌され、前記袋ナット１２の締め付
けにより固定されている。また、金属パイプ９に挿通し
た薄膜溶解液供給用の樹脂製チューブ１３がノズル基部
３ａに連通連結されている。

【００１９】前記ノズルホルダ１１の下端には、針状ノ
ズル３の外径より大きい内径を有する吸引ノズル４が挿
入されている。この吸引ノズル４は、ノズルホルダ１１
の下端に装着した袋ナット１４の締め込みで縮径変形さ
れるＯリング１５によって針状ノズル３と同芯状に締め
付け固定されている。

【００２０】また、ノズルホルダ１１の下部側面には、
図外の吸引装置から延出された吸引チューブ１６を連結
した吸引ヘッド１７が連結され、吸引チューブ１６から
ノズルホルダ１１とノズル基部３ａとの間に形成された
吸引室１８を介して吸引ノズル４の先端までが連通され
ており、吸引チューブ１６の吸引作用が吸引ノズル４の
先端に及ぶように構成されている。

【００２１】前記ノズル支持用のアーム７には、一対の
ガイドローラ１９が備えられていて、両ガイドローラ１
９が図示しない装置フレームに固定立設されたガイドレ
ール２０を挟み込むようになっている。そして、ガイド
レール２０は、その上部が基板Ｗから離反する方向へ屈
曲されており、エアーシリンダ５が伸長駆動して可動枠
６が上昇している状態では、図示のようにアーム７は基
板Ｗから大きく離反するように旋回される。一方、エア
ーシリンダ５が収縮駆動して可動枠６が下降するにつれ
て、ガイドレール２０の案内作用でアーム７が基板Ｗに
接近するように旋回され、最下降された状態で、針状ノ
ズル３の先端が基板Ｗに周辺部に対して所定の間隔（例
えば、１ｍｍ）をもって対向するように使用位置（ａ）
が設定されている。

【００２２】本実施例の回転塗布装置は以上のように構
成されたものであり、基板表面に薄膜を形成する工程の
間は、薄膜除去装置２の針状ノズル３および吸引ノズル
４は基板Ｗから離反した待機位置（ｂ）にあり、薄膜形
成工程が終了すると旋回および下降駆動されて作用位置
（ａ）に移動し、針状ノズル３から吐出する薄膜溶解液
を回転する基板Ｗの周辺部に供給して薄膜溶解処理を行
う。

【００２３】薄膜溶解処理工程が終了して薄膜溶解液の
供給が停止されると、直ちに吸引ノズル４が吸引作動さ
れて、針状ノズル３先端に残留した薄膜溶解液の雫が吸
引除去されるとともに、この吸引状態を維持したまま再
び前記待機位置（ｂ）に復帰移動され、その後、吸引ノ
ズル４の吸引作動が停止される。

【００２４】なお、前述した薄膜溶解処理を行う間も吸
引ノズル４を吸引作動しておけば、薄膜溶解液を基板に
供給したときに発生する薄膜溶解液のミストを吸い込む
ことができ、基板の有効エリア内への薄膜溶解液の付着
を防止することができる。

【００２５】また、袋ナット１４の締め込みを緩める
と、吸引ノズル４を任意に出退調節することが可能であ
り、この調節によって針状ノズル３の先端と吸引ノズル
４の先端との間隔を最適の吸引除去状態を得られるよう
に設定して使用する。

【００２６】本発明は、以下のように変形実施すること
も可能である。 図５に示すように、針状ノズル３の先端近くに外側
から臨設する吸引ノズル４を、ノズルホルダ１１に出退
調節自在に装着して実施することもできる。

【００２７】 上記実施例では、基板の上方および外
側方に外れた位置に待機位置（ｂ）を設定して、針状ノ
ズル３および吸引ノズル４を上昇および旋回によって待
機位置（ｂ）に移動させるようにしたが、本発明装置で
は待機位置（ｂ）への移動中の薄膜溶解液のぼた落ちの
おそれが無いので、作用位置（ａ）の直上方に待機位置
（ｂ）を設定することもでき、この場合には、針状ノズ
ル３および吸引ノズル４を作用位置（ａ）と待機位置
（ｂ）との間で単に昇降駆動する昇降手段を設けるだけ
ですみ、移動手段の簡素化が図れる。

【００２８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば次のような効果を期待すること
ができる。

【００２９】 薄膜溶解処理工程が終了して薄膜溶解
液の供給が停止されると、直ちに吸引ノズルを吸引作動
させて針状ノズル先端に残留した薄膜溶解液の雫を吸引
除去することができるので、針状ノズルを作用位置から
待機位置へ移動させる間での薄膜溶解液の雫のぼた落ち
を回避できるとともに、次の溶解液吐出時に針状ノズル
の先端から雫が飛散して基板の有効エリアの薄膜を汚損
することを確実に防止することができ、処理工程の高品
質化を図るのに有効である。

【００３０】 薄膜溶解液の雫の除去を吸引により行
うので、接触部材への雫の移し取りによる雫除去手段の
ように針状ノズルに変形をもたらすおそれが全くなく、
針状ノズルを常に正しい使用位置に移動させての溶解液
吐出を実行することができるようになった。

【００３１】 雫の移し取りを行う接触部材等を固定
設置する必要がないので、針状ノズルと吸引ノズルとの
待機位置の設定が自由であり、メンテナンスの邪魔にな
らない位置に待機位置を設定して、取扱い性に優れた配
置構成を得ることが容易となった。

【００３２】また、請求項２に記載の発明によれば、針
状ノズルと吸引ノズルとを同芯状に配置してあるので、
針状ノズル先端に付着した雫を一層確実に吸引除去する
こともできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る回転塗布装置の一実施例を示す要
部の斜視図である。

【図２】実施例装置の要部の側面図である。

【図３】実施例装置の要部の拡大正面図である。

【図４】実施例装置の要部を拡大した縦断正面図であ
る。

【図５】別実施例の要部を拡大した一部切り欠き正面図
である。

【符号の説明】

１ 回転テーブル ２ 薄膜除去装置 ３ 針状ノズル ４ 吸引ノズル Ｗ 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大谷 正美 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日本スクリーン製造株式会社洛西工場 内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転テーブル上に載置保持した基板の表
   面に回転塗布によって薄膜を形成するとともに、薄膜形
   成後の基板の周辺部に針状ノズルから溶解液を吐出し
   て、基板周辺部の不要薄膜を溶解除去する薄膜除去装置
   を備えた回転塗布装置において、 前記針状ノズルの先端近傍に、針状ノズル先端に残存す
   る溶解液の雫を吸引除去する吸引ノズルを臨設し、針状
   ノズルと吸引ノズルとを一体に作用位置と待機位置とに
   亘って移動可能に構成してあることを特徴とする回転塗
   布装置。
2. 【請求項２】 前記針状ノズルと吸引ノズルとを同芯状
   に配置してあることを特徴とする請求項１記載の回転塗
   布装置。