JPH07325213A - 光パターン発生体ならびにそれを作る装置および方法 - Google Patents

光パターン発生体ならびにそれを作る装置および方法

Info

Publication number
JPH07325213A
JPH07325213A JP27277594A JP27277594A JPH07325213A JP H07325213 A JPH07325213 A JP H07325213A JP 27277594 A JP27277594 A JP 27277594A JP 27277594 A JP27277594 A JP 27277594A JP H07325213 A JPH07325213 A JP H07325213A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
transparent plate
pattern generator
infrared
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27277594A
Other languages
English (en)
Inventor
Richard W Hutton
ダブリュ. ハットン リチャード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Vari Lite Inc
Hutchinson Aerospace and Industry Inc
Original Assignee
Barry Wright Corp
Vari Lite Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Barry Wright Corp, Vari Lite Inc filed Critical Barry Wright Corp
Publication of JPH07325213A publication Critical patent/JPH07325213A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/066Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
    • B23K26/0661Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks disposed on the workpiece
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/18Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using absorbing layers on the workpiece, e.g. for marking or protecting purposes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/361Removing material for deburring or mechanical trimming
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/50Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
    • B23K26/57Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece the laser beam entering a face of the workpiece from which it is transmitted through the workpiece material to work on a different workpiece face, e.g. for effecting removal, fusion splicing, modifying or reforming
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/24Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V9/00Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters
    • F21V9/08Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters for producing coloured light, e.g. monochromatic; for reducing intensity of light
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/16Composite materials, e.g. fibre reinforced
    • B23K2103/166Multilayered materials
    • B23K2103/172Multilayered materials wherein at least one of the layers is non-metallic
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21WINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO USES OR APPLICATIONS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS
    • F21W2131/00Use or application of lighting devices or systems not provided for in codes F21W2102/00-F21W2121/00
    • F21W2131/40Lighting for industrial, commercial, recreational or military use
    • F21W2131/406Lighting for industrial, commercial, recreational or military use for theatres, stages or film studios

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光パターン発生体を容易に作る。 【構成】 光パターン発生体10は透明板12とこれに
結合された反射層14を有している。反射層14は赤外
線放射を吸収し、パターンの形状の光ビームの通過を許
容すべく所望のパターンが除去される。光パターン発生
体を作る方法は、透明基体上に反射物質の層を形成し、
所望のパターンを創出すべくレーザーによって層の一部
を除去することを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ステージ照明器具、詳
しくはステージ照明器具による画像の投影およびこのよ
うな器具で使用するための、透明基体上の光パターン発
生体、およびこの光パターン発生体を作成する方法およ
び装置に関する。
【0002】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たる米国特許出願第08/147,496号(1
993年11月5日出願)の明細書の記載に基づくもの
であって、当該米国特許出願の番号を参照することによ
って当該米国特許出願の明細書の記載内容が本明細書の
一部分を構成するものとする。
【0003】
【従来の技術】ステージ照明システムの重要な特徴は、
ステージ照明器具により画像を投影することである。画
像は典型的には光パターン発生体、すなわちゴーボーに
光を通し、それにより形成される画像を投影することで
作成される。典型的なゴーボーは金属シートでできてお
り、その金属シートはシートから切断された画像を有
し、光ビームを通過させる開口部を形成している。ゴー
ボーは、それ故、ある部分では光ビームを遮断し、他の
部分では光ビームを通過させる光用のステンシルとして
動作する。光パターンを作製するための典型的な形態で
は、光プロジェクタの焦点面に位置する投影ゲートの中
にゴーボーを配置する構成を採っている。光プロジェク
タは、光源、反射器(reflector)、すなわ
ち、光線を焦点面に結像させる反射器、および一つ以上
のレンズ、すなわち、焦点面に形成される画像を投影す
るためのレンズを有している。
【0004】従来のゴーボーには画像を生成する上での
制約がある。ゴーボーの全ての金属要素は支持されなけ
ればならないので、デザイン上では望ましくない支持部
材がしばしば含まれてしまう。例として、完全な円形デ
ザインは生成することは不可能である。なぜなら、支持
部材が外部から延長して内部の金属を支持しなければな
らないからである。
【0005】多くの従来のゴーボーは金属シートから打
ち抜かれ、それは多量に生産するときには非常に安価な
ものとなる。ゴーボーはステージ照明に使用される強い
光の中に直接に搭載され、薄赤色になるほど高温にな
る。光ビームにより生じる強い熱は金属ゴーボーに吸収
され、それを軟化し、反らせ、それ故、所望の画像にゆ
がみを生じせしめる。あるゴーボーは光ステンシルの金
属部分を外部から支持する非常に薄い結合リンク(co
nnecting links)を含んでいる。しかし
ながら、これらの薄い結合リンクは、ビームの熱から特
にダメージを受けやすく、ある環境の下では完全に燃え
てしまうので、画像はゆがみ、ゴーボーは破壊される。
【0006】耐熱のゴーボーを作成しようとする試みに
おいては、ステンレス鋼のような熱抵抗性のある材料
で、レーザービームを使用して所望の画像を切り出して
ゴーボーが作られていた。しかしながら、このような材
料で作成されたゴーボーでさえも、寿命が比較的短く、
頻繁な交換を必要としている。レーザー切断プロセス
は、打ち抜きで出来るよりもより複雑な画像を生成する
事ができるけれど、これらの画像は、通常、多数の非常
に薄い結合リンクおよび光ビームの強い熱の中で破壊さ
れる微細部分により特徴づけられている。
【0007】アルミニウムゴーボーおよびステンレス鋼
のゴーボーを作製するのに用いられるレーザー切断プロ
セスは、炭酸ガスレーザーを利用する。それは、10.
6マイクロメータの波長を持ち、典型的なビーム直径は
12−15ミリメータすなわち、約0.5インチであ
る。そのようなプロセスではマスクを通してレーザービ
ームを未処理の金属ゴーボーに照射する。マスクはレー
ザーの波長(10.6μm)を反射し、所望の画像の形
状に形成された開口を有さなければならない。金は、こ
のレーザー波長を反射させるのに好ましい材料として頻
繁に利用される。金は比較的高価な材料なので、比較的
多数の同一ゴーボーが作成されるとき、そのコストが正
当なものとされる。
【0008】第2のプロセスは、レーザービームを一つ
以上のレンズを通し直径が小さくなるよう焦点合わせを
し、それから移動可能な支持テーブルに搭載された未処
理のゴーボー上にそのビームを照射することである。支
持テーブルは2軸方向に移動可能であって、未処理のゴ
ーボーを移動するように制御されるので、レーザビーム
は所望の画像を切断する。このプロセスは、少量のゴー
ボーを制作する場合には上記マスクプロセスよりもより
経済的であるが、しかし、このプロセスは比較的に時間
がかかる。10.6マイクロメータのレーザービームを
通過させ結像させるのに適したレンズは、セレン化亜鉛
(ZnSe)(ほとんどの可視光線を透過させるが黄色) 、あ
るいは、砒化ガリウム(GaAs),または、ゲルマニウム(G
e)(可視光に対しては不透明)のような外国産で高価な
材料でできている。
【0009】どのレーザ切断プロセスを使用しても、そ
の結果得られる単純なデザイン以外の全ての金属ゴーボ
ーは、金属パターンの内部部材を支持するための望まし
くない結合リンクを含んでしまう。金属ゴーボーもまた
高出力舞台照明装置の強力な熱に耐えるためには、特別
に使用される金属に依存する最小限の厚さを必要とす
る。ゴーボーの厚さは投影する画像の鮮明さ(crispnes
s)に制約を与える。それは厚いゴーボーにより形成する
画像よりも薄いゴーボーにより形成する画像の方が結像
が容易であるからである。さらに、金属ゴーボーは支持
するのに十分な材料強度をもたらすために、打ち抜きあ
るいはレーザ切断のゴーボーのいずれかで得られる微細
部材の解像度に制約を与える、結合リンクおよび他の微
細部材の対応する最小幅を必要とする。
【0010】ネオジム:イットリウム−アルミニウム−
ガーネット(Nd:YAG)レーザーは、特性波長が
1.06マイクロメータで典型的なビーム径が0.00
1インチ以下で、炭酸ガスレーザーで切断可能な、どの
金属をも切断することができる。しかしながら、極め
て、スピードが遅い。Nd:YAGレーザーは、1.0
6マイクロメータで非金属材料について低エネルギ吸収
率であるが故に、非金属材料には滅多に使用されない。
Nd:YAGレーザーは、ガラスないしは水晶囲繞体内
の金属を窓に害を与えないで処理するために有利に使用
される。
【0011】より最近、ゴーボーは、耐熱ガラスのよう
な透明板の表面に結合されたアルミニウムのような光反
射材料の1つの層として製造されている。光反射層は画
像形状の開口部を持つ。光ビームのある部分は開口部を
通り、画像形状を持つビームを作り出す。反射層は開口
部を通過しないビームの部分を反射させる。このタイプ
のガラスゴーボーは、舞台照明用ビームの強い熱に対し
て非常に耐熱性があり、望ましくない支持部材、すなわ
ち、結合リンクのない画像を作成し、反射層の全部分が
透明基板によって支えられている。ガラスゴーボーは比
較的高価で時間を消費するプロセスによって製作され
る。そのプロセスは米国特許4,779,176号に記
載されている。
【0012】上述の特許に記載されているように、ポジ
ティブなフォトレジスト材料の層が、大きく、薄いシー
ト状の透明ガラスの上に所望の画像形状に堆積される。
それから、アルミニウムの薄い層がガラスおよびフォト
レジスト層の上に堆積される。アルミニウム層上に堆積
された多層の絶縁コーティングは「ブラックミラー」を
形成する。それは可視光を吸収する反射しない面であ
る。ガラスシートおよび種々のコーティングはアセトン
にさらされる。アセトンはフォトレジストを溶解し、ガ
ラス上で影響を与えることなくフォトレジストの直ぐ上
の全ての材料層をリフトする。アセトンのエッチングプ
ロセスは、所望の画像形状の開口部を堆積された層を通
して作成する。このプロセスは、1枚のシート上に多数
のガラスゴーボーを作製するために使用され、それは書
き込まれ、個々のゴーボーに分割すべく壊される。
【0013】上述のプロセスは、フォトレジスト層の堆
積を促進するために、その中に形成された所望の画像を
有する光マスクを必要とする。また、仕上げられたゴー
ボーの製作のためにはかなりのリードタイムを必要とす
る。それにより、そのプロセスは注文の少量生産よりも
比較的大量の生産に適している。結像ビームの炭酸ガス
レーザーは、上述したように少量の金属ゴーボーを安価
に製造するときに用いられるけれども、ガラスゴーボー
上でレーザービームを使用する方法で比較できる方法は
これまでに採用されていない。それは、炭酸ガスレーザ
ーの波長は、可視光に対して透明な材料によって簡単に
吸収され、透明基体を溶触し、ひび割れを生じせしめ、
さもなくば破壊するからである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る従来の問題を解決した光パターン発生体、およびそれ
を安価に作る装置および方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段および作用】このような目
的を達成するために、本発明の一形態は、光ビーム内に
画像を作り出すための光パターン発生体を備える。この
発生体は光ビーム内に置かれる透明板を含んでいる。光
反射層がこの板の表面に結合され、反射層は画像の形状
である開口を有している。好ましい実施の形態では、反
射層は、可視光に対しては高い反射性で、850ないし
2000nmの範囲の近赤外線放射のある波長には吸収
性であるということが特徴である。光ビームの一部は反
射層内の開口を通過し、画像の形状を有するビームを作
り出す。反射層は、開口を通過しない光ビームの部分を
反射する役割をなす。
【0016】本発明の他の形態は、光パターン発生体を
作る装置を備えている。この装置は、汎用コンピュー
タ、レーザーマーキングシステムおよび可動支持テーブ
ルを含んでいる。汎用コンピュータは、レーザーマーキ
ングシステムとインターフェースするホストコンピュー
タとして働く。可動支持機構は、複数の未処理ゴーボー
の一つを、レーザーマーキングシステムがそれに画像を
書き込むべく所定位置に連続的に置く。レーザーマーキ
ングシステムは、結合された反射層を有する透明板に画
像を書き込む。この画像は、ホストコンピュータインタ
ーフェースで選ばれレーザーマーキングシステムのコン
トロールユニットにロードされた、ディジタルのコンピ
ュータデータに依存している。レーザービームは非常に
細いビーム径、および近赤外領域の特性波長を有してい
る。未処理ゴーボーの反射層は、レーザービームのエネ
ルギに対し吸収性があり、所望の画像形状の開口を残し
つつ、透明板から除去される。
【0017】本発明の他の形態は、光パターン発生体を
作成する方法を備える。この方法は、透明板に可視光は
反射し近赤外線放射のある波長を吸収する反射物質の層
を結合し、ある赤外波長で非常に小さなビーム径を有す
るレーザービームを発生し、このレーザービームを透明
板に向け、透明板の表面に亘りレーザービームを操り、
ビームのエネルギが反射層のある領域から反射物質を除
去することを許容し、反射層のレーザービームによって
影響される領域を制御すべくレーザービームをオンーオ
フ切換るステップを含んでいる。
【0018】本発明のさらなる形態は、カラーの光パタ
ーン発生体を備え、かつ、赤外線吸収物質の層を有して
いる透明板を含み、この吸収層の上に施された二色性の
フィルタ物質の層を備えている。カラーフィルタ物質の
フィールド内に所望の画像形状の開口を作り出すべく、
吸収層とその上のフィルタ物質とのある領域を除去する
ために赤外線レーザービームが用いられる。
【0019】本発明の他の形態は、多色光パターン発生
体を備えている。この発生体は、透明基体の片側または
両側に赤外線吸収層によって分離された複数の二色性フ
ィルタ層を有している。異なる層に異なる形状の開口を
作るべく一つ以上の吸収層およびその上のフィルタ物質
を除去するために赤外線レーザービームが用いられる。
多色光パターン発生体は、別のカラーフィルタ装置の使
用を必要とすることなく、二色以上の画像を投射する。
【0020】
【実施例】以下、図面を参照して本実施例を詳細に説明
する。
【0021】図1を参照するに、演芸用の照明的応用に
適する光パターン発生体、すなわちゴーボー(gobo)を
作製するのに用いられ得る未処理の光パターン発生体1
0が示されている。上記未処理光パターン発生体は、透
明板12を含み、この透明板12はその一面に結合した
反射層14を有する。上記層は、上記板12の一表面1
1に結合された強化アルミニウムからなる層状の積重ね
を含む。反射層14は、図2における反射率対波長のグ
ラフに示されているように、400〜700ナノメータ
ー(nm)の範囲内の可視光を反射し、かつ、850n
m〜2μmの範囲内の近赤外線放射を吸収する。しかし
ながら、上記反射および吸収の範囲は、本発明の範囲か
ら離れることなしに、変化され得る。上記透明板は、ニ
ューヨーク州コーニングのコーニング社により製造され
た7059ガラス、またはドイツ国マインツ(Mainz )
市のシュットガラスワーク(Achott Glasswerke )社に
より製造されたテンパックスガラス(Tempax glass)な
どの低熱膨張係数のガラス製であることが望ましいが、
また低温度での適用のための透明なプラスチック材料製
であってもよい。上記近赤外線の範囲で作動する狭直径
レーザービームの適用によって上記透明板から除去され
るべくデザインされた上記反射層14は、上記波長の放
射光を吸収するが、一方、可視光には高い反射能があ
る。
【0022】好ましい実施例では、反射層14は、可視
光の反射率が高く、1.06マイクロメータでの赤外線
放射の吸収性を有すると共に、高温で安定な層を製造す
るために真空堆積法により結合された強化アルミニウム
の4層の積重ねであることが好ましい。クロミウムから
なる反射層は、また可視光に対する良好な反射性、近赤
外線放射の吸収性、および低温から中間温度での安定性
を得るのに利用され得る。インコネル(ニッケル80
%、クロミウム14%、鉄6%からなる高温・腐食に強
い合金の商品名)からなる反射層は、その材料が不透明
でないとはいえ、可視光に対するかなりの反射性を得る
のに利用され得る。インコネルはよく除去され得るが、
相対的に低い温度においてのみ安定である。誘電性のコ
ールドミラーは良好な反射特性を有し、多色ゴーボーを
作製するのに用いられ得る。
【0023】さて、図3、図4および図5を参照する
に、レーザーマーキングシステム20は、レーザーヘッ
ド22と、偏向ミラーアッセンブリ24と、分離可能な
制御パネルユニット27を有する制御ユニット26と、
および水供給ユニット28とを含む。このタイプのレー
ザーマーキングシステムはより詳細には図4および図5
に示されている。その一端に取り付けられた偏向ミラー
アッセンブリ24を有する上記レーザーヘッド22は、
作業テーブル30によって支持されている。可動支持機
構32は、偏向ミラーアッセンブリ24に近接した作業
テーブル30の一端に取り付けられている。上記支持機
構32は、保護殻体34によって囲繞されている。上記
保護殻体34は出入ドア35と保護窓36とを含む。出
入ドア35は、この出入ドア35が開放されたときに上
記レーザービームを消す安全連結ネットワークに連結さ
れている。上記保護窓は上記保護殻体34内での上記レ
ーザーマーキング動作を視覚的にモニタするための安全
な方法を提供する。
【0024】汎用コンピュータ38が制御ユニット26
に接続し、かつ、上記レーザーマーキング動作を制御す
るためのデジタルコンピュータデータ源を提供する。コ
ンピュータ38のシリアルデータポートは、上記コンピ
ュータから上記制御ユニットに、画像制御ファイルを送
るため、制御ユニット26のシリアルデータポートに接
続している。上記コンピュータ上で走る適当なプログラ
ムは、所望の画像を表すデジタルデータファイルを、上
記レーザーマーキングシステムの要求に従う画像制御フ
ァイルに変換する。画像はコンピュータ上で作成され得
ると共に、上記レーザーマーキングシステムでの使用の
ために変換された上記画像ファイルまたはどこか他のコ
ンピュータ上で創出された画像は、あるネットワークま
たはフロッピーディスク駆動装置を介して上記コンピュ
ータ38にロードされ、その後変換され得る。代わり
に、上記制御ユニット26は、適切に変換された画像制
御ファイルをロードおよび/または記憶するためのフロ
ッピーディスク駆動装置を含む。
【0025】支持機構32は、90度の円弧にわたり主
面42を回転するように動作可能な回転割出し器40を
含む。ステッパーモータ44は上記主面に直交するよう
に取り付けられている。上記ステッパーモータは上記モ
ータのハウジングを越えて延出するシャフト45を含
む。作動中、複数の未処理ゴーボーがホイール(色相
環)46の周辺に取り付けられる。上記ゴーボーホイー
ル46はシャフト45の端部に取り付けられている。レ
ーザーヘッド22により発生されたレーザービームが偏
向ミラーアッセンブリ24の動作により上記未処理ゴー
ボーの表面を走査し得る位置に複数の未処理ゴーボー1
0の一つが配置されるように、上記主面42は水平に配
置される。上記システムは、以下に詳細に記述される方
法により未処理ゴーボー上に画像を描き、上記ステッパ
ーモータは他の画像を書くための位置に他の未処理ゴー
ボーを回転させるために、上記制御ユニットにより励磁
される。
【0026】上記処理を開始するために、画像制御ファ
イルは上記制御ユニットにロードされ、操作者は制御パ
ネル27上に配された制御装置を動作する。その後、レ
ーザーマーキングシステムはゴーボーホイール上に取り
付けられた複数の未処理ゴーボー上に画像を一度に一つ
ずつ次々に記す。その順序は上記ホイール上に取り付け
られた各未処理ゴーボー上に画像を書くために制御され
得る。代わりに、上記順序は上記ホイール上に取り付け
られた選択されたゴーボー上に画像を書くために制御さ
れ得る。上記順序は上記ホイール上に取り付けられた各
ゴーボー上に異なる画像を書くために制御され得る。代
わりに、上記同一の画像は上記ホイール上に取り付けら
れたゴーボーのうち一つ以上または全部に書かれ得る。
【0027】上記画像が上記ゴーボー上に書かれた後
に、回転割出し器40は、図5に示すように、上記ゴー
ボーホイールの端部を上記レーザービームに呈するため
に90度回転される。上記マーキングシステムは、その後
に、複数のゴーボーの各端部上に識別用のバーコードを
書き、次々に各ゴーボーを上記レーザービームに呈する
ように上記ステッパーモータを回転させる。
【0028】上記処理の終了時に、操作者が上記出入ド
アを開け、上記モータシャフトから上記ゴーボーホイー
ルを取り外す。上記操作者は、その後に、取り付けられ
た未処理ゴーボーを有する新しいホイールを取り付け、
同一または異なる順序で上記処理を繰り返してもよい。
【0029】図6を参照するに、上記レーザーヘッド2
2は、Q−スイッチされたネオジム:イットリウム−ア
ルミニウム−ガーネット(Nd:YAG)産業用レーザ
ーユニットを含む。このユニットは近赤外線範囲の波
長、特に1.06マイクロメーターで、0.001イン
チのビーム径を有するレーザービームを発生するもので
ある。Nd:YAGレーザーは、ガラスやプラスチック
が1.06マイクロメーター波長光を透過させ、かつ、
ビーム径が極めて小さいという理由から他のレーザーか
ら選別されている。あるNd:YAGレーザーでは、ビ
ーム径を0.001インチに増すために追加のレンズを
必要とする。対照的に、金属のレーザーマーキングに幅
広く利用されている二酸化炭素レーザーは、中赤外線の
範囲の遠い方の端部における10.6マイクロメーター
の波長を有し、かつ約1/2インチのビーム径を有す
る。10.6マイクロメーターにおける二酸化炭素レー
ザーは、ガラスまたはプラスチックを溶蝕または破壊
し、透明基体を画像投射するのに不適切なものにする。
1/2インチのビーム径のビームは、レーザービームの
部分を遮蔽するためにマスクを用いることを要し、上記
マスクの製造は、本発明が解決するのと同一の問題を示
す。
【0030】Nd:YAGレーザーユニット22は、レ
ーザの強度をON状態とOFF状態との間に調節するQ
−スイッチ146を有している。ON状態での前記ビー
ムの出力は、前記コントロールユニット26内に配置さ
れ、該コントロールユニット26によりコントロールさ
れる前記レーザー出力供給器によって、決定される。前
記Q−スイッチ146は、レーザーキャビティ内の結晶
であり、レーザービームのような光共振器(optical re
sonator )のQ値(figure)を迅速に変化させるために
用いられる。該Q−スイッチ結晶146は、レーザーロ
ッド140と一次ミラー144との間に配置されてい
る。2次ミラー142はレーザーユニット22の出口1
48の近傍に配置されている。通常の運転では、レーザ
ロッド140が励起され、光線がミラー142と144
間のロッド共振長さを伝搬して特性波長を有するコヒー
レント光のビーム150を形成する。結晶146が無線
周波数範囲の高周波電流により励起されると、レーザー
ビーム150はその通常の経路から1次ミラー144へ
屈折され、該ビームは効率よく消光されてOFF状態を
実現する。該結晶が非励起化されると、レーザービーム
は通常の0N状態運転に復帰される。ビーム150は、
レーザユニット22から出射し、偏向ミラーアッセンブ
リ24内に収納されているX−Y偏向ミラー152およ
び154へ伝搬する。該ビーム150はミラー152お
よび154によってフラットフィールドレンズ153を
通り未処理ゴーボー10に向けられる。該ビーム150
は難なく透明板12を通過し、反射コーティング14の
一部を焼き取る。ミラー152および154は、未処理
ゴーボー10を横切ってビーム150を操り、反射コー
ティング14の所定部分を融解除去して、所望の画像形
状の開口部を形成する。レーザーユニット22のON−
OFF状態は、Q−スイッチ146の動作によって調節
され、反射コーティングのビームによって融解除去され
る領域をコントロールする。
【0031】他の好適なレーザーとしては、1.047
ないし1.053μmのNd:YLF、1.06μmの
Nd:Glass、1.08μmのNd:YAP、2.
06μmのHo:YLF、2.1μmのHo:YAG、
および2.02μmのTm:YAGが含まれる。Nd:
YAGレーザーは、入手のしやすさと、その物理特性の
ゆえに、選ばれ、Nd:YAGレーザーは、金属切断用
として大変に普及しているために選ばれる。
【0032】画像は、二つの走査技術の一つを用いて、
前述のレーザ融解除去法によって、未処理ゴーボーに描
かれる。ベクトル−走査技術は、まず画像の輪郭線を描
き、次に、該画像の内部領域を書き込む。レーザービー
ムは該ビームが当たった所は常に反射コーティングを焼
き去るので、前記輪郭線および内部領域は、所望の画像
の形状の開口部となる。代表的なベクトル−走査像を図
7(a)、(b)、(c)に示す。図7(a)にはかな
り詳しい画像が示されている。図7(b)には、従来技
術の金属ゴーボーの特徴である連結リンクのいかなるも
のもない完全なリングパターンが示されている。図7
(c)には、格子の上に重ねられた円が示されている。
ベクトル−走査画像は、未処理ゴーボー上に、像の複雑
度に対応して、2ないし15秒内で、描くことができ
る。
【0033】ラスター−走査技術は、一度に一ライン
で、未処理ゴーボーの全表面を走査し、レーザーユニッ
トのON−OFF状態を調節して反射層の所定領域を融
解除去し、“ピクセル化された(pixellated)”すなわ
ち“ビットマップ化された(bit-mapped)”画像を作り
出す。写真は、前記ラスター−走査技術を用いたガラス
ゴーボーとして再生される。代表的なラスター−走査画
像は、図8(a)および(b)に示されている。図8
(a)には人の似姿が示されている。図8(b)には、
建築構造物の描写が示されている。該レーザーマーキン
グシステムは、描かれるべき画像の開口部が存在しない
未処理ゴーボーの所定の領域をスキップするようにプロ
グラムすることができ、それによって、ビームが消光さ
れるであろう大きな領域を走査しないことにより、処理
時間を短縮する。したがって、ラスター走査画像は、未
処理ゴーボー上に、画像の複雑度に対応して1ないし2
分で、描くことができる。
【0034】該レーザーマーキングシステムで用いられ
るX−Y偏向ミラー152、154は、集束ビーム二酸
化炭素レーザー切断装置とともに用いられるX−Yテー
ブルより、より小さく、より軽く、したがって、より速
く、より短い時間で画像の描写が可能になる。このよう
なX−Y走査ミラーを動かすために用いられるガルバノ
メータは、一般的に、ステップ当たり0.000025
インチ動き、さらに、ステッピングの動きが知覚されな
いほどに速く駆動される;というよりは、むしろ、滑ら
かで、速い書き込み動作が、非常に高い精度および正確
さで行われる。
【0035】本発明の他の形態によれば、図9に示すよ
うな未処理カラーゴーボー60があり、このゴーボー6
0は、透明板12から構成されており、この透明板12
はその上に堆積されている二色性フィルター物質62の
多層誘電体コーティングを有している。二色性フィルタ
ーは、白色光源から二つの色を本質的に分離する干渉原
理によって、働くもので、一方の色は透過され、他方の
色は、透過される色の補色であり、反射される。前記二
色性フィルターを透過する色は、該フィルターの層に用
いられる材料(物質)のタイプ、それらの屈折率、各層
の厚み、層の数、および該フィルターに当たる白色光の
入射角とに依存する。このタイプの二色性フィルター
は、米国特許第4,800,474号に記載されている
ような照明装置用の色相環(color wheel )アッセンブ
リに用いられ、この特許における説明は、本明細書の記
載の一部を構成するものとする。
【0036】60のような未処理カラーゴーボーは、色
相環46(図5)の周辺に取り付けることができ、レー
ザマーキングシステム20内にロードすることができ
る。前述のプロセスを用いて、レーザビーム150は、
所望の像の形状を持つ開口部がコーティング62に形成
されるように二色性フィルターコーティングを焼き去る
ことにより、未処理カラーゴーボー上に像を描く。
【0037】図10(a)には、未処理二色ゴーボー7
0が示されており、このゴーボー70は、透明板12、
第1の二色性フィルターコーティング62、可視透明酸
化物層64、および第2の二色性フィルターコーティン
グ66から構成されている。コーティング62および6
6は、互いに他のコーティングと異なった色を透過させ
るような異なった特性を有している。透明酸化物層64
は、可視光に透明で、さらに近赤外線放射を吸収するよ
うに設定されている。未処理二色ゴーボーは、ホイール
46の周辺に取り付けることができ、レーザーマーキン
グシステム20内にロードすることができる。前述のプ
ロセスを用いて、レーザユニット22は、低出力レーザ
ビーム150を発生し、前記未処理二色ゴーボー上に画
像を描く、すなわち、該レーザは、図10(b)に示す
ように、前記未処理二色ゴーボーのフィルター層66を
焼き去り、酸化物層64に吸収されて、その結果、所望
の像の形状の開口部が前記コーティング66に形成され
る。コーティング62は、もとのままの完全な、着色像
を、維持する。これにより、所望の画像が、コーティン
グ62の特性に依存した所定の色を持って投影され、両
コーティング62および64の特性に依存した背景色の
フィールド内に表れるように、二色ゴーボーは形成され
る。
【0038】図11(a)には、未処理三色ゴーボー7
0が示されており、このゴーボー70は、透明板12、
該透明板の第1の表面に堆積され、可視光に透明で、さ
らに近赤外領域のエネルギーを吸収する、インジウム錫
酸化物(ITO)のような第1の透明酸化物層61、こ
の第1の透明酸化物層の上に堆積されている第1の二色
性フィルターコーティング62、このコーティング上に
堆積されている第2の酸化物層64、この酸化物層64
の上に堆積されている第2のフィルターコーティング6
6、前記透明板12の第1の表面の反対側の第2の表面
上に堆積されている第3の酸化物層63、およびこの酸
化物層63の上に堆積されている第3の二色性フィルタ
ーコーティング68とから構成されている。未処理の三
色ゴーボーは、ホイール46の周辺に取り付けることが
でき、レーザーマーキングシステム20内にロードする
ことができる。前述のプロセスを用いて、レーザユニッ
ト22は、低出力レーザビーム150を発生し、図11
(b)に示すように、前記未処理三色ゴーボー上に像を
描く、すなわち、前記のフィルター層66のみを焼き去
り、その結果、所望の画像の形状の開口部が前記コーテ
ィング66に形成される。酸化物層64は、フィルター
層62が焼き去られないようにレーザービームを遮蔽
し、レーザービームが層62に到達する前にビームのエ
ネルギーを吸収するために、設けられる。コーティング
62は、その場に、完全な着色画像を維持するか、コー
ティング68が画像を着色するように、その場から焼き
去られる。コーティング62および66の透過により着
色されるように、レーザービーム150が、コーティン
グ64の選択された領域を焼き去って、該ゴーボーの他
の表面に像を描くために、ホイールは向きを変えること
ができる。他の部分では、コーティング68は、もとの
ままの完全な状態を維持し、コーティング62またはコ
ーティング66のいずれかと共同して該画像を着色す
る。これにより、所望の画像が、コーティング62、6
6、および68の特性に依存した所定の色を持って投影
されるように、三色ゴーボーは形成される。
【0039】図12(a)には、未処理コールドミラー
ゴーボー90が示されており、このゴーボー90は、そ
の上に多層誘電体コーティング91、92、93、およ
び94が堆積されている透明板12から構成されてい
る。コールドミラーは可視光の全波長を反射する。前述
のように、非常に低い出力のレーザービームは、多層透
過を用い、図12(b)に示すように、選択された波長
の光線が透過するように前記コールドミラー層の一つま
たはそれ以上を焼き去って、前記ゴーボー上に画像を描
く。得られる画像の色は、コーティングの特性と、該コ
ーティングの焼き去られる程度とに依存する。
【0040】本発明のさらなる実施例では、光パターン
発生体が、着色画像を黒色の背景上に発生することがで
きる。このような光パターン発生体は、図13にその断
面図が示されている。このような光パターン発生体は、
透明基板200の片側上にその背面に透明酸化物層20
4を有する反射層202を持っており、さらに他側上に
カラーフィルター層206を有する。
【0041】このような光パターン発生体を製造するに
は、前述の方法により、レーザーで層204に開口部を
焼き通し、レーザーは層202で止められる。したがっ
て、得られた開口部は、黒色背景上に着色光ステンシル
(stencil )をもたらす。
【0042】いくつかの実施例の図示および説明を行っ
たが、本発明は、この開示の実施例に限定されるもので
なく、本発明の範囲を逸脱しない限り、多くの再配列、
変形および置換が可能であることは、理解されるであろ
う。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の形態による未処理の光パターン
発生体の断面図である。
【図2】アルミニウムコーティングの出力スペクトル応
答曲線を示すグラフである。
【図3】本発明の第2の形態によるレーザーマーキング
システムのブロック図である。
【図4】図3のシステムの構成部品を詳細に示すブロッ
ク図である。
【図5】図3のシステムの構成部品を詳細に示すブロッ
ク図である。
【図6】本発明の第3の形態により反射物質のレーザー
除去を図解する光パターン発生体の断面図である。
【図7】光パターン発生体の平面図であり、(a)、
(b)、(c)は典型的なベクトル走査画像を示す。
【図8】光パターン発生体の平面図であり、(a)、
(b)は典型的なラスタ走査画像を示す。
【図9】一色光パターン発生体の断面図である。
【図10】(a)は二色光パターン発生体の断面図であ
り、(b)は本発明による二色光パターン発生体のレー
ザー除去の断面図である。
【図11】(a)は三色光パターン発生体の断面図であ
り、(b)は本発明による三色光パターン発生体のレー
ザー除去の断面図である。
【図12】(a)はコールドミラー光パターン発生体の
断面図であり、(b)はコールドミラー光パターン発生
体のレーザー除去の断面図である。
【図13】黒色背景上にカラー化された光パターンを発
生する光パターン発生体を示す断面図である。
【符号の説明】
10 光パターン発生体 12 透明板 14 反射層 20 レーザーマーキングシステム 22 レーザーヘッド 24 偏向ミラーアッセンブリ 26 コントロールユニット 30 作業テーブル 32 可動支持機構 38 汎用コンピュータ 40 回転割り出し器

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明板と、 前記透明板に結合された層であって、可視光に対しては
    反射性で、近赤外線放射には吸収性であり、画像の形状
    の開口を有する反射層とを備え、 開口の形状を有するビームを作り出すべく、向けられた
    光ビームの一部を反射層の開口を通過させ、開口を通過
    しない光ビームの部分を反射するようにしたことを特徴
    とする光パターン発生体。
  2. 【請求項2】 透明板上に所望の画像を交換するための
    ディジタルデータ命令を作り出すコンピュータと、 前記命令によって制御可能で、近赤外線領域内に特性波
    長を有するレーザービームを発生するレーザーと、 前記ビームの経路内に配置され、前記ビームによってパ
    ターンが形成される、結合された層を有する透明板を保
    持する支持体と、を備えたことを特徴とする光パターン
    発生体を作る装置。
  3. 【請求項3】 前記支持体は可動で複数の透明板を支持
    し、前記可動支持体は前記透明板をその各々にパターン
    を形成すべく前記ビームの経路内に連続的に移動するこ
    とを特徴とする請求項2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記レーザービームは小さい径を有する
    ことを特徴とする請求項2に記載の装置。
  5. 【請求項5】 前記層はレーザーのエネルギを吸収し、
    可視スペクトル内の光を反射するものであることを特徴
    とする請求項2に記載の装置。
  6. 【請求項6】 透明板に可視光を反射しある近赤外線波
    長の光を吸収する反射物質の層を結合し、 レーザービームを透明板に向け、 透明板の選択された領域から反射物質を除去すべく透明
    板表面に亘りレーザービームを導くステップを備えるこ
    とを特徴とする光パターン発生体を作る方法。
  7. 【請求項7】 透明板に赤外線吸収物質の層を施し、 吸収層に二色性フィルタ物質の層を施し、 所望の形状の開口を作り出すべく赤外線レーザービーム
    でもって、吸収およびフィルタ物質の選択された領域を
    除去するステップを備えることを特徴とするカラー化光
    パターン発生体を作る方法。
  8. 【請求項8】 さらに、前記二色性フィルタ層の上に第
    2の赤外線吸収層を施し、および前記第2の赤外線吸収
    物質層の上に第2の二色性フィルタ物質の層を施し、 前記第2の吸収およびフィルタ物質の選択された領域を
    赤外線レーザービームで除去するステップを備えている
    ことを特徴とする請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 透明板と、 前記透明板の表面上の赤外線吸収物質の層と、 前記赤外線吸収物質上の二色性フィルタ物質の層であっ
    て、光ビームからカラーのフィールド内に開口に対応す
    るパターンの発生を許容すべく所望の形状の前記開口を
    有する吸収およびフィルタ物質の層とを備えたことを特
    徴とするカラー光パターン発生体。
  10. 【請求項10】 さらに、前記二色性フィルタ層上の第
    2の赤外線吸収層と、 前記赤外線吸収層上の第2の二色性フィルタ層とを備
    え、 前記第2の吸収およびフィルタ層は第2の開口を有して
    いることを特徴とする請求項9に記載のカラー光パター
    ン発生体。
  11. 【請求項11】 さらに、前記透明板の他の表面上の第
    3の赤外線吸収層と、 前記第3の赤外線吸収層上の第3の二色性フィルタ層と
    を備え、 前記第3の吸収およびフィルタ層は第3の開口を有して
    いることを特徴とする請求項10に記載のカラー光パタ
    ーン発生体。
  12. 【請求項12】 透明板と、 前記透明板の表面上の二色性フィルタの第1の層であっ
    て、カラーフィルタ物質のフィールド内にデザインされ
    た画像形状の開口を有する第1の二色性フィルタ層とを
    備えたことを特徴とするカラー光パターン発生体。
  13. 【請求項13】 さらに、前記第1の二色性フィルタ層
    に施された第2の二色性フィルタ層を備えることを特徴
    とする請求項12に記載のカラー光パターン発生体。
JP27277594A 1993-11-05 1994-11-07 光パターン発生体ならびにそれを作る装置および方法 Pending JPH07325213A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14749693A 1993-11-05 1993-11-05
US147496 1993-11-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07325213A true JPH07325213A (ja) 1995-12-12

Family

ID=22521796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27277594A Pending JPH07325213A (ja) 1993-11-05 1994-11-07 光パターン発生体ならびにそれを作る装置および方法

Country Status (8)

Country Link
US (2) US5728994A (ja)
EP (1) EP0652400B1 (ja)
JP (1) JPH07325213A (ja)
KR (1) KR100326396B1 (ja)
AU (1) AU683695B2 (ja)
CA (1) CA2135246C (ja)
DE (1) DE69425943T2 (ja)
TW (2) TW521819U (ja)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE509429C2 (sv) * 1996-07-01 1999-01-25 Michael Tannemyr Gobo samt förfarande för framställning av gobo
AUPO523997A0 (en) * 1997-02-20 1997-04-11 Securency Pty Ltd Laser marking of articles
US5969868A (en) 1997-09-11 1999-10-19 Vari-Lite, Inc. Sequential cross-fading color filters and system
US7649153B2 (en) * 1998-12-11 2010-01-19 International Business Machines Corporation Method for minimizing sample damage during the ablation of material using a focused ultrashort pulsed laser beam
US6333485B1 (en) * 1998-12-11 2001-12-25 International Business Machines Corporation Method for minimizing sample damage during the ablation of material using a focused ultrashort pulsed beam
US6710284B1 (en) * 1999-02-26 2004-03-23 Micron Technology, Inc. Laser marking techniques for bare semiconductor die
US6277312B1 (en) 1999-03-11 2001-08-21 Serigraph, Inc. In-mold decorating with laser etching
DE10029110B4 (de) * 1999-06-15 2006-05-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren für die Materialbearbeitung und Verwendung desselben
US6436222B1 (en) * 2000-05-12 2002-08-20 Eastman Kodak Company Forming preformed images in organic electroluminescent devices
US6544465B1 (en) * 2000-08-18 2003-04-08 Micron Technology, Inc. Method for forming three dimensional structures from liquid with improved surface finish
US6645677B1 (en) * 2000-09-18 2003-11-11 Micronic Laser Systems Ab Dual layer reticle blank and manufacturing process
JP3974528B2 (ja) * 2000-12-12 2007-09-12 オウトジエノミクス・インコーポレーテツド 改良バイオチップ
US6768080B2 (en) * 2001-12-17 2004-07-27 Troitski Method for production of laser-induced damage images with special characteristics by creating damages of special space shape
US6885505B2 (en) * 2002-09-04 2005-04-26 Gobos Togo Inc. Integrally bonded gobo
FR2848286B1 (fr) * 2002-12-05 2006-02-10 Valeo Vision Procede de realisation d'un motif decoratif sur un composant d'un dispositif d'eclairage ou de signalisation automobile
US6744196B1 (en) * 2002-12-11 2004-06-01 Oriol, Inc. Thin film LED
US20060268558A1 (en) * 2005-05-24 2006-11-30 Synchrolite, L.P. Method and apparatus for controlling diffusion and color of a light beam
US8721123B2 (en) 2008-01-18 2014-05-13 Syncrolite, Llc Pattern generator for a light fixture
US8596824B2 (en) 2005-05-24 2013-12-03 Syncrolite, L.P. Method and apparatus for a scrollable modifier for a light fixture
DE102006029073B4 (de) * 2005-07-06 2009-07-16 Schott Ag Verfahren zum Durchtrennen eines Flachglases unter Verwendung eines Lasertrennstrahls und alkalifreies Flachglas mit besonderer Eignung hierfür
TWI270928B (en) * 2005-07-22 2007-01-11 Sino American Silicon Products Method of manufacturing composite wafer sructure
US7903336B2 (en) * 2005-10-11 2011-03-08 Gsi Group Corporation Optical metrological scale and laser-based manufacturing method therefor
WO2009032335A1 (en) * 2007-09-07 2009-03-12 Goboland, Inc. Steel gobo with non-reflective heat resistant coating
US20090272542A1 (en) * 2008-05-03 2009-11-05 Frank's Casing Crew And Rental Tools, Inc. Tubular Grip Interlock System
EP2310894A4 (en) * 2008-06-30 2012-08-01 Production Resource Group Llc HIGH RESOLUTION LIGHT STRUCTURE GENERATOR ON A TRANSPARENT SUBSTRATE
US20100078418A1 (en) * 2008-09-26 2010-04-01 Electro Scientific Industries, Inc. Method of laser micro-machining stainless steel with high cosmetic quality
US20100078416A1 (en) * 2008-09-26 2010-04-01 Electro Scientific Industries Method of laser micro-machining stainless steel with high cosmetic quality
US8706288B2 (en) * 2009-05-21 2014-04-22 Electro Scientific Industries, Inc. Apparatus and method for non-contact sensing of transparent articles
US8570356B2 (en) * 2009-06-03 2013-10-29 John Michael Tamkin Optical system for direct imaging of light markable material
US20110007511A1 (en) * 2009-07-09 2011-01-13 Production Resource Group Llc Optically Transmissive Patterned Devices Formed of Fused Silica
US8585956B1 (en) 2009-10-23 2013-11-19 Therma-Tru, Inc. Systems and methods for laser marking work pieces
KR20110112749A (ko) * 2010-04-07 2011-10-13 삼성전자주식회사 사출물 제조 방법
WO2012092028A1 (en) * 2010-12-30 2012-07-05 Hutton Richard W Apparatus, system, and method for high-resolution micro-machining of thin films for light pattern projection
US20130168370A1 (en) * 2011-12-28 2013-07-04 Iraj Kavosh Laser-beam device, laser-soldering tool and method, for laser-soldering connection pads of a head-stack assembly for a hard-disk drive
KR20130108027A (ko) 2012-03-23 2013-10-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판의 제조방법
US9186924B2 (en) * 2012-04-17 2015-11-17 Rexam Beverage Can Company Decorated beverage can tabs
US9662833B2 (en) 2012-06-04 2017-05-30 Sabic Global Technologies B.V. Marked thermoplastic compositions, methods of making and articles comprising the same, and uses thereof
US20140254002A1 (en) * 2013-03-08 2014-09-11 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Substrate for Controlling Light Transmission and Process for Manufacture Thereof
FI20135386L (fi) 2013-04-18 2014-10-19 Cajo Tech Oy Metallipintojen värimerkintä
KR102398581B1 (ko) * 2015-04-21 2022-05-17 삼성전자주식회사 하우징, 하우징 제조 방법 및 그것을 포함하는 전자 장치
US10760764B2 (en) 2018-06-29 2020-09-01 Valeo North America, Inc. Partial metallization of molded part using ablation
KR20210049250A (ko) * 2019-10-24 2021-05-06 삼성디스플레이 주식회사 기판 가공 장치 및 기판 가공 방법

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1765242A (en) * 1924-09-15 1930-06-17 Gen Electric Lamp bulb
US2269494A (en) * 1938-12-24 1942-01-13 American Optical Corp Heat retarding device and method of making the same
US2647441A (en) * 1945-04-27 1953-08-04 Raymond W Boydston Front surface mirror improved by transparent protective overcoating
US2667807A (en) * 1948-03-10 1954-02-02 J E Mcauley Mfg Co Heat filter for intermittent light beam projectors
US3704928A (en) * 1970-11-09 1972-12-05 Sylvania Electric Prod Dental light with dichroic and infrared filters
US3747117A (en) * 1971-03-31 1973-07-17 Teletype Corp Laser writing
US3914464A (en) * 1971-04-19 1975-10-21 Optical Coating Laboratory Inc Striped dichroic filter and method for making the same
US3754135A (en) * 1971-04-21 1973-08-21 C Hulbert Light treating means
GB1441745A (en) * 1972-10-06 1976-07-07 Emi Ltd Manufacture of a pattern on a substrate
US3981568A (en) * 1972-11-13 1976-09-21 Optical Coating Laboratory, Inc. Striped dichroic filter with butted stripes and dual lift-off method for making the same
US4013466A (en) * 1975-06-26 1977-03-22 Western Electric Company, Inc. Method of preparing a circuit utilizing a liquid crystal artwork master
US4158715A (en) * 1976-11-04 1979-06-19 The Singer Company Laser recording film with opaque coating
US4245003A (en) * 1979-08-17 1981-01-13 James River Graphics, Inc. Coated transparent film for laser imaging
JPS5890604A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 赤外線遮蔽積層体
US4534620A (en) * 1983-07-11 1985-08-13 Rca Corporation Standardized multi-stack dielectric-layer filter blank and method for fabricating color-encoding filter therefrom
JPS60255491A (ja) * 1984-06-01 1985-12-17 Daicel Chem Ind Ltd レ−ザ−記録用フイルム
US4586116A (en) * 1984-09-21 1986-04-29 Kasboske George C Vehicle headlamp with yellow and main light transmission
US4818098A (en) * 1986-05-09 1989-04-04 Sharp Corporation Apparatus and method of forming and projecting high precision optical images
US4779176A (en) * 1986-07-16 1988-10-18 Vari-Lite, Inc. Light pattern generator
DE3629416C2 (de) * 1986-08-29 1994-02-17 Agfa Gevaert Ag Verfahren und Vorrichtung zum punkt- und zeilenweisen Kopieren von Farbbildern
US4890208A (en) * 1986-09-19 1989-12-26 Lehigh University Stage lighting apparatus
US4958265A (en) * 1988-03-04 1990-09-18 Altman Stage Lighting Co., Inc. Symmetrical color changer system
JPH01267092A (ja) * 1988-04-19 1989-10-24 Miyachi Electric Co レーザマーキング方法
EP0340968A3 (en) * 1988-04-30 1992-05-06 Seiko Epson Corporation Thin film device and method of manufacturing the same
JPH0820610B2 (ja) * 1988-08-10 1996-03-04 富士写真光機株式会社 光源装置
US4974136A (en) * 1989-10-31 1990-11-27 Artup Corporation Light fixture
US5022726A (en) * 1989-12-20 1991-06-11 Viratec Thin Films, Inc. Magnesium film reflectors
US5061341A (en) * 1990-01-25 1991-10-29 Eastman Kodak Company Laser-ablating a marking in a coating on plastic articles
US5120622A (en) * 1990-02-05 1992-06-09 Eastman Kodak Company Lift-off process for patterning dichroic filters
JPH03274656A (ja) * 1990-03-23 1991-12-05 Toshiba Lighting & Technol Corp 光干渉膜
US5246803A (en) * 1990-07-23 1993-09-21 Eastman Kodak Company Patterned dichroic filters for solid state electronic image sensors
US5257132A (en) * 1990-09-25 1993-10-26 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Broadband diffractive lens or imaging element
US5296961A (en) * 1991-04-23 1994-03-22 Coherent, Inc. Dichroic optical filter
JPH0728999Y2 (ja) * 1991-05-29 1995-07-05 セントラル硝子株式会社 多色表示ヘッドアップディスプレイ用ガラス
DE59103714D1 (de) * 1991-10-07 1995-01-12 Siemens Ag Laserbearbeitungsverfahren für einen Dünnschichtaufbau.
JPH05107514A (ja) * 1991-10-18 1993-04-30 Minolta Camera Co Ltd 光シヤツタアレイ
US5262895A (en) * 1991-11-19 1993-11-16 Laduke Thomas F Optical color synthesizer
US5266771A (en) * 1991-12-05 1993-11-30 Amf Irrevocable Trust Ornament having patterned ornamental indicia thereon, and method and apparatus for fabricating same
US5217832A (en) * 1992-01-23 1993-06-08 The Walt Disney Company Permanent color transparencies on single substrates and methods for making the same
US5480722A (en) * 1992-07-03 1996-01-02 Asahi Glass Company Ltd. Ultraviolet ray absorbent glass and method for preparing the same
US5456955A (en) * 1992-12-11 1995-10-10 Illuminated Display Division Of Bell Industries, Inc. Method and apparatus for forming an illuminated display
US5356662A (en) * 1993-01-05 1994-10-18 At&T Bell Laboratories Method for repairing an optical element which includes a multilayer coating
US5354633A (en) * 1993-09-22 1994-10-11 Presstek, Inc. Laser imageable photomask constructions
US5340619A (en) * 1993-10-18 1994-08-23 Brewer Science, Inc. Method of manufacturing a color filter array
JPH07291681A (ja) * 1994-04-27 1995-11-07 Keiyu Rin 透視性のあるカラー模様付装飾積層ガラス板の製造方法
US5510215A (en) * 1995-01-25 1996-04-23 Eastman Kodak Company Method for patterning multilayer dielectric color filter

Also Published As

Publication number Publication date
TW411386B (en) 2000-11-11
DE69425943D1 (de) 2000-10-26
KR100326396B1 (ko) 2002-06-22
TW521819U (en) 2003-02-21
KR950014664A (ko) 1995-06-16
CA2135246C (en) 2002-07-09
EP0652400B1 (en) 2000-09-20
EP0652400A1 (en) 1995-05-10
AU7766994A (en) 1995-05-18
AU683695B2 (en) 1997-11-20
CA2135246A1 (en) 1995-05-06
US5728994A (en) 1998-03-17
US5959768A (en) 1999-09-28
DE69425943T2 (de) 2001-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07325213A (ja) 光パターン発生体ならびにそれを作る装置および方法
US5969868A (en) Sequential cross-fading color filters and system
US5387484A (en) Two-sided mask for patterning of materials with electromagnetic radiation
EP0253081B1 (en) Light pattern generator
US6664501B1 (en) Method for creating laser-induced color images within three-dimensional transparent media
US6187484B1 (en) Irradiation mask
US5795058A (en) Color image protection apparatus
US20130070212A1 (en) Method and apparatus for making a high resolution light pattern generator on a transparent substrate
WO2012092028A1 (en) Apparatus, system, and method for high-resolution micro-machining of thin films for light pattern projection
JP3468450B2 (ja) 固体材料内部の選択的改質方法及び内部が選択的に改質された固体材料
JP2005262230A (ja) レーザ加工方法及びその装置、並びに構造体及びその製造方法
JP2001205462A (ja) レーザマーキング装置及びレーザマーキング方法
JPH097935A (ja) レジストの露光方法
JPH10263871A (ja) レーザー加工用誘電体マスクの製造方法
JPS60167201A (ja) ランプ構成体に対する光学装置の製造方法
JPH06237037A (ja) レーザ加工装置
JPH04302186A (ja) 固体レーザ発振器とレーザ露光装置
JPH05293677A (ja) レーザ刻印装置
JP2836273B2 (ja) マスク形レーザー刻印装置
JPH06106369A (ja) レーザ加工装置
JPH01243062A (ja) フォトマスク
JPH06164030A (ja) レーザ発振装置
JPH11109117A (ja) 回折光学素子の製造方法及び製造装置
JPH0890268A (ja) レーザ加工方法
JPH06230381A (ja) 投射型液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040928

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050301