JPH07305169A - 搬送室に対するエアロックゲート式マスク出し入れ装置 - Google Patents
搬送室に対するエアロックゲート式マスク出し入れ装置Info
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- JPH07305169A JPH07305169A JP6009451A JP945194A JPH07305169A JP H07305169 A JPH07305169 A JP H07305169A JP 6009451 A JP6009451 A JP 6009451A JP 945194 A JP945194 A JP 945194A JP H07305169 A JPH07305169 A JP H07305169A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板に対するマスクの着脱を成膜装置の真空
領域内で行なえるように一連の成膜周期毎にロックゲー
トを介してマスクを出し入れ可能にする。 【構成】 プッシュロッド１４が基板２０の平面に対し
て直角方向に配置され該プッシュロッドの縦軸線方向に
対して直角な方向に可動のスライダ４１と協働するよう
にし、スライダのヘッド部分４３が二又状に成形されて
前記マスク１５の鍔４７を緊締把持可能であり、前記ス
ライダが、前進運動時に第２のエアロック室３９内の起
点位置からプッシュロッドの運動経路まで接近移動可能
かつ戻り運動時にはマスクを第２のエアロック室内へ搬
送可能に配置され、第１と第２のエアロック室間に、両
エアロック室を隔離するフラップ型ロックゲート３８が
設けられ、マスクを搬出するために第２のエアロック室
には別のプッシュロッド４８が配設されている。
領域内で行なえるように一連の成膜周期毎にロックゲー
トを介してマスクを出し入れ可能にする。 【構成】 プッシュロッド１４が基板２０の平面に対し
て直角方向に配置され該プッシュロッドの縦軸線方向に
対して直角な方向に可動のスライダ４１と協働するよう
にし、スライダのヘッド部分４３が二又状に成形されて
前記マスク１５の鍔４７を緊締把持可能であり、前記ス
ライダが、前進運動時に第２のエアロック室３９内の起
点位置からプッシュロッドの運動経路まで接近移動可能
かつ戻り運動時にはマスクを第２のエアロック室内へ搬
送可能に配置され、第１と第２のエアロック室間に、両
エアロック室を隔離するフラップ型ロックゲート３８が
設けられ、マスクを搬出するために第２のエアロック室
には別のプッシュロッド４８が配設されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、受容用の盲孔を有する
マスクを保持して搬送するために第１のエアロック室内
に摺動可能に支承されていて基板の平面内にまで運動可
能なプッシュロッドを備えた形式の、扁平な円環ディス
ク状の基板用のマスクを真空成膜装置の搬送室に対して
エアロックゲート式に出し入れする装置に関するもので
ある。
マスクを保持して搬送するために第１のエアロック室内
に摺動可能に支承されていて基板の平面内にまで運動可
能なプッシュロッドを備えた形式の、扁平な円環ディス
ク状の基板用のマスクを真空成膜装置の搬送室に対して
エアロックゲート式に出し入れする装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】扁平なディスク状の基板例えばＣＤ−Ｒ
ＯＭ（コンパクトディスク読出し専用メモリー）や磁気
光学ディスクを真空成膜装置において成膜する前に、基
板の周縁ゾーン又は中央部に成膜を施さないようにする
ために部分的にスクリーンで被覆したり、或いはマスク
を設けることは公知である。このような被覆スクリーン
又はマスクは通常、成膜工程前に、つまり真空領域外で
基板に装着されるので、基板は、該基板に固定されたマ
スクと一緒に成膜装置の処理室内へロックゲートを介し
て装入され、成膜工程終了後に該処理室から再びロック
ゲートを介して取り出される。このマスク装着方式の欠
点は、マスクが急速に「使用不能」になることである。
それというのはマスクの外面に、成膜プロセスを著しく
阻害することになるような、きらきら光る箔膜が形成さ
れるからである。
ＯＭ（コンパクトディスク読出し専用メモリー）や磁気
光学ディスクを真空成膜装置において成膜する前に、基
板の周縁ゾーン又は中央部に成膜を施さないようにする
ために部分的にスクリーンで被覆したり、或いはマスク
を設けることは公知である。このような被覆スクリーン
又はマスクは通常、成膜工程前に、つまり真空領域外で
基板に装着されるので、基板は、該基板に固定されたマ
スクと一緒に成膜装置の処理室内へロックゲートを介し
て装入され、成膜工程終了後に該処理室から再びロック
ゲートを介して取り出される。このマスク装着方式の欠
点は、マスクが急速に「使用不能」になることである。
それというのはマスクの外面に、成膜プロセスを著しく
阻害することになるような、きらきら光る箔膜が形成さ
れるからである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、基板
に対するマスクの装着と取外しを成膜装置の真空領域内
で行なえるようにし、特に一連の成膜周期毎にロックゲ
ートを介してマスクを出し入れ可能にすることである。
に対するマスクの装着と取外しを成膜装置の真空領域内
で行なえるようにし、特に一連の成膜周期毎にロックゲ
ートを介してマスクを出し入れ可能にすることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の本発明の構成手段は、プッシュロッドが基板の平面に
対して直角方向に配置されかつ該プッシュロッドの縦軸
線方向に対して直角な方向に可動のスライダと協働する
ように構成されており、該スライダのヘッド部分が二又
状に成形されていて前記マスクの鍔に被せ嵌められて該
鍔を緊締把持するように構成されており、しかも前記ス
ライダが、前進運動時に第２のエアロック室内の起点位
置から前記プッシュロッドの運動経路まで接近移動可能
かつ前記スライダの戻り運動時には前記マスクを前記第
２のエアロック室内へ搬送可能に配置されており、前記
の第１と第２のエアロック室との間に、両エアロック室
を互いに密閉隔離するフラップ型ロックゲートが設けら
れており、該フラップ型ロックゲートの密閉時に前記第
２のエアロック室から前記マスクを搬出するために第２
のエアロック室には別のプッシュロッドが配設されてい
る点にある。
の本発明の構成手段は、プッシュロッドが基板の平面に
対して直角方向に配置されかつ該プッシュロッドの縦軸
線方向に対して直角な方向に可動のスライダと協働する
ように構成されており、該スライダのヘッド部分が二又
状に成形されていて前記マスクの鍔に被せ嵌められて該
鍔を緊締把持するように構成されており、しかも前記ス
ライダが、前進運動時に第２のエアロック室内の起点位
置から前記プッシュロッドの運動経路まで接近移動可能
かつ前記スライダの戻り運動時には前記マスクを前記第
２のエアロック室内へ搬送可能に配置されており、前記
の第１と第２のエアロック室との間に、両エアロック室
を互いに密閉隔離するフラップ型ロックゲートが設けら
れており、該フラップ型ロックゲートの密閉時に前記第
２のエアロック室から前記マスクを搬出するために第２
のエアロック室には別のプッシュロッドが配設されてい
る点にある。
【０００５】本発明のその他の有利な構成手段は、請求
項２以降に記載した通りである。
項２以降に記載した通りである。
【０００６】
【実施例】次に図面に基づいて本発明の実施例を詳説す
る。
る。
【０００７】エアロックゲート式マスク出し入れ装置は
実質的に、圧力密なケーシング１，２から成っており、
該ケーシングは、互いに平行な平面内に配置された２つ
の搬送室３，４を有し、両搬送室は開口５を介して互い
に連通されており、この場合、各搬送室３，４は円筒形
の中空室として構成されており、かつ、両方の円筒形の
搬送室３，４の縦軸線は互いに平行に、しかも互いにず
らして配置されている。搬送室３内及び隣接した搬送室
４内には共に複数の搬送レードル（transport-ladle）
６，７が配置されており、各搬送レードルは車輪スポー
クの形式でボス８，９と固着結合されており、各ボス
は、モータ（図示せず）によって回転駆動可能な駆動軸
１０，１１に装着されている。搬送室４内で搬送レード
ル７が旋回し、基板２０を１つの円軌道に沿って一方の
処理ステーションから次の処理ステーションへ移動させ
る間、搬送室３内では搬送レードル６は基板をエアロッ
クゲート出し入れステーション（図示せず）から図示の
引渡しステーションへ又は逆に引渡しステーションから
エアロックゲート出し入れステーションへ移動させる。
両方の搬送室３，４を互いに連通する開口５の領域には
加圧スリーブ１２が設けられており、該加圧スリーブは
ケーシング１１内に保持されてガイドされており、かつ
モータ（図示せず）駆動式のプッシュロッド１３のシフ
トによって加圧スリーブ１２は矢印Ａ−Ｂの方向に運動
することができる。またレール３５上に支承された滑り
シュー３６にプッシュロッド１４が設けられており、前
記滑りシューもモータ駆動によって矢印Ａ−Ｂの方向に
運動可能である。滑りシューはマスク１５に対応して構
成されている。この場合プッシュロッド１４の縦軸線
は、搬送レードル７が図示位置にある場合に輪形磁石１
７の中心の受容孔１６と整合する。また前記プッシュロ
ッド１４の縦軸線は、モータユニット１９内に支承され
たプッシュロッド１８の縦軸線とも整合しており、前記
モータユニット１９は、前記滑りシュー３６に対向して
ケーシング２に配置されておりかつ同じく矢印Ａ−Ｂの
方向でプッシュロッド１８の運動を可能にする。
実質的に、圧力密なケーシング１，２から成っており、
該ケーシングは、互いに平行な平面内に配置された２つ
の搬送室３，４を有し、両搬送室は開口５を介して互い
に連通されており、この場合、各搬送室３，４は円筒形
の中空室として構成されており、かつ、両方の円筒形の
搬送室３，４の縦軸線は互いに平行に、しかも互いにず
らして配置されている。搬送室３内及び隣接した搬送室
４内には共に複数の搬送レードル（transport-ladle）
６，７が配置されており、各搬送レードルは車輪スポー
クの形式でボス８，９と固着結合されており、各ボス
は、モータ（図示せず）によって回転駆動可能な駆動軸
１０，１１に装着されている。搬送室４内で搬送レード
ル７が旋回し、基板２０を１つの円軌道に沿って一方の
処理ステーションから次の処理ステーションへ移動させ
る間、搬送室３内では搬送レードル６は基板をエアロッ
クゲート出し入れステーション（図示せず）から図示の
引渡しステーションへ又は逆に引渡しステーションから
エアロックゲート出し入れステーションへ移動させる。
両方の搬送室３，４を互いに連通する開口５の領域には
加圧スリーブ１２が設けられており、該加圧スリーブは
ケーシング１１内に保持されてガイドされており、かつ
モータ（図示せず）駆動式のプッシュロッド１３のシフ
トによって加圧スリーブ１２は矢印Ａ−Ｂの方向に運動
することができる。またレール３５上に支承された滑り
シュー３６にプッシュロッド１４が設けられており、前
記滑りシューもモータ駆動によって矢印Ａ−Ｂの方向に
運動可能である。滑りシューはマスク１５に対応して構
成されている。この場合プッシュロッド１４の縦軸線
は、搬送レードル７が図示位置にある場合に輪形磁石１
７の中心の受容孔１６と整合する。また前記プッシュロ
ッド１４の縦軸線は、モータユニット１９内に支承され
たプッシュロッド１８の縦軸線とも整合しており、前記
モータユニット１９は、前記滑りシュー３６に対向して
ケーシング２に配置されておりかつ同じく矢印Ａ−Ｂの
方向でプッシュロッド１８の運動を可能にする。
【０００８】図面では搬送レードル６，７の位置は、搬
送レードル６から搬送レードル７への基板２０の受渡し
を行なえる位置で図示されている（このような搬送レー
ドルと駆動ユニットの詳細はドイツ連邦共和国特許出願
公開第３９１２２９５号明細書並びに図面に開示されて
いる）。
送レードル６から搬送レードル７への基板２０の受渡し
を行なえる位置で図示されている（このような搬送レー
ドルと駆動ユニットの詳細はドイツ連邦共和国特許出願
公開第３９１２２９５号明細書並びに図面に開示されて
いる）。
【０００９】搬送レードル７へ基板２０を引渡すために
は先ず搬送レードル６は矢印Ａの方向に加圧スリーブ１
２によって、中立の破線図示位置からばね腕２１，２
１′の力に抗してケーシング２の内壁２３に圧着され、
これと同時に駆動軸１０の駆動がロックされる。次いで
プッシュロッド１４が矢印Ａの方向で左手へ、図示位置
にロックされた搬送レードル６に向かって前進させられ
て、マスク１５のヘッド部分２４を基板２０の中心開口
２５内にまで侵入させ、次いで更に前進させられて前記
ヘッド部分２４を輪形磁石１７に当接させるまで基板２
０を連行し、マスク１５のヘッド部分２４はこの位置
（Pos.１）で搬送レードル７の貫通孔２６内に輪形磁石
１７によって保持される。基板２０を実線図示位置（Po
s.２）から搬送レードル７における破線図示位置（Pos.
１）へ連行できるようにするために、連行時に同時に保
持爪２７，２７′，…が半径方向外向きに旋回するの
で、該保持爪は基板２０を解放する（このために適した
機構と駆動装置が搬送レードル６に配置されているが、
ここではその図示と説明は省いた）。ところでマスク１
５は前記貫通孔２６内で、プッシュロッド１４が矢印Ｂ
の方向でその起点位置（Pos.２）へ後退できるようにセ
ンタリングされて輪形磁石１７に保持され、これと同時
に搬送レードル７は、基板２０を第１処理ステーション
へ搬送するために回転軸線ｂを中心として送り旋回され
る。図示の搬送レードル７の送り運動つまり送り旋回に
伴って、該搬送レードルに後続する直ぐ次の別の搬送レ
ードルが、送り旋回された搬送レードル７がこれまで位
置していた位置へ旋回されるので、この別の搬送レード
ルによって保持されている基板２０を、これに対向して
ロックされた搬送レードル６に引渡すことができる。こ
の引渡しのためにモータユニット１９によって駆動され
てプッシュロッド１８は、その前端がマスク１５のヘッ
ド部分２４に当接して該マスク１５を搬送レードル７の
輪形磁石１７から剥離するまで矢印Ｂの方向に運動し、
次いでマスク１５を基板２０と一緒に保持爪２７，２
７′の平面内にまで矢印Ｂの方向に搬送する。各マスク
１５のヘッド部分２４は保持突起２８，２８′，…を有
しているので、マスク１５は、矢印Ｂの方向でのそれ以
上の基板運動が保持爪２８，２８′によって阻止される
まで、基板２０に付着した状態、つまり該基板と係合し
た状態を維持する。基板２０の運動が保持爪２８，２
８′，…によって阻止されると、マスク１４５は次いで
プッシュロッド１８のみによって、対向したプッシュロ
ッド１４上に座着するまで（Pos.２）移動される。いま
や基板２０は搬送レードルによってマスク１５なしに加
圧スリーブ１２の後退運動によってエアロックゲート出
し入れ位置（図示せず）へ旋回することができる。
は先ず搬送レードル６は矢印Ａの方向に加圧スリーブ１
２によって、中立の破線図示位置からばね腕２１，２
１′の力に抗してケーシング２の内壁２３に圧着され、
これと同時に駆動軸１０の駆動がロックされる。次いで
プッシュロッド１４が矢印Ａの方向で左手へ、図示位置
にロックされた搬送レードル６に向かって前進させられ
て、マスク１５のヘッド部分２４を基板２０の中心開口
２５内にまで侵入させ、次いで更に前進させられて前記
ヘッド部分２４を輪形磁石１７に当接させるまで基板２
０を連行し、マスク１５のヘッド部分２４はこの位置
（Pos.１）で搬送レードル７の貫通孔２６内に輪形磁石
１７によって保持される。基板２０を実線図示位置（Po
s.２）から搬送レードル７における破線図示位置（Pos.
１）へ連行できるようにするために、連行時に同時に保
持爪２７，２７′，…が半径方向外向きに旋回するの
で、該保持爪は基板２０を解放する（このために適した
機構と駆動装置が搬送レードル６に配置されているが、
ここではその図示と説明は省いた）。ところでマスク１
５は前記貫通孔２６内で、プッシュロッド１４が矢印Ｂ
の方向でその起点位置（Pos.２）へ後退できるようにセ
ンタリングされて輪形磁石１７に保持され、これと同時
に搬送レードル７は、基板２０を第１処理ステーション
へ搬送するために回転軸線ｂを中心として送り旋回され
る。図示の搬送レードル７の送り運動つまり送り旋回に
伴って、該搬送レードルに後続する直ぐ次の別の搬送レ
ードルが、送り旋回された搬送レードル７がこれまで位
置していた位置へ旋回されるので、この別の搬送レード
ルによって保持されている基板２０を、これに対向して
ロックされた搬送レードル６に引渡すことができる。こ
の引渡しのためにモータユニット１９によって駆動され
てプッシュロッド１８は、その前端がマスク１５のヘッ
ド部分２４に当接して該マスク１５を搬送レードル７の
輪形磁石１７から剥離するまで矢印Ｂの方向に運動し、
次いでマスク１５を基板２０と一緒に保持爪２７，２
７′の平面内にまで矢印Ｂの方向に搬送する。各マスク
１５のヘッド部分２４は保持突起２８，２８′，…を有
しているので、マスク１５は、矢印Ｂの方向でのそれ以
上の基板運動が保持爪２８，２８′によって阻止される
まで、基板２０に付着した状態、つまり該基板と係合し
た状態を維持する。基板２０の運動が保持爪２８，２
８′，…によって阻止されると、マスク１４５は次いで
プッシュロッド１８のみによって、対向したプッシュロ
ッド１４上に座着するまで（Pos.２）移動される。いま
や基板２０は搬送レードルによってマスク１５なしに加
圧スリーブ１２の後退運動によってエアロックゲート出
し入れ位置（図示せず）へ旋回することができる。
【００１０】すでに何回も成膜されたマスク１５を、成
膜されていない未使用のマスク１５と交換しようとする
場合、レール３５内でガイドされる滑りシュー３６に固
着配置されているプッシュロッド１４は、マスク１５が
ほぼ破線図示位置１５′を占めるまで、つまりケーシン
グ１のケーシング壁内に設けた開口３７に正確に対面し
た位置（Pos.３）を占めるまで、矢印Ｂの方向に右手に
向かって移動する。前記開口３７はフラップ型ロックゲ
ート３８によって密閉可能であり、かつ、エアロック室
３９内へのマスク１５′（Pos.３）の搬送を可能にす
る。該エアロック室３９自体はフラップ型ロックゲート
４０を矢印Ｆの方向に旋回させて閉鎖することによっ
て、マスク出し入れ装置を囲む周辺空間に対して隔離可
能である。エアロック室３９内又はその室壁内にはスラ
イダ４１が矢印Ｃ−Ｄの方向に摺動可能に支承されてお
り、該スライダの、エアロック室４２寄りのヘッド部分
４３は二又状に構成されている。なお念のために付記し
ておくが、レール３５内に保持されてガイドされている
滑りシュー３６は、プリー４４，４５を介して動かさ
れ、このためにプリーはモータ（図示せず）によって回
転駆動される。フラップ型ロックゲート３８が矢印Ｅの
方向に旋回されて開放されると、二又状に構成されたヘ
ッド部分４３は、二又歯が破線図示位置（Pos.３）にあ
るマスク１５′の鍔４７を緊締把持するまで、矢印Ｄの
方向にマスク１５′の方に向かって摺動する。いま滑り
シュー３６がプッシュロッド１４と一緒に僅かな寸法だ
け右手へ向かって（矢印Ｂの方向へ）移動されると、マ
スク１５′は専らスライダ４１のヘッド部分４３のみに
よって保持され、次いでスライダ４１によって、マスク
が破線図示位置１５″（Pos.４）に到達するまで今度は
矢印Ｃの方向でエアロック室３９内へ侵入させられる。
次いでフラップ型ロックゲート３８は実線で示した閉鎖
位置へ旋回させられかつフラップ型ロックゲート４０は
エアロック室３９を外部へ向かって開放することができ
る。次いでプッシュロッド４８が外部から開口４９を通
って、磁石を有する端部がマスク１５″の盲孔内へ侵入
するまでエアロック室３９内に導入される。こうしてマ
スク１５″はプッシュロッド４８によって前記開口４９
を通って外部へ向かって搬出され別の新たなマスクと交
換される。
膜されていない未使用のマスク１５と交換しようとする
場合、レール３５内でガイドされる滑りシュー３６に固
着配置されているプッシュロッド１４は、マスク１５が
ほぼ破線図示位置１５′を占めるまで、つまりケーシン
グ１のケーシング壁内に設けた開口３７に正確に対面し
た位置（Pos.３）を占めるまで、矢印Ｂの方向に右手に
向かって移動する。前記開口３７はフラップ型ロックゲ
ート３８によって密閉可能であり、かつ、エアロック室
３９内へのマスク１５′（Pos.３）の搬送を可能にす
る。該エアロック室３９自体はフラップ型ロックゲート
４０を矢印Ｆの方向に旋回させて閉鎖することによっ
て、マスク出し入れ装置を囲む周辺空間に対して隔離可
能である。エアロック室３９内又はその室壁内にはスラ
イダ４１が矢印Ｃ−Ｄの方向に摺動可能に支承されてお
り、該スライダの、エアロック室４２寄りのヘッド部分
４３は二又状に構成されている。なお念のために付記し
ておくが、レール３５内に保持されてガイドされている
滑りシュー３６は、プリー４４，４５を介して動かさ
れ、このためにプリーはモータ（図示せず）によって回
転駆動される。フラップ型ロックゲート３８が矢印Ｅの
方向に旋回されて開放されると、二又状に構成されたヘ
ッド部分４３は、二又歯が破線図示位置（Pos.３）にあ
るマスク１５′の鍔４７を緊締把持するまで、矢印Ｄの
方向にマスク１５′の方に向かって摺動する。いま滑り
シュー３６がプッシュロッド１４と一緒に僅かな寸法だ
け右手へ向かって（矢印Ｂの方向へ）移動されると、マ
スク１５′は専らスライダ４１のヘッド部分４３のみに
よって保持され、次いでスライダ４１によって、マスク
が破線図示位置１５″（Pos.４）に到達するまで今度は
矢印Ｃの方向でエアロック室３９内へ侵入させられる。
次いでフラップ型ロックゲート３８は実線で示した閉鎖
位置へ旋回させられかつフラップ型ロックゲート４０は
エアロック室３９を外部へ向かって開放することができ
る。次いでプッシュロッド４８が外部から開口４９を通
って、磁石を有する端部がマスク１５″の盲孔内へ侵入
するまでエアロック室３９内に導入される。こうしてマ
スク１５″はプッシュロッド４８によって前記開口４９
を通って外部へ向かって搬出され別の新たなマスクと交
換される。
【図１】真空成膜装置の搬送室に対するエアロックゲー
ト式マスク出し入れ装置の概略断面図である。
ト式マスク出し入れ装置の概略断面図である。
１，２ 圧力密なケーシング、 ３，４ 搬送室、
５ 開口、 ６，７ 搬送レードル、 ８，９
ボス、 １０，１１ 駆動軸、 １２加圧スリー
ブ、 １３，１４ プッシュロッド、 １５ マス
ク、 １５′，１５″ 破線図示位置にあるマスク、
１６ 受容孔、 １７ 輪形磁石、 １８ プ
ッシュロッド、 １９ モータユニット、 ２０
基板、２１，２１′，２２，２２′ ばね腕、 ２３
室側壁、 ２４ ヘッド部分、 ２５ 中心開
口、 ２６ 貫通孔、 ２７，２７′ 保持爪、２
８，２８′ 保持突起、 ２９，３０ 基板収容
部、 ３１ 孔、３２ 盲孔、 ３３ 磁石、
３５ レール、 ３６ 滑りシュー、３７ 開
口、 ３８ フラップ型ロックゲート、 ３９ エ
アロック室、４０ フラップ型ロックゲート、 ４１
スライダ、 ４２ エアロック室、 ４３ 二
又状のヘッド部分、 ４４，４５ プリー、 ４６
引張りロープ、 ４７ 鍔、 ４８ プッシュロ
ッド、 ４９ 開口、 ａ，ｂ 回転軸線、 Ａ−
Ｂ 運動方向を示す矢印、 Ｃ−Ｄ 摺動方向を示
す矢印、 Ｅ フラップ型ロックゲートの開放旋回方
向を示す矢印、 Ｆフラップ型ロックゲートの閉鎖旋回
方向を示す矢印
５ 開口、 ６，７ 搬送レードル、 ８，９
ボス、 １０，１１ 駆動軸、 １２加圧スリー
ブ、 １３，１４ プッシュロッド、 １５ マス
ク、 １５′，１５″ 破線図示位置にあるマスク、
１６ 受容孔、 １７ 輪形磁石、 １８ プ
ッシュロッド、 １９ モータユニット、 ２０
基板、２１，２１′，２２，２２′ ばね腕、 ２３
室側壁、 ２４ ヘッド部分、 ２５ 中心開
口、 ２６ 貫通孔、 ２７，２７′ 保持爪、２
８，２８′ 保持突起、 ２９，３０ 基板収容
部、 ３１ 孔、３２ 盲孔、 ３３ 磁石、
３５ レール、 ３６ 滑りシュー、３７ 開
口、 ３８ フラップ型ロックゲート、 ３９ エ
アロック室、４０ フラップ型ロックゲート、 ４１
スライダ、 ４２ エアロック室、 ４３ 二
又状のヘッド部分、 ４４，４５ プリー、 ４６
引張りロープ、 ４７ 鍔、 ４８ プッシュロ
ッド、 ４９ 開口、 ａ，ｂ 回転軸線、 Ａ−
Ｂ 運動方向を示す矢印、 Ｃ−Ｄ 摺動方向を示
す矢印、 Ｅ フラップ型ロックゲートの開放旋回方
向を示す矢印、 Ｆフラップ型ロックゲートの閉鎖旋回
方向を示す矢印
Claims (5)
- 【請求項１】 受容用の盲孔（３２）を有するマスク
（１５，１５′，…）を保持して搬送するために第１の
エアロック室（４２）内に摺動可能に支承されていて基
板（２０）の平面内にまで運動可能なプッシュロッド
（１４）を備えた形式の、扁平な円環ディスク状の基板
（２０）用のマスク（１５，１５′，…）を真空成膜装
置の搬送室（３，４）に対してエアロックゲート式に出
し入れする装置において、プッシュロッド（１４）が基
板（２０）の平面に対して直角方向に配置されかつ該プ
ッシュロッド（１４）の縦軸線の方向に対して直角な方
向に可動のスライダ（４１）と協働するように構成され
ており、該スライダのヘッド部分（４３）が二又状に成
形されていて前記マスク（１５，１５′，…）の鍔（４
７）に被せ嵌められて該鍔を緊締把持するように構成さ
れており、しかも前記スライダ（４１）が、前進運動時
に第２のエアロック室（３９）内の起点位置から前記プ
ッシュロッド（１４）の運動経路まで接近移動可能かつ
前記スライダ（４１）の戻り運動時には前記マスクを前
記第２のエアロック室（３９）内へ搬送可能に配置され
ており、前記の第１と第２のエアロック室（３９と４
２）との間に、両エアロック室を互いに密閉隔離するフ
ラップ型ロックゲート（３８）が設けられており、該フ
ラップ型ロックゲート（３８）の密閉時に前記第２のエ
アロック室（３９）から前記マスクを搬出するために第
２のエアロック室には別のプッシュロッド（４８）が配
設されていることを特徴とする、搬送室に対するエアロ
ックゲート式マスク出し入れ装置。 - 【請求項２】 搬送室（３）内には、基板（２０）を処
理ステーションから及び該処理ステーションへ向かって
搬送するための基板収容部（２９）が、該基板収容部の
平面に対して直角に配置された軸線（ａ）を中心として
旋回可能に配置されており、前記搬送室（３）に対して
直角に配置された第１のエアロック室（４２）が基板搬
送経路の領域で貫通口を介して前記搬送室（３）と、ま
た第１のロックゲート機構（３７，３８）を介して第２
のエアロック室（３９）と接続されており、該第２のエ
アロック室自体は第２のロックゲート機構（４０，４
９）を介して、マスク出し入れ装置を囲む周辺空間と接
続可能である、請求項１記載のマスク出し入れ装置。 - 【請求項３】 第１のエアロック室（４２）の内部に
は、レール（３５）に沿って運動可能な滑りシュー（３
６）と、該滑りシューに結合されたマスクホルダーを構
成するプッシュロッド（１４）が配置されており、該プ
ッシュロッドの前端部が前記滑りシュー（３６）と相俟
って一方の側では、基板収容部（２９）の平面を超える
位置（Pos.１）まで移動可能であり、また他方の側では
第１のロックゲート機構（３７，３８）の平面内の位置
（Pos.３）にまで移動可能である、請求項２記載のマス
ク出し入れ装置。 - 【請求項４】 第２のエアロック室（３９）内に支承さ
れたスライダ（４１）が、プッシュロッド（１４）の縦
軸線に対して直角な方向の平面内で摺動可能であり、該
スライダ（４１）のヘッド部分（４３）が二又状に形成
されており、しかも滑りシューの運動経路の領域内にま
で移動して二又歯によってマスク（１５）を把持し前記
滑りシューの運動経路の位置（Pos.３）から、第２のロ
ックゲート機構（４０，４９）から横方向に離れた位置
（Pos.４）にまで、又はこれとは逆方向に搬送可能に構
成されている、請求項１から３までのいずれか１項記載
のマスク出し入れ装置。 - 【請求項５】 ケーシング（１）にプッシュロッド（４
８）が、滑りシューの運動経路に対して平行移動可能に
支承されており、該プッシュロッドのヘッド端部が、第
２のエアロック室（３９）の範囲外の位置（Pos.５）か
らスライダ（４１）の運動平面内にまで移動可能であ
り、かつ前記ヘッド端部がマスク（１５）を収容しかつ
保持するために磁石を有している、請求項１から４まで
のいずれか１項記載のマスク出し入れ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4302794.6 | 1993-02-02 | ||
| DE4302794A DE4302794A1 (de) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | Vorrichtung zum Ein- und/oder Ausschleusen einer Maske in die bzw. aus der Kammer einer Vakuum-Beschichtungsanlage |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07305169A true JPH07305169A (ja) | 1995-11-21 |
Family
ID=6479382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6009451A Pending JPH07305169A (ja) | 1993-02-02 | 1994-01-31 | 搬送室に対するエアロックゲート式マスク出し入れ装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5354380A (ja) |
| EP (1) | EP0609488B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07305169A (ja) |
| DE (2) | DE4302794A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2272225B (en) * | 1992-10-06 | 1996-07-17 | Balzers Hochvakuum | A method for masking a workpiece and a vacuum treatment facility |
| DE4302851A1 (de) * | 1993-02-02 | 1994-08-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Anbringen und/oder Entfernen einer Maske an einem Substrat |
| US6264804B1 (en) * | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
| US6413381B1 (en) | 2000-04-12 | 2002-07-02 | Steag Hamatech Ag | Horizontal sputtering system |
| US6779962B2 (en) | 2002-03-22 | 2004-08-24 | Brooks Automation, Inc. | Device for handling flat panels in a vacuum |
| US6935828B2 (en) * | 2002-07-17 | 2005-08-30 | Transfer Engineering And Manufacturing, Inc. | Wafer load lock and magnetically coupled linear delivery system |
| US20040165972A1 (en) * | 2003-02-21 | 2004-08-26 | Vladimir Knyazik | Apparatus and method for insertion of a sample into a vacuum chamber |
| US9579680B2 (en) | 2013-01-31 | 2017-02-28 | Wki Holding Company, Inc. | Self-centering magnetic masking system |
| WO2020242611A1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Applied Materials, Inc. | System and method for aligning a mask with a substrate |
| US11189516B2 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-30 | Applied Materials, Inc. | Method for mask and substrate alignment |
| US11756816B2 (en) | 2019-07-26 | 2023-09-12 | Applied Materials, Inc. | Carrier FOUP and a method of placing a carrier |
| US10916464B1 (en) | 2019-07-26 | 2021-02-09 | Applied Materials, Inc. | Method of pre aligning carrier, wafer and carrier-wafer combination for throughput efficiency |
| US11196360B2 (en) | 2019-07-26 | 2021-12-07 | Applied Materials, Inc. | System and method for electrostatically chucking a substrate to a carrier |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0389820B1 (de) * | 1989-03-30 | 1993-06-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen eines Werkstücks in eine Vakuumkammer |
| DE3912295C2 (de) * | 1989-04-14 | 1997-05-28 | Leybold Ag | Katodenzerstäubungsanlage |
| JPH0733576B2 (ja) * | 1989-11-29 | 1995-04-12 | 株式会社日立製作所 | スパツタ装置、及びターゲツト交換装置、並びにその交換方法 |
| DE4110490C2 (de) * | 1991-03-30 | 2002-02-28 | Unaxis Deutschland Holding | Kathodenzerstäubungsanlage |
-
1993
- 1993-02-02 DE DE4302794A patent/DE4302794A1/de not_active Withdrawn
- 1993-09-06 DE DE59300332T patent/DE59300332D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-06 EP EP93114233A patent/EP0609488B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-07 US US08/163,855 patent/US5354380A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-31 JP JP6009451A patent/JPH07305169A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4302794A1 (de) | 1994-08-04 |
| EP0609488A1 (de) | 1994-08-10 |
| DE59300332D1 (de) | 1995-08-10 |
| EP0609488B1 (de) | 1995-07-05 |
| US5354380A (en) | 1994-10-11 |
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