JPH07304704A - 新規なｃ−アロマタキソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方法 - Google Patents
新規なｃ−アロマタキソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方法Info
- Publication number
- JPH07304704A JPH07304704A JP27047394A JP27047394A JPH07304704A JP H07304704 A JPH07304704 A JP H07304704A JP 27047394 A JP27047394 A JP 27047394A JP 27047394 A JP27047394 A JP 27047394A JP H07304704 A JPH07304704 A JP H07304704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- chlorine atom
- hydroxyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規なＣ−アロマタキソール類縁体を、Ｂ環
の水酸基をメチルエーテル化またはメトキシメチルエー
テル化して保護することなく、分子内閉環反応を利用し
て簡便に提供できるようにする。 【構成】 新規なＣ−アロマタキソール類縁体は、式
（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルカノイルオキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基又はアラルコキシ基である。）で表される構
造を有する。この化合物は、合成原料としてｏ−クロロ
メチルベンゾイルクロライドとゲラニオールアセテート
とを使用し、Ｂ環をシアンヒドリン閉環反応を利用して
分子内環化することにより得られる。
の水酸基をメチルエーテル化またはメトキシメチルエー
テル化して保護することなく、分子内閉環反応を利用し
て簡便に提供できるようにする。 【構成】 新規なＣ−アロマタキソール類縁体は、式
（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルカノイルオキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基又はアラルコキシ基である。）で表される構
造を有する。この化合物は、合成原料としてｏ−クロロ
メチルベンゾイルクロライドとゲラニオールアセテート
とを使用し、Ｂ環をシアンヒドリン閉環反応を利用して
分子内環化することにより得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なＣ−アロマタキ
ソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方
法に関する。
ソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】生理活性天然有機化合物の中には、エン
トロピー的に不利な中員環構造を含むものが知られてい
る。例えば、有力な抗癌剤として知られている式（Ａ）
トロピー的に不利な中員環構造を含むものが知られてい
る。例えば、有力な抗癌剤として知られている式（Ａ）
【０００３】
【化２１】
【０００４】で表されるタキソールは、そのＢ環として
極度に歪んだ８員環構造を含むトリシクロ環状構造を有
している。また、このような特徴的な環状構造を有する
タキソール類縁体に対して、様々な生理活性が期待され
ている。このため、従来よりタキソール及びその類縁体
の合成が試みられているが、その合成の際に主に問題と
なるのは、８員環を含むトリシクロ環状構造をどのよう
に形成するかという点にある。
極度に歪んだ８員環構造を含むトリシクロ環状構造を有
している。また、このような特徴的な環状構造を有する
タキソール類縁体に対して、様々な生理活性が期待され
ている。このため、従来よりタキソール及びその類縁体
の合成が試みられているが、その合成の際に主に問題と
なるのは、８員環を含むトリシクロ環状構造をどのよう
に形成するかという点にある。
【０００５】この点に関し、中員環を形成する場合、分
子内環化反応を利用することが一般的に効率的であるこ
とが知られている。また、上述のトリシクロ環状構造を
形成する際に、そのＣ環をベンゼン誘導体として導入す
ることが考えられる。このような観点から、Ｃ環をベン
ゼン誘導体として導入し且つＢ環の８員環を分子内閉環
反応を利用することにより、タキソール類縁体（以下、
Ｃ−アロマタキソール類縁体と称する）を製造すること
が以下に示すように提案されている。
子内環化反応を利用することが一般的に効率的であるこ
とが知られている。また、上述のトリシクロ環状構造を
形成する際に、そのＣ環をベンゼン誘導体として導入す
ることが考えられる。このような観点から、Ｃ環をベン
ゼン誘導体として導入し且つＢ環の８員環を分子内閉環
反応を利用することにより、タキソール類縁体（以下、
Ｃ−アロマタキソール類縁体と称する）を製造すること
が以下に示すように提案されている。
【０００６】方法１(G.Falls et al.,Tetrahedron Let
t.1993,34(21) 3367(1993))
t.1993,34(21) 3367(1993))
【０００７】
【化２２】
【０００８】この方法では、Ａ環となるシクロヘキサン
誘導体に、１−メトキシメトキシ−２，４−ペンタジエ
ニル基と３−ブチン−２−オン−１−イル基とを導入
し、これらの基をディールスアルダー反応を利用してＢ
環とＣ環とを構成するように閉環することが提案されて
いる。
誘導体に、１−メトキシメトキシ−２，４−ペンタジエ
ニル基と３−ブチン−２−オン−１−イル基とを導入
し、これらの基をディールスアルダー反応を利用してＢ
環とＣ環とを構成するように閉環することが提案されて
いる。
【０００９】方法２(G.Falls et al.,J.Org.Chem.,58,4
202(1993))
202(1993))
【００１０】
【化２３】
【００１１】この方法では、Ａ環となるシクロヘキサン
誘導体に、１−メトキシメトキシ−２，６−ヘプタジイ
ン−４−エニル基とホルミルメチル基とを導入し、これ
らの基をディールスアルダー反応を利用してＢ環とＣ環
とを構成するように閉環することが提案されている。
誘導体に、１−メトキシメトキシ−２，６−ヘプタジイ
ン−４−エニル基とホルミルメチル基とを導入し、これ
らの基をディールスアルダー反応を利用してＢ環とＣ環
とを構成するように閉環することが提案されている。
【００１２】方法３（桑島ら，有機合成化学，50(6),50
(1992))
(1992))
【００１３】
【化２４】
【００１４】この方法では、Ｃ環となるベンゼン誘導体
に、２−（１，１−ジメチル−１−エトキシカルボニル
メチル）−４−オキソヘキシル基を導入し、まずディー
クマン縮合によりＡ環部分を閉環形成し、更にＢ環部分
をジエノールシリルエーテルの環化反応を利用して形成
することが提案されている。
に、２−（１，１−ジメチル−１−エトキシカルボニル
メチル）−４−オキソヘキシル基を導入し、まずディー
クマン縮合によりＡ環部分を閉環形成し、更にＢ環部分
をジエノールシリルエーテルの環化反応を利用して形成
することが提案されている。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、方法１
によりＣ−アロマタキソール類縁体を製造する場合、工
程数が多いという問題がある。更に、Ｂ環の２位の水酸
基がメトキシメチルエーテル化されて保護されている
が、その水酸基の保護基であるメトキシメチル基は、他
の置換基や環構造に悪影響を与えずに脱保護することが
非常に困難であり、従って、その水酸基を他の官能基に
変換することが制限されるという問題もある。 また、
方法２によりＣ−アロマタキソールを製造する場合、閉
環収率が非常に低いという問題がある。また、方法１の
場合と同様に、Ｂ環の２位の水酸基がメトキシメチル基
で保護されているという問題もある。
によりＣ−アロマタキソール類縁体を製造する場合、工
程数が多いという問題がある。更に、Ｂ環の２位の水酸
基がメトキシメチルエーテル化されて保護されている
が、その水酸基の保護基であるメトキシメチル基は、他
の置換基や環構造に悪影響を与えずに脱保護することが
非常に困難であり、従って、その水酸基を他の官能基に
変換することが制限されるという問題もある。 また、
方法２によりＣ−アロマタキソールを製造する場合、閉
環収率が非常に低いという問題がある。また、方法１の
場合と同様に、Ｂ環の２位の水酸基がメトキシメチル基
で保護されているという問題もある。
【００１６】また、方法３によりＣ−アロマタキソール
を製造する場合、工程数が多いという問題がある。更
に、Ｂ環の２位に水酸基が存在しないために、Ｂ環の２
位に官能基を導入することが非常に困難になるという問
題がある。また、Ｂ環の９位及び１０位の水酸基はメチ
ルエーテル化されて保護されているが、それらの水酸基
の保護基であるメチル基は、他の置換基や環構造に悪影
響を与えずに脱保護することが非常に困難であり、従っ
て、水酸基を他の官能基に変換することが制限されると
いう問題もある。
を製造する場合、工程数が多いという問題がある。更
に、Ｂ環の２位に水酸基が存在しないために、Ｂ環の２
位に官能基を導入することが非常に困難になるという問
題がある。また、Ｂ環の９位及び１０位の水酸基はメチ
ルエーテル化されて保護されているが、それらの水酸基
の保護基であるメチル基は、他の置換基や環構造に悪影
響を与えずに脱保護することが非常に困難であり、従っ
て、水酸基を他の官能基に変換することが制限されると
いう問題もある。
【００１７】本発明は以上のような従来技術の課題を解
決しようとするものであり、新規なＣ−アロマタキソー
ル類縁体を、比較的短い工程で、しかもＢ環の水酸基を
メチルエーテル化またはメトキシメチルエーテル化して
保護することなく、分子内閉環反応を利用して簡便に提
供できるようにすることを目的とする。
決しようとするものであり、新規なＣ−アロマタキソー
ル類縁体を、比較的短い工程で、しかもＢ環の水酸基を
メチルエーテル化またはメトキシメチルエーテル化して
保護することなく、分子内閉環反応を利用して簡便に提
供できるようにすることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以下の反
応式に示すように、
応式に示すように、
【００１９】
【化２５】
【００２０】式（１）の新規なＣ−アロマタキソール類
縁体が、例えば、Ｃ環となる式（１６）のベンゾイル誘
導体と式（１７）のゲラニオール誘導体とをフリーデル
クラフト型反応させ、更にＡ環部分を閉環させて新規な
式（３）の化合物を形成し、［Ｉ］これを新規な式
（２）の化合物に誘導し、この式（２）の化合物にシア
ンヒドリン閉環反応を適用するか、あるいは［II］新規
な式（５）の化合物を経てこれを新規な式（１３）の化
合物に誘導し、この式（１３）の化合物にシアンヒドリ
ン閉環反応を適用してＢ環を形成することにより容易に
得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
縁体が、例えば、Ｃ環となる式（１６）のベンゾイル誘
導体と式（１７）のゲラニオール誘導体とをフリーデル
クラフト型反応させ、更にＡ環部分を閉環させて新規な
式（３）の化合物を形成し、［Ｉ］これを新規な式
（２）の化合物に誘導し、この式（２）の化合物にシア
ンヒドリン閉環反応を適用するか、あるいは［II］新規
な式（５）の化合物を経てこれを新規な式（１３）の化
合物に誘導し、この式（１３）の化合物にシアンヒドリ
ン閉環反応を適用してＢ環を形成することにより容易に
得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００２１】即ち、本発明は、式（１）
【００２２】
【化２６】
【００２３】（式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、エトキシエチルオキシ基、低級アル
カノイルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は
アラルコキシ基である。）で表される化合物を提供す
る。
低級アルコキシ基、エトキシエチルオキシ基、低級アル
カノイルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は
アラルコキシ基である。）で表される化合物を提供す
る。
【００２４】式（１）中のＲ1 のアルキル基としてはメ
チル、エチル、イソプロピル、ブチルなどを例示でき、
低級アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基など
を例示でき、低級アルカノイルオキシ基としては、アセ
トキシ、プロピオキシ、ブチロキシ、ベンゾイルオキシ
基などを例示でき、アリール基としてはフェニル、ナフ
チル、フラニル、ピリジニルなどを例示でき、アリール
オキシ基としては、フェノキシル基などを例示でき、ア
ラルコキシ基としてはベンジルオキシ基などを例示でき
る。
チル、エチル、イソプロピル、ブチルなどを例示でき、
低級アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基など
を例示でき、低級アルカノイルオキシ基としては、アセ
トキシ、プロピオキシ、ブチロキシ、ベンゾイルオキシ
基などを例示でき、アリール基としてはフェニル、ナフ
チル、フラニル、ピリジニルなどを例示でき、アリール
オキシ基としては、フェノキシル基などを例示でき、ア
ラルコキシ基としてはベンジルオキシ基などを例示でき
る。
【００２５】まず、本発明のうち上記［Ｉ］について詳
細に説明する。本発明の式（１）のＣ−アロマタキソー
ル類縁体は、前述したように、Ｃ環となる式（１６）の
ベンゾイル誘導体と式（１７）のゲラニオール誘導体と
をフリーデルクラフト型反応させ、更にＡ環部分を閉環
させて新規な式（３）の化合物を形成し、更にこれを新
規な式（２）の化合物に誘導し、この式（２）の化合物
にシアンヒドリン閉環反応を適用することによりＢ環を
形成することにより容易に得られる。従って、本発明の
製造方法を、式（３）の化合物を得るＡステージと、式
（３）の化合物から式（２）の化合物を得るＢステージ
と、式（２）の化合物から式（１）の化合物を得るＣス
テージとに分け、Ｒ1 が水酸基であり、Ｒ2 がアセチル
基であり、Ｘが塩素原子である場合を例にとり説明す
る。なお、それぞれのステージが本発明の製造方法とな
る。
細に説明する。本発明の式（１）のＣ−アロマタキソー
ル類縁体は、前述したように、Ｃ環となる式（１６）の
ベンゾイル誘導体と式（１７）のゲラニオール誘導体と
をフリーデルクラフト型反応させ、更にＡ環部分を閉環
させて新規な式（３）の化合物を形成し、更にこれを新
規な式（２）の化合物に誘導し、この式（２）の化合物
にシアンヒドリン閉環反応を適用することによりＢ環を
形成することにより容易に得られる。従って、本発明の
製造方法を、式（３）の化合物を得るＡステージと、式
（３）の化合物から式（２）の化合物を得るＢステージ
と、式（２）の化合物から式（１）の化合物を得るＣス
テージとに分け、Ｒ1 が水酸基であり、Ｒ2 がアセチル
基であり、Ｘが塩素原子である場合を例にとり説明す
る。なお、それぞれのステージが本発明の製造方法とな
る。
【００２６】Ａステージ
【００２７】
【化２７】
【００２８】工程ａ まず、式（１６）のｏ−クロロメチルベンゾイルクロラ
イドと式（１７）のゲラニルアセテートとを、ルイス酸
存在下でフリーデルクラフト型の縮合反応を行わせ、引
き続き、同一容器内で閉環反応を行わせ式（３）の化合
物を形成する。
イドと式（１７）のゲラニルアセテートとを、ルイス酸
存在下でフリーデルクラフト型の縮合反応を行わせ、引
き続き、同一容器内で閉環反応を行わせ式（３）の化合
物を形成する。
【００２９】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類を使用することができる。特に、塩化
メチレンを使用することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類を使用することができる。特に、塩化
メチレンを使用することが好ましい。
【００３０】ルイス酸としては、塩化アルミニウム、四
塩化チタン、三フッ化ホウ素、四塩化スズなどを使用す
ることができる。中でも塩化アルミニウムを使用するこ
とが好ましい。また、ルイス酸の使用量は、式（１６）
の化合物の１〜１０倍モルとすることが好ましい。
塩化チタン、三フッ化ホウ素、四塩化スズなどを使用す
ることができる。中でも塩化アルミニウムを使用するこ
とが好ましい。また、ルイス酸の使用量は、式（１６）
の化合物の１〜１０倍モルとすることが好ましい。
【００３１】なお、この反応は、通常−１００℃〜１０
０℃の温度範囲で行う。また、反応時間は、反応温度等
により異なるが、式（１７）の化合物の滴下終了後、通
常１時間程度とする。
０℃の温度範囲で行う。また、反応時間は、反応温度等
により異なるが、式（１７）の化合物の滴下終了後、通
常１時間程度とする。
【００３２】Ｂステージ Ｂステージにおいては、後述するように、工程ｂ→ｃ→
ｄ（経路Ｂ１）、工程ｂ→ｅ→ｆ→ｇ→ｈ→ｄ（経路Ｂ
２）、及び工程ｉ→ｊ→ｋ→ｈ→ｄ（経路Ｂ３）の三つ
の反応経路が存在する。以下に経路Ｂ１から説明する。
ｄ（経路Ｂ１）、工程ｂ→ｅ→ｆ→ｇ→ｈ→ｄ（経路Ｂ
２）、及び工程ｉ→ｊ→ｋ→ｈ→ｄ（経路Ｂ３）の三つ
の反応経路が存在する。以下に経路Ｂ１から説明する。
【００３３】経路Ｂ１
【００３４】
【化２８】
【００３５】工程ｂ Ａステージの工程ａで得られた式（３）の化合物の第三
級水酸基を酸又は塩基により脱離させて式（４）の化合
物と式（６）の化合物とを形成する。これらの化合物
は、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分取手段に
より分取することができる。
級水酸基を酸又は塩基により脱離させて式（４）の化合
物と式（６）の化合物とを形成する。これらの化合物
は、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分取手段に
より分取することができる。
【００３６】第三級水酸基を塩基により脱離させる場
合、塩基として、ピリジン、トリエチルアミンなどの含
窒素化合物等を使用することができる。また、第三級水
酸基を酸により脱離させる場合、酸として有機酸を使用
することが好ましい。特に、収率の点からｐ−トルエン
スルホン酸を触媒量で使用することが好ましい。
合、塩基として、ピリジン、トリエチルアミンなどの含
窒素化合物等を使用することができる。また、第三級水
酸基を酸により脱離させる場合、酸として有機酸を使用
することが好ましい。特に、収率の点からｐ−トルエン
スルホン酸を触媒量で使用することが好ましい。
【００３７】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、オルトギ酸トリメ
チルなどのエステル類を使用することができる。特に、
オルトギ酸トリメチルを使用することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類、
ジエチルエーテルなどのエーテル類、オルトギ酸トリメ
チルなどのエステル類を使用することができる。特に、
オルトギ酸トリメチルを使用することが好ましい。
【００３８】また、この反応は、通常、０℃〜５０℃の
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、触媒の種類や量などにより異なるが、通常
は２時間程度とする。
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、触媒の種類や量などにより異なるが、通常
は２時間程度とする。
【００３９】工程ｃ 工程ｂで得られた式（４）の化合物のカルボニル部位を
還元し、同時にそのアシル基の還元的脱離を行い式
（５）の化合物を形成する。
還元し、同時にそのアシル基の還元的脱離を行い式
（５）の化合物を形成する。
【００４０】この反応おいて使用する還元剤としては、
水素化金属化合物を使用することができ、中でもジイソ
ブチルアルミニウムを用いることが好ましい。還元剤の
使用量は、式（４）の化合物の少なくとも２倍モルとす
ることが好ましい。
水素化金属化合物を使用することができ、中でもジイソ
ブチルアルミニウムを用いることが好ましい。還元剤の
使用量は、式（４）の化合物の少なくとも２倍モルとす
ることが好ましい。
【００４１】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類を
使用することができる。特に、塩化メチレンを使用する
ことが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類を
使用することができる。特に、塩化メチレンを使用する
ことが好ましい。
【００４２】また、この反応は、通常、−１００℃〜０
℃の温度で行うが、好ましくは−１００〜−５０℃の温
度で行う。反応時間は、反応温度などにより異なるが、
通常は１時間程度とする。
℃の温度で行うが、好ましくは−１００〜−５０℃の温
度で行う。反応時間は、反応温度などにより異なるが、
通常は１時間程度とする。
【００４３】工程ｄ 工程ｃで得られた式（５）の化合物の第一級水酸基をカ
ルボニル基に酸化して式（２）の化合物を形成する。
ルボニル基に酸化して式（２）の化合物を形成する。
【００４４】この反応において使用する酸化剤として
は、二酸化マンガンを好ましく使用することができる。
酸化剤の使用量は、式（５）の化合物の１〜１００倍モ
ルとすることが好ましく、特に１０〜２０倍モルとする
ことがより好ましい。
は、二酸化マンガンを好ましく使用することができる。
酸化剤の使用量は、式（５）の化合物の１〜１００倍モ
ルとすることが好ましく、特に１０〜２０倍モルとする
ことがより好ましい。
【００４５】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ヘキ
サンなどの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素
類、あるいはそれらの混合溶媒を使用することができ
る。特に、塩化メチレンとベンゼンとの混合溶媒を使用
することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ヘキ
サンなどの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素
類、あるいはそれらの混合溶媒を使用することができ
る。特に、塩化メチレンとベンゼンとの混合溶媒を使用
することが好ましい。
【００４６】また、この反応は、通常、２０℃〜１００
℃の温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行
う。反応時間は、反応温度や酸化剤の量、転化率などを
勘案して適宜定めることができる。なお、反応時間が４
８時間程度では、転化率は通常５０％程度となる。
℃の温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行
う。反応時間は、反応温度や酸化剤の量、転化率などを
勘案して適宜定めることができる。なお、反応時間が４
８時間程度では、転化率は通常５０％程度となる。
【００４７】経路Ｂ２
【００４８】
【化２９】
【００４９】工程ｂ Ａステージの工程ａで得られた式（３）の化合物の第三
級水酸基を、経路Ｂ１の工程ｂと同様に、酸又は塩基に
より脱離させて式（４）の化合物と式（６）の化合物と
を形成し、式（６）の化合物を分取する。
級水酸基を、経路Ｂ１の工程ｂと同様に、酸又は塩基に
より脱離させて式（４）の化合物と式（６）の化合物と
を形成し、式（６）の化合物を分取する。
【００５０】工程ｅ 工程ｂで得られた式（６）の化合物のカルボニル部位の
還元とそのアシル基の還元的脱離とを、経路Ｂ１の工程
ｃと同様に行い式（７）の化合物を形成する。
還元とそのアシル基の還元的脱離とを、経路Ｂ１の工程
ｃと同様に行い式（７）の化合物を形成する。
【００５１】工程ｆ 工程ｅで得られた式（７）の化合物の第一級水酸基と第
二級水酸基とを同時にカルボニル基に酸化して式（８）
の化合物を形成する。
二級水酸基とを同時にカルボニル基に酸化して式（８）
の化合物を形成する。
【００５２】この反応において使用する酸化剤として
は、ジメチルスルホキシド−オキザリルクロライド系酸
化剤、過ヨウ素酸を活性種とする酸化剤、クロム酸を活
性種とする酸化剤などを使用することができ、中でも収
率の点からジメチルスルホキシド−オキザリルジクロラ
イド系酸化剤を使用することが好ましい。酸化剤の使用
量は、式（７）の化合物の２〜５０倍モルとすることが
好ましく、特に５〜１０倍モルとすることがより好まし
い。
は、ジメチルスルホキシド−オキザリルクロライド系酸
化剤、過ヨウ素酸を活性種とする酸化剤、クロム酸を活
性種とする酸化剤などを使用することができ、中でも収
率の点からジメチルスルホキシド−オキザリルジクロラ
イド系酸化剤を使用することが好ましい。酸化剤の使用
量は、式（７）の化合物の２〜５０倍モルとすることが
好ましく、特に５〜１０倍モルとすることがより好まし
い。
【００５３】なお、この酸化反応を終了させる場合、反
応系にトリエチルアミンやジイソプロピルエチルアミン
などの含窒素系化合物を添加することにより終了させる
ことが好ましい。この場合には、含窒素系化合物を式
（７）の化合物の２〜１００倍モルの量で添加する。
応系にトリエチルアミンやジイソプロピルエチルアミン
などの含窒素系化合物を添加することにより終了させる
ことが好ましい。この場合には、含窒素系化合物を式
（７）の化合物の２〜１００倍モルの量で添加する。
【００５４】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類な
どを使用することができる。特に、塩化メチレンを使用
することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類な
どを使用することができる。特に、塩化メチレンを使用
することが好ましい。
【００５５】また、この反応は、通常、−１００℃〜−
５０℃の温度で行うが、好ましくは−７８〜−５０℃の
温度で行う。より好ましくは−７８℃で行う。反応時間
は、反応温度や酸化剤の量などにより異なるが、通常１
時間程度とする。
５０℃の温度で行うが、好ましくは−７８〜−５０℃の
温度で行う。より好ましくは−７８℃で行う。反応時間
は、反応温度や酸化剤の量などにより異なるが、通常１
時間程度とする。
【００５６】工程ｇ 工程ｆで得られた式（８）の化合物に酸又は塩基を作用
させて、その二重結合を異性化させて式（９）の化合物
を形成する。
させて、その二重結合を異性化させて式（９）の化合物
を形成する。
【００５７】二重結合を塩基により異性化させる場合、
塩基として、ピリジン、トリエチルアミンなどの含窒素
化合物等を使用することができる。また、二重結合を酸
により異性化させる場合、酸として有機酸を使用するこ
とができる。特に、収率の点からｐ−トルエンスルホン
酸を触媒量で使用することが好ましい。
塩基として、ピリジン、トリエチルアミンなどの含窒素
化合物等を使用することができる。また、二重結合を酸
により異性化させる場合、酸として有機酸を使用するこ
とができる。特に、収率の点からｐ−トルエンスルホン
酸を触媒量で使用することが好ましい。
【００５８】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類、
ジエチルエーテルなどのエーテル類。特に、ベンゼンを
使用することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類、
ジエチルエーテルなどのエーテル類。特に、ベンゼンを
使用することが好ましい。
【００５９】また、この反応は、通常、０℃〜５０℃の
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、触媒の種類や量などにより異なるが、通常
は２０時間程度とする。
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、触媒の種類や量などにより異なるが、通常
は２０時間程度とする。
【００６０】工程ｈ 工程ｇで得られた式（９）の化合物の二つのカルボニル
基を、経路Ｂ１の工程ｃと同様の条件で、同時に水酸基
に還元して式（５）の化合物を形成する。
基を、経路Ｂ１の工程ｃと同様の条件で、同時に水酸基
に還元して式（５）の化合物を形成する。
【００６１】工程ｄ 経路Ｂ１の工程ｄと同様にして式（２）の化合物を形成
する。
する。
【００６２】経路Ｂ３
【００６３】
【化３０】
【００６４】工程ｉ Ａステージの工程ａで得られた式（３）の化合物のカル
ボニル部位の還元とアシル基の還元的脱離とを、経路Ｂ
１の工程ｃと同様に、同時に行って式（１０）の化合物
を形成する。
ボニル部位の還元とアシル基の還元的脱離とを、経路Ｂ
１の工程ｃと同様に、同時に行って式（１０）の化合物
を形成する。
【００６５】工程ｊ 工程ｉで得られた記（１０）の化合物の第一級水酸基と
第二級水酸基とを同時にカルボニル基に酸化して式（１
１）の化合物を形成する。
第二級水酸基とを同時にカルボニル基に酸化して式（１
１）の化合物を形成する。
【００６６】この反応において使用する酸化剤として
は、ジメチルスルホキシド−オキザリルジクロライド系
酸化剤、過ヨウ素酸を活性種とする酸化剤、クロム酸を
活性種とする酸化剤などを使用することができ、中でも
収率の点からクロロクロム酸ピリジニウムリルクロライ
ドを酸化剤として使用することが好ましい。酸化剤の使
用量は、式（１０）の化合物の１〜５０倍モルとするこ
とが好ましく、特に５〜１０倍モルとすることがより好
ましい。
は、ジメチルスルホキシド−オキザリルジクロライド系
酸化剤、過ヨウ素酸を活性種とする酸化剤、クロム酸を
活性種とする酸化剤などを使用することができ、中でも
収率の点からクロロクロム酸ピリジニウムリルクロライ
ドを酸化剤として使用することが好ましい。酸化剤の使
用量は、式（１０）の化合物の１〜５０倍モルとするこ
とが好ましく、特に５〜１０倍モルとすることがより好
ましい。
【００６７】なお、この酸化反応を終了させる場合、反
応系にトリエチルアミンやジイソプロピルエチルアミン
などの含窒素系化合物を添加することにより終了させる
ことが好ましい。この場合には、含窒素系化合物を式
（１０）の化合物の２〜１００倍モルの量で添加する。
応系にトリエチルアミンやジイソプロピルエチルアミン
などの含窒素系化合物を添加することにより終了させる
ことが好ましい。この場合には、含窒素系化合物を式
（１０）の化合物の２〜１００倍モルの量で添加する。
【００６８】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類な
どを使用することができる。特に、塩化メチレンを使用
することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類な
どを使用することができる。特に、塩化メチレンを使用
することが好ましい。
【００６９】また、この反応は、通常、０℃〜５０℃の
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や酸化剤の量などにより異なる
が、通常１時間程度とする。
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や酸化剤の量などにより異なる
が、通常１時間程度とする。
【００７０】工程ｋ 工程ｊで得られた式（１１）の化合物の第三級水酸基を
脱離させて式（９）の化合物を形成する。この反応は、
第三級水酸基に脱離基を導入することにより容易に行う
ことができる。
脱離させて式（９）の化合物を形成する。この反応は、
第三級水酸基に脱離基を導入することにより容易に行う
ことができる。
【００７１】例えば、式（１１）の化合物の第三級水酸
基に、塩基としてピリジンなどの含窒素化合物の存在下
で、メタンスルホニルクロライドを反応させることによ
り式（９）の化合物を得ることができる。この場合、塩
基として、ピリジンと４−ジメチルアミノピリジンとを
併用することが収率の点から好ましい。
基に、塩基としてピリジンなどの含窒素化合物の存在下
で、メタンスルホニルクロライドを反応させることによ
り式（９）の化合物を得ることができる。この場合、塩
基として、ピリジンと４−ジメチルアミノピリジンとを
併用することが収率の点から好ましい。
【００７２】脱離基を導入するためにメタンスルホニル
クロライドを使用した場合、その使用量は式（１１）の
化合物の１倍モル以上とすればよく、また、ピリジンの
使用量はメタンスルホニルクロライドの１倍モル以上と
すればよい。その際、４−ジメチルアミノピリジンは触
媒量で使用すればよい。
クロライドを使用した場合、その使用量は式（１１）の
化合物の１倍モル以上とすればよく、また、ピリジンの
使用量はメタンスルホニルクロライドの１倍モル以上と
すればよい。その際、４−ジメチルアミノピリジンは触
媒量で使用すればよい。
【００７３】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類な
どを使用することができる。特に、塩化メチレンを使用
することが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類な
どを使用することができる。特に、塩化メチレンを使用
することが好ましい。
【００７４】また、この反応は、通常、０℃〜５０℃の
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や塩基の量などにより異なるが、
通常１時間程度とする。
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や塩基の量などにより異なるが、
通常１時間程度とする。
【００７５】工程ｈ及び工程ｄ 経路Ｂ２の工程及び工程ｄと同様にして式（２）の化合
物を形成する。
物を形成する。
【００７６】Ｃステージ
【００７７】
【化３１】
【００７８】工程ｌ Ｂステージで最終的に得られた式（２）の化合物のカル
ボニル基にシアンヒドリン化剤を反応させて式（１２）
の化合物を形成する。
ボニル基にシアンヒドリン化剤を反応させて式（１２）
の化合物を形成する。
【００７９】この反応において使用するシアンヒドリン
化剤としては、シアン化水素、トリメチルシリルニトリ
ルなどを用いることができる。中でも、収率の点からト
リメチルシリルニトリルを使用することが好ましい。そ
の使用量は、式（２）の化合物の２〜５０倍モルとする
ことが好ましく、特に２〜１０倍モルとすることがより
好ましい。
化剤としては、シアン化水素、トリメチルシリルニトリ
ルなどを用いることができる。中でも、収率の点からト
リメチルシリルニトリルを使用することが好ましい。そ
の使用量は、式（２）の化合物の２〜５０倍モルとする
ことが好ましく、特に２〜１０倍モルとすることがより
好ましい。
【００８０】なお、この反応においては、触媒としてシ
ス−ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６−シアン化
カリウム錯体などのクラウンエーテル類のシアン化カリ
ウム錯体あるいはヨウ化亜鉛などの亜鉛ハロゲン化物を
使用することが好ましい。特に、収率の点からシス−ジ
シクロヘキサノ−１８−クラウン−６−シアン化カリウ
ム錯体を使用することがより好ましい。
ス−ジシクロヘキサノ−１８−クラウン−６−シアン化
カリウム錯体などのクラウンエーテル類のシアン化カリ
ウム錯体あるいはヨウ化亜鉛などの亜鉛ハロゲン化物を
使用することが好ましい。特に、収率の点からシス−ジ
シクロヘキサノ−１８−クラウン−６−シアン化カリウ
ム錯体を使用することがより好ましい。
【００８１】また、この反応は、通常、０℃〜５０℃の
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や触媒の量などにより異なるが、
通常１時間程度とする。
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や触媒の量などにより異なるが、
通常１時間程度とする。
【００８２】なお、シアンヒドリン化剤としてトリメチ
ルシリルニトリルを使用した場合、水酸基に付加したト
リメチルシリル基を酸により除去する。その際、反応系
にテトラヒドロフランなどのような水に可溶な溶媒を使
用することが好ましい。この目的で使用する酸として
は、硝酸、硫酸、塩酸などの鉱酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸などの有機酸を使用することができる。中でも、塩
酸を使用することが好ましい。
ルシリルニトリルを使用した場合、水酸基に付加したト
リメチルシリル基を酸により除去する。その際、反応系
にテトラヒドロフランなどのような水に可溶な溶媒を使
用することが好ましい。この目的で使用する酸として
は、硝酸、硫酸、塩酸などの鉱酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸などの有機酸を使用することができる。中でも、塩
酸を使用することが好ましい。
【００８３】工程ｍ 工程ｌで得られた式（１２）の化合物の水酸基に酸触媒
の存在下でエチルビニルエーテルを反応させて、水酸基
がエトキシエチル基で保護された構造の式（１３）の化
合物を形成する。
の存在下でエチルビニルエーテルを反応させて、水酸基
がエトキシエチル基で保護された構造の式（１３）の化
合物を形成する。
【００８４】この反応において、エチルビニルエーテル
の使用量は式（１２）の化合物の２〜４０倍モルとする
ことが好ましく、特に２〜２０倍モルとすることが好ま
しい。
の使用量は式（１２）の化合物の２〜４０倍モルとする
ことが好ましく、特に２〜２０倍モルとすることが好ま
しい。
【００８５】触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸な
どの有機酸を使用することができ、特に、収率の点から
ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムを使用することが
好ましい。
どの有機酸を使用することができ、特に、収率の点から
ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムを使用することが
好ましい。
【００８６】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類あ
るいはそれらの混合溶媒を使用することができる。特
に、塩化メチレンとベンゼンとの混合溶媒を使用するこ
とが好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類あ
るいはそれらの混合溶媒を使用することができる。特
に、塩化メチレンとベンゼンとの混合溶媒を使用するこ
とが好ましい。
【００８７】また、この反応は、通常、０℃〜５０℃の
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や塩基の量などにより異なるが、
通常１時間程度とする。
温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行う。
反応時間は、反応温度や塩基の量などにより異なるが、
通常１時間程度とする。
【００８８】工程ｎ 工程ｍで得られた式（１３）の化合物を、塩基の存在下
で閉環して式（１４）の化合物を形成する。
で閉環して式（１４）の化合物を形成する。
【００８９】この閉環反応で使用する塩基としては、ア
ルカリ金属アミド化合物を使用することができ、例え
ば、リチウム（トリメチルシリル）アミド、ナトリウム
（トリメチルシリル）アミド、カリウム（トリメチルシ
リル）アミドを用いることが好ましい。塩基の使用量
は、式（１３）の化合物の１〜２０倍モルとするするこ
とが好ましく、特に収率の点から１〜１０倍モルとする
ことが好ましい。
ルカリ金属アミド化合物を使用することができ、例え
ば、リチウム（トリメチルシリル）アミド、ナトリウム
（トリメチルシリル）アミド、カリウム（トリメチルシ
リル）アミドを用いることが好ましい。塩基の使用量
は、式（１３）の化合物の１〜２０倍モルとするするこ
とが好ましく、特に収率の点から１〜１０倍モルとする
ことが好ましい。
【００９０】この反応では、溶媒としてテトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類を使用する
ことができる。溶媒の使用量としては、式（１３）の化
合物の使用量を１ｍｍｏｌとした場合に、式（１３）の
化合物を溶解させるために５〜５０ｍｌ、塩基を溶解す
るために１０〜１０００ｍｌ程度となる。
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類を使用する
ことができる。溶媒の使用量としては、式（１３）の化
合物の使用量を１ｍｍｏｌとした場合に、式（１３）の
化合物を溶解させるために５〜５０ｍｌ、塩基を溶解す
るために１０〜１０００ｍｌ程度となる。
【００９１】なお、この反応は、通常０℃〜１５０℃の
温度範囲で行う。また、反応時間は、反応温度や塩基の
量などにより異なるが、式（１３）の化合物の滴下終了
後、通常１時間行う。
温度範囲で行う。また、反応時間は、反応温度や塩基の
量などにより異なるが、式（１３）の化合物の滴下終了
後、通常１時間行う。
【００９２】工程ｏ 工程ｎで得られた式（１４）の化合物の水酸基の保護基
であるエトキシエチル基を酸の存在下で除去して式（１
５）の化合物を形成する。
であるエトキシエチル基を酸の存在下で除去して式（１
５）の化合物を形成する。
【００９３】この反応において使用する酸としては、ｐ
−トルエンスルホン酸などの有機酸を使用することがで
きる。特に、収率の点からｐ−トルエンスルホン酸ピリ
ジニウムを使用することが好ましい。
−トルエンスルホン酸などの有機酸を使用することがで
きる。特に、収率の点からｐ−トルエンスルホン酸ピリ
ジニウムを使用することが好ましい。
【００９４】この反応では、溶媒として、メタノールな
どの低級アルコールを使用することができる。
どの低級アルコールを使用することができる。
【００９５】また、この反応は、通常、０℃〜１００℃
の温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行
う。反応時間は、反応温度や酸の量などにより異なる
が、通常８時間程度とする。
の温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行
う。反応時間は、反応温度や酸の量などにより異なる
が、通常８時間程度とする。
【００９６】工程ｐ 最後に、工程ｏで得られた式（１５）の化合物のニトリ
ル基を塩基で加水分解することにより式（１）の化合物
が得られる。
ル基を塩基で加水分解することにより式（１）の化合物
が得られる。
【００９７】この反応で使用する塩基としては、水酸化
ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物、ピリジンなど
の含窒素化合物等を用いることができる。特に、収率の
点でアルカリ金属水酸化物を使用することが好ましい。
ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物、ピリジンなど
の含窒素化合物等を用いることができる。特に、収率の
点でアルカリ金属水酸化物を使用することが好ましい。
【００９８】この反応では、溶媒として塩化メチレン、
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類あ
るいはそれらの混合溶媒を使用することができる。特に
塩化メチレンとベンゼンとの混合溶媒を使用することが
好ましい。
ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素類、ヘキサン
などの炭化水素類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類あ
るいはそれらの混合溶媒を使用することができる。特に
塩化メチレンとベンゼンとの混合溶媒を使用することが
好ましい。
【００９９】また、この反応は、通常、０℃〜１００℃
の温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行
う。反応時間は、反応温度や塩基の量などにより異なる
が、通常１時間以内とする。
の温度で行うが、好ましくは２０〜３０℃の温度で行
う。反応時間は、反応温度や塩基の量などにより異なる
が、通常１時間以内とする。
【０１００】ついで、本発明のうち上記［II］について
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【０１０１】
【化３２】
【０１０２】なお上記化合物において点線（……）によ
る結合については、ＨとＯＨまたはＨとＯＥＥの関係
は、一方が紙面の上部にある場合は他方が紙面の下部に
あり、一方が紙面の下部にある場合は他方が紙面の上部
にあることを意味する。
る結合については、ＨとＯＨまたはＨとＯＥＥの関係
は、一方が紙面の上部にある場合は他方が紙面の下部に
あり、一方が紙面の下部にある場合は他方が紙面の上部
にあることを意味する。
【０１０３】本発明の式（１）のＣ−アロマタキソール
類縁体は、式（３）の化合物から新規な式（５）の化合
物を経て、更にこれを新規な式（１３）の化合物に誘導
し、この式（１３）の化合物にシアンヒドリン閉環反応
を適用することによりＢ環を形成することにより容易に
得られる。
類縁体は、式（３）の化合物から新規な式（５）の化合
物を経て、更にこれを新規な式（１３）の化合物に誘導
し、この式（１３）の化合物にシアンヒドリン閉環反応
を適用することによりＢ環を形成することにより容易に
得られる。
【０１０４】工程ａ´ 式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ１とＹが水酸基であ
る化合物の１級水酸基をｔ−ブチルジメチルシリル基に
て保護し、式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ１が水酸
基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であ
る化合物を合成する。この保護を行うに際し、シリル化
剤の量は１モル倍以上あれば良く、通常１−２モル程度
が好ましい。シリル化剤として、ｔ−ブチルジメチルシ
リルクロリドを用い、塩基としてイミダゾール，トリエ
チルアミン等窒素系塩基を用いるのが好ましい。塩基の
量としてはシリル化剤の１モル倍以上あれば良く、通
常、１−２モル倍用いる。
る化合物の１級水酸基をｔ−ブチルジメチルシリル基に
て保護し、式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ１が水酸
基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であ
る化合物を合成する。この保護を行うに際し、シリル化
剤の量は１モル倍以上あれば良く、通常１−２モル程度
が好ましい。シリル化剤として、ｔ−ブチルジメチルシ
リルクロリドを用い、塩基としてイミダゾール，トリエ
チルアミン等窒素系塩基を用いるのが好ましい。塩基の
量としてはシリル化剤の１モル倍以上あれば良く、通
常、１−２モル倍用いる。
【０１０５】溶媒としてはテトラヒドロフラン，ジメチ
ルホルムアミドなどのエーテル類，塩化メチレンなどの
ハロゲン化炭化水素が好ましい。
ルホルムアミドなどのエーテル類，塩化メチレンなどの
ハロゲン化炭化水素が好ましい。
【０１０６】反応温度としては０−１００度であれば良
く特に室温が好ましい。また反応時間は反応温度により
異なるが通常１時間程度で終了する。
く特に室温が好ましい。また反応時間は反応温度により
異なるが通常１時間程度で終了する。
【０１０７】工程ｂ´ 式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ１が水酸基であり、
Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物の
２級水酸基をエトキシエチル基にて保護し、式（５）で
Ｘが塩素原子であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ基であり、Ｒ１がエトキシエチルオキシ基である化
合物を合成する。（前記の工程ｍと同様に行う。） 工程ｃ´ 式（５）でＸが塩素原子であり、Ｙがｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ基であり、Ｒ１がエトキシエチルオキシ
基である化合物の塩素原子を酸化し、式（２）でＹがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ１がエトキ
シエチルオキシ基である化合物を合成する。この反応に
おいて酸化に用いるジメチルスルホキシドは１モル倍以
上あれば良く普通は溶媒として用いる。また塩基とし
て、炭酸水素ナトリウム等の無機塩を用いる。その量は
１モル倍以上あれば良く、通常、３−１０モル倍用い
る。
Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物の
２級水酸基をエトキシエチル基にて保護し、式（５）で
Ｘが塩素原子であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ基であり、Ｒ１がエトキシエチルオキシ基である化
合物を合成する。（前記の工程ｍと同様に行う。） 工程ｃ´ 式（５）でＸが塩素原子であり、Ｙがｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ基であり、Ｒ１がエトキシエチルオキシ
基である化合物の塩素原子を酸化し、式（２）でＹがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ１がエトキ
シエチルオキシ基である化合物を合成する。この反応に
おいて酸化に用いるジメチルスルホキシドは１モル倍以
上あれば良く普通は溶媒として用いる。また塩基とし
て、炭酸水素ナトリウム等の無機塩を用いる。その量は
１モル倍以上あれば良く、通常、３−１０モル倍用い
る。
【０１０８】反応温度としては８０−２００度の温度で
行うが通常１００度前後が好ましい。また反応時間は反
応温度により異なるが通常１０時間程度で終了する。
行うが通常１００度前後が好ましい。また反応時間は反
応温度により異なるが通常１０時間程度で終了する。
【０１０９】工程ｄ´ 式（２）でＹがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であ
り、Ｒ１がエトキシエチルオキシ基である化合物のカル
ボニル基にニトリルを付加させて、式（１２）でＹがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ１がエトキ
シエチルオキシ基である化合物を合成する。（前記の工
程ｌと同様に行う。） 工程ｅ´ 式（１２）でＹがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基で
あり、Ｒ１が水酸基である化合物の２級水酸基をエトキ
シエチル基にて保護し、式（１３）でＹがｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ基である化合物を合成する。（前記
の工程ｍと同様に行う。） 工程ｆ´ 式（１３）でＹがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基で
ある化合物のシリル基を除去し、式（１３）でＹが水酸
基である化合物を合成する。この反応においてテトラブ
チルアンモニウムフルオリド，フッ化水素等のフッ素化
剤を用いる。特にフッ素化剤としてテトラブチルアンモ
ニウムフルオリドが収率の点から好ましい。フッ素化剤
の量は触媒量以上あれば良く通常１モル倍以上使用す
る。フッ素化剤としてテトラブチルアンモニウムフルオ
リドを用いた場合、溶媒としてジエチルエーテル，テト
ラヒドロフランなどのエーテル類を用いるのが好まし
い。
り、Ｒ１がエトキシエチルオキシ基である化合物のカル
ボニル基にニトリルを付加させて、式（１２）でＹがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ１がエトキ
シエチルオキシ基である化合物を合成する。（前記の工
程ｌと同様に行う。） 工程ｅ´ 式（１２）でＹがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基で
あり、Ｒ１が水酸基である化合物の２級水酸基をエトキ
シエチル基にて保護し、式（１３）でＹがｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ基である化合物を合成する。（前記
の工程ｍと同様に行う。） 工程ｆ´ 式（１３）でＹがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基で
ある化合物のシリル基を除去し、式（１３）でＹが水酸
基である化合物を合成する。この反応においてテトラブ
チルアンモニウムフルオリド，フッ化水素等のフッ素化
剤を用いる。特にフッ素化剤としてテトラブチルアンモ
ニウムフルオリドが収率の点から好ましい。フッ素化剤
の量は触媒量以上あれば良く通常１モル倍以上使用す
る。フッ素化剤としてテトラブチルアンモニウムフルオ
リドを用いた場合、溶媒としてジエチルエーテル，テト
ラヒドロフランなどのエーテル類を用いるのが好まし
い。
【０１１０】反応温度としては０−１００度であれば良
く特に７０度前後が好ましい。また反応時間は反応温度
により異なるが通常２０時間程度で終了する。
く特に７０度前後が好ましい。また反応時間は反応温度
により異なるが通常２０時間程度で終了する。
【０１１１】工程ｇ´ 式（１３）でＹが水酸基である化合物の１級水酸基を塩
素原子に変換し、式（１３）でＹが塩素原子である化合
物を合成する。この反応において始めにメタンスルホニ
ル化し、系中でクロロ化する。
素原子に変換し、式（１３）でＹが塩素原子である化合
物を合成する。この反応において始めにメタンスルホニ
ル化し、系中でクロロ化する。
【０１１２】この反応においてメシル化剤としてメタン
スルホニルクロリドを用いる。その量として１モル倍以
上あれば良く通常１−２モル倍用いる。またクロロ化剤
としてリチウムクロリドを用いる。その量として１モル
倍以上あれば良く通常１−２モル倍用いる。
スルホニルクロリドを用いる。その量として１モル倍以
上あれば良く通常１−２モル倍用いる。またクロロ化剤
としてリチウムクロリドを用いる。その量として１モル
倍以上あれば良く通常１−２モル倍用いる。
【０１１３】この反応において塩基としてピリジン，ト
リエチルアミン等窒素系塩基を用いるのが好ましい。塩
基の量としてはメシル化剤の１モル倍以上あれば良く通
常、３−１０モル倍用いる。
リエチルアミン等窒素系塩基を用いるのが好ましい。塩
基の量としてはメシル化剤の１モル倍以上あれば良く通
常、３−１０モル倍用いる。
【０１１４】反応温度としては０−１００度あれば良く
特に２０度前後が好ましい。また反応時間は反応温度に
より異なるが通常３時間程度で終了する。
特に２０度前後が好ましい。また反応時間は反応温度に
より異なるが通常３時間程度で終了する。
【０１１５】工程ｈ´ 式（１３）でＹが塩素原子である化合物を塩基で閉環さ
せて、式（１４）でベンジル位にシアノ基がついている
化合物を合成する。（前記工程ｎと同様に行う。） 工程ｉ´ 式（１４）でベンジル位にシアノ基が付いている化合物
のエトキシエチル基を除去し、式（１５）でベンジル位
にシアノ基が付いている化合物を得る。（前記工程ｏと
同様に行う。しかし反応温度を４０−６０度とする。） 工程ｊ 式（１５）でベンジル位にシアノ基が付いている化合物
のニトリルを除去し、式（１）でＲ１が水酸基であり、
ベンジル位にカルボニル基を有する化合物を得る。（前
記工程ｐと同様に行う。） 本発明の式（１）のＣ−アロマタキソール類縁体の製造
方法においては、Ｒ1が水酸基である場合を例にとり説
明したが、Ｒ1 が水酸基以外の式（１）の化合物につい
ては、式（１）の化合物のフリーの水酸基を公知の方法
に従って変換することにより得ることができる。例え
ば、式（１）でＲ1 が水酸基である化合物に、低級アル
キルハライド、エトキシエチルハライド、低級アルカノ
イルハライド、アリールハライドあるいはアラキルハラ
イドなどを、塩基性条件下で反応させることにより、Ｒ
1 として低級アルコキシ基、エトキシエチルオキシ基、
低級アルカノイルオキシ基、アリールオキシ基あるいは
アラルコキシ基を導入することができる。
せて、式（１４）でベンジル位にシアノ基がついている
化合物を合成する。（前記工程ｎと同様に行う。） 工程ｉ´ 式（１４）でベンジル位にシアノ基が付いている化合物
のエトキシエチル基を除去し、式（１５）でベンジル位
にシアノ基が付いている化合物を得る。（前記工程ｏと
同様に行う。しかし反応温度を４０−６０度とする。） 工程ｊ 式（１５）でベンジル位にシアノ基が付いている化合物
のニトリルを除去し、式（１）でＲ１が水酸基であり、
ベンジル位にカルボニル基を有する化合物を得る。（前
記工程ｐと同様に行う。） 本発明の式（１）のＣ−アロマタキソール類縁体の製造
方法においては、Ｒ1が水酸基である場合を例にとり説
明したが、Ｒ1 が水酸基以外の式（１）の化合物につい
ては、式（１）の化合物のフリーの水酸基を公知の方法
に従って変換することにより得ることができる。例え
ば、式（１）でＲ1 が水酸基である化合物に、低級アル
キルハライド、エトキシエチルハライド、低級アルカノ
イルハライド、アリールハライドあるいはアラキルハラ
イドなどを、塩基性条件下で反応させることにより、Ｒ
1 として低級アルコキシ基、エトキシエチルオキシ基、
低級アルカノイルオキシ基、アリールオキシ基あるいは
アラルコキシ基を導入することができる。
【０１１６】また、Ｒ1 が水酸基以外の式（１）の化合
物について、式（２）の化合物のフリーの水酸基を前述
したような公知の方法に従って低級アルコキシ基、エト
キシエチルオキシ基、低級アルカノイルオキシ基、アリ
ールオキシ基あるいはアラルコキシ基に予め変換してお
いてもよい。
物について、式（２）の化合物のフリーの水酸基を前述
したような公知の方法に従って低級アルコキシ基、エト
キシエチルオキシ基、低級アルカノイルオキシ基、アリ
ールオキシ基あるいはアラルコキシ基に予め変換してお
いてもよい。
【０１１７】なお、式（１）のＣ−アロマタキソール類
縁体の合成中間体であるＢステージの目的化合物である
式（２）
縁体の合成中間体であるＢステージの目的化合物である
式（２）
【０１１８】
【化３３】
【０１１９】（式中、Ｒ1 は式（１）の化合物において
定義した通りであり、Ｘはクロロ、ぶブロモなどのハロ
ゲン原子である。）の化合物、及びＡステージの目的化
合物である式（３）
定義した通りであり、Ｘはクロロ、ぶブロモなどのハロ
ゲン原子である。）の化合物、及びＡステージの目的化
合物である式（３）
【０１２０】
【化３４】
【０１２１】（式中、Ｒ2 はアセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基等のアシル基であり、Ｘは式（２）に
おいて定義した通りである。）で表される化合物は共に
新規な化合物である。更にＢステージ及びＣステージの
各工程で得られる、式（１）のＣ−アロマタキソール類
縁体の合成中間体である以下の式（４）〜（１５）の化
合物もそれぞれ新規な化合物である。なお、以下の式中
において、Ｒ1 、Ｒ2 Ｘ及びＹは式（１）〜式（３）で
定義した通りであり、ＥＥはエトキシエチル基である。
基、ベンゾイル基等のアシル基であり、Ｘは式（２）に
おいて定義した通りである。）で表される化合物は共に
新規な化合物である。更にＢステージ及びＣステージの
各工程で得られる、式（１）のＣ−アロマタキソール類
縁体の合成中間体である以下の式（４）〜（１５）の化
合物もそれぞれ新規な化合物である。なお、以下の式中
において、Ｒ1 、Ｒ2 Ｘ及びＹは式（１）〜式（３）で
定義した通りであり、ＥＥはエトキシエチル基である。
【０１２２】
【化３５】
【０１２３】
【化３６】
【０１２４】
【化３７】
【０１２５】
【化３８】
【０１２６】
【化３９】
【０１２７】
【化４０】
【０１２８】
【化４１】
【０１２９】
【化４２】
【０１３０】
【化４３】
【０１３１】
【化４４】
【０１３２】
【化４５】
【０１３３】
【化４６】
【０１３４】
【作用】本発明においては、Ｃ環となる式（１６）のベ
ンゾイル誘導体と式（１７）のゲラニオール誘導体とを
フリーデルクラフト型反応させ、更にＡ環部分を閉環さ
せて新規な式（３）の化合物を形成する。更に、これを
新規な式（２）の化合物に誘導し、この式（２）の化合
部物にシアンヒドリン閉環反応を適用してＢ環を形成す
る。従って、分子内環化反応を利用し且つＢ環の水酸基
を脱離が容易なエチルビニルエーテルで保護して新規な
Ｃ−アロマタキソール類縁体を得ることが可能となる。
ンゾイル誘導体と式（１７）のゲラニオール誘導体とを
フリーデルクラフト型反応させ、更にＡ環部分を閉環さ
せて新規な式（３）の化合物を形成する。更に、これを
新規な式（２）の化合物に誘導し、この式（２）の化合
部物にシアンヒドリン閉環反応を適用してＢ環を形成す
る。従って、分子内環化反応を利用し且つＢ環の水酸基
を脱離が容易なエチルビニルエーテルで保護して新規な
Ｃ−アロマタキソール類縁体を得ることが可能となる。
【０１３５】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。なお、実施例１はＡステージに関し、実施例２は
Ｂステージの経路Ｂ１に関し、実施例３はＢステージの
経路Ｂ２に関し、実施例４はＢステージの経路Ｂ３に関
し、そして実施例５はＣステージに関し、実施例６は工
程ａ´に関し、実施例７は工程ｂ´に関し、実施例８は
工程ｃ´に関し、実施例９は工程ｄ´に関し、実施例１
０は工程ｅ´に関し、実施例１１は工程ｆ´に関し、実
施例１２は工程ｇ´に関し、実施例１３は工程ｈ´に関
し、実施例１４は工程ｉ´に関し、実施例１５は工程ｊ
´に関するものである。
する。なお、実施例１はＡステージに関し、実施例２は
Ｂステージの経路Ｂ１に関し、実施例３はＢステージの
経路Ｂ２に関し、実施例４はＢステージの経路Ｂ３に関
し、そして実施例５はＣステージに関し、実施例６は工
程ａ´に関し、実施例７は工程ｂ´に関し、実施例８は
工程ｃ´に関し、実施例９は工程ｄ´に関し、実施例１
０は工程ｅ´に関し、実施例１１は工程ｆ´に関し、実
施例１２は工程ｇ´に関し、実施例１３は工程ｈ´に関
し、実施例１４は工程ｉ´に関し、実施例１５は工程ｊ
´に関するものである。
【０１３６】実施例１工程ａ アルゴン置換した反応器に塩化アルミニウム０．８９ｇ
を投入し、−７８℃に冷却した。これに蒸留塩化メチレ
ン４０ｍｌを加え、更に、ｏ−クロロメチルベンゾイル
クロリド０．６３ｇを蒸留塩化メチレン１０ｍｌに溶解
したものを１０分間に亘り滴下した。２０分間撹拌した
後、反応液を０℃に戻し、ゲラニルアセテート１．１ｍ
ｌを蒸留塩化メチレン１０ｍｌに溶解したものを滴下
し、１０分間撹拌した。
を投入し、−７８℃に冷却した。これに蒸留塩化メチレ
ン４０ｍｌを加え、更に、ｏ−クロロメチルベンゾイル
クロリド０．６３ｇを蒸留塩化メチレン１０ｍｌに溶解
したものを１０分間に亘り滴下した。２０分間撹拌した
後、反応液を０℃に戻し、ゲラニルアセテート１．１ｍ
ｌを蒸留塩化メチレン１０ｍｌに溶解したものを滴下
し、１０分間撹拌した。
【０１３７】反応終了後、反応液を１規定塩酸に注ぎ込
み、有機層を塩化メチレンにより抽出した。得られた塩
化メチレン層を飽和重曹水、飽和食塩水にて洗浄後、無
水硫酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した
後、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣とし
て得た。
み、有機層を塩化メチレンにより抽出した。得られた塩
化メチレン層を飽和重曹水、飽和食塩水にて洗浄後、無
水硫酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した
後、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣とし
て得た。
【０１３８】この粗生成物からシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→５／
１）にて不純物を除去し、ヘキサン−ジエチルエーテル
混合溶媒から再結晶させることにより淡黄色結晶１９
４．２ｍｇを得た。この淡黄色結晶は以下の同定データ
により式（３）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキ
シ基である化合物であることが確認できた（収率１６
％）。
トグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→５／
１）にて不純物を除去し、ヘキサン−ジエチルエーテル
混合溶媒から再結晶させることにより淡黄色結晶１９
４．２ｍｇを得た。この淡黄色結晶は以下の同定データ
により式（３）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキ
シ基である化合物であることが確認できた（収率１６
％）。
【０１３９】同定データ ｍｐ： 112-112.5 ℃ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3460,2970,2916,1710,1666,1595,15
711 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.37-7.70(m,4H),4.94(d,1H,J=12Hz),4.83(d,1H,J=12
Hz),4.44(dd,1H,J=12Hz,J=4.8Hz),4.32(dd,1H,J=12Hz,J
=2.8Hz),3.36(d,1P,J=2.51Hz),2.18-2.26(m,1H),2.17
(s,3H),1.69-1.82(m,1H),1.49-1.62(m,2H),1.40-1.42
(m,1H),1.28(s,3H),1.19(s,3H)1.02(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
206.79,170.70.139.70,136.77,131.58.131.58,128.25,1
28.10,71.66,62.01,57.48,54.14,43.76,40.78,37.80,3
0.89,30.05,22.05,21.22,17.93
711 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.37-7.70(m,4H),4.94(d,1H,J=12Hz),4.83(d,1H,J=12
Hz),4.44(dd,1H,J=12Hz,J=4.8Hz),4.32(dd,1H,J=12Hz,J
=2.8Hz),3.36(d,1P,J=2.51Hz),2.18-2.26(m,1H),2.17
(s,3H),1.69-1.82(m,1H),1.49-1.62(m,2H),1.40-1.42
(m,1H),1.28(s,3H),1.19(s,3H)1.02(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
206.79,170.70.139.70,136.77,131.58.131.58,128.25,1
28.10,71.66,62.01,57.48,54.14,43.76,40.78,37.80,3
0.89,30.05,22.05,21.22,17.93
【０１４０】実施例２工程ｂ 反応器に、実施例１の工程ａで得られた式（３）でＸが
塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基である化合物８６
９．１ｍｇを投入し、更にオルトぎ酸トリメチル１５ｍ
ｌを加え溶解した。この溶液に触媒量のｐ−トルエンス
ルホン酸を加え、２時間撹拌した。反応終了後、反応液
を飽和重曹水に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機
層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和食塩
水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し
た。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し、油状
の粗生成物を残渣として得た。
塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基である化合物８６
９．１ｍｇを投入し、更にオルトぎ酸トリメチル１５ｍ
ｌを加え溶解した。この溶液に触媒量のｐ−トルエンス
ルホン酸を加え、２時間撹拌した。反応終了後、反応液
を飽和重曹水に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機
層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和食塩
水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し
た。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し、油状
の粗生成物を残渣として得た。
【０１４１】この粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／１）
により精製し、油状化合物を５２１．９ｍｇと油状化合
物２６４．７ｍｇを得た。これらの油状化合物は以下の
同定データにより前者が式（４）でＸが塩素原子であ
り、Ｒ２がアセトキシ基である化合物（収率６３％）で
あり、後者が式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がア
セトキシ基である化合物（収率３２％）であることが確
認できた。
グラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／１）
により精製し、油状化合物を５２１．９ｍｇと油状化合
物２６４．７ｍｇを得た。これらの油状化合物は以下の
同定データにより前者が式（４）でＸが塩素原子であ
り、Ｒ２がアセトキシ基である化合物（収率６３％）で
あり、後者が式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がア
セトキシ基である化合物（収率３２％）であることが確
認できた。
【０１４２】同定データ 式（４）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基で
ある化合物 ＩＲ（ｃｍ-1）： 2966,1728,1678,1595,15711 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.34-7.71(m,4H),4.92(d,1H,J=11.9Hz),4.86(d,1H,J=
11.9Hz),4.61-4.66(m,2H),3.46(dd,1H,J=10.6Hz,J=3.3H
z),1.65-2.18(m,4H),2.03(s,3H),1.13(s,3H),1.05(s,3
H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨＺ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 207.06,171.23,139.41,136.91,135.63,132.13,
131.55,131.55,128.48,128.10,60.50,54.02,43.83,37.6
1,31.47,27.73,23.23,22.21,21.01,19.97 式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基で
ある化合物 ＩＲ（ｃｍ-1）： 2966,1729,1676,1597,15701 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.35-7.70(m,4H),5.52-5.60(m,1H),4.89(s,2H),4.30
(dd,J=11.8Hz,J=5.6Hz),4.16(dd,1H,J=11.8Hz,J=5.6H
z),3.44(dd,1H,J=11.6Hz,J=4.6Hz),2.36-2.48(m,1H),2.
05(s,3H),2.07-2.23(m,1H),1.64-1.80(m,1H),1.07(s,3
H),1.06(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 206.94,171.05,139.36,133.42,131.66,131.54,
128.53,128.10,122.61,62.64,53.13,50.17,43.88,36.1
7,27.37,27.00,21.84,21.15,15.91
ある化合物 ＩＲ（ｃｍ-1）： 2966,1728,1678,1595,15711 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.34-7.71(m,4H),4.92(d,1H,J=11.9Hz),4.86(d,1H,J=
11.9Hz),4.61-4.66(m,2H),3.46(dd,1H,J=10.6Hz,J=3.3H
z),1.65-2.18(m,4H),2.03(s,3H),1.13(s,3H),1.05(s,3
H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨＺ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 207.06,171.23,139.41,136.91,135.63,132.13,
131.55,131.55,128.48,128.10,60.50,54.02,43.83,37.6
1,31.47,27.73,23.23,22.21,21.01,19.97 式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基で
ある化合物 ＩＲ（ｃｍ-1）： 2966,1729,1676,1597,15701 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.35-7.70(m,4H),5.52-5.60(m,1H),4.89(s,2H),4.30
(dd,J=11.8Hz,J=5.6Hz),4.16(dd,1H,J=11.8Hz,J=5.6H
z),3.44(dd,1H,J=11.6Hz,J=4.6Hz),2.36-2.48(m,1H),2.
05(s,3H),2.07-2.23(m,1H),1.64-1.80(m,1H),1.07(s,3
H),1.06(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 206.94,171.05,139.36,133.42,131.66,131.54,
128.53,128.10,122.61,62.64,53.13,50.17,43.88,36.1
7,27.37,27.00,21.84,21.15,15.91
【０１４３】工程ｃ アルゴン置換した反応器に工程ｂで得られた式（４）で
Ｘが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基である化合物
４３０．０ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレン１０ｍｌを
加え溶解した。この溶液を−７８℃に冷却し、２規定水
素化ジイソブチルアルミニウムトルエン溶液を加え３０
分間撹拌した。反応終了後、反応液を室温に戻し、３規
定塩酸に注ぎ込んで、ジエチルエーテルを加え有機層を
抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和重曹水、
飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより
乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去
し、油状の粗生成物を残渣として得た。
Ｘが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基である化合物
４３０．０ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレン１０ｍｌを
加え溶解した。この溶液を−７８℃に冷却し、２規定水
素化ジイソブチルアルミニウムトルエン溶液を加え３０
分間撹拌した。反応終了後、反応液を室温に戻し、３規
定塩酸に注ぎ込んで、ジエチルエーテルを加え有機層を
抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和重曹水、
飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより
乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去
し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１４４】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル＝１／１）にて精
製し、油状化合物２９０．３ｍｇを得た。この油状化合
物は以下の同定データにより式（５）でＸが塩素原子で
あり、Ｒ1 およびＹが水酸基である化合物であることが
確認できた（収率７７％）。
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル＝１／１）にて精
製し、油状化合物２９０．３ｍｇを得た。この油状化合
物は以下の同定データにより式（５）でＸが塩素原子で
あり、Ｒ1 およびＹが水酸基である化合物であることが
確認できた（収率７７％）。
【０１４５】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3390,2936,1487,14471 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.28-7.47(m,4H),4.98(d,1H,J=9.9Hz),4.85(d,1H,J=1
1.4Hz),4.66(d,1H,J=11.4Hz),4.19(s,1H),1.77-1.96(m,
4H),1.74(s,3H),1.48(s,3H),1.22(s,3H),0.92-1.19(2H,
m)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 143.67,139.03,135.18,133.33,130.69,129.33,
127.92,127.89,74.04,58.98,49.72,43.92,38.55,32.15,
28.48,22.99,21.40,19.73
7.28-7.47(m,4H),4.98(d,1H,J=9.9Hz),4.85(d,1H,J=1
1.4Hz),4.66(d,1H,J=11.4Hz),4.19(s,1H),1.77-1.96(m,
4H),1.74(s,3H),1.48(s,3H),1.22(s,3H),0.92-1.19(2H,
m)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 143.67,139.03,135.18,133.33,130.69,129.33,
127.92,127.89,74.04,58.98,49.72,43.92,38.55,32.15,
28.48,22.99,21.40,19.73
【０１４６】工程ｄ 反応器に工程ｃで得られた式（５）でＸが塩素原子であ
り、Ｒ1 およびＹが水酸基である化合物２９０．３ｍｇ
を投入し、蒸留ベンゼン０．５ｍｌと蒸留塩化メチレン
０．５ｍｌを加え溶解した。この溶液に二酸化マンガン
４１１ｍｇを加え７時間撹拌した。更に、二酸化マンガ
ン４１１ｍｇを加え、１３時間撹拌した。反応液から固
形物を濾過助剤セライトを用いて濾別し、その固形物を
酢酸エチルを用いて洗浄した。得られた濾過液から溶媒
を減圧下にて留去し、油状の粗生成物を残渣として得
た。
り、Ｒ1 およびＹが水酸基である化合物２９０．３ｍｇ
を投入し、蒸留ベンゼン０．５ｍｌと蒸留塩化メチレン
０．５ｍｌを加え溶解した。この溶液に二酸化マンガン
４１１ｍｇを加え７時間撹拌した。更に、二酸化マンガ
ン４１１ｍｇを加え、１３時間撹拌した。反応液から固
形物を濾過助剤セライトを用いて濾別し、その固形物を
酢酸エチルを用いて洗浄した。得られた濾過液から溶媒
を減圧下にて留去し、油状の粗生成物を残渣として得
た。
【０１４７】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１→１
／１）にて精製して油状化合物１３６．８ｍｇを得た。
この際、式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ1 およびＹ
が水酸基である化合物１１０．０ｍｇを回収した。得ら
れた油状化合物は以下の同定データにより式（２）でＸ
が塩素原子であり、Ｒ1 が水酸基である化合物であるこ
とが確認できた（収率４７％、転化率６２％）。
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１→１
／１）にて精製して油状化合物１３６．８ｍｇを得た。
この際、式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ1 およびＹ
が水酸基である化合物１１０．０ｍｇを回収した。得ら
れた油状化合物は以下の同定データにより式（２）でＸ
が塩素原子であり、Ｒ1 が水酸基である化合物であるこ
とが確認できた（収率４７％、転化率６２％）。
【０１４８】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3416,2930,1711,1662,1610,14581 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.11(s,1H),7.27-7.46(m,4H)5.03(d,1H,J=9.9Hz),4.
86(d,1H,J=11.5Hz),4.67(d,1H,J=11.5Hz),1.88-2.15(m,
4H),2.06(s,3H),1.64(s,3H),1.45(s,3H),0.98-1.43(m,2
H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 192.92,154.70,143.32,141.47,135.31,130.94,
129.38,128.01,73.59,50.44,43.85,37.79,35.28,28.57,
22.33,20.34,19.54
10.11(s,1H),7.27-7.46(m,4H)5.03(d,1H,J=9.9Hz),4.
86(d,1H,J=11.5Hz),4.67(d,1H,J=11.5Hz),1.88-2.15(m,
4H),2.06(s,3H),1.64(s,3H),1.45(s,3H),0.98-1.43(m,2
H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 192.92,154.70,143.32,141.47,135.31,130.94,
129.38,128.01,73.59,50.44,43.85,37.79,35.28,28.57,
22.33,20.34,19.54
【０１４９】実施例３工程ｅ アルゴン置換した反応器に、実施例２の工程ｂで得られ
た式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基
である化合物３１６．１ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレ
ン１０ｍｌを加え溶解した。この溶液を−７８℃に冷却
し、２規定水素化ジイソプロピルアルミニウムトルエン
溶液１．８ｍｌを加え、３０分間撹拌した。反応終了
後、反応液を室温に戻し、１規定塩酸に注ぎ込んでジエ
チルエーテルを加え有機層を抽出した。得られたジエチ
ルエーテル層を飽和水重曹水、飽和食塩水より洗浄後、
無水硫酸マグネシウムより乾燥した。固定物を濾別した
後、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣とし
て得た。
た式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ２がアセトキシ基
である化合物３１６．１ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレ
ン１０ｍｌを加え溶解した。この溶液を−７８℃に冷却
し、２規定水素化ジイソプロピルアルミニウムトルエン
溶液１．８ｍｌを加え、３０分間撹拌した。反応終了
後、反応液を室温に戻し、１規定塩酸に注ぎ込んでジエ
チルエーテルを加え有機層を抽出した。得られたジエチ
ルエーテル層を飽和水重曹水、飽和食塩水より洗浄後、
無水硫酸マグネシウムより乾燥した。固定物を濾別した
後、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣とし
て得た。
【０１５０】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝１／
１）にて精製し、油状化合物１９２．３ｍｇを得た。こ
の油状化合物は以下の同定データにより式（７）でＸが
塩素原子である化合物であることが確認できた（収率６
９％）。
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝１／
１）にて精製し、油状化合物１９２．３ｍｇを得た。こ
の油状化合物は以下の同定データにより式（７）でＸが
塩素原子である化合物であることが確認できた（収率６
９％）。
【０１５１】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3408,29691 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.28-7.37(m,4H),5.30-5.35(bs,1H),5.03(d,1H,J=8.9
Hz),4.78(d,1H,J=11.6Hz),4.66(d,1H,J=11.6Hz),3.97(d
d,1H,J=3.6Hz,J=11.6Hz),3.86(dd,1H,J=3.6Hz,J=11.6H
z),1.74-1.95(m,3H),1.77(s,3H),1.36-1.47(b,2H),1.30
(s,3H),1.06(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 143.09,134.88,133.36,130.58,129.09,128.21,
127.74,123.18,72.04,60.68,53.48,49.13,43.94,36.17,
29.13,27.28,21.98,19.28
7.28-7.37(m,4H),5.30-5.35(bs,1H),5.03(d,1H,J=8.9
Hz),4.78(d,1H,J=11.6Hz),4.66(d,1H,J=11.6Hz),3.97(d
d,1H,J=3.6Hz,J=11.6Hz),3.86(dd,1H,J=3.6Hz,J=11.6H
z),1.74-1.95(m,3H),1.77(s,3H),1.36-1.47(b,2H),1.30
(s,3H),1.06(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 143.09,134.88,133.36,130.58,129.09,128.21,
127.74,123.18,72.04,60.68,53.48,49.13,43.94,36.17,
29.13,27.28,21.98,19.28
【０１５２】工程ｆ アルゴン置換した反応器に蒸留塩化メチレンを投入し、
−７８℃に冷却した。これにジメチルスルフォキシド
０．４０ｍｌとシュウ酸ジクロリド０．２４ｍｌを加え
て５分間撹拌した。この反応器に工程ｅで得られた式
（７）でＸが塩素原子である化合物１７１．７ｍｇを蒸
留塩化メチレン３ｍｌに溶解させたものを滴下し、３時
間３０分撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留トリエチ
ルアミン１．５５ｍｌを加え、反応液を室温に戻し、１
規定塩酸に注ぎ込み、有機層をジエチルエーテルで抽出
した。得られたジエチルエーテル層を１規定塩酸、飽和
重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。固形物を濾別し、減圧下で溶媒を留去
し、油状の粗生成物２０９．４ｍｇを得た。この粗生成
物は以下の同定データにより式（８）でＸが塩素原子で
ある化合物が主成分であることが確認できた。
−７８℃に冷却した。これにジメチルスルフォキシド
０．４０ｍｌとシュウ酸ジクロリド０．２４ｍｌを加え
て５分間撹拌した。この反応器に工程ｅで得られた式
（７）でＸが塩素原子である化合物１７１．７ｍｇを蒸
留塩化メチレン３ｍｌに溶解させたものを滴下し、３時
間３０分撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留トリエチ
ルアミン１．５５ｍｌを加え、反応液を室温に戻し、１
規定塩酸に注ぎ込み、有機層をジエチルエーテルで抽出
した。得られたジエチルエーテル層を１規定塩酸、飽和
重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。固形物を濾別し、減圧下で溶媒を留去
し、油状の粗生成物２０９．４ｍｇを得た。この粗生成
物は以下の同定データにより式（８）でＸが塩素原子で
ある化合物が主成分であることが確認できた。
【０１５３】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 2958,2922,2864,1716,1676,1597,15
711 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
9.66(d,1H,J=4.95Hz),7,35-7.67(m,4H),5.72(d,1H,J=
1.6Hz),4.82-4.90(m,2H),3.33(dd,1H,J=9.9Hz,J=5.6H
z),2.60-2.70(m,1H),2.41-2.55(m,1H),2.14-2.28(m,1
H),1.68(s,3H),1.24(s,3H),1.04(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 205.89,204.59,138.80,137.05,131.82,131.59,
128.45,128.91,128.21,123.41,63.76,51.43,43.76,35.8
7,28.41,26.72,22.05,18.45
711 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
9.66(d,1H,J=4.95Hz),7,35-7.67(m,4H),5.72(d,1H,J=
1.6Hz),4.82-4.90(m,2H),3.33(dd,1H,J=9.9Hz,J=5.6H
z),2.60-2.70(m,1H),2.41-2.55(m,1H),2.14-2.28(m,1
H),1.68(s,3H),1.24(s,3H),1.04(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 205.89,204.59,138.80,137.05,131.82,131.59,
128.45,128.91,128.21,123.41,63.76,51.43,43.76,35.8
7,28.41,26.72,22.05,18.45
【０１５４】工程ｇ アルゴン置換された反応器に工程ｆで得られた式（８）
でＸが塩素原子である化合物を主成分とする油状粗生成
物２０９．４ｍｇを投入し、蒸留ベンゼン１５ｍｌを加
え溶解した。この溶液に触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸ピリジニウムを加え１７時間撹拌した。反応終了後、
反応液を飽和重曹水に注ぎ込み、有機層をジエチルエー
テルにて抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。
固形物を濾別し、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成
物を残渣として得た。
でＸが塩素原子である化合物を主成分とする油状粗生成
物２０９．４ｍｇを投入し、蒸留ベンゼン１５ｍｌを加
え溶解した。この溶液に触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸ピリジニウムを加え１７時間撹拌した。反応終了後、
反応液を飽和重曹水に注ぎ込み、有機層をジエチルエー
テルにて抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。
固形物を濾別し、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成
物を残渣として得た。
【０１５５】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）に
て精製し、油状化合物１００．２ｍｇを得た。この化合
物は以下の同定データにより式（９）でＸが塩素原子で
ある化合物であることが確認できた（工程ｈ及びｇの積
算収率５９％）。
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）に
て精製し、油状化合物１００．２ｍｇを得た。この化合
物は以下の同定データにより式（９）でＸが塩素原子で
ある化合物であることが確認できた（工程ｈ及びｇの積
算収率５９％）。
【０１５６】工程ｈ アルゴン置換した反応器に工程ｇで得られた式（９）で
Ｘが塩素原子である化合物１１．２ｍｇを投入し、蒸留
塩化メチレン１ｍｌを加え溶解した。この溶液を−７８
℃に冷却し、２規定水素化ジイソプロピルアルミニウム
トルエン溶液０．１ｍｌを加え、２０分間撹拌した。
Ｘが塩素原子である化合物１１．２ｍｇを投入し、蒸留
塩化メチレン１ｍｌを加え溶解した。この溶液を−７８
℃に冷却し、２規定水素化ジイソプロピルアルミニウム
トルエン溶液０．１ｍｌを加え、２０分間撹拌した。
【０１５７】反応終了後、反応液を室温に戻し、１規定
塩酸に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出
した。得られたジエチルエーテル層を飽和重曹水、飽和
食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥
した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し、油
状の粗生成物を残渣として得た。
塩酸に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出
した。得られたジエチルエーテル層を飽和重曹水、飽和
食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥
した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し、油
状の粗生成物を残渣として得た。
【０１５８】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１→５
／１）にて精製し、油状化合物８．２ｍｇを得た。この
油状化合物は以下の同定データにより式（５）で表され
る化合物であることが確認できた（収率７３％）。
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１→５
／１）にて精製し、油状化合物８．２ｍｇを得た。この
油状化合物は以下の同定データにより式（５）で表され
る化合物であることが確認できた（収率７３％）。
【０１５９】ＩＲ（ｃｍ-1）： 2924,1713,1670,1612,
15711 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.15(s,1H),7,40-7.72(m,4H),4.97(d,1H,J=11.5Hz),
4.81(d,1H,J=11,5Hz),3.44(t,1H,J=6Hz),2.28-2.84(m,2
H),2.15(s,3H),1.90-1.98(m,1H),1.60-1.80(m,1H),1.36
(s,3H),1.30(s,3H)
15711 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.15(s,1H),7,40-7.72(m,4H),4.97(d,1H,J=11.5Hz),
4.81(d,1H,J=11,5Hz),3.44(t,1H,J=6Hz),2.28-2.84(m,2
H),2.15(s,3H),1.90-1.98(m,1H),1.60-1.80(m,1H),1.36
(s,3H),1.30(s,3H)
【０１６０】実施例４工程ｉ アルゴン置換した反応器に、実施例１の工程ａで得られ
た式（３）の化合物１５０ｍｇを投入し、蒸留塩化メチ
レン１０ｍｌを加え溶解した。この溶液を−７８℃に冷
却し、２規定水素化ジイソブチルアルミニウムトルエン
溶液１ｍｌを加えて３０分間撹拌した。反応終了後、反
応液を室温に戻し、１規定塩酸に注ぎ込んで塩化メチレ
ンを加えて有機層を抽出した。得られた塩化メチレンを
層を飽和重曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧
下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
た式（３）の化合物１５０ｍｇを投入し、蒸留塩化メチ
レン１０ｍｌを加え溶解した。この溶液を−７８℃に冷
却し、２規定水素化ジイソブチルアルミニウムトルエン
溶液１ｍｌを加えて３０分間撹拌した。反応終了後、反
応液を室温に戻し、１規定塩酸に注ぎ込んで塩化メチレ
ンを加えて有機層を抽出した。得られた塩化メチレンを
層を飽和重曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧
下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１６１】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）に
より精製し、油状化合物１０７．９ｍｇを得た。この油
状化合物は以下の同定データにより式（１０）の化合物
であることが確認できた（収率８１％）。
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）に
より精製し、油状化合物１０７．９ｍｇを得た。この油
状化合物は以下の同定データにより式（１０）の化合物
であることが確認できた（収率８１％）。
【０１６２】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3360,2964,1489,14531 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.21-7.65(m=4H),5,02(dd,1H,J=3.8Hz,J=8.5Hz),4.63
-4.90(m,2H),4.04-4.21(m,2H),2.77-2.79(m,3H),1.25
(s,3H),1.29(s,3H),1.55(s,3H),0.74-2.15(m,5H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 143.88,135.02,130.69,129.24,128.00,127.75,
73.59,73.23,60.24,54,88,52.83,44.06,40.92,38.26,3
0.71,50.22.18
7.21-7.65(m=4H),5,02(dd,1H,J=3.8Hz,J=8.5Hz),4.63
-4.90(m,2H),4.04-4.21(m,2H),2.77-2.79(m,3H),1.25
(s,3H),1.29(s,3H),1.55(s,3H),0.74-2.15(m,5H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 143.88,135.02,130.69,129.24,128.00,127.75,
73.59,73.23,60.24,54,88,52.83,44.06,40.92,38.26,3
0.71,50.22.18
【０１６３】工程ｊ アルゴン置換した反応器に、工程ｉで得られた式（１
０）の化合物１０７．９ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレ
ン１５ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、
クロロクロム酸ピリジニウム７１１．６ｍｇを加え、室
温に戻し、１時間撹拌した。反応終了後、反応液にジエ
チルエーテルを加えた。この溶液をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（エーテル）に通して固形物を除去し
た後、減圧下で溶媒を留去し、油状化合物８３．２ｍｇ
を残渣として得た。この油状化合物は以下の同定データ
により式（１１）の化合物であることが確認できた（収
率７７％）。
０）の化合物１０７．９ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレ
ン１５ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、
クロロクロム酸ピリジニウム７１１．６ｍｇを加え、室
温に戻し、１時間撹拌した。反応終了後、反応液にジエ
チルエーテルを加えた。この溶液をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（エーテル）に通して固形物を除去し
た後、減圧下で溶媒を留去し、油状化合物８３．２ｍｇ
を残渣として得た。この油状化合物は以下の同定データ
により式（１１）の化合物であることが確認できた（収
率７７％）。
【０１６４】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3494,2964,2928,1711,16781 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.09(d,1H,J=3.0Hz),7,38-7.66(m,4H),,4.95(d,1H,J
=11.9Hz),4.81(d,1H,J=11.9Hz),3.22(dd,1H,J=2.6Hz,J=
13Hz),2.31(dt,1H,J=13Hz,Jd=3.6Hz),2.19(d,1H,J=3H
z),1.79(dt,1H,Jt=3Hz,Jｄ=13Hz),1.56-1.58(m,1H),1.4
4-1.49(m,1H),1.38(s,3H),1.22(s,3H),1.11(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 207.94,205.93,139.55,136.84,131.75,131.75,
128.23,123.23,70.86,66.09,56.88,43.67,39.91,38.26,
30.82,30.24,22.09,18.78
10.09(d,1H,J=3.0Hz),7,38-7.66(m,4H),,4.95(d,1H,J
=11.9Hz),4.81(d,1H,J=11.9Hz),3.22(dd,1H,J=2.6Hz,J=
13Hz),2.31(dt,1H,J=13Hz,Jd=3.6Hz),2.19(d,1H,J=3H
z),1.79(dt,1H,Jt=3Hz,Jｄ=13Hz),1.56-1.58(m,1H),1.4
4-1.49(m,1H),1.38(s,3H),1.22(s,3H),1.11(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 207.94,205.93,139.55,136.84,131.75,131.75,
128.23,123.23,70.86,66.09,56.88,43.67,39.91,38.26,
30.82,30.24,22.09,18.78
【０１６５】工程ｋ アルゴン置換した反応器に、工程ｊで得られた式（１
１）の化合物８３．２ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレン
１ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、蒸留
ピリジン０．５４ｍｌ、触媒量の４−ジメチルアミノピ
リジン及びメタンスルフォニルクロリド０．２ｍｌを加
え、反応液を室温に戻して４０分間撹拌した。 反応終
了後、反応液を１規定塩酸に注ぎ込んでジメチルエーテ
ル加え有機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層
を飽和重曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下
で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。得
られた粗生成物を分取用薄層クロマトグラフィー（ヘキ
サン／酢酸エチル＝２／１）にて精製し、油状の式
（９）の化合物３５．５ｍｇを得た（収率４６％）。
１）の化合物８３．２ｍｇを投入し、蒸留塩化メチレン
１ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、蒸留
ピリジン０．５４ｍｌ、触媒量の４−ジメチルアミノピ
リジン及びメタンスルフォニルクロリド０．２ｍｌを加
え、反応液を室温に戻して４０分間撹拌した。 反応終
了後、反応液を１規定塩酸に注ぎ込んでジメチルエーテ
ル加え有機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層
を飽和重曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下
で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。得
られた粗生成物を分取用薄層クロマトグラフィー（ヘキ
サン／酢酸エチル＝２／１）にて精製し、油状の式
（９）の化合物３５．５ｍｇを得た（収率４６％）。
【０１６６】実施例５工程ｌ 反応器に、実施例２の工程ｄで得られた式（２）の化合
物１６９．１ｍｇを投入し、トリメチルシリルニトリル
０．４４ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却
し、触媒量のシス−ジシクロヘキサノ−１８−クラウン
−６−シアン化カリウム錯体を加え、室温に戻し３時間
撹拌し、次に蒸留テトラヒドロフラン４ｍｌを加え３０
分間撹拌した。更に、１規定塩酸２ｍｌを加え、４５分
間撹拌した。
物１６９．１ｍｇを投入し、トリメチルシリルニトリル
０．４４ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却
し、触媒量のシス−ジシクロヘキサノ−１８−クラウン
−６−シアン化カリウム錯体を加え、室温に戻し３時間
撹拌し、次に蒸留テトラヒドロフラン４ｍｌを加え３０
分間撹拌した。更に、１規定塩酸２ｍｌを加え、４５分
間撹拌した。
【０１６７】反応終了後、反応液を飽和食塩水に注ぎ込
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。得られ
たジエチルエーテルを無水硫酸マグネシウムにより乾燥
した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し油状
の粗生成物２１７．１ｍｇを残渣として得た。この粗生
成物は以下の同定データにより式（１２）の化合物を主
成分として含有することが確認できた。
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。得られ
たジエチルエーテルを無水硫酸マグネシウムにより乾燥
した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し油状
の粗生成物２１７．１ｍｇを残渣として得た。この粗生
成物は以下の同定データにより式（１２）の化合物を主
成分として含有することが確認できた。
【０１６８】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3428,2954,22321 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.29-7.47(m=4H),5,14and5.15(each S1H),4.94and4.9
7(each d,1H,J=3.3Hz),4.83and4.85(each d,1H,J=11.5H
z),4.65and4.65(each d,1.98(s,3H),1.49and1.52(each
s,3H)1.22and1.27(each s,3H),0.97-2.10(m,8H)
7.29-7.47(m=4H),5,14and5.15(each S1H),4.94and4.9
7(each d,1H,J=3.3Hz),4.83and4.85(each d,1H,J=11.5H
z),4.65and4.65(each d,1.98(s,3H),1.49and1.52(each
s,3H)1.22and1.27(each s,3H),0.97-2.10(m,8H)
【０１６９】工程ｍ アルゴン置換した反応器に、工程ｌで得られた式（１
２）の化合物を主成分とする油状粗生成物２１７．１ｍ
ｇを投入し、蒸留ベンゼン２．５ｍｌと蒸留塩化メチレ
ン２．５ｍｌとを加え溶解した。この溶液を０℃に溶解
し、エチルビニルエーテル０．３２ｍｌと触媒量のｐ−
トルエンスルホン酸ピリジニウムを加え１時間撹拌し
た。反応終了後、反応液に蒸留トリエチルアミン０．２
ｍｌを加え、それを飽和重曹水に注ぎ込んでジエチルエ
ーテルを加え有機層を抽出した。得られたジエチルエー
テル層を飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒
を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
２）の化合物を主成分とする油状粗生成物２１７．１ｍ
ｇを投入し、蒸留ベンゼン２．５ｍｌと蒸留塩化メチレ
ン２．５ｍｌとを加え溶解した。この溶液を０℃に溶解
し、エチルビニルエーテル０．３２ｍｌと触媒量のｐ−
トルエンスルホン酸ピリジニウムを加え１時間撹拌し
た。反応終了後、反応液に蒸留トリエチルアミン０．２
ｍｌを加え、それを飽和重曹水に注ぎ込んでジエチルエ
ーテルを加え有機層を抽出した。得られたジエチルエー
テル層を飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒
を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１７０】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）に
て精製し、油状化合物２２２．９ｍｇを得た。この油状
化合物は以下に示す同定データにより式（１３）の化合
物であることが確認できた（工程ｌ及びｍの積算収率８
４％）。
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）に
て精製し、油状化合物２２２．９ｍｇを得た。この油状
化合物は以下に示す同定データにより式（１３）の化合
物であることが確認できた（工程ｌ及びｍの積算収率８
４％）。
【０１７１】ＩＲ（ｃｍ-1）： 2974,2982,2244,1445,
13891 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.26-7.40(m=4H),4.25-5.20(m,6H),3.25-3.80(m,4H),
1.05-2.05(m,26H)
13891 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.26-7.40(m=4H),4.25-5.20(m,6H),3.25-3.80(m,4H),
1.05-2.05(m,26H)
【０１７２】工程ｎ アルゴン置換した反応器に、蒸留テトラヒドロフラン４
２ｍｌを投入し、０℃に冷却した。これに１，１，１，
３，３，３−ヘキサメチルジシラザン０．７３ｍｌと
１．６１規定ｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液１．２
９ｍｌとを加え、３０分間撹拌し、更に室温に戻し３０
分間撹拌した。この溶液を加熱し、溶媒の還流下で工程
ｍで得られた式（１３）で表される化合物１６５．５ｍ
ｇを蒸留テトラヒドロフラン１８ｍｌに溶解したものを
１時間かけて滴下し、更に、４０分間撹拌した。反応終
了後、反応液を室温に冷却し、それを飽和塩化アンモニ
ウム水溶液に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機層
を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和食塩水
により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。
固形物を濾別し、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成
物を残渣として得た。
２ｍｌを投入し、０℃に冷却した。これに１，１，１，
３，３，３−ヘキサメチルジシラザン０．７３ｍｌと
１．６１規定ｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液１．２
９ｍｌとを加え、３０分間撹拌し、更に室温に戻し３０
分間撹拌した。この溶液を加熱し、溶媒の還流下で工程
ｍで得られた式（１３）で表される化合物１６５．５ｍ
ｇを蒸留テトラヒドロフラン１８ｍｌに溶解したものを
１時間かけて滴下し、更に、４０分間撹拌した。反応終
了後、反応液を室温に冷却し、それを飽和塩化アンモニ
ウム水溶液に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機層
を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和食塩水
により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。
固形物を濾別し、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成
物を残渣として得た。
【０１７３】この粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４０／ｌ）にて精
製し、油状化合物１４２．８ｍｇを得た。この油状化合
物は以下に示す同定データにより式（１４）の化合物で
あることが確認できた。
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４０／ｌ）にて精
製し、油状化合物１４２．８ｍｇを得た。この油状化合
物は以下に示す同定データにより式（１４）の化合物で
あることが確認できた。
【０１７４】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 2974,2926,2242,1445,13821 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.29-7.62(m,4H),4.37-5.25(m,3H),3.27-3.73(m,6H),
1.01-2.04(m,26H)
7.29-7.62(m,4H),4.37-5.25(m,3H),3.27-3.73(m,6H),
1.01-2.04(m,26H)
【０１７５】工程ｏ 反応器に、工程ｎで得られた式（１４）の化合物１４
２．８ｍｇを投入し、メタノール３ｍｌを加え溶解し
た。この溶液に触媒量のｐ−トルエンスルホン酸ピリジ
ニウムを加え８時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽
和食塩水に注ぎ込んで、ジエチルエーテルを加え有機層
を抽出した。得られたジエチルエーテル層を無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧
下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
２．８ｍｇを投入し、メタノール３ｍｌを加え溶解し
た。この溶液に触媒量のｐ−トルエンスルホン酸ピリジ
ニウムを加え８時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽
和食塩水に注ぎ込んで、ジエチルエーテルを加え有機層
を抽出した。得られたジエチルエーテル層を無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧
下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１７６】この粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→５／
１）にて精製し、油状化合物９６．８ｍｇを得た。この
油状化合物は以下に示す同定データにより式（１５）の
化合物であることが確認できた（収率１００％）。
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→５／
１）にて精製し、油状化合物９６．８ｍｇを得た。この
油状化合物は以下に示す同定データにより式（１５）の
化合物であることが確認できた（収率１００％）。
【０１７７】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）： 3376,2944,2228,1463,14501 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.29-7.62(m,4H),5.06(d,1H,J=2Hz),3,30-3.50(m,2
H),3.00-3.15(b,1H),1.87-2.15(m,3H),1.67(s,3H),1.15
-1.30(m,2H),1.07(s,3H),1.12(s,3H)
7.29-7.62(m,4H),5.06(d,1H,J=2Hz),3,30-3.50(m,2
H),3.00-3.15(b,1H),1.87-2.15(m,3H),1.67(s,3H),1.15
-1.30(m,2H),1.07(s,3H),1.12(s,3H)
【０１７８】工程ｐ 反応器に、工程ｏで得られた式（１５）の化合物９６．
８ｍｇを投入し、ジエチルエーテル３ｍｌを加え溶解し
た。この溶液に１規定水酸化ナトリウム水溶液２ｍｌを
加え、１０分間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和食
塩水に注ぎ込み、ジエチルエーテルを加え有機層を抽出
した。得られたジエチルエーテル層を飽和食塩水にて２
回洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。固形物
を濾別した後、溶媒を減圧濃縮し、白色結晶粗生成物を
残渣として得た。
８ｍｇを投入し、ジエチルエーテル３ｍｌを加え溶解し
た。この溶液に１規定水酸化ナトリウム水溶液２ｍｌを
加え、１０分間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和食
塩水に注ぎ込み、ジエチルエーテルを加え有機層を抽出
した。得られたジエチルエーテル層を飽和食塩水にて２
回洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。固形物
を濾別した後、溶媒を減圧濃縮し、白色結晶粗生成物を
残渣として得た。
【０１７９】この粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→１０／
１→５／１）にて精製し、白色結晶化合物６０．０ｍｇ
を得た。この白色結晶化合物は以下に示す同定データに
より式（１）のＣ−アロマタキソール類縁体であること
が確認できた。
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→１０／
１→５／１）にて精製し、白色結晶化合物６０．０ｍｇ
を得た。この白色結晶化合物は以下に示す同定データに
より式（１）のＣ−アロマタキソール類縁体であること
が確認できた。
【０１８０】同定データ ｍｐ： 159-160 ℃ ＭＳ： 270.1639（分析）； 270.1620（計算） ＩＲ（ｃｍ-1）： 3436,2992,2908,1693,16441 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.06-7.66(m=4H),5.09(s,1H),3.76,(d,1H,J=16,2Hz),
3.67,(d,1H,J=16,2Hz),1,89-2.12(m,3H),1.45-1.64(b,1
H),1.40(s,3H),1.14-1.25(m,2H),1.40(s,3H),0.55(s,3
H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 208.51,143.73,134.99,134.08,131.40,127.82,
127.03,127.00,71.04,53.54,50.65,35.46,29.86,26.71,
24.93,21.52,17.42
7.06-7.66(m=4H),5.09(s,1H),3.76,(d,1H,J=16,2Hz),
3.67,(d,1H,J=16,2Hz),1,89-2.12(m,3H),1.45-1.64(b,1
H),1.40(s,3H),1.14-1.25(m,2H),1.40(s,3H),0.55(s,3
H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐ
ｍ）： 208.51,143.73,134.99,134.08,131.40,127.82,
127.03,127.00,71.04,53.54,50.65,35.46,29.86,26.71,
24.93,21.52,17.42
【０１８１】実施例６ 工程ａ´ アルゴン置換した反応器に式（５）でＸが塩素原子であ
り、Ｒ1 およびＹが水酸基である化合物3.65ｇを投入
し、蒸留ジメチルホルムアミド１２０ｍｌを加え溶解し
た。この溶液を０℃に冷却し、イミダゾール1.05ｇ、ｔ
−ブチルジメチルシリルクロリド1.97ｇを加え、反応液
を室温に戻して室温にて２時間撹拌した。反応終了後、
反応液を１規定塩酸に注ぎ込んでジエチルエーテルを加
え有機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽
和重曹水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し、
油状の粗生成物を残渣として6.74ｇを得た。この油状化
合物は以下に示す同定データにより式（５）でＸが塩素
原子であり、Ｒ1 が水酸基であり、Ｙがｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ基の化合物であることが確認できた。
り、Ｒ1 およびＹが水酸基である化合物3.65ｇを投入
し、蒸留ジメチルホルムアミド１２０ｍｌを加え溶解し
た。この溶液を０℃に冷却し、イミダゾール1.05ｇ、ｔ
−ブチルジメチルシリルクロリド1.97ｇを加え、反応液
を室温に戻して室温にて２時間撹拌した。反応終了後、
反応液を１規定塩酸に注ぎ込んでジエチルエーテルを加
え有機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽
和重曹水により洗浄後、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を留去し、
油状の粗生成物を残渣として6.74ｇを得た。この油状化
合物は以下に示す同定データにより式（５）でＸが塩素
原子であり、Ｒ1 が水酸基であり、Ｙがｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ基の化合物であることが確認できた。
【０１８２】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）；3445(OH),2920,2850,1720,1460,1255,
1050,8351 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.47-7.27 (m,4H),4.99 (d,1H,J=9.5Hz),4.83(d,1H,1
H,J=11.6Hz),4.66(d,1H,J=11.6Hz),4.05-4.12(m,2H),1.
70-1.95(m,3H),1.67(s,3H),1.43(s,3H),0.95-1.45(m,2
H),1.21(s,3H),0.92(s,9H),0.11(s,6H)
1050,8351 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.47-7.27 (m,4H),4.99 (d,1H,J=9.5Hz),4.83(d,1H,1
H,J=11.6Hz),4.66(d,1H,J=11.6Hz),4.05-4.12(m,2H),1.
70-1.95(m,3H),1.67(s,3H),1.43(s,3H),0.95-1.45(m,2
H),1.21(s,3H),0.92(s,9H),0.11(s,6H)
【０１８３】実施例７ 工程ｂ´ アルゴン置換した反応器に式（５）でＸが塩素原子であ
り、Ｒ1 が水酸基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基である粗生成物6.74ｇを投入し、蒸留塩化メ
チレン５０ｍｌと蒸留ベンゼン５０ｍｌを加え溶解し
た。この溶液を０℃に冷却し、触媒量のｐ−トルエンス
ルホン酸ピリジニウムと、エチルビニルエーテル 3.4ｍ
ｌを加え、反応液を室温に戻して室温にて４時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を飽和重曹水に注ぎ込んでジエ
チルエーテルを加え有機層を抽出した。得られたジエチ
ルエーテル層を飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下
で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
り、Ｒ1 が水酸基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基である粗生成物6.74ｇを投入し、蒸留塩化メ
チレン５０ｍｌと蒸留ベンゼン５０ｍｌを加え溶解し
た。この溶液を０℃に冷却し、触媒量のｐ−トルエンス
ルホン酸ピリジニウムと、エチルビニルエーテル 3.4ｍ
ｌを加え、反応液を室温に戻して室温にて４時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を飽和重曹水に注ぎ込んでジエ
チルエーテルを加え有機層を抽出した。得られたジエチ
ルエーテル層を飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下
で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１８４】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝１５０
／１、１００／１、５０／１）にて精製し、油状化合物
5.35ｇを得た。この油状化合物は以下に示す同定データ
により式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ1 がエトキシ
エチルオキシ基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基であるの化合物であることが確認できた。（工
程ａ´および工程ｂ´の積算収率９１％）
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝１５０
／１、１００／１、５０／１）にて精製し、油状化合物
5.35ｇを得た。この油状化合物は以下に示す同定データ
により式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ1 がエトキシ
エチルオキシ基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基であるの化合物であることが確認できた。（工
程ａ´および工程ｂ´の積算収率９１％）
【０１８５】同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）；2925,1460,1385,1255,1050,8351 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.0-7.69(b,4H),4.4-5.2(b,3H),4.0-4.3(b,2H),2.8-
2.95,3.25-3.6(b,2H),1.65(s,3H),1.45,1.65(s total 3
H),1.12,1.17(s,total 3H),0.92(s,9H),0.91,0.68(t,to
tal 3H,each J=6.9Hz),0.01(s,6H)
7.0-7.69(b,4H),4.4-5.2(b,3H),4.0-4.3(b,2H),2.8-
2.95,3.25-3.6(b,2H),1.65(s,3H),1.45,1.65(s total 3
H),1.12,1.17(s,total 3H),0.92(s,9H),0.91,0.68(t,to
tal 3H,each J=6.9Hz),0.01(s,6H)
【０１８６】実施例８ 工程ｃ´ 反応器に式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ1 がエトキ
シエチルオキシ基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基である化合物5.35ｇを投入し、蒸留ジメチル
スルホキシド１００ｍｌを加え溶解した。この溶液に炭
酸水素ナトリウム2.73ｇを加え、１１０℃にて１１時間
撹拌した。
シエチルオキシ基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基である化合物5.35ｇを投入し、蒸留ジメチル
スルホキシド１００ｍｌを加え溶解した。この溶液に炭
酸水素ナトリウム2.73ｇを加え、１１０℃にて１１時間
撹拌した。
【０１８７】反応終了後、反応液を飽和食塩水を注ぎ込
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。無水硫
酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、
減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝３０／１、２５
／１、１５／１）にて精製し、油状化合物3.93ｇを得
た。この油状化合物は以下に示す同定データにより式
（２）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であり、Ｙがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物であるこ
とが確認できた。（収率７７％） 同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）；2950,2925,1695(C=O),1600,1570,146
0,1380,1250,1055,840,7601 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.56(s,1H),7.85(d,1H,J=7.6Hz),7.53(d,1H,J=3.6H
z), 7.35-7.41(m,1H),5.15(d,1H,J=9.6Hz),4.66(q,1H,J
=5.3Hz),4.16(s,2H),3.17-3.24(m,1H),2.87-2.95(m,1
H),1.69-1.90(m,3H),1.65(s,3H),1.38(m,3H),1.19-2.28
(m,2H),1.31(d,3H,J=5.3Hz)，1.15(s,3H),0.93(s,9H),
0.63(t,3H,J=6.9Hz),0.10(s,6H) 式（２）の化合物（ジアステレオマーの２） ＩＲ（ｃｍ-1）；2925,2880,1695(C=O),1595,1460,138
5,1255,1055,940,7751 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.58(bs,1H),7.90(d,1H,J=7.6Hz),7.30-7.58(m,1H),
5.2-5.6(b,1H,),4.11-4.26(m,3H,),3.38-3.50(m,2H),1.
71-1.95(m,5H),1.65(s,3H),1.44(s,3H),1.21(s,3H),1.1
7(d,3H,J=5.3Hz),0.92(s,9H),0.92(t,3H,J=5.5Hz),0.10
(s,6H)
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。無水硫
酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、
減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝３０／１、２５
／１、１５／１）にて精製し、油状化合物3.93ｇを得
た。この油状化合物は以下に示す同定データにより式
（２）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であり、Ｙがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物であるこ
とが確認できた。（収率７７％） 同定データ ＩＲ（ｃｍ-1）；2950,2925,1695(C=O),1600,1570,146
0,1380,1250,1055,840,7601 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.56(s,1H),7.85(d,1H,J=7.6Hz),7.53(d,1H,J=3.6H
z), 7.35-7.41(m,1H),5.15(d,1H,J=9.6Hz),4.66(q,1H,J
=5.3Hz),4.16(s,2H),3.17-3.24(m,1H),2.87-2.95(m,1
H),1.69-1.90(m,3H),1.65(s,3H),1.38(m,3H),1.19-2.28
(m,2H),1.31(d,3H,J=5.3Hz)，1.15(s,3H),0.93(s,9H),
0.63(t,3H,J=6.9Hz),0.10(s,6H) 式（２）の化合物（ジアステレオマーの２） ＩＲ（ｃｍ-1）；2925,2880,1695(C=O),1595,1460,138
5,1255,1055,940,7751 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
10.58(bs,1H),7.90(d,1H,J=7.6Hz),7.30-7.58(m,1H),
5.2-5.6(b,1H,),4.11-4.26(m,3H,),3.38-3.50(m,2H),1.
71-1.95(m,5H),1.65(s,3H),1.44(s,3H),1.21(s,3H),1.1
7(d,3H,J=5.3Hz),0.92(s,9H),0.92(t,3H,J=5.5Hz),0.10
(s,6H)
【０１８８】実施例９ 工程ｄ´ 反応器に式（２）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であ
り、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合
物1.46ｇを投入し、トリメチルシリルニトリル1.23ｍｌ
を加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、触媒量のシ
スージシクオヘキサノ−１８−クラウン−６−シアン化
カリウム錯体を加え、反応液を室温に戻して室温にて２
時間撹拌した。更に１規定塩酸１０ｍｌとテトラヒドロ
フラン１０ｍｌを加え、１時間撹拌した。
り、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合
物1.46ｇを投入し、トリメチルシリルニトリル1.23ｍｌ
を加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、触媒量のシ
スージシクオヘキサノ−１８−クラウン−６−シアン化
カリウム錯体を加え、反応液を室温に戻して室温にて２
時間撹拌した。更に１規定塩酸１０ｍｌとテトラヒドロ
フラン１０ｍｌを加え、１時間撹拌した。
【０１８９】反応終了後、反応液に飽和食塩水を注ぎ込
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。無水硫
酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、
減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として1.
76ｇを得た。この油状化合物は以下に示すＩＲデータに
よりカルボニル基の喪失と水酸基が確認できたため式
（１２）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であり、Ｙが
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物である
ことが確認できた。 ＩＲ（ｃｍ-1）；3390(OH),2950,1460,1384
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。無水硫
酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、
減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として1.
76ｇを得た。この油状化合物は以下に示すＩＲデータに
よりカルボニル基の喪失と水酸基が確認できたため式
（１２）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であり、Ｙが
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物である
ことが確認できた。 ＩＲ（ｃｍ-1）；3390(OH),2950,1460,1384
【０１９０】実施例１０ 工程ｅ´ アルゴン置換した反応器に式（１２）でＲ1 がエトキシ
エチルオキシ基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基である化合物の粗生成物1.76ｇを投入し、蒸留
塩化メチレン１５ｍｌと蒸留ベンゼン１５ｍｌを加え溶
解した。この溶液を０℃に冷却し、触媒量のｐ−トルエ
ンスルホン酸ピリジニウムと、エチルビニルエーテル0.
88ｍｌを加え、反応液を室温に戻して室温にて１５時間
撹拌した。
エチルオキシ基であり、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基である化合物の粗生成物1.76ｇを投入し、蒸留
塩化メチレン１５ｍｌと蒸留ベンゼン１５ｍｌを加え溶
解した。この溶液を０℃に冷却し、触媒量のｐ−トルエ
ンスルホン酸ピリジニウムと、エチルビニルエーテル0.
88ｍｌを加え、反応液を室温に戻して室温にて１５時間
撹拌した。
【０１９１】反応終了後、反応液を飽和重曹水に注ぎ込
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。得られ
たジエチルエーテル層を飽和食塩水により洗浄後、無水
硫酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した
後、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣とし
て得た。
んでジエチルエーテルを加え有機層を抽出した。得られ
たジエチルエーテル層を飽和食塩水により洗浄後、無水
硫酸マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した
後、減圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣とし
て得た。
【０１９２】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝３０／
１）にて精製し、油状化合物 1.451ｇを得た。この油状
化合物は以下に示すＩＲデータにより水酸基の喪失がみ
られたため式（１３）でＹがｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基である化合物であることが確認できた。（工程
ｄ´および工程ｅ´の積算収率８２％） ＩＲ（ｃｍ-1）；2925,1460,1385
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝３０／
１）にて精製し、油状化合物 1.451ｇを得た。この油状
化合物は以下に示すＩＲデータにより水酸基の喪失がみ
られたため式（１３）でＹがｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ基である化合物であることが確認できた。（工程
ｄ´および工程ｅ´の積算収率８２％） ＩＲ（ｃｍ-1）；2925,1460,1385
【０１９３】実施例１１ 工程ｆ´ アルゴン置換した反応器に式（１３）でＹがｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ基である化合物1.45ｇを投入し、
蒸留テトラヒドロフラン１５ｍｌを加え溶解した。この
溶液にテトラブチルアンモニウムフロリド1.32ｇを加
え、７０℃にて２８時間撹拌した。反応終了後、反応液
を飽和重曹水を注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機
層を抽出した。さらに飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸
マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減
圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得
た。
ジメチルシリルオキシ基である化合物1.45ｇを投入し、
蒸留テトラヒドロフラン１５ｍｌを加え溶解した。この
溶液にテトラブチルアンモニウムフロリド1.32ｇを加
え、７０℃にて２８時間撹拌した。反応終了後、反応液
を飽和重曹水を注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有機
層を抽出した。さらに飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸
マグネシウムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減
圧下で溶媒を留去し、油状の粗生成物を残渣として得
た。
【０１９４】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／
１、１０／１、１／１）にて精製し、油状化合物0.71ｇ
を得た。この油状化合物は以下に示すＩＲデータにより
水酸基が確認できたため式（１３）でＹが水酸基である
化合物であることが確認できた。（収率６２％） ＩＲ（ｃｍ-1）；3450(OH),2970,2930,1445,1390
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／
１、１０／１、１／１）にて精製し、油状化合物0.71ｇ
を得た。この油状化合物は以下に示すＩＲデータにより
水酸基が確認できたため式（１３）でＹが水酸基である
化合物であることが確認できた。（収率６２％） ＩＲ（ｃｍ-1）；3450(OH),2970,2930,1445,1390
【０１９５】実施例１２ 工程ｇ´ アルゴン置換した反応器に式（１３）でＹが水酸基であ
る化合物811.9mg を投入し、蒸留テトラヒドロフラン２
０ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、トリ
エチルアミン1.48mlとメタンスルホン酸クロリド0.30ｍ
ｌを加え、反応液を室温に戻して室温にて１時間３０分
撹拌した。さらにこの溶液を０℃に冷却し、リチウムク
ロリド164.8 ｍｇを加え、反応液を室温に戻して室温に
て２時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アン
モニウム水溶液に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有
機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和重
曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウム
により乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を
留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
る化合物811.9mg を投入し、蒸留テトラヒドロフラン２
０ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却し、トリ
エチルアミン1.48mlとメタンスルホン酸クロリド0.30ｍ
ｌを加え、反応液を室温に戻して室温にて１時間３０分
撹拌した。さらにこの溶液を０℃に冷却し、リチウムク
ロリド164.8 ｍｇを加え、反応液を室温に戻して室温に
て２時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アン
モニウム水溶液に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え有
機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和重
曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウム
により乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を
留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１９６】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／
１、１０／１）にて精製し、油状化合物526.4 ｍｇを得
た。この油状化合物は以下に示す同定データにより水酸
基の喪失が確認されたため式（１３）でＹが塩素原子で
ある化合物であることが確認できた。（収率６２％） ＩＲ（ｃｍ-1）；2970,2925,1765,1445,13851 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.2-7.8(m,4H),4.4-5.4(m,3H),4.05-4.35(m,3H),3.25
-3.80(m,4H),0.40-2.10(m,20H)
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／
１、１０／１）にて精製し、油状化合物526.4 ｍｇを得
た。この油状化合物は以下に示す同定データにより水酸
基の喪失が確認されたため式（１３）でＹが塩素原子で
ある化合物であることが確認できた。（収率６２％） ＩＲ（ｃｍ-1）；2970,2925,1765,1445,13851 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.2-7.8(m,4H),4.4-5.4(m,3H),4.05-4.35(m,3H),3.25
-3.80(m,4H),0.40-2.10(m,20H)
【０１９７】実施例１３ 工程ｈ´ アルゴン置換した反応器に、蒸留テトラヒドロフラン１
５０ｍｌを投入し、０℃に冷却した。これに1,1,1,3,3,
3,- ヘキサメチルジシラザン2.25ｍｌと1.80規定ｎ−ブ
チルリチウム−ヘキサン溶液とを加え、室温に戻し３０
分間撹拌した。この溶液を加熱し、溶媒還流下で工程ｇ
´で得られた式（１３）でＹが塩素原子である化合物50
9.3 ｍｇを蒸留テトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解した
ものを３時間かけて滴下し、さらに２０分間撹拌した。
反応終了後、反応液を室温に冷却し、それを飽和塩化ア
ンモニウム水溶液に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え
有機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和
重曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒
を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
５０ｍｌを投入し、０℃に冷却した。これに1,1,1,3,3,
3,- ヘキサメチルジシラザン2.25ｍｌと1.80規定ｎ−ブ
チルリチウム−ヘキサン溶液とを加え、室温に戻し３０
分間撹拌した。この溶液を加熱し、溶媒還流下で工程ｇ
´で得られた式（１３）でＹが塩素原子である化合物50
9.3 ｍｇを蒸留テトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解した
ものを３時間かけて滴下し、さらに２０分間撹拌した。
反応終了後、反応液を室温に冷却し、それを飽和塩化ア
ンモニウム水溶液に注ぎ込んでジエチルエーテルを加え
有機層を抽出した。得られたジエチルエーテル層を飽和
重曹水、飽和食塩水により洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムにより乾燥した。固形物を濾別した後、減圧下で溶媒
を留去し、油状の粗生成物を残渣として得た。
【０１９８】得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／
１、１０／１）にて精製し、油状化合物 420.9ｍｇを得
た。この油状化合物は以下に示す同定データにより式
（１４）でベンジル位にシアノ基が付いている化合物で
あることが確認できた。（収率８９％）1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
6.98,8.05(m,4H),4.18-4.25,4.45-4.75,4.95-5.35,5.
55-6.65(m,2H),3.00-3.75(m,6H),0.35-2.30(m,20H)
マトグラフィー（ヘキサン／ジエチルエーテル＝２０／
１、１０／１）にて精製し、油状化合物 420.9ｍｇを得
た。この油状化合物は以下に示す同定データにより式
（１４）でベンジル位にシアノ基が付いている化合物で
あることが確認できた。（収率８９％）1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
6.98,8.05(m,4H),4.18-4.25,4.45-4.75,4.95-5.35,5.
55-6.65(m,2H),3.00-3.75(m,6H),0.35-2.30(m,20H)
【０１９９】実施例１４ 工程ｉ´ アルゴン置換した反応器に式（１４）でベンジル位にシ
アノ基が付いている生成物4 20.9ｍｇを投入し、メタノ
ール１０ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却
し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムと、
エチルビニルエーテル0.88ｍｌを加え、反応液を４０℃
に加熱し６時間３０分撹拌した。反応終了後、反応液を
飽和重曹水と飽和食塩水の混合液に注ぎ込んでジエチル
エーテルを加え有機層を抽出した。無水硫酸マグネシウ
ムにより乾燥し、固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を
留去し、白色結晶 171.2ｍｇを得た。この白色結晶は以
下に示す同定データにより式（１５）でベンジル位にシ
アノ基が付いている化合物であることが確認できた。
（収率６０％）
アノ基が付いている生成物4 20.9ｍｇを投入し、メタノ
ール１０ｍｌを加え溶解した。この溶液を０℃に冷却
し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムと、
エチルビニルエーテル0.88ｍｌを加え、反応液を４０℃
に加熱し６時間３０分撹拌した。反応終了後、反応液を
飽和重曹水と飽和食塩水の混合液に注ぎ込んでジエチル
エーテルを加え有機層を抽出した。無水硫酸マグネシウ
ムにより乾燥し、固形物を濾別した後、減圧下で溶媒を
留去し、白色結晶 171.2ｍｇを得た。この白色結晶は以
下に示す同定データにより式（１５）でベンジル位にシ
アノ基が付いている化合物であることが確認できた。
（収率６０％）
【０２００】同定データ1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＴＨＦ−ｄ４，ｐｐ
ｍ）： 7.87(dd,1H,J=1.3Hz,J=7.9Hz),7.75(dd,1H,J=
1.3Hz,J=7.9Hz),7.32(dd,1H,J=1.3Hz,J=7.6Hz,J=7.6H
z),7.11(ddd,1H,J=1.5Hz,J=7.6Hz,J=7.6Hz),6.40(d,1H,
J=1.3Hz),5.67(s,1H),3.90(d,1H,J=3.6Hz),3.20(d,1H,J
=14.2Hz),3.09(d,1H,J=14.2Hz),2.52(s,2H),1.79-2.07
(m,2H),1.55(s,3H),1.12-1.31(m,1H),1.05(s,3H),0.59
(s,3H)
ｍ）： 7.87(dd,1H,J=1.3Hz,J=7.9Hz),7.75(dd,1H,J=
1.3Hz,J=7.9Hz),7.32(dd,1H,J=1.3Hz,J=7.6Hz,J=7.6H
z),7.11(ddd,1H,J=1.5Hz,J=7.6Hz,J=7.6Hz),6.40(d,1H,
J=1.3Hz),5.67(s,1H),3.90(d,1H,J=3.6Hz),3.20(d,1H,J
=14.2Hz),3.09(d,1H,J=14.2Hz),2.52(s,2H),1.79-2.07
(m,2H),1.55(s,3H),1.12-1.31(m,1H),1.05(s,3H),0.59
(s,3H)
【０２０１】実施例１５ 工程ｊ´ 反応器に工程ｉ´で得られた式（１５）でベンジル位に
シアノ基が付いている化合物 171.2ｍｇをテトラヒドロ
フラン５ｍｌに溶解し、１０％水酸化ナトリウム水溶液
を加え、２０分間撹拌した。
シアノ基が付いている化合物 171.2ｍｇをテトラヒドロ
フラン５ｍｌに溶解し、１０％水酸化ナトリウム水溶液
を加え、２０分間撹拌した。
【０２０２】反応終了後、反応液を飽和食塩水に注ぎ込
み、ジエチルエーテルを加え、有機層を抽出した。無水
硫酸マグネシウムにより乾燥し、固形物を濾別した後、
減圧下で溶媒を留去し、白色結晶を得た。この白色結晶
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／ジ
エチルエーテル＝２０／１、１０／１、５／１）にて精
製し、白色結晶 147,5ｍｇを得た。この白色結晶は以下
に示す同定データにより式（１）でＲ1 が水酸基であ
り、ベンジル位にシアノ基が付いている化合物であるこ
とが確認できた。（収率９５％）1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.55(d,1H,J=7.6Hz),7.36(ddd,1H,J=1.3Hz,J=7.6Hz,J
=7.6Hz),7.18(ddd,1H,J=1.0Hz,J=7.6Hz,J=7.3Hz),7.04
(dd,1H,J=1.3Hz,J=7.2Hz),4.89(s,1H),3.47(d,1H,J=15.
5Hz),3.32(dd,1H,J=15.5Hz,J=1.7Hz),1.85-2.18m,2H),
1.55-1.65(m,2H),1.30-1.50(m,2H),1.28(s,3H),1.10(s,
3H),0.80(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
210.7,141.7,140.2,135.3,128.9,127.5,126.3,124.4,12
4.1,70.6,52.8,48.6,37.4,28.7,28.0,26.1,20.6,16.1
み、ジエチルエーテルを加え、有機層を抽出した。無水
硫酸マグネシウムにより乾燥し、固形物を濾別した後、
減圧下で溶媒を留去し、白色結晶を得た。この白色結晶
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／ジ
エチルエーテル＝２０／１、１０／１、５／１）にて精
製し、白色結晶 147,5ｍｇを得た。この白色結晶は以下
に示す同定データにより式（１）でＲ1 が水酸基であ
り、ベンジル位にシアノ基が付いている化合物であるこ
とが確認できた。（収率９５％）1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
7.55(d,1H,J=7.6Hz),7.36(ddd,1H,J=1.3Hz,J=7.6Hz,J
=7.6Hz),7.18(ddd,1H,J=1.0Hz,J=7.6Hz,J=7.3Hz),7.04
(dd,1H,J=1.3Hz,J=7.2Hz),4.89(s,1H),3.47(d,1H,J=15.
5Hz),3.32(dd,1H,J=15.5Hz,J=1.7Hz),1.85-2.18m,2H),
1.55-1.65(m,2H),1.30-1.50(m,2H),1.28(s,3H),1.10(s,
3H),0.80(s,3H)13 Ｃ−ＮＭＲ（６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ）：
210.7,141.7,140.2,135.3,128.9,127.5,126.3,124.4,12
4.1,70.6,52.8,48.6,37.4,28.7,28.0,26.1,20.6,16.1
【０２０３】
【発明の効果】本発明によれば、新規なＣ−アロマタキ
ソール類縁体を、Ｂ環の水酸基をメチルエーテル化また
はメトキシメチルエーテル化して保護することなく、分
子内閉環反応を利用して簡便に提供できる。また、その
Ｃ−アロマタキソール類縁体は、生理活性物質の合成原
料として有用である。
ソール類縁体を、Ｂ環の水酸基をメチルエーテル化また
はメトキシメチルエーテル化して保護することなく、分
子内閉環反応を利用して簡便に提供できる。また、その
Ｃ−アロマタキソール類縁体は、生理活性物質の合成原
料として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 47/55 47/57 47/575 49/747 Ｃ 9049−4Ｈ 49/753 Ｂ 9049−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 7/18 Ａ
Claims (30)
- 【請求項１】 式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、エトキシエチルオキシ基、低級アルカノイルオキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基又はアラルコキシ
基である。）で表される化合物。 - 【請求項２】 式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、エトキシエチルオキシ基、低級アルカノイルオキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基又はアラルコキシ
基であり、Ｙはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、水
酸基又はハロゲン原子である。）で表される化合物。 - 【請求項３】 式（３） 【化３】 （式中、Ｒ2 はアシル基であり、Ｘはハロゲン原子であ
る。）で表される化合物。 - 【請求項４】 Ｒ1 が水酸基であり、ベンジル位にカル
ボニル基を有しない請求項１記載の化合物の製造方法に
おいて： 【化４】 （ｌ）式（２）でＲ1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子で
ある化合物のカルボニル基にニトリル基を付加させて式
（１２）でＲ1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子の化合物
を得る工程； （ｍ）式（１２）でＲ1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子
である化合物の水酸基をエトキシエチル基で保護して式
（１３）でＲ1 がエトキシエチル基であり、Ｘが塩素原
子である化合物を得る工程； （ｎ）式（１３）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であ
り、Ｘが塩素原子である化合物を塩基で閉環させて式
（１４）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であり、ベン
ジル位にシアノ基を有しない化合物を得る工程； （ｏ）式（１４）でＲ1 がエトキシエチルオキシ基であ
り、ベンジル位にシアノ基を有しない化合物の水酸基を
保護しているエトキシエチル基を除去して式（１５）で
Ｒ1 が水酸基であり、ベンジル位にシアノ基を有しない
化合物を得る工程；及び （ｐ）式（１５）でＲ1 が水酸基であり、ベンジル位に
シアノ基を有しない化合物のニトリル基を除去して式
（１）でＲ1 が水酸基であり、ベンジル位にカルボニル
基を有しない化合物を得る工程を含んでなることを特徴
とする製造方法。 - 【請求項５】 Ｒ1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子であ
る請求項２記載の化合物の製造方法において： 【化５】 （ｂ）式（３）でＲ がアセトキシ基の化合物の第三級
水酸基を脱離させて式（４）でＲ2 がアセトキシ基で、
Ｘが塩素原子である化合物を得る工程； （ｃ）式（４）でＲ2 がアセトキシ基で、Ｘが塩素原子
である化合物のカルボニル基を還元し且つアセチル基を
還元的に除去して式（５）でＸが塩素原子であり、Ｒ1
およびＹが水酸基である化合物を得る工程；及び （ｄ）式（５）でＸが塩素原子で、Ｒ1 およびＹが水酸
基である化合物の第一級水酸基を酸化して式（２）でＸ
が塩素原子で、Ｒ1 が水酸基である化合物を得る工程を
含んでなることを特徴とする製造方法。 - 【請求項６】 Ｒ1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子であ
る請求項２記載の化合物の製造方法において： 【化６】 （ｂ）式（３）でＸが塩素原子である化合物の第三級水
酸基を脱離させて式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ2
がアセトキシ基である化合物を得る工程； （ｅ）式（６）でＸが塩素原子であり、Ｒ2 がアセトキ
シ基である化合物のカルボニル基を還元し且つアセチル
基を還元的に除去して式（７）でＸが塩素原子である化
合物を得る工程； （ｆ）式（７）でＸが塩素原子である化合物の第一級水
酸基と第二級水酸基とを酸化して式（８）でＸが塩素原
子である化合物を得る工程； （ｇ）式（８）でＸが塩素原子である化合物の二重結合
を異性化して式（９）でＸが塩素原子である化合物を得
る工程； （ｈ）式（９）でＸが塩素原子である化合物の二つのカ
ルボニル基を還元して式（５）でＸが塩素原子で、Ｒ1
およびＹが水酸基である化合物を得る工程；及び （ｄ）式（５）でＸが塩素原子で、Ｒ1 およびＹが水酸
基である化合物の第一級水酸基を酸化して式（２）でＲ
1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子である化合物を得る工
程を含んでなることを特徴とする製造方法。 - 【請求項７】 Ｒ1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子であ
る請求項２記載の化合物の製造方法において： 【化７】 （ｉ）式（３）でＲ がアセトキシ基で、Ｘが塩素原子
である化合物のカルボニル基を還元し且つアセチル基を
還元的に除去して式（１０）でＸが塩素原子である化合
物を得る工程； （ｊ）式（１０）でＸが塩素原子である化合物の第一級
水酸基と第二級水酸基とを酸化して式（１１）でＸが塩
素原子である化合物を得る工程 （ｋ）式（１１）でＸが塩素原子である化合物の第三級
水酸基を脱離させて式（９）でＸが塩素原子である化合
物を得る工程； （ｈ）式（９）でＸが塩素原子である化合物の二つのカ
ルボニル基を還元して式（５）でＸが塩素原子で、Ｒ1
およびＹが水酸基である化合物を得る工程；及び （ｄ）式（５）でＸが塩素原子で、Ｒ1 およびＹが水酸
基である化合物の第一級水酸基を酸化して式（２）でＲ
1 が水酸基であり、Ｘが塩素原子である化合物を得る工
程を含んでなることを特徴とする製造方法。 - 【請求項８】 Ｘが塩素原子である請求項３記載の化合
物の製造方法において： 【化８】 （ａ）ルイス酸の存在下、式（１６）の化合物を式（１
７）の化合物に付加させ、更に環化反応を行うことによ
り式（３）でＸが塩素原子で、Ｒ がアセトキシ基であ
る化合物を得る工程を含むことを特徴とする製造方法。 - 【請求項９】 式（４） 【化９】 （式中、Ｒ2 はアシル基であり、Ｘはハロゲン原子であ
る。）で表される化合物。 - 【請求項１０】 式（５） 【化１０】 （式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、エトキシエチルオキシ基、低級アルカノイルオキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基又はアラルコキシ
基であり、Ｘはハロゲン原子、Ｙはｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。）で
表される化合物。 - 【請求項１１】 式（６） 【化１１】 （式中、Ｒ2 はアシル基であり、Ｘはハロゲン原子であ
る。）で表される化合物。 - 【請求項１２】 式（７） 【化１２】 （式中、Ｘはハロゲン原子である。）で表される化合
物。 - 【請求項１３】 式（８） 【化１３】 （式中、Ｘはハロゲン原子である。）で表される化合
物。 - 【請求項１４】 式（９） 【化１４】 （式中、Ｘはハロゲン原子である。）で表される化合
物。 - 【請求項１５】 式（１０） 【化１５】 （式中、Ｘはハロゲン原子である。）で表される化合
物。 - 【請求項１６】 式（１１） 【化１６】 （式中、Ｘはハロゲン原子である。）で表される化合
物。 - 【請求項１７】 式（１２） 【化１７】 （式中、Ｒ1 は水酸基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、エトキシエチルオキシ基、低級アルカノイルオキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基又はアラルコキシ
基であり、Ｘはハロゲン原子、Ｙはｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。）で
表される化合物。 - 【請求項１８】 式（１３） 【化１８】 （式中、ＥＥはエトキシエチル基であり、Ｘはハロゲン
原子、Ｙはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、水酸基
又はハロゲン原子である。）で表される化合物。 - 【請求項１９】 式（１４） 【化１９】 （式中、ＥＥはエトキシエチル基である。）で表される
化合物。 - 【請求項２０】 式（１５） 【化２０】 で表される化合物。
- 【請求項２１】 式（５）においてＸが塩素原子であ
り、Ｒ1 とＹが水酸基である化合物をｔ−ブチルジメチ
ルシリル基にて保護することを特徴とする式（５）にお
いてＸが塩素原子であり、Ｒ1 が水酸基であり、Ｙがｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物の製造方
法。 - 【請求項２２】 式（５）においてＸが塩素原子であ
り、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリル基であり、Ｒ1 が水
酸基である化合物をエトキシエチル基にて保護すること
を特徴とする式（５）においてＸが塩素原子であり、Ｙ
がｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ1 がエ
トキシエチルオキシ基である化合物の製造方法。 - 【請求項２３】 式（５）においてＸが塩素原子であ
り、Ｙがｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ
1 が水酸基である化合物のハロゲンを酸化することを特
徴とする式（２）においてＹがｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ基であり、Ｒ1 がエトキシエチルオキシ基であ
る化合物の製造方法。 - 【請求項２４】 式（２）においてＹがｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ基であり、Ｒ1 がエトキシエチルオキ
シ基である化合物のカルボニル基にニトリルを付加させ
ることを特徴とする式（１２）においてＹがｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ1 がエトキシエチル
オキシ基である化合物の製造方法。 - 【請求項２５】 式（１２）の化合物においてＹがｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ基であり、Ｒ1 が水酸基で
ある化合物の２級水酸基をエトキシエチル基にて保護す
ることを特徴とする式（１３）においてＹがｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ基である化合物の製造方法。 - 【請求項２６】 式（１３）においてＹがｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ基である化合物のシリル基を除去す
ることを特徴とする式（１３）においてＹが水酸基であ
る化合物の製造方法。 - 【請求項２７】 式（１３）においてＹが水酸基である
化合物の１級水酸基を塩素原子に変換することを特徴と
する式（１３）においてＹが塩素原子である化合物の製
造方法。 - 【請求項２８】 式（１３）においてＹが塩素原子であ
る化合物を塩基で閉環させることを特徴とする式（１
４）においてベンジル位にシアノ基が付いている化合物
の製造方法。 - 【請求項２９】 式（１４）においてベンジル位にシア
ノ基が付いている化合物のエトキシエチル基を除去する
ことを特徴とする式（１５）でベンジル位にシアノ基が
付いている化合物の製造方法。 - 【請求項３０】 式（１５）の化合物のニトリル基を除
去することを特徴とする式（１）でＲ1 が水酸基であ
り、ベンジル位にカルボニル基を有する化合物の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27047394A JPH07304704A (ja) | 1994-03-12 | 1994-10-07 | 新規なｃ−アロマタキソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6807694 | 1994-03-12 | ||
| JP6-68076 | 1994-03-12 | ||
| JP27047394A JPH07304704A (ja) | 1994-03-12 | 1994-10-07 | 新規なｃ−アロマタキソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07304704A true JPH07304704A (ja) | 1995-11-21 |
Family
ID=26409314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27047394A Pending JPH07304704A (ja) | 1994-03-12 | 1994-10-07 | 新規なｃ−アロマタキソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07304704A (ja) |
-
1994
- 1994-10-07 JP JP27047394A patent/JPH07304704A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Fleming et al. | Stereospecific syntheses and reactions of allyl-and allenyl-silanes | |
| Marshall et al. | Synthesis of 7 (8)-desoxyasperdiol. A precursor of the cembranoid asperdiol | |
| Nara et al. | Stereochemical studies—LVII: Synthesis of optically active compounds by the novel use of meso-compounds—1. Efficient synthesis of two structural types of optically pure prostaglandin intermediates | |
| JP3568219B2 (ja) | １９−ノルビタミンｄ化合物の調製 | |
| JPS62145093A (ja) | ポドフイロトキシンおよび関連化合物製造用中間体、並びにその製造方法および利用 | |
| EP0298756B1 (en) | Optically active allyl alcohol and process for producing leucotriene B4 using thereof | |
| US4987236A (en) | Optically active alcohols and process for producing the same | |
| JPH07304704A (ja) | 新規なｃ−アロマタキソール類縁体及びその合成中間体並びにそれらの製造方法 | |
| JPH0717627B2 (ja) | Ｐａｆ拮抗剤として有用な２，５−ジアリールテトラヒドロフラン類及びその類縁体の製造方法 | |
| Hayashi et al. | A Diastereocontrolled Route to (R)-(-)-Baclofen Using a Cyclopentanoid Chiral Building Block | |
| JP3758707B2 (ja) | （−）−トランス−クマウシンの製法および新規中間体 | |
| JP3097678B2 (ja) | アファノルフィン中間体 | |
| JPH07267968A (ja) | （ｚ）−３−メチル−２−シクロペンタデセン−１−オンの製造法 | |
| JP3446225B2 (ja) | シクロペンタン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH0272166A (ja) | 光学活性オキシラン類 | |
| JP2848937B2 (ja) | 置換メチレンシクロペンタン類の製造法 | |
| US4927963A (en) | Novel processes for the synthesis of certain bicyclo(4.2.0)octane derivatives with valuable therapeutic properties | |
| JPS632251B2 (ja) | ||
| JPH10139714A (ja) | タキソール類縁体およびその製造方法 | |
| JPH07233175A (ja) | 金属置換シクロプロピルメタノール誘導体の不斉製造法 | |
| JPH04305548A (ja) | ハロゲノアリルアルコール誘導体 | |
| JPH0820590A (ja) | ビタミンｄ合成中間体の製造方法 | |
| JPH0782195A (ja) | β−スルホキシ−γ−シリルアルコール及びその製造法 | |
| WO1998037042A1 (fr) | Procede de production d'isomeres de composes tricycliques a activite optique | |
| JPH06321831A (ja) | １―置換１，４―ジヒドロキシ―２―シクロペンテノン誘導体の製造法 |