JPH07302344A - パターン認識装置 - Google Patents
パターン認識装置Info
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- JPH07302344A JPH07302344A JP7023491A JP2349195A JPH07302344A JP H07302344 A JPH07302344 A JP H07302344A JP 7023491 A JP7023491 A JP 7023491A JP 2349195 A JP2349195 A JP 2349195A JP H07302344 A JPH07302344 A JP H07302344A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基準パターンを予め定める時、低レベル画像
部と高レベル画像部の面積比の最適な基準パターンを自
動的に設定し、被検体の位置検出精度を向上させるこ
と。 【構成】 被検体を撮像するテレビカメラ１１と、この
テレビカメラ１１による撮像画像を画像処理する画像処
理回路１２と、基準パターンが設定される基準パターン
設定回路１７と、画像処理回路１２による処理画像を基
準パターンと比較し、その合致度に基づいて被検体の位
置を検出する相関回路１６とを有するパターン認識装置
において、基準パターンの設定にあたり、テレビカメラ
１１が取り込み画像処理回路１２にて画像処理された基
準画像におけるパターン領域を決定する外枠範囲Ｚを変
化させるとともに、外枠Ｚで囲まれた画像面積内におけ
る低レベル画像部と高レベル画像部それぞれの占める比
率がともに略５０％となる外枠範囲内の画像を最適基準
パターンとして決定するマスク設定回路１８を設けた。
部と高レベル画像部の面積比の最適な基準パターンを自
動的に設定し、被検体の位置検出精度を向上させるこ
と。 【構成】 被検体を撮像するテレビカメラ１１と、この
テレビカメラ１１による撮像画像を画像処理する画像処
理回路１２と、基準パターンが設定される基準パターン
設定回路１７と、画像処理回路１２による処理画像を基
準パターンと比較し、その合致度に基づいて被検体の位
置を検出する相関回路１６とを有するパターン認識装置
において、基準パターンの設定にあたり、テレビカメラ
１１が取り込み画像処理回路１２にて画像処理された基
準画像におけるパターン領域を決定する外枠範囲Ｚを変
化させるとともに、外枠Ｚで囲まれた画像面積内におけ
る低レベル画像部と高レベル画像部それぞれの占める比
率がともに略５０％となる外枠範囲内の画像を最適基準
パターンとして決定するマスク設定回路１８を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置等に用
いて好適なパターン認識装置に関する。
いて好適なパターン認識装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ワイヤボンディング装置により、半導体
チップの接合部とフレームの接合部とをワイヤボンディ
ングする場合には、フレームに対するチップの位置ずれ
を検出する必要がある。この位置ずれは、パターン認識
装置によって検出される。
チップの接合部とフレームの接合部とをワイヤボンディ
ングする場合には、フレームに対するチップの位置ずれ
を検出する必要がある。この位置ずれは、パターン認識
装置によって検出される。
【０００３】従来のパターン認識装置による認識は、
チップ上の検出パターンをテレビカメラによって撮影し
た撮像画像を、画像処理回路によって、基準２値化レベ
ルで２値化した２値化画像とし、この２値化画像を走
査し、２値化画像の各部と、パターン設定回路に予め登
録してある基準パターンとを比較し、この比較による２
値化画像の各部と基準パターンとの合致度を相関回路に
よって求め、２値化画像において基準パターンと最も合
致する位置を見つけ出し、基準位置からの位置ずれを求
めるようにしている。
チップ上の検出パターンをテレビカメラによって撮影し
た撮像画像を、画像処理回路によって、基準２値化レベ
ルで２値化した２値化画像とし、この２値化画像を走
査し、２値化画像の各部と、パターン設定回路に予め登
録してある基準パターンとを比較し、この比較による２
値化画像の各部と基準パターンとの合致度を相関回路に
よって求め、２値化画像において基準パターンと最も合
致する位置を見つけ出し、基準位置からの位置ずれを求
めるようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
パターン認識装置にあっては、基準パターンを予めパタ
ーン設定回路に登録する時、基準パターンにおける低レ
ベル画像部と高レベル画像部の面積比の設定を、オペレ
ータの判断にまかせている。このような場合には、基準
パターンにおける低レベル画像部と高レベル画像部の面
積比がそれぞれ後述するような最適状態を逸脱し、パタ
ーンの認識精度、すなわち、被検体の位置検出精度に、
オペレータの個人差に基づくばらつきを含むことにな
る。
パターン認識装置にあっては、基準パターンを予めパタ
ーン設定回路に登録する時、基準パターンにおける低レ
ベル画像部と高レベル画像部の面積比の設定を、オペレ
ータの判断にまかせている。このような場合には、基準
パターンにおける低レベル画像部と高レベル画像部の面
積比がそれぞれ後述するような最適状態を逸脱し、パタ
ーンの認識精度、すなわち、被検体の位置検出精度に、
オペレータの個人差に基づくばらつきを含むことにな
る。
【０００５】本発明は、基準パターンを予め定める時、
低レベル画像部と高レベル画像部の面積比の最適な基準
パターンを自動的に設定し、被検体の位置検出精度を向
上させることを目的とする。
低レベル画像部と高レベル画像部の面積比の最適な基準
パターンを自動的に設定し、被検体の位置検出精度を向
上させることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、被検体を撮
像する撮像手段と、この撮像手段による撮像画像を画像
処理する画像処理手段と、基準パターンが設定される基
準パターン設定手段と、前記画像処理手段による処理画
像を前記基準パターンと比較し、その合致度に基づいて
被検体の位置を検出する相関手段とを有するパターン認
識装置において、前記基準パターンの設定にあたり、前
記撮像手段が取り込み前記画像処理手段にて画像処理さ
れた基準画像におけるパターン領域を決定する外枠範囲
を変化させるとともに、上記外枠で囲まれた画像面積内
における低レベル画像部と高レベル画像部それぞれの占
める比率がともに略５０％となる外枠範囲内の画像を最
適基準パターンとして決定するマスク設定手段を設けた
ことをことを特徴とする。
像する撮像手段と、この撮像手段による撮像画像を画像
処理する画像処理手段と、基準パターンが設定される基
準パターン設定手段と、前記画像処理手段による処理画
像を前記基準パターンと比較し、その合致度に基づいて
被検体の位置を検出する相関手段とを有するパターン認
識装置において、前記基準パターンの設定にあたり、前
記撮像手段が取り込み前記画像処理手段にて画像処理さ
れた基準画像におけるパターン領域を決定する外枠範囲
を変化させるとともに、上記外枠で囲まれた画像面積内
における低レベル画像部と高レベル画像部それぞれの占
める比率がともに略５０％となる外枠範囲内の画像を最
適基準パターンとして決定するマスク設定手段を設けた
ことをことを特徴とする。
【０００７】
【作用】画像処理手段にて処理された被検体の処理画像
と基準パターンとの合致度に基づく被検体の位置検出作
業においては、得られる合致度を基準合致度と比較し
て、検出の合否判定がなされる。ここで、実際の検出に
あたっては、検出環境や被検体の状態の変化があるた
め、基準合致度としてあまり大きな値はとれず、経験的
には例えば７０〜８０％である。そこで、基準パターン
における低レベル画像部と高レベル画像部の面積比が２
０％対８０％に設定されている状態下で、基準パターン
に比較される被検体の処理画像がすべて高レベル画像部
であった時には、その時点で８０％の合致度があること
になってしまい、誤検出のおそれがあった。
と基準パターンとの合致度に基づく被検体の位置検出作
業においては、得られる合致度を基準合致度と比較し
て、検出の合否判定がなされる。ここで、実際の検出に
あたっては、検出環境や被検体の状態の変化があるた
め、基準合致度としてあまり大きな値はとれず、経験的
には例えば７０〜８０％である。そこで、基準パターン
における低レベル画像部と高レベル画像部の面積比が２
０％対８０％に設定されている状態下で、基準パターン
に比較される被検体の処理画像がすべて高レベル画像部
であった時には、その時点で８０％の合致度があること
になってしまい、誤検出のおそれがあった。
【０００８】しかして、本発明におけるように、マスク
設定手段により基準画像におけるパターン領域を決定す
る外枠範囲を変化させ、外枠で囲まれた画像面積内にお
ける低レベル画像部と高レベル画像部それぞれの比率が
略５０％となる外枠範囲内の画像が最適基準パターンと
して自動的に決定されることから、最適な基準パターン
の自動設定が実現でき、被検体の位置検出精度を向上さ
せることができる。
設定手段により基準画像におけるパターン領域を決定す
る外枠範囲を変化させ、外枠で囲まれた画像面積内にお
ける低レベル画像部と高レベル画像部それぞれの比率が
略５０％となる外枠範囲内の画像が最適基準パターンと
して自動的に決定されることから、最適な基準パターン
の自動設定が実現でき、被検体の位置検出精度を向上さ
せることができる。
【０００９】
【実施例】図１は本発明に係るパターン認識装置の一例
を示すブロック図、図２は基準２値化レベルの決定方法
を示す模式図、図３は基準パターンの外枠範囲を変化さ
せる状態を示す模式図、図４は合致度の算出手順を示す
模式図である。
を示すブロック図、図２は基準２値化レベルの決定方法
を示す模式図、図３は基準パターンの外枠範囲を変化さ
せる状態を示す模式図、図４は合致度の算出手順を示す
模式図である。
【００１０】図１において、１１はテレビカメラ、１２
は画像処理回路、１３はコンピュータ、１４はＤ／Ａ変
換回路、１５は画像メモリ、１６は相関回路、１７はパ
ターン設定回路、１８はマスク設定回路である。
は画像処理回路、１３はコンピュータ、１４はＤ／Ａ変
換回路、１５は画像メモリ、１６は相関回路、１７はパ
ターン設定回路、１８はマスク設定回路である。
【００１１】まず、このパターン認識装置による被検体
の位置検出方法について説明する。
の位置検出方法について説明する。
【００１２】テレビカメラ１１は、半導体チップ等の被
検体上の検出パターンを撮像し、その撮像画像（ビデオ
信号）を画像処理回路１２に送信する。画像処理回路１
２は、コンピュータ１３において登録された基準２値化
レベルをＤ／Ａ変換回路１４を介して付与され、上記撮
像画像を基準２値化レベルで２値化した２値化画像とす
る。２値化画像は撮像画像の濃淡に応じた０（高レベル
画像部：白画像部）または１（低レベル画像部：黒画像
部）をもって表わされ、例えばＸ方向が１２８ビット、
Ｙ方向が１２８ビットに特定され、画像メモリ１５にメ
モリされる。
検体上の検出パターンを撮像し、その撮像画像（ビデオ
信号）を画像処理回路１２に送信する。画像処理回路１
２は、コンピュータ１３において登録された基準２値化
レベルをＤ／Ａ変換回路１４を介して付与され、上記撮
像画像を基準２値化レベルで２値化した２値化画像とす
る。２値化画像は撮像画像の濃淡に応じた０（高レベル
画像部：白画像部）または１（低レベル画像部：黒画像
部）をもって表わされ、例えばＸ方向が１２８ビット、
Ｙ方向が１２８ビットに特定され、画像メモリ１５にメ
モリされる。
【００１３】上記２値化画像は次のごとくして走査され
る。すなわち、相関回路１６は、画像メモリ１５にメモ
リされている２値化画像の座標（０，０）のデータＡを
読み出す。この座標（０，０）のデータＡは、例えば３
２ビット×３２ビット内の各点における２値化されたデ
ータである。相関回路１６は、座標（０，０）として入
力されたデータＡの各点と、パターン設定回路１７に予
め登録してある例えば３２ビット×３２ビットの基準パ
ターンＢの対応する点とを比較し、合致しているか否
か、すなわち合致度を算出し、メモリする。この時、得
られた合致度が予め定めた基準合致度より低い場合には
検出不合格として、当該合致度の算出結果を無視してメ
モリしない。
る。すなわち、相関回路１６は、画像メモリ１５にメモ
リされている２値化画像の座標（０，０）のデータＡを
読み出す。この座標（０，０）のデータＡは、例えば３
２ビット×３２ビット内の各点における２値化されたデ
ータである。相関回路１６は、座標（０，０）として入
力されたデータＡの各点と、パターン設定回路１７に予
め登録してある例えば３２ビット×３２ビットの基準パ
ターンＢの対応する点とを比較し、合致しているか否
か、すなわち合致度を算出し、メモリする。この時、得
られた合致度が予め定めた基準合致度より低い場合には
検出不合格として、当該合致度の算出結果を無視してメ
モリしない。
【００１４】なお、この合致度の算出にあたっては、後
に詳述する基準パターンの最適化のため、データＡの各
点のレベル値（０または１）と基準パターンＢの各点の
レベル値（０または１）の排他的論理和をとり、この排
他的論理和の否定形と、マスク設定回路１８に設定され
ている基準マスク度Ｃ２の各点のレベル値（０または
１）の論理積をとることにより、データＡと最適基準パ
ターンとの合致度を算出することとしている。
に詳述する基準パターンの最適化のため、データＡの各
点のレベル値（０または１）と基準パターンＢの各点の
レベル値（０または１）の排他的論理和をとり、この排
他的論理和の否定形と、マスク設定回路１８に設定され
ている基準マスク度Ｃ２の各点のレベル値（０または
１）の論理積をとることにより、データＡと最適基準パ
ターンとの合致度を算出することとしている。
【００１５】上記合致度の算出手順を具体的に図示すれ
ば、図４（Ａ）〜（Ｅ）のとおりとなる。なお、図は４
ビット×４ビットについて例示したものである。図４
（Ａ）はデータＡを示し、図４（Ｂ）は基準パターンＢ
を示し、図４（Ｃ）は基準マスク度Ｃ２を示し、図４
（Ｄ）はデータＡと基準パターンＢの排他的論理和の否
定形を示し、図４（Ｅ）は上記排他的論理和の否定形と
基準マスク度Ｃ２の論理積を示している。図４（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｄ）、（Ｅ）の斜線部は低レベル画像部とし
ての１を表わし、非斜線部は高レベル画像部としての０
を表わしている。また、図４（Ｃ）の斜線部は後述する
有効域としての１を表わし、非斜線部は無効域としての
０を表わしている。ここで、基準パターンＢは後に詳述
するように基準マスク度Ｃ２により、低レベル画像部と
高レベル画像部の面積比を５０％対５０％に設定され
る。
ば、図４（Ａ）〜（Ｅ）のとおりとなる。なお、図は４
ビット×４ビットについて例示したものである。図４
（Ａ）はデータＡを示し、図４（Ｂ）は基準パターンＢ
を示し、図４（Ｃ）は基準マスク度Ｃ２を示し、図４
（Ｄ）はデータＡと基準パターンＢの排他的論理和の否
定形を示し、図４（Ｅ）は上記排他的論理和の否定形と
基準マスク度Ｃ２の論理積を示している。図４（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｄ）、（Ｅ）の斜線部は低レベル画像部とし
ての１を表わし、非斜線部は高レベル画像部としての０
を表わしている。また、図４（Ｃ）の斜線部は後述する
有効域としての１を表わし、非斜線部は無効域としての
０を表わしている。ここで、基準パターンＢは後に詳述
するように基準マスク度Ｃ２により、低レベル画像部と
高レベル画像部の面積比を５０％対５０％に設定され
る。
【００１６】相関回路１６は、座標（０，０）のデータ
Ａの比較が終了すると、例えばＸ方向に１ビットずらし
た３２ビット×３２ビットからなる座標（１，０）のデ
ータＡを読み出し、この座標（１，０）のデータＡと基
準パターンＢとを比較する。このようにして、相関回路
１６は、座標（０，０）〜座標（９５，９５）までの各
データを順次走査し、それらの合致度を算出する。相関
回路１６は、画像メモリ１５にメモリされている２値化
画像の全範囲にわたる合致度の算出を終了した時、自ら
にメモリされている合致度の最も大きな位置を選択し、
基準位置からの位置ずれ（ｘ，ｙ）を求め、これによっ
て被検体の位置を検出する。
Ａの比較が終了すると、例えばＸ方向に１ビットずらし
た３２ビット×３２ビットからなる座標（１，０）のデ
ータＡを読み出し、この座標（１，０）のデータＡと基
準パターンＢとを比較する。このようにして、相関回路
１６は、座標（０，０）〜座標（９５，９５）までの各
データを順次走査し、それらの合致度を算出する。相関
回路１６は、画像メモリ１５にメモリされている２値化
画像の全範囲にわたる合致度の算出を終了した時、自ら
にメモリされている合致度の最も大きな位置を選択し、
基準位置からの位置ずれ（ｘ，ｙ）を求め、これによっ
て被検体の位置を検出する。
【００１７】ところで、コンピュータ１３に登録される
基準２値化レベルは、基準パターンを予め定める時に設
定されるものであるが、この基準２値化レベルは、画像
処理回路１２において被検体の撮像画像を２値化する
時、撮影状態等によって変化する可能性のあるこの撮像
画像を常に安定して２値化できるものでなくてはならな
い。
基準２値化レベルは、基準パターンを予め定める時に設
定されるものであるが、この基準２値化レベルは、画像
処理回路１２において被検体の撮像画像を２値化する
時、撮影状態等によって変化する可能性のあるこの撮像
画像を常に安定して２値化できるものでなくてはならな
い。
【００１８】そこで、この実施例においては、基準パタ
ーンを取り込もうとする図２に示すような基準画像２０
を画像処理回路１２において２値化する際に、コンピュ
ータ１３が付与する２値化レベルとして、△ｌのレベル
差をもった２値化レベルａと２値化レベルｂを用い、そ
れらのレベルａ、ｂをｌ１〜ｌ２の範囲で少しずつ移動
して変化させる。これにより、レベルａについて得られ
る基準２値化画像（例えば高レベル画像部の面積比４０
％、低レベル画像部の面積比６０％）とレベルｂについ
て得られる基準２値化画像（例えば高レベル画像部の面
積比３０％、低レベル画像部の面積比７０％）の変化
（高レベル画像部と低レベル画像部の面積比の変化：例
えば１０％）が最小となる時の、ａとｂの中間の値を最
適基準２値化レベルとする。
ーンを取り込もうとする図２に示すような基準画像２０
を画像処理回路１２において２値化する際に、コンピュ
ータ１３が付与する２値化レベルとして、△ｌのレベル
差をもった２値化レベルａと２値化レベルｂを用い、そ
れらのレベルａ、ｂをｌ１〜ｌ２の範囲で少しずつ移動
して変化させる。これにより、レベルａについて得られ
る基準２値化画像（例えば高レベル画像部の面積比４０
％、低レベル画像部の面積比６０％）とレベルｂについ
て得られる基準２値化画像（例えば高レベル画像部の面
積比３０％、低レベル画像部の面積比７０％）の変化
（高レベル画像部と低レベル画像部の面積比の変化：例
えば１０％）が最小となる時の、ａとｂの中間の値を最
適基準２値化レベルとする。
【００１９】すなわち、この実施例によれば、基準パタ
ーンを定める時に基準２値化レベルが最適化されるか
ら、被検体の撮像画像をこの最適化された基準２値化レ
ベルによって常に安定して２値化でき、被検体の位置検
出精度を向上させることができる。
ーンを定める時に基準２値化レベルが最適化されるか
ら、被検体の撮像画像をこの最適化された基準２値化レ
ベルによって常に安定して２値化でき、被検体の位置検
出精度を向上させることができる。
【００２０】また、上記相関回路１６において、被検体
の２値化画像から読み出されたデータＡと、基準パター
ンＢとの合致度を算出する場合には、前述のように、得
られる合致度を基準合致度と比較して、検出の合否判定
がなされる。ここで、実際の検出にあたっては、検出環
境や被検体の状態の変化があるため、基準合致度として
あまり大きな値はとれず、経験的には例えば７０〜８０
％である。そこで、基準パターンにおける高レベル画像
部と低レベル画像部の面積比が８０％対２０％に設定さ
れている状態下で、基準パターンに比較される被検体の
原２値化画像がすべて高レベル画像部であった時には、
その時点で８０％の合致度があることになってしまい、
誤検出のおそれがある。
の２値化画像から読み出されたデータＡと、基準パター
ンＢとの合致度を算出する場合には、前述のように、得
られる合致度を基準合致度と比較して、検出の合否判定
がなされる。ここで、実際の検出にあたっては、検出環
境や被検体の状態の変化があるため、基準合致度として
あまり大きな値はとれず、経験的には例えば７０〜８０
％である。そこで、基準パターンにおける高レベル画像
部と低レベル画像部の面積比が８０％対２０％に設定さ
れている状態下で、基準パターンに比較される被検体の
原２値化画像がすべて高レベル画像部であった時には、
その時点で８０％の合致度があることになってしまい、
誤検出のおそれがある。
【００２１】そこで、この実施例においては、基準パタ
ーンを取り込もうとする基準画像を、画像処理回路１２
において上記基準２値化レベルで２値化し、基準２値化
画像を得た後、基準２値化画像におけるパターン領域を
決定する外枠範囲を図３にＺ１で示す初期外枠からＺ２
で示すような範囲に変化させる。これにより、外枠Ｚ２
で囲まれる画像面積内において高レベル画像部（Ｈ）と
低レベル画像部（Ｌ）それぞれの占める比率を略５０％
とすることができ、この外枠Ｚ２で囲まれる基準２値化
画像を最適基準パターンとして相関回路１６による合致
度の算出に供するものとする。
ーンを取り込もうとする基準画像を、画像処理回路１２
において上記基準２値化レベルで２値化し、基準２値化
画像を得た後、基準２値化画像におけるパターン領域を
決定する外枠範囲を図３にＺ１で示す初期外枠からＺ２
で示すような範囲に変化させる。これにより、外枠Ｚ２
で囲まれる画像面積内において高レベル画像部（Ｈ）と
低レベル画像部（Ｌ）それぞれの占める比率を略５０％
とすることができ、この外枠Ｚ２で囲まれる基準２値化
画像を最適基準パターンとして相関回路１６による合致
度の算出に供するものとする。
【００２２】なお、基準２値化画像の外枠範囲を変化さ
せる具体的方法は、マスク設定回路１８により例えば３
２ビット×３２ビットの初期外枠Ｚ１の外周部分を０
（無効域）化、中央部分を１（有効域）化した外枠Ｚの
マスク度Ｃを用いる。すなわち、相関回路１６は、画
像処理回路１２で得られた基準２値化画像から読み出し
たデータＡの各点のレベル値（０または１）と、予めパ
ターン設定回路１７に設定した例えば３２ビット×３２
ビットの全点が高レベル画像部である全面高レベル化パ
ターンＢ０の各点のレベル値（１）の排他的論理和を取
った後、この排他的論理和の否定形と、上記マスク度
Ｃの各点のレベル値（外枠Ｚの外側部は０、内側部は
１）の論理積をとる。この結果、相関回路１６は、外側
部の一定範囲を０（無効域）化されたＺで囲まれる画像
面積内における、高レベル画像部と低レベル画像部それ
ぞれの占める比率を算出することができる。そこで、マ
スク設定回路１８は、上記外枠Ｚの０（無効域）化され
る外側部の範囲を次第に拡大または縮小して変化させる
とともに、外枠Ｚが変化する毎にその上記比率が相関回
路１６にて求められ、上記比率が略５０％となる外枠Ｚ
２を基準マスク度Ｃ２として確定する。すなわち、この
実施例において、パターン設定回路１７に設定される基
準パターンは、マスク設定回路１８に設定される基準マ
スク度Ｃ２を付与されることにより、最適化される。
せる具体的方法は、マスク設定回路１８により例えば３
２ビット×３２ビットの初期外枠Ｚ１の外周部分を０
（無効域）化、中央部分を１（有効域）化した外枠Ｚの
マスク度Ｃを用いる。すなわち、相関回路１６は、画
像処理回路１２で得られた基準２値化画像から読み出し
たデータＡの各点のレベル値（０または１）と、予めパ
ターン設定回路１７に設定した例えば３２ビット×３２
ビットの全点が高レベル画像部である全面高レベル化パ
ターンＢ０の各点のレベル値（１）の排他的論理和を取
った後、この排他的論理和の否定形と、上記マスク度
Ｃの各点のレベル値（外枠Ｚの外側部は０、内側部は
１）の論理積をとる。この結果、相関回路１６は、外側
部の一定範囲を０（無効域）化されたＺで囲まれる画像
面積内における、高レベル画像部と低レベル画像部それ
ぞれの占める比率を算出することができる。そこで、マ
スク設定回路１８は、上記外枠Ｚの０（無効域）化され
る外側部の範囲を次第に拡大または縮小して変化させる
とともに、外枠Ｚが変化する毎にその上記比率が相関回
路１６にて求められ、上記比率が略５０％となる外枠Ｚ
２を基準マスク度Ｃ２として確定する。すなわち、この
実施例において、パターン設定回路１７に設定される基
準パターンは、マスク設定回路１８に設定される基準マ
スク度Ｃ２を付与されることにより、最適化される。
【００２３】すなわち、この実施例によれば、マスク設
定回路１８により基準２値化画像におけるパターン領域
を決定する外枠範囲Ｚを変化させることで、外枠Ｚで囲
まれた画像面積内における低レベル画像部と高レベル画
像部それぞれの比率が略５０％となる外枠範囲内の画像
が最適基準パターンとして自動的に決定されることか
ら、最適基準パターンの自動設定が実現でき、被検体の
位置検出精度を向上させることができる。
定回路１８により基準２値化画像におけるパターン領域
を決定する外枠範囲Ｚを変化させることで、外枠Ｚで囲
まれた画像面積内における低レベル画像部と高レベル画
像部それぞれの比率が略５０％となる外枠範囲内の画像
が最適基準パターンとして自動的に決定されることか
ら、最適基準パターンの自動設定が実現でき、被検体の
位置検出精度を向上させることができる。
【００２４】なお、本発明の実施においては、上記基準
マスク度Ｃ２を付与した基準パターンを最適基準パター
ンとして固定化し、この最適基準パターンをパターン設
定回路１７に設定するものであってもよい。
マスク度Ｃ２を付与した基準パターンを最適基準パター
ンとして固定化し、この最適基準パターンをパターン設
定回路１７に設定するものであってもよい。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、低レベル画像部と高レ
ベル画像部の比率が最適の基準パターンの自動設定が実
現でき、被検体の位置検出精度を向上させることができ
る。
ベル画像部の比率が最適の基準パターンの自動設定が実
現でき、被検体の位置検出精度を向上させることができ
る。
【図１】図１は、本発明に係るパターン認識装置の一例
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図２】図２は、基準２値化レベルの決定方法を示す模
式図である。
式図である。
【図３】図３は、基準パターンの外枠範囲を変化させる
状態を示す模式図である。
状態を示す模式図である。
【図４】図４は、合致度の算出手順を示す模式図であ
る。
る。
１１ テレビカメラ １２ 画像処理回路 １３ コンピュータ １４ Ｄ／Ａ変換回路 １５ 画像メモリ １６ 相関回路 １７ パターン設定回路 １８ マスク設定回路 ２０ 基準画像 Ａ ２値化画像のデータ Ｂ 基準パターン Ｃ２ 基準マスク度 Ｌ 低レベル画像部 Ｈ 高レベル画像部 Ｚ１ 外枠 Ｚ２ 外枠 ａ ２値化レベル ｂ ２値化レベル
Claims (1)
- 【請求項１】 被検体を撮像する撮像手段と、この撮像
手段による撮像画像を画像処理する画像処理手段と、基
準パターンが設定される基準パターン設定手段と、前記
画像処理手段による処理画像を前記基準パターンと比較
し、その合致度に基づいて被検体の位置を検出する相関
手段とを有するパターン認識装置において、前記基準パ
ターンの設定にあたり、前記撮像手段が取り込み前記画
像処理手段にて画像処理された基準画像におけるパター
ン領域を決定する外枠範囲を変化させるとともに、上記
外枠で囲まれた画像面積内における低レベル画像部と高
レベル画像部それぞれの占める比率がともに略５０％と
なる外枠範囲内の画像を最適基準パターンとして決定す
るマスク設定手段を設けたことを特徴とするパターン認
識装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7023491A JPH07302344A (ja) | 1995-01-17 | 1995-01-17 | パターン認識装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7023491A JPH07302344A (ja) | 1995-01-17 | 1995-01-17 | パターン認識装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18953286A Division JPS6346583A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | パタ−ン認識方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07302344A true JPH07302344A (ja) | 1995-11-14 |
Family
ID=12111985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7023491A Pending JPH07302344A (ja) | 1995-01-17 | 1995-01-17 | パターン認識装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07302344A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5725875A (en) * | 1980-07-21 | 1982-02-10 | Kumao Houjiyou | Cleaner for surface of board of pinball machine |
| JPS58158761A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン位置検出方法 |
| JPS59226981A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-20 | Fujitsu Ltd | パタ−ンマツチング方法および装置 |
-
1995
- 1995-01-17 JP JP7023491A patent/JPH07302344A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5725875A (en) * | 1980-07-21 | 1982-02-10 | Kumao Houjiyou | Cleaner for surface of board of pinball machine |
| JPS58158761A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン位置検出方法 |
| JPS59226981A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-20 | Fujitsu Ltd | パタ−ンマツチング方法および装置 |
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