JPH07301917A - ポジ型感放射線性樹脂組成物 - Google Patents
ポジ型感放射線性樹脂組成物Info
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- JPH07301917A JPH07301917A JP6126738A JP12673894A JPH07301917A JP H07301917 A JPH07301917 A JP H07301917A JP 6126738 A JP6126738 A JP 6126738A JP 12673894 A JP12673894 A JP 12673894A JP H07301917 A JPH07301917 A JP H07301917A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】優れた特性を有する半導体集積回路製造用ポジ
型感放射線性樹脂組成物を提供する。 【構成】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系感光剤
とをアルコキシ基またはヒドロキシ基を有する２−メチ
ルプロピオン酸エステルよりなる溶剤に溶解したポジ型
感放射線性樹脂組成物は塗膜性能、保存安定性に優れて
いる。
型感放射線性樹脂組成物を提供する。 【構成】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系感光剤
とをアルコキシ基またはヒドロキシ基を有する２−メチ
ルプロピオン酸エステルよりなる溶剤に溶解したポジ型
感放射線性樹脂組成物は塗膜性能、保存安定性に優れて
いる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポジ型感放射線性樹脂組
成物に関し、均一な塗膜の形成が可能で、高い保存安定
性を有するポジ型感放射線性樹脂組成物に関するもので
ある。 【０００２】 【従来の技術】近年、半導体集積回路製造技術の進歩は
めざましく高集積回路製造に使用される感放射線性樹脂
はネガ型感放射線性樹脂から更に微細パターンの形成が
可能なポジ型感放射線性樹脂へ移行しつつある。このポ
ジ型感放射線性樹脂の代表的な組成は塗膜形成物質とし
てノボラック樹脂、感放射線化合物としてキノンジアジ
ド系を有機溶剤に溶かしたものであり、これらの感放射
線性樹脂組成物を製造することは米国特許３６６６４７
３などで周知である。 【０００３】 【発明が解決しようとしている課題】ポジ型感放射線性
樹脂組成物の溶剤としては、塗膜形成物質および感放射
線化合物にたいする溶解力が高いこと、塗布特性がすぐ
れていること、保存安定性が高いこと、毒性が低いこと
などが求められるが、従来の感放射線性樹脂用溶剤はこ
れらの面で充分とは言えない。特に半導体集積回路の集
積度がより高くなる趨勢に伴いそれを製造するに用いる
ポジ型感放射線性樹脂組成物の感放射線化合物は溶剤に
溶けにくくなってきた。したがって溶解力がより高く、
感放射線化合物の析出がない保存安定性の優れた感放射
線性樹脂用溶剤が求められている。本発明はこれら欠点
を克服した新規感放射線性樹脂組成物を提供することを
目的とするものである。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有するポジ型感放射線性樹脂用溶剤を開発
すべく鋭意研究を重ねた結果、所定のヒドロキシ基ある
いはアルコキシ基を有する２−メチルプロピオン酸エス
テルがその目的に適合することを見出し、この知見に基
づいて本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明
の溶剤はノボラック樹脂に代表されるポジ型レジスト樹
脂に対する溶解力が高いのみならず、従来の一般溶剤に
は溶けにくい最近の感放射線化合物に高い溶解力を持ち
持つことを見出した。したがって本発明の溶剤を用いた
ポジ型感放射線性樹脂組成物は高い塗布性能と組成物の
良好な保存安定性を示す。 【０００５】すなわち、本発明は、アルカリ可溶性樹
脂、キノンジアジド系感放射線化合物、と溶剤として下
記一般式（１）で表される溶剤、または下記一般式
（２）で表される溶剤を含有することを特徴とする新規
感放射線性樹脂組成物を提供するものである。 【化１】〔式中のｍは０〜４、ｎは１〜４であり、ｍと
ｎは同一であってもよいし、互いに異なってもよい〕 【化２】〔式中のｍは０〜４、ｎは１〜４であり、ｍと
ｎは同一であってもよいし、互いに異なってもよい〕 【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
組成物の溶剤成分については一般式（１）で表される３
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エステル類、３
−アルコキシ−２−メチルプロピオン酸エステル類と、
一般式（２）で表される２−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロピオン酸エステル類、２−アルコキシ−２−メチルプ
ロピオン酸エステル類のうち一種以上の溶剤が含有され
ていることが必須である。これら溶剤として３−メトキ
シ−２−メチルプロピオン酸メチル、３−メトキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、３−エトキシ−２−メチ
ルプロピオン酸メチル、３−エトキシ−２−メチルプロ
ピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオ
ン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸
エチル などが挙げられる。これらの溶剤に加えて他の
溶剤を併用することもできる。併用溶剤としては酢酸ブ
チルなどの酢酸エステル類、シクロヘキサノンなどのケ
トン類が用いられる。 【０００７】アルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック
樹脂、アクリル樹脂、スチレンとアクリル酸の共重合体
などが有効である。キノンジアジド基含有化合物として
特に好ましいものはポリヒドロキシベンゾフェノンとナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォニルクロ
ライドまたはナフトキノン−１，２−ジアジド−４−ス
ルフォニルクロライドとのエステル化物である。 【０００８】本発明の感放射線性樹脂組成物は半導体製
造の際のいわゆるレジストとして使用される。通常、調
製した組成物は孔径０．２μｍ程度のフィルターで濾過
してから使用される。レジスト形成の代表的な工程とし
ては、スピンナーにより感放射線性樹脂組成物をシリコ
ンウエハーなどの基材に塗布し、ついで紫外線を照射す
ることにより、塗膜を形成させることが出来る。 【０００９】 【実施例１】 １．シリコンウエハー上に２，３，４，４′−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン１モルとナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルフォニルクロリド ４モルとのエ
ステル化反応生成物７．５ｇおよびクレゾールノボラッ
ク樹脂３０ｇを溶剤３−メトキシ−２−メチルプロピオ
ン酸メチル７０ｇに溶解し、孔径０．２μｍのテフロン
フィルターで濾過してポジ型感放射線性樹脂組成物（以
下レジスト組成物と称す）を調製した。 【００１０】一方、スピンナーにシリコンウエハーをの
せて、上記レジスト組成物を塗布した後、９０℃に保っ
たオーブン中で２分間加熱乾燥することによりレジスト
膜が形成されたシリコンウエハーを得た。得られた塗膜
は各成分が均一に相溶した混合物からなる塗膜であり、
膜厚のばらつきも少なかった。次いでシリコンウエハー
上に形成した乾燥塗膜に画像を介して３６５ｎｍの紫外
線を照射した後、水酸化テトラメチルアンモニウムで現
像し、次いで超純水でリンスした後、さらに１２０℃で
５分間加熱して塗膜を形成させた。また、ポジ型レジス
ト組成物を４７日間、３５℃で保った後、粘度を測定し
たところ変化は認められなかった。また、目視では沈殿
物の生成は認められなかった。上記と同様に処理し、感
度、残膜率を測定したところ、変化は認められなかっ
た。 【００１１】 【実施例２〜５】実施例１と溶剤のみを表１のように替
えた以外は同様にポジ型レジスト組成物を調製した。こ
の組成物を用い、実施例１と同様にしてシリコンウエハ
ー上に塗膜を形成し、感度、残膜率等を評価した。又、
組成物を３５℃で経時変化を観察した。結果を表１に示
す。 【００１２】 【比較例】溶剤としてプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテートを用いた以外は実施例１と同様にし
てポジ型レジスト組成物を調製し３５℃で保ったところ
１８日経過したところで沈殿物の生成がみられた。 【００１３】 【発明の効果】高集積度半導体を製造するに用いる感放
射線性樹脂組成物に含まれている感放射線化合物は解像
度をより高くするため、従来の溶剤には溶けにくいもの
になっている。本発明の感放射線性樹脂組成物は新しく
見出したヒドロキシ基またはアルコキシ基を含む２−メ
チルプロピオン酸エステルを溶剤とし、それの感放射線
化合物に対する高い溶解度により組成物は半導体製造に
おいてより微細加工が可能となった。 【００１４】
成物に関し、均一な塗膜の形成が可能で、高い保存安定
性を有するポジ型感放射線性樹脂組成物に関するもので
ある。 【０００２】 【従来の技術】近年、半導体集積回路製造技術の進歩は
めざましく高集積回路製造に使用される感放射線性樹脂
はネガ型感放射線性樹脂から更に微細パターンの形成が
可能なポジ型感放射線性樹脂へ移行しつつある。このポ
ジ型感放射線性樹脂の代表的な組成は塗膜形成物質とし
てノボラック樹脂、感放射線化合物としてキノンジアジ
ド系を有機溶剤に溶かしたものであり、これらの感放射
線性樹脂組成物を製造することは米国特許３６６６４７
３などで周知である。 【０００３】 【発明が解決しようとしている課題】ポジ型感放射線性
樹脂組成物の溶剤としては、塗膜形成物質および感放射
線化合物にたいする溶解力が高いこと、塗布特性がすぐ
れていること、保存安定性が高いこと、毒性が低いこと
などが求められるが、従来の感放射線性樹脂用溶剤はこ
れらの面で充分とは言えない。特に半導体集積回路の集
積度がより高くなる趨勢に伴いそれを製造するに用いる
ポジ型感放射線性樹脂組成物の感放射線化合物は溶剤に
溶けにくくなってきた。したがって溶解力がより高く、
感放射線化合物の析出がない保存安定性の優れた感放射
線性樹脂用溶剤が求められている。本発明はこれら欠点
を克服した新規感放射線性樹脂組成物を提供することを
目的とするものである。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有するポジ型感放射線性樹脂用溶剤を開発
すべく鋭意研究を重ねた結果、所定のヒドロキシ基ある
いはアルコキシ基を有する２−メチルプロピオン酸エス
テルがその目的に適合することを見出し、この知見に基
づいて本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明
の溶剤はノボラック樹脂に代表されるポジ型レジスト樹
脂に対する溶解力が高いのみならず、従来の一般溶剤に
は溶けにくい最近の感放射線化合物に高い溶解力を持ち
持つことを見出した。したがって本発明の溶剤を用いた
ポジ型感放射線性樹脂組成物は高い塗布性能と組成物の
良好な保存安定性を示す。 【０００５】すなわち、本発明は、アルカリ可溶性樹
脂、キノンジアジド系感放射線化合物、と溶剤として下
記一般式（１）で表される溶剤、または下記一般式
（２）で表される溶剤を含有することを特徴とする新規
感放射線性樹脂組成物を提供するものである。 【化１】〔式中のｍは０〜４、ｎは１〜４であり、ｍと
ｎは同一であってもよいし、互いに異なってもよい〕 【化２】〔式中のｍは０〜４、ｎは１〜４であり、ｍと
ｎは同一であってもよいし、互いに異なってもよい〕 【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
組成物の溶剤成分については一般式（１）で表される３
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エステル類、３
−アルコキシ−２−メチルプロピオン酸エステル類と、
一般式（２）で表される２−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロピオン酸エステル類、２−アルコキシ−２−メチルプ
ロピオン酸エステル類のうち一種以上の溶剤が含有され
ていることが必須である。これら溶剤として３−メトキ
シ−２−メチルプロピオン酸メチル、３−メトキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、３−エトキシ−２−メチ
ルプロピオン酸メチル、３−エトキシ−２−メチルプロ
ピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオ
ン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸
エチル などが挙げられる。これらの溶剤に加えて他の
溶剤を併用することもできる。併用溶剤としては酢酸ブ
チルなどの酢酸エステル類、シクロヘキサノンなどのケ
トン類が用いられる。 【０００７】アルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック
樹脂、アクリル樹脂、スチレンとアクリル酸の共重合体
などが有効である。キノンジアジド基含有化合物として
特に好ましいものはポリヒドロキシベンゾフェノンとナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォニルクロ
ライドまたはナフトキノン−１，２−ジアジド−４−ス
ルフォニルクロライドとのエステル化物である。 【０００８】本発明の感放射線性樹脂組成物は半導体製
造の際のいわゆるレジストとして使用される。通常、調
製した組成物は孔径０．２μｍ程度のフィルターで濾過
してから使用される。レジスト形成の代表的な工程とし
ては、スピンナーにより感放射線性樹脂組成物をシリコ
ンウエハーなどの基材に塗布し、ついで紫外線を照射す
ることにより、塗膜を形成させることが出来る。 【０００９】 【実施例１】 １．シリコンウエハー上に２，３，４，４′−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン１モルとナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルフォニルクロリド ４モルとのエ
ステル化反応生成物７．５ｇおよびクレゾールノボラッ
ク樹脂３０ｇを溶剤３−メトキシ−２−メチルプロピオ
ン酸メチル７０ｇに溶解し、孔径０．２μｍのテフロン
フィルターで濾過してポジ型感放射線性樹脂組成物（以
下レジスト組成物と称す）を調製した。 【００１０】一方、スピンナーにシリコンウエハーをの
せて、上記レジスト組成物を塗布した後、９０℃に保っ
たオーブン中で２分間加熱乾燥することによりレジスト
膜が形成されたシリコンウエハーを得た。得られた塗膜
は各成分が均一に相溶した混合物からなる塗膜であり、
膜厚のばらつきも少なかった。次いでシリコンウエハー
上に形成した乾燥塗膜に画像を介して３６５ｎｍの紫外
線を照射した後、水酸化テトラメチルアンモニウムで現
像し、次いで超純水でリンスした後、さらに１２０℃で
５分間加熱して塗膜を形成させた。また、ポジ型レジス
ト組成物を４７日間、３５℃で保った後、粘度を測定し
たところ変化は認められなかった。また、目視では沈殿
物の生成は認められなかった。上記と同様に処理し、感
度、残膜率を測定したところ、変化は認められなかっ
た。 【００１１】 【実施例２〜５】実施例１と溶剤のみを表１のように替
えた以外は同様にポジ型レジスト組成物を調製した。こ
の組成物を用い、実施例１と同様にしてシリコンウエハ
ー上に塗膜を形成し、感度、残膜率等を評価した。又、
組成物を３５℃で経時変化を観察した。結果を表１に示
す。 【００１２】 【比較例】溶剤としてプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテートを用いた以外は実施例１と同様にし
てポジ型レジスト組成物を調製し３５℃で保ったところ
１８日経過したところで沈殿物の生成がみられた。 【００１３】 【発明の効果】高集積度半導体を製造するに用いる感放
射線性樹脂組成物に含まれている感放射線化合物は解像
度をより高くするため、従来の溶剤には溶けにくいもの
になっている。本発明の感放射線性樹脂組成物は新しく
見出したヒドロキシ基またはアルコキシ基を含む２−メ
チルプロピオン酸エステルを溶剤とし、それの感放射線
化合物に対する高い溶解度により組成物は半導体製造に
おいてより微細加工が可能となった。 【００１４】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド系感放射線性化合
物及び溶剤よりなるポジ型感放射線性樹脂組成物におい
て、該溶剤が一般式下記（１）で表わされる化合物 【化１】 〔式中のｍは０〜４、ｎは１〜４であり、ｍとｎは同一
であってもよいし、互いに異なってもよい または一般式下記（２）で表わされる化合物 【化２】 〔式中のｍは０〜４、ｎは１〜４であり、ｍとｎは同一
であってもよいし、互いに異なってもよい〕を含有する
ことを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6126738A JPH07301917A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6126738A JPH07301917A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07301917A true JPH07301917A (ja) | 1995-11-14 |
Family
ID=14942680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6126738A Pending JPH07301917A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07301917A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023008354A1 (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | レジスト組成物、及びそれを用いたレジスト膜形成方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6236657A (ja) * | 1985-08-10 | 1987-02-17 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 半導体微細加工用レジスト組成物 |
| JPS62123444A (ja) * | 1985-08-07 | 1987-06-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPH05273750A (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ロールコート用感放射線性樹脂溶液組成物 |
| JPH0651506A (ja) * | 1991-08-01 | 1994-02-25 | Nagase Denshi Kagaku Kk | ポジ型の感光性液組成物 |
| JPH07261377A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 化学増幅型レジスト溶液 |
| JPH07271023A (ja) * | 1994-04-01 | 1995-10-20 | Toagosei Co Ltd | ポジ型フォトレジスト組成物 |
| JPH07281429A (ja) * | 1994-04-11 | 1995-10-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型レジスト溶液 |
| JPH07311459A (ja) * | 1993-07-20 | 1995-11-28 | Nitto Chem Ind Co Ltd | レジスト組成物 |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP6126738A patent/JPH07301917A/ja active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62123444A (ja) * | 1985-08-07 | 1987-06-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS6236657A (ja) * | 1985-08-10 | 1987-02-17 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 半導体微細加工用レジスト組成物 |
| JPH0651506A (ja) * | 1991-08-01 | 1994-02-25 | Nagase Denshi Kagaku Kk | ポジ型の感光性液組成物 |
| JPH05273750A (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ロールコート用感放射線性樹脂溶液組成物 |
| JPH07311459A (ja) * | 1993-07-20 | 1995-11-28 | Nitto Chem Ind Co Ltd | レジスト組成物 |
| JPH07261377A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 化学増幅型レジスト溶液 |
| JPH07271023A (ja) * | 1994-04-01 | 1995-10-20 | Toagosei Co Ltd | ポジ型フォトレジスト組成物 |
| JPH07281429A (ja) * | 1994-04-11 | 1995-10-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型レジスト溶液 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023008354A1 (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | レジスト組成物、及びそれを用いたレジスト膜形成方法 |
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