JPH0729770A - 積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置 - Google Patents

積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置

Info

Publication number
JPH0729770A
JPH0729770A JP17141693A JP17141693A JPH0729770A JP H0729770 A JPH0729770 A JP H0729770A JP 17141693 A JP17141693 A JP 17141693A JP 17141693 A JP17141693 A JP 17141693A JP H0729770 A JPH0729770 A JP H0729770A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
end surface
electrode paste
transfer
ceramic electronic
fired body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17141693A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3175409B2 (ja
Inventor
Shoji Kuroda
正二 黒田
Hiroharu Nishimura
弘治 西村
Kenichi Hasegawa
健一 長谷川
Hiromi Tokunaga
裕美 徳永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP17141693A priority Critical patent/JP3175409B2/ja
Publication of JPH0729770A publication Critical patent/JPH0729770A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3175409B2 publication Critical patent/JP3175409B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高精度の積層セラミック電子部品を連続して
生産することができ信頼性に優れ、積層セラミック電子
部品を低原価かつ高い歩留りで生産することができ生産
性に優れた積層セラミック電子部品の製造装置の提供。 【構成】 外周に形成された焼成体チップ5を脱着自在
に保持する切り欠き部11aを有する回動自在な円板状
等の片端面転写ディスク11と、片端面転写ディスク1
1に添設されて走行させられる片端面転写テープ12
と、片端面転写テープ12に電極ペーストを塗着させる
片端面転写電極ペースト供給部13と、を備えた構成か
らなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般電子機器に用いられ
る積層コンデンサ,通信機器に使用されるセラミックフ
ィルタ等の積層セラミック電子部品の製造方法及びその
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、一般電子機器,通信機器等の小型
化を目的として、表面搭載技術(以下SMTと略す)が
採用されるようになり、電子部品のチップ化が広く行わ
れるようになった。それに伴って、積層セラミック電子
部品の製造方法においても、積層セラミック電子部品の
小型化が可能で、高い精度で生産できるものが、例えば
特開昭63−257210号公報(以下イ号と呼ぶ)に
開示されたもの等種々開発されている。
【0003】以下に従来の積層セラミック電子部品の製
造方法について説明する。図3は一般的なグリーンブロ
ック体の斜視図であり、図4(a)は一般的なグリーン
チップの斜視図であり、図4(b)は一般的な焼成体チ
ップの斜視図であり、図4(c)は従来の積層セラミッ
ク電子部品の製造方法による積層セラミック電子部品の
斜視図である。図3において、1は後述の内部電極が印
刷されたグリーンシート等を高精度に積層した後加圧成
形して得られたグリーンブロック体、2はグリーンブロ
ック体1上に形成された切断時の位置決めのためのマー
カである。図4(a)において、3は互いに対向する内
部電極、4はグリーンブロック体1をマーカ2の位置で
切断して得られるグリーンチップである。図4(b)に
おいて、5はグリーンチップ4を焼成して得られる焼成
体チップである。図4(c)において、6は焼成体チッ
プ5の端面に内部電極3と導通するように形成された外
部電極、7は焼成体チップ5,外部電極6等からなる積
層セラミック電子部品である。
【0004】初めに、チタン酸バリウム等からなるグリ
ーンシート(図示せず)を形成し、その表面に内部電極
3を印刷等により形成する。次に、このグリーンシート
(図示せず)を高精度に積層し、加圧成形して図3に示
すようなグリーンブロック体1を得る。次に、グリーン
ブロック体1をマーカ2の位置で切断して図4(a)に
示すようなグリーンチップ4を作製する。次に、このグ
リーンチップ4を焼成して図4(b)に示すような焼成
体チップ5を得る。次に、この焼成体チップ5に対して
面取り作業等を行い、この端面にスクリーン印刷法,浸
漬法により外部電極6を形成して、図4(c)に示すよ
うな積層セラミック電子部品7を完成させている。
【0005】以下に図5を参照して、従来のイ号に開示
された積層セラミック電子部品の製造方法によるセラミ
ック電子部品について説明する。図5は従来のイ号に開
示された積層セラミック電子部品の製造方法による積層
セラミック電子部品の正面図である。8は導電性シート
(図示せず)をキャップ状に成型し焼成体チップ5に嵌
装・焼成等してなる外部電極であり、9は焼成体チップ
5,外部電極8等からなる積層セラミック電子部品であ
る。
【0006】以上のように構成された従来のイ号に開示
された積層セラミック電子部品の製造方法について説明
する。
【0007】初めに、導電性粒子を含有するペースト材
料から導電性シート(図示せず)を作製する。次に、こ
の導電性シート(図示せず)を型抜きし、導電性キャッ
プ体(図示せず)を成型する。一方、前述の方法と同様
にして、焼成体チップ5を得る。次に、この焼成体チッ
プ5の両端に、導電性キャップ体(図示せず)を嵌装
し、全体を熱処理して、焼成体チップ5の両端に固着さ
れたメタルグレーズ導電体(図示せず)を形成する。次
に、このメタルグレーズ導電体(図示せず)の表面にニ
ッケルメッキ層,ハンダメッキ層を形成して、図5に示
すように外部電極8を作製し、積層セラミック電子部品
9を完成させている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、図4(c)に示す外部電極をスクリーン印
刷法,浸漬法で形成するものは、外部電極6の形成時
に、焼成体チップ5に対して複雑な整列作業を行わなけ
ればならず、多大な生産工数を要し生産性に欠けるとい
う問題点を有していた。また、スクリーン印刷法による
ものは、積層セラミック電子部品の角部,稜部等の外部
電極の厚みが薄くなり、基板実装時に基板上のランドと
の接続不良が生じやすく信頼性に欠けるという問題点を
有していた。また、浸漬法によるものは、浸漬処理1回
あたりの膜厚量が小さく、数回の浸漬処理を要し生産工
数が増大して生産性に欠けるという問題点を有してい
た。一方、図5に示すイ号に開示されたものは、導電性
キャップ体の成形,焼成体チップ5への嵌装,再焼成等
が必要となり生産工数が増大して原価を上げ生産性に欠
けるという問題点を有していた。
【0009】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、高精度の積層セラミック電子部品を生産することが
でき信頼性に優れ、積層セラミック電子部品を低原価か
つ高い歩留りで生産することができ生産性に優れた積層
セラミック電子部品の製造方法と、高精度の積層セラミ
ック電子部品を連続して製造することのできる生産性に
優れた積層セラミック電子部品の製造装置を提供するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は以下の構成からなる。本発明の請求項1に記
載の積層セラミック電子部品の製造方法は、外周に切り
欠き部を有するディスクの切り欠き部に焼成体チップを
保持させる焼成体チップ取り付け工程と、焼成体チップ
取り付け工程で焼成体チップを保持しているディスクを
回動させて焼成体チップの端面へディスクに添設されて
走行するテープ上に塗着された電極ペーストを転写する
電極ペースト転写工程と、を備えた構成を有しており、
請求項2に記載の積層セラミック電子部品の製造装置
は、外周に形成された焼成体チップを脱着自在に保持す
る切り欠き部を有する回動自在な円板状等の片端面転写
ディスクと、片端面転写ディスクに添設されて走行させ
られる片端面転写テープと、片端面転写テープに電極ペ
ーストを塗着させる片端面転写電極ペースト供給部と、
を備えた構成を有しており、請求項3に記載の積層セラ
ミック電子部品の製造装置は、請求項2において、片端
面転写ディスクの切り欠き部に保持されている片端面に
電極ペーストが転写された焼成体チップを脱着自在に保
持する切り欠き部を有する回動自在な円板状等の他端面
転写ディスクと、他端面転写ディスクに添設されて走行
させられる他端面転写テープと、他端面転写テープに電
極ペーストを塗着させる他端面転写電極ペースト供給部
と、を備えた構成を有している。
【0011】ここで、焼成体チップとしては、内側に内
部電極が形成されたグリーンチップを焼成したもの等が
用いられる。また、ディスクを複数並列させると一度に
多量の積層電子部品を製造することができ生産性の面か
ら好ましい。また、テープとしては、ナイロン等の合成
樹脂製のもの等が好適に用いられる。また、電極ペース
トとしては、銀ペースト,パラジウムペースト等が好適
に用いられる。また、片端面転写ディスク,他端面転写
ディスクの形状としては、略円板状,略トーラス状等が
好適に用いられる。また、切り欠き部を等間隔に形成す
ることによって、焼成体チップの切り欠き部への取り付
けを容易にすることができ作業性の面から好ましい。ま
た、切り欠き部における焼成体チップ保持方法として
は、焼成体チップを挟持する等の機械的なものや、焼成
体チップを真空によって吸着するもの等が好適に用いら
れる。また、電極ペースト供給部,他端面電極ペースト
供給部においてテープ,他端面テープに塗着する電極ペ
ーストの量を調節可能にすれば、積層セラミック電子部
品の外部電極の厚さを変更することができ汎用性の面か
ら好ましい。また、片端面転写ディスクや他端面転写デ
ィスクの近傍に、外周に焼成体チップを脱着自在に保持
する切り欠き部を有する円板状等の移送ディスクを2つ
連設したもの等からなる移送部を配設し、焼成体チップ
の片端面転写ディスクから他端面転写ディスクへの移送
を、この移送部を介して行うようにすると、移送をスム
ーズに行うことができるとともに、この移送部がバッフ
ァとして作用するために、生産性の面から好ましい。
【0012】
【作用】この構成によって、ディスクの切り欠き部に焼
成体チップを保持させ、このディスクを回動させて、電
極ペーストをディスクと平行して走行するテープから焼
成体チップの端面へ転写させ、この電極ペーストを焼き
付け処理して積層セラミック電子部品の外部電極を形成
することにより、高精度な積層セラミック電子部品を製
造することができるとともに、少ない生産工数かつ高い
歩留りで積層セラミック電子部品を製造することができ
る。また、片端面転写電極ペースト供給部,他端面転写
電極ペースト供給部で片端面転写テープ,他端面転写テ
ープに塗着する電極ペーストの量を調節することによっ
て、形成される外部電極の厚さを変更することができ
る。更に、片端面に電極ペーストが転写された焼成体チ
ップの他端面に電極ペーストを転写するための他端面転
写ディスク等を備えたことによって、焼成体チップの両
端面に連続して電極ペーストを極めて容易に転写するこ
とができる。
【0013】
【実施例】
(実施例1)以下本発明の一実施例における積層セラミ
ック電子部品の製造装置について、図面を参照しながら
説明する。図1は本発明の一実施例における積層セラミ
ック電子部品の製造装置の概略構造図である。5は焼成
体チップであり、これは従来例と同様なものなので同一
の符号を付し説明を省略する。10はパーツフィーダ
(図示せず)で縦・横が整列された焼成体チップが投入
されるシュート、11は円板状等の形成を有し回動自在
に配設された片端面転写ディスク、11aは片端面転写
ディスク11の外周を等間隔に切り欠いて形成されて焼
成体チップ5を機械的に挟持する等して脱落自在に保持
する切り欠き部、12はナイロン等からなり片端面転写
ディスク11の近傍を走行し予め塗着された銀ペースト
等からなる電極ペーストを焼成体チップ5の片端面に転
写するための片端面転写テープ、12aは片端面転写テ
ープ12をガイドするためのプーリ、13は片端面転写
テープ12へ電極ペーストを供給するための片端面転写
電極ペースト供給部、13aは片端面転写電極ペースト
供給部13を構成し電極ペーストを片端面転写テープ1
2へ塗着するための転写ローラ、14は焼成体チップ5
の片端面へ転写された電極ペーストを乾燥させるための
エアヒータ等からなる乾燥装置である。
【0014】以上のように構成された本発明の一実施例
における積層セラミック電子部品の製造装置について、
以下それを用いた積層セラミック電子部品の製造方法を
説明する。
【0015】初めに、チタン酸バリウム等に、数種類の
添加剤を公知の窯業的手法で湿式混合し、結合剤,可塑
剤等を加えてスリップ(図示せず)を作製する。次に、
このスリップ(図示せず)を充分に濾過・脱泡し、剥離
剤をコーティングしたキャリアフィルム(図示せず)上
に、ドクターブレード法等により約30μmの厚さのグ
リーンシート(図示せず)を作製する。次に、このグリ
ーンシート(図示せず)をキャリアフィルム(図示せ
ず)から剥離して、X,Y方向に定寸に切断する。次
に、このグリーンシート(図示せず)を、内部電極印刷
時及び積層時の位置決めを行うためのパイロット穴(図
示せず)を設けた位置決めフレーム(図示せず)に貼着
する。ここで、この貼着方法としては、水を接着剤とし
て、5kgf/cm2 の圧力を5秒間加えることで行っ
た。次に、位置決めフレーム(図示せず)上のグリーン
シート(図示せず)上に、Pdを主成分とする内部電極
ペーストを所定のパターンにスクリーン印刷により印刷
・乾燥させて、内部電極3を形成する。次に、内部電極
3が形成されたグリーンシート(図示せず)及びダミー
のグリーンシート(図示せず)をエアープレスで順次打
ち抜き、精度よく積層する。ここで、最上層のグリーン
シート(図示せず)には、予めカーボンペースト等をス
クリーン印刷して、切断時の位置決めのためのマーカ2
を形成しておく。次に、この積層されたグリーンシート
を、40℃に加熱した金型内で、油圧プレスを用いて約
500kgf/cm2 の圧力を1分間加えて、図3に示
すようなグリーンブロック体1を作製する。次に、マー
カ2に従い、X−Y切断機を用いてグリーンブロック体
1を切断して、図4(a)に示すようなグリーンチップ
4を作製する。次に、このグリーンチップ4を焼成炉に
より1200℃〜1300℃で2時間焼成して、図4
(b)に示すような焼成体チップ5を作製する。次に、
焼成体チップ5の角部や稜部をバレル等を用いて面取り
し、充分に洗浄・乾燥する。
【0016】次に、外部電極6の形成方法について説明
する。図1において、まず、面取りされた焼成体チップ
5をパーツフィーダ(図示せず)に投入して、縦・横方
向の整列を行う。次に、整列された焼成体チップ5を、
シュート10を介して片端面転写ディスク11の切り欠
き部11aに配置し、機械的に挟持する等して、これを
切り欠き部11aで脱着自在に保持する。一方、片端面
転写ディスク11の外周に沿うように片端面転写テープ
12を走行させ、この片端面転写テープ12に片端面転
写電極ペースト供給部13の転写ローラ13aによって
銀ペースト等からなる電極ペーストを所要量塗着させ
る。次に、片端面転写ディスク11を回転させて、切り
欠き部11aに保持されている焼成体チップ5の片端面
を走行している片端面転写テープ12に押圧し、焼成体
チップ5の片端面に所定厚さの電極ペーストを転写す
る。次に、片端面転写ディスク11を更に回転させて、
この焼成体チップ5を乾燥装置14内を通過させ、電極
ペースト中の有機溶剤を乾燥させる。次に、片端面転写
ディスク11を回転させ、切り欠き部11aによる焼成
体チップ5の保持を解除し、これを片端面転写ディスク
11から取り外す。次に、前述した方法を繰り返して、
焼成体チップ5の他端面にも電極ペーストを転写・乾燥
させる。次に、両端面に電極ペーストが転写された焼成
体チップ5を、800℃で10分間焼き付け処理し、ニ
ッケル,ハンダメッキを施して外部電極(図示せず)を
形成して、積層セラミック電子部品(図示せず)を製造
する。
【0017】以上のように本実施例によれば、高精度の
積層セラミック電子部品を、容易かつ高い歩留りで製造
することができる。
【0018】(実施例2)以下本発明の第2の実施例に
おける積層セラミック電子部品の製造装置について、図
面を参照しながら説明する。図2は本発明の第2の実施
例における積層セラミック電子部品の製造装置の概略構
造図である。5は焼成体チップ、10はシュート、11
はディスク、11aは切り欠き部、12はテープ、12
aはプーリ、13は片端面転写電極ペースト供給部、1
3aは転写ローラ、14は乾燥装置であり、これらは実
施例1と同様なものなので同一の符号を付し説明を省略
する。15は片端面に電極ペーストが転写された焼成体
チップ5を片端面転写ディスク11から後述の他端面転
写ディスクへと移送するための第1の移送ディスク、1
5aは第1の移送ディスク15の外周に形成された前述
の切り欠き部11aと同様な切り欠き部、16は第1の
移送ディスク15と同様な第2の移送ディスク、16a
は切り欠き部15aと同様な切り欠き部、17は第2の
移送ディスク16によって移送された焼成体チップ5の
他端面に電極ペーストを転写するための片端面転写ディ
スク11と同様な他端面転写ディスク、17aは他端面
転写ディスク17の外周に形成された切り欠き部11a
と同様な切り欠き部、18は他端面転写ディスク17の
近傍を走行する片端面転写テープ12と同様な他端面転
写テープ、18aは他端面転写テープ18をガイドする
プーリ12aと同様なプーリ、19は他端面転写テープ
18へ電極ペーストを供給するための片端面転写電極ペ
ースト供給部13と同様な他端面転写電極ペースト供給
部、19aは他端面転写電極ペースト供給部19を構成
し転写ローラ13aと同様な転写ローラ、20は焼成体
チップ5の他端面に転写された電極ペーストを乾燥させ
る乾燥装置14と同様な乾燥装置である。ここで、第1
の移送ディスク15と第2の移送ディスク16とで焼成
体チップ移送部を構成している。
【0019】以上のように構成された本発明の第2の実
施例における積層セラミック電子部品の製造装置につい
て、以下それを用いた積層セラミック電子部品の製造方
法を説明する。
【0020】初めに、実施例1と同様にして、焼成体チ
ップ5を作製する。次に、実施例1と同様に、片端面転
写ディスク11等を用いて焼成体チップ5の片端面に電
極ペーストを転写し、これを乾燥装置14を用いて乾燥
させる。次に、片端面転写ディスク11を回転させて、
焼成体チップ5の電極ペーストが転写された片端部を第
1の移送ディスク15の切り欠き部15aに挿入し、切
り欠き部15aによって焼成体チップ5を保持するとと
もに切り欠き部11aによる保持を解除して焼成体チッ
プ5を片端面転写ディスク11から第1の移送ディスク
15へ移送する。次に、第1の移送ディスク15を回転
させて、焼成体チップ5の他端部を第2の移送ディスク
16の切り欠き部16aに挿入し、前述した方法で焼成
体チップ5を第1の移送ディスク15から第2の移送デ
ィスク16へ移送する。次に、第2の移送ディスク16
を回転させて、焼成体チップ5の電極ペーストが転写さ
れた片端部を他端面転写ディスク17の切り欠き部17
aに挿入し、前述した方法で焼成体チップ5を第2の移
送ディスク16から他端面転写ディスク17へ移送す
る。この時、焼成体チップ5の電極ペーストが転写され
ている片端面が他端面転写ディスク17の切り欠き部1
7aで保持される。次に、他端面転写ディスク17,他
端面転写テープ18等を用いて、実施例1と同様な方法
で焼成体チップ5の他端面に所定厚さの電極ペーストを
転写する。次に、他端面転写ディスク17を回転させ
て、乾燥装置20によって電極ペースト中の有機溶剤を
乾燥させる。次に、他端面転写ディスク17を回転さ
せ、切り欠き部17aによる焼成体チップの保持を解除
し、これを他端面転写ディスク17から取り外す。次
に、実施例1と同様にして、焼き付け処理・ニッケル,
ハンダメッキを行って外部電極(図示せず)を形成し、
積層セラミック電子部品(図示せず)を製造する。
【0021】以上のように本実施例によれば、焼成体チ
ップ5の両端面に、電極ペーストを連続して転写するこ
とができる。
【0022】尚、本実施例においては、移送部として第
1の移送ディスク15,第2の移送ディスク16からな
るものを用いているが、これらを除き、焼成体チップ5
を片面転写ディスク11から他端面ディスク17へ直接
移送させてもよい。
【0023】
【発明の効果】以上のように本発明は、ディスクの切り
欠き部に焼成体チップを保持させ、このディスクを回動
させて、電極ペーストをディスクと平行して走行するテ
ープから焼成体チップの端面へ転写させ、この電極ペー
ストを焼き付け処理して積層セラミック電子部品の外部
電極を形成することにより、高精度な積層セラミック電
子部品を製造することができ信頼性に優れ、少ない生産
工数かつ高い歩留りで積層セラミック電子部品を製造す
ることができる低原価で生産性に優れた積層セラミック
電子部品の製造方法と、片端面転写電極ペースト供給
部,他端面転写電極ペースト供給部で片端面転写テー
プ,他端面転写テープに塗着する電極ペーストの量を調
節することによって、形成される外部電極の厚さを変更
することができ汎用性に優れ、片端面に電極ペーストが
転写された焼成体チップの他端面に電極ペーストを転写
するための他端面転写ディスク等を備えたことによっ
て、焼成体チップの両端面に連続して電極ペーストを極
めて容易に転写することができ生産性に優れた積層セラ
ミック電子部品の製造装置を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における積層セラミック電子
部品の製造装置の概略構造図
【図2】本発明の第2の実施例における積層セラミック
電子部品の製造装置の概略構造図
【図3】一般的なグリーンブロック体の斜視図
【図4】(a)は一般的なグリーンチップの斜視図 (b)は一般的な焼成体チップの斜視図 (c)は従来の積層セラミック電子部品の製造方法によ
る積層セラミック電子部品の斜視図
【図5】従来のイ号に開示された積層セラミック電子部
品の製造方法による積層セラミック電子部品の正面図
【符号の説明】
1 グリーンブロック体 2 マーカ 3 内部電極 4 グリーンチップ 5 焼成体チップ 6 外部電極 7 積層セラミック電子部品 8 外部電極 9 積層セラミック電子部品 10 シュート 11 片端面転写ディスク 11a 切り欠き部 12 片端面転写テープ 12a プーリ 13 片端面転写電極ペースト供給部 13a 転写ローラ 14 乾燥装置 15 第1の移送ディスク 15a 切り欠き部 16 第2の移送ディスク 16a 切り欠き部 17 他端面転写ディスク 17a 切り欠き部 18 他端面転写テープ 18a プーリ 19 他端面転写電極ペースト供給部 19a 転写ローラ 20 乾燥装置
フロントページの続き (72)発明者 徳永 裕美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】外周に切り欠き部を有するディスクの前記
    切り欠き部に焼成体チップを保持させる焼成体チップ取
    り付け工程と、前記焼成体チップ取り付け工程で前記焼
    成体チップを保持している前記ディスクを回動させて前
    記焼成体チップの端面へ前記ディスクに添設されて走行
    するテープ上に塗着された電極ペーストを転写する電極
    ペースト転写工程と、を備えたことを特徴とする積層セ
    ラミック電子部品の製造方法。
  2. 【請求項2】外周に形成された焼成体チップを脱着自在
    に保持する切り欠き部を有する回動自在な円板状等の片
    端面転写ディスクと、前記片端面転写ディスクに添設さ
    れて走行させられる片端面転写テープと、前記片端面転
    写テープに電極ペーストを塗着させる片端面転写電極ペ
    ースト供給部と、を備えたことを特徴とする積層セラミ
    ック電子部品の製造装置。
  3. 【請求項3】前記片端面転写ディスクの前記切り欠き部
    に保持されている片端面に電極ペーストが転写された焼
    成体チップを脱着自在に保持する切り欠き部を有する回
    動自在な円板状等の他端面転写ディスクと、前記他端面
    転写ディスクに添設されて走行させられる他端面転写テ
    ープと、前記他端面転写テープに電極ペーストを塗着さ
    せる他端面転写電極ペースト供給部と、を備えたことを
    特徴とする請求項2記載の積層セラミック電子部品の製
    造装置。
JP17141693A 1993-07-12 1993-07-12 積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置 Expired - Fee Related JP3175409B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17141693A JP3175409B2 (ja) 1993-07-12 1993-07-12 積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17141693A JP3175409B2 (ja) 1993-07-12 1993-07-12 積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0729770A true JPH0729770A (ja) 1995-01-31
JP3175409B2 JP3175409B2 (ja) 2001-06-11

Family

ID=15922736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17141693A Expired - Fee Related JP3175409B2 (ja) 1993-07-12 1993-07-12 積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3175409B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6099982A (en) * 1996-11-08 2000-08-08 Dowa Mining Co., Ltd. Starting powders for ITO production, ITO sinters and processes for producing such starting powders and ITO sinters
US6121178A (en) * 1996-10-04 2000-09-19 Dowa Mining Co., Ltd. Sintered ITO and an ITO sputtering target
WO2015025647A1 (ja) * 2013-08-20 2015-02-26 株式会社村田製作所 端子接合装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6121178A (en) * 1996-10-04 2000-09-19 Dowa Mining Co., Ltd. Sintered ITO and an ITO sputtering target
US6099982A (en) * 1996-11-08 2000-08-08 Dowa Mining Co., Ltd. Starting powders for ITO production, ITO sinters and processes for producing such starting powders and ITO sinters
WO2015025647A1 (ja) * 2013-08-20 2015-02-26 株式会社村田製作所 端子接合装置
JP2015038947A (ja) * 2013-08-20 2015-02-26 株式会社村田製作所 端子接合装置
KR20150041039A (ko) * 2013-08-20 2015-04-15 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 단자 접합 장치
CN104541347A (zh) * 2013-08-20 2015-04-22 株式会社村田制作所 端子接合装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3175409B2 (ja) 2001-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0535995B1 (en) Method of manufacturing electronic components
KR100674843B1 (ko) 기판의 치수변형을 최소화할 수 있는 ltcc기판의제조방법 및 이로부터 제조된 ltcc기판
JP3175409B2 (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法及びその装置
US7186307B2 (en) Method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board
JP2004522323A (ja) セラミック電子部品の製造方法と製造装置
CN113179581B (zh) Ltcc器件及其制造方法
JP2000276944A (ja) 導電性ペースト及びそれを用いたセラミック電子部品の製造方法
JP3789170B2 (ja) セラミックグリーンシート裁断積層方法
JPH0677659A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JPH1126279A (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法
JP2002076628A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
JP2001135935A (ja) 積層型チップ部品の製造方法
JPH05267854A (ja) セラミック多層配線基板及びその製造方法
JP3922092B2 (ja) セラミック基板の製造方法
JPH03145111A (ja) チップ部品の製造方法
JPH02166793A (ja) 多層セラミック回路基板の製造方法
JPH03280481A (ja) 電歪効果素子の製造方法
JPH01166414A (ja) チップ状ジャンパー素子の製造方法
JPH05175064A (ja) 積層電子部品の製造方法
JPS63226004A (ja) チツプ抵抗器の製造方法
JPH02159777A (ja) 電歪効果素子
JPS62102596A (ja) 多層配線セラミツク基板の製造法
JPS59134803A (ja) チツプ抵抗体の製造方法
KR20000038386A (ko) 캠버가 제어된 금속상 저온 동시 소성 세라믹기판의 제작 공정
JPH0555045A (ja) チツプインダクタおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees