JPH072839A - 縮合５員複素環化合物、それらの調製方法及びこれらの化合物を含む医薬組成物 - Google Patents
縮合５員複素環化合物、それらの調製方法及びこれらの化合物を含む医薬組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有益な薬理学的性質、例えば、凝集抑制作用
を有する縮合５員複素環化合物、これらの化合物を含む
医薬組成物及びそれらの調製法を提供することにある。 【構成】５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、５−［（２−カ
ルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル
−２−［（４−ピペリジニル）−アミノカルボニル］−
ベンゾイミダゾール、５−（４−カルボキシ−１−オキ
ソ−ブチル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、１−（４−カ
ルボキシ−ブチル）−３−メチル−８−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−キサンチン、及びこれらの類
縁体を含む縮合５員複素環化合物、その互変異性体、そ
の混合物を含む立体異性体並びにこれらの塩。
を有する縮合５員複素環化合物、これらの化合物を含む
医薬組成物及びそれらの調製法を提供することにある。 【構成】５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、５−［（２−カ
ルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル
−２−［（４−ピペリジニル）−アミノカルボニル］−
ベンゾイミダゾール、５−（４−カルボキシ−１−オキ
ソ−ブチル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、１−（４−カ
ルボキシ−ブチル）−３−メチル−８−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−キサンチン、及びこれらの類
縁体を含む縮合５員複素環化合物、その互変異性体、そ
の混合物を含む立体異性体並びにこれらの塩。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は縮合５員複素環化合物、
それらの調製方法及びこれらの化合物を含む医薬組成物
に関する。
それらの調製方法及びこれらの化合物を含む医薬組成物
に関する。
【０００２】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式
【０００３】
【化１４】
【０００４】の縮合５員複素環化合物、その互変異性
体、これらの混合物を含む立体異性体、及びこれらの
塩、特に無機または有機の酸または塩基とのそれらの生
理学上許される塩（これらは有益な薬理学的性質、好ま
しくは凝集抑制性を有する）、これらの化合物を含む医
薬組成物、それらの使用並びにそれらの調製方法に関す
る。上記の一般式Ｉにおいて、Ａはアミノアルキル基、
アミジノ基またはグアニジノ基（その窒素原子の一つの
位置にある水素原子はヒドロキシ基、アルキル基、アル
コキシカルボニル基またはフェニルアルコキシカルボニ
ル基により置換されていてもよい）、または必要により
炭素骨格中で１個または２個のアルキル基により置換さ
れていてもよく、また窒素原子の位置で基Ｒa （式中、
Ｒa は水素原子、アルキル基もしくはフェニルアルキル
基、合計２〜５個の炭素原子を有するアルコキシカルボ
ニル基、フェニルアルコキシカルボニル基またはR1-CO-
(R2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1はアルキル基を表し、かつ
Ｒ2 は水素原子またはアルキル基もしくはフェニル基を
表す）を表す）により置換されていてもよく、更に４位
の＞ＣＨ−単位が窒素原子により置換されていてもよい
ピペリジニル基、イミダゾリル基、またはピリジル基
（これは、複素環系がベンゾオキサゾール基を表す場合
には、２位を介して基Ｂに結合し得ない）を表し、
体、これらの混合物を含む立体異性体、及びこれらの
塩、特に無機または有機の酸または塩基とのそれらの生
理学上許される塩（これらは有益な薬理学的性質、好ま
しくは凝集抑制性を有する）、これらの化合物を含む医
薬組成物、それらの使用並びにそれらの調製方法に関す
る。上記の一般式Ｉにおいて、Ａはアミノアルキル基、
アミジノ基またはグアニジノ基（その窒素原子の一つの
位置にある水素原子はヒドロキシ基、アルキル基、アル
コキシカルボニル基またはフェニルアルコキシカルボニ
ル基により置換されていてもよい）、または必要により
炭素骨格中で１個または２個のアルキル基により置換さ
れていてもよく、また窒素原子の位置で基Ｒa （式中、
Ｒa は水素原子、アルキル基もしくはフェニルアルキル
基、合計２〜５個の炭素原子を有するアルコキシカルボ
ニル基、フェニルアルコキシカルボニル基またはR1-CO-
(R2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1はアルキル基を表し、かつ
Ｒ2 は水素原子またはアルキル基もしくはフェニル基を
表す）を表す）により置換されていてもよく、更に４位
の＞ＣＨ−単位が窒素原子により置換されていてもよい
ピペリジニル基、イミダゾリル基、またはピリジル基
（これは、複素環系がベンゾオキサゾール基を表す場合
には、２位を介して基Ｂに結合し得ない）を表し、
【０００５】Ｂは直鎖または分枝C1-5アルキレン基、ま
たは−アルキレン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−
アルキレン−Ｓ−基、−Ｓ−アルキレン−基、−アルキ
レン−ＮＲ3 −基、−ＮＲ3 −アルキレン−基、−ＣＯ
−ＮＲ3 −基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（式中、Ｒ3 は
水素原子またはアルキル基もしくはフェニルアルキル基
を表す）、またはシクロヘキシレン基を表し、またはＡ
が必要により炭素骨格中で１個または２個のアルキル基
により置換されていてもよく、また窒素原子の位置で基
Ｒa （式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）によ
り置換されていてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒
素原子により置換されていてもよいピペリジニル基を表
す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル
基または４−メトキシカルボニル−ブチル基を表す場合
に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表さないこと
を条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または
−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノカルボニル
基または２−メトキシカルボニルエチルアミノカルボニ
ル基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表さない場
合、Ｂはフェニレン基（これはフェニル核中でフッ素原
子、塩素原子もしくは臭素原子またはアルキル基もしく
はアルコキシ基により一置換または二置換されていても
よく、これらの置換基は同じであってもよく、また異な
っていてもよい）を表してもよく、
たは−アルキレン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−
アルキレン−Ｓ−基、−Ｓ−アルキレン−基、−アルキ
レン−ＮＲ3 −基、−ＮＲ3 −アルキレン−基、−ＣＯ
−ＮＲ3 −基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（式中、Ｒ3 は
水素原子またはアルキル基もしくはフェニルアルキル基
を表す）、またはシクロヘキシレン基を表し、またはＡ
が必要により炭素骨格中で１個または２個のアルキル基
により置換されていてもよく、また窒素原子の位置で基
Ｒa （式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）によ
り置換されていてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒
素原子により置換されていてもよいピペリジニル基を表
す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル
基または４−メトキシカルボニル−ブチル基を表す場合
に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表さないこと
を条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または
−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノカルボニル
基または２−メトキシカルボニルエチルアミノカルボニ
ル基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表さない場
合、Ｂはフェニレン基（これはフェニル核中でフッ素原
子、塩素原子もしくは臭素原子またはアルキル基もしく
はアルコキシ基により一置換または二置換されていても
よく、これらの置換基は同じであってもよく、また異な
っていてもよい）を表してもよく、
【０００６】基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-6アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 ＮＲ 3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義されたと
おりである）を表し、Ｅは結合または直鎖または分枝C
1-5アルキレン基を表し、かつＦはカルボキシ基、合計
２〜７個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、
フェニルアルコキシカルボニル基、シクロアルコキシカ
ルボニル基もしくはシクロアルキルアルコキシカルボニ
ル基（夫々、シクロアルキル部分中に３〜７個の炭素原
子を有する）、スルホ基、ホスホノ基、Ｏ−アルキル−
ホスホノ基、Ｏ，Ｏ−ジアルキル−ホスホノ基またはテ
トラゾール−５−イル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の
基は窒素原子、Ｒb −Ｃ（＜）−基、Ｒc −Ｎ＜基また
はカルボニル基を表し、
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-6アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 ＮＲ 3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義されたと
おりである）を表し、Ｅは結合または直鎖または分枝C
1-5アルキレン基を表し、かつＦはカルボキシ基、合計
２〜７個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、
フェニルアルコキシカルボニル基、シクロアルコキシカ
ルボニル基もしくはシクロアルキルアルコキシカルボニ
ル基（夫々、シクロアルキル部分中に３〜７個の炭素原
子を有する）、スルホ基、ホスホノ基、Ｏ−アルキル−
ホスホノ基、Ｏ，Ｏ−ジアルキル−ホスホノ基またはテ
トラゾール−５−イル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の
基は窒素原子、Ｒb −Ｃ（＜）−基、Ｒc −Ｎ＜基また
はカルボニル基を表し、
【０００７】｛式中、Ｒb は水素原子、フッ素原子、塩
素原子もしくは臭素原子またはアルキル基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、フェニルアルコキシ基、アミノ基、
アルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基（上記の基
中の夫々のアルキル部分は１〜６個の炭素原子を含んで
いてもよい）を表し、かつＲc は水素原子、または必要
によりヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシ基、アル
コキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アルキルア
ミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、ピ
ロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ
基またはＮ−アルキル−ピペラジノ基により置換されて
いてもよいC1-6アルキル基を表し、またはＲc はアルキ
ル部分中に１〜５個の炭素原子を有するフェニルアルキ
ル基（これはフェニル核中でフッ素原子、塩素原子もし
くは臭素原子またはアルキル基もしくはアルコキシ基に
より一置換または二置換されていてもよく、これらの置
換基は同じであってもよく、また異なっていてもよい）
を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基は夫々窒素原子
またはＲb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒ b は先に定義され
たとおりである）もしくはカルボニル基を表し、また基
Ｘ1 〜Ｘ4 の二つ以下の基はカルボニル基を表してもよ
く、また基Ｘ1 〜Ｘ4 の三つ以下の基は環窒素原子を含
んでいてもよい、
素原子もしくは臭素原子またはアルキル基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、フェニルアルコキシ基、アミノ基、
アルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基（上記の基
中の夫々のアルキル部分は１〜６個の炭素原子を含んで
いてもよい）を表し、かつＲc は水素原子、または必要
によりヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシ基、アル
コキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アルキルア
ミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、ピ
ロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ
基またはＮ−アルキル−ピペラジノ基により置換されて
いてもよいC1-6アルキル基を表し、またはＲc はアルキ
ル部分中に１〜５個の炭素原子を有するフェニルアルキ
ル基（これはフェニル核中でフッ素原子、塩素原子もし
くは臭素原子またはアルキル基もしくはアルコキシ基に
より一置換または二置換されていてもよく、これらの置
換基は同じであってもよく、また異なっていてもよい）
を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基は夫々窒素原子
またはＲb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒ b は先に定義され
たとおりである）もしくはカルボニル基を表し、また基
Ｘ1 〜Ｘ4 の二つ以下の基はカルボニル基を表してもよ
く、また基Ｘ1 〜Ｘ4 の三つ以下の基は環窒素原子を含
んでいてもよい、
【０００８】基Ｙ1 またはＹ2 の一つは窒素原子または
メチン基を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 は酸素
原子またはＲd −Ｎ＜基を表し、（式中、Ｒd は水素原
子または必要によりヒドロキシ基、アルコキシ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ピロリ
ジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基ま
たはＮ−アルキル−ピペラジノ基により置換されていて
もよいC1-6アルキル基を表し、またはＲd はフェニル
（C1-5アルキル）基（これはフェニル核中でフッ素原
子、塩素原子もしくは臭素原子またはアルキル基もしく
はアルコキシ基により一置換または二置換されていても
よく、これらの置換基は同じであってもよく、また異な
っていてもよい）を表し、またはＲd はC3-7シクロアル
キル基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同
じ炭素原子に結合されている場合には、ＲdはＲc と一
緒になって直鎖または分枝C2-5アルキレン基を表しても
よい）特にことわらない限り、上記のアルキル部分、ア
ルキレン部分及びアルコキシ部分は夫々１〜３個の炭素
原子を含んでいてもよい。
メチン基を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 は酸素
原子またはＲd −Ｎ＜基を表し、（式中、Ｒd は水素原
子または必要によりヒドロキシ基、アルコキシ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ピロリ
ジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基ま
たはＮ−アルキル−ピペラジノ基により置換されていて
もよいC1-6アルキル基を表し、またはＲd はフェニル
（C1-5アルキル）基（これはフェニル核中でフッ素原
子、塩素原子もしくは臭素原子またはアルキル基もしく
はアルコキシ基により一置換または二置換されていても
よく、これらの置換基は同じであってもよく、また異な
っていてもよい）を表し、またはＲd はC3-7シクロアル
キル基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同
じ炭素原子に結合されている場合には、ＲdはＲc と一
緒になって直鎖または分枝C2-5アルキレン基を表しても
よい）特にことわらない限り、上記のアルキル部分、ア
ルキレン部分及びアルコキシ部分は夫々１〜３個の炭素
原子を含んでいてもよい。
【０００９】しかしながら、上記の一般式Ｉの好ましい
化合物は、Ａが必要によりヒドロキシ基またはアルコキ
シカルボニル基により置換されていてもよいアミジノ
基、またはアミノアルキル基もしくはベンジルオキシカ
ルボニルアミノアルキル基を表し、またはＡが必要によ
り炭素骨格中でアルキル置換されていてもよく、また必
要により窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は水素原
子またはアルキル基、ベンジル基、アルコキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基またはR1-CO-CH2-O-
CO- 基（式中、Ｒ1 はアルキル基を表す）を表す）によ
り置換されていてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒
素原子により置換されていてもよいピペリジニル基を表
し、またはＡがイミダゾリル基を表し、またはＡがピリ
ジル基（これは、複素環系がベンゾオキサゾール基を表
す場合には、２位を介して基Ｂに結合されていない）を
表し、
化合物は、Ａが必要によりヒドロキシ基またはアルコキ
シカルボニル基により置換されていてもよいアミジノ
基、またはアミノアルキル基もしくはベンジルオキシカ
ルボニルアミノアルキル基を表し、またはＡが必要によ
り炭素骨格中でアルキル置換されていてもよく、また必
要により窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は水素原
子またはアルキル基、ベンジル基、アルコキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基またはR1-CO-CH2-O-
CO- 基（式中、Ｒ1 はアルキル基を表す）を表す）によ
り置換されていてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒
素原子により置換されていてもよいピペリジニル基を表
し、またはＡがイミダゾリル基を表し、またはＡがピリ
ジル基（これは、複素環系がベンゾオキサゾール基を表
す場合には、２位を介して基Ｂに結合されていない）を
表し、
【００１０】Ｂが直鎖または分枝C1-5アルキレン基、ま
たは−アルキレン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−
アルキレン−Ｓ−基、−Ｓ−アルキレン−基、−アルキ
レン−ＮＲ3 −基、−ＮＲ3 −アルキレン−基、−ＣＯ
−ＮＲ3 −基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（式中、Ｒ3 は
水素原子またはアルキル基を表す）、またはシクロヘキ
シレン基を表し、またはＡが必要により炭素骨格中でア
ルキル置換されていてもよく、また必要により窒素原子
の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は先に定義されたとおりで
ある）により置換されていてもよく、また４位の＞ＣＨ
−単位が窒素原子により置換されていてもよいピペリジ
ニル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキ
シ−ブチル基または４−メトキシカルボニル−ブチル基
を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表
さないことを条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場
合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノ
カルボニル基または２−メトキシカルボニルエチルアミ
ノカルボニル基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表
さない場合、Ｂがフェニレン基を表してもよく、
たは−アルキレン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−
アルキレン−Ｓ−基、−Ｓ−アルキレン−基、−アルキ
レン−ＮＲ3 −基、−ＮＲ3 −アルキレン−基、−ＣＯ
−ＮＲ3 −基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（式中、Ｒ3 は
水素原子またはアルキル基を表す）、またはシクロヘキ
シレン基を表し、またはＡが必要により炭素骨格中でア
ルキル置換されていてもよく、また必要により窒素原子
の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は先に定義されたとおりで
ある）により置換されていてもよく、また４位の＞ＣＨ
−単位が窒素原子により置換されていてもよいピペリジ
ニル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキ
シ−ブチル基または４−メトキシカルボニル−ブチル基
を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表
さないことを条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場
合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノ
カルボニル基または２−メトキシカルボニルエチルアミ
ノカルボニル基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表
さない場合、Ｂがフェニレン基を表してもよく、
【００１１】基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-4アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 −ＮＲ3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義された
とおりである）を表し、Ｅは結合または直鎖または分枝
C1-5アルキレン基を表し、かつＦはカルボキシ基、合計
２〜６個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基ま
たは合計６〜８個の炭素原子を有するシクロアルコキシ
カルボニル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基が窒素原
子、Ｒb −Ｃ（＜）−基、Ｒc −Ｎ＜基またはカルボニ
ル基を表し、｛式中、Ｒb は水素原子、塩素原子もしく
は臭素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基またはジアルキルアミ
ノ基を表し、かつＲc は水素原子、必要によりヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジ
アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アミノカルボニル基、ピロリジノ基、ピペリジノ
基、モルホリノ基、ピペラジノ基またはＮ−アルキル−
ピペラジノ基により置換されていてもよいC1-5アルキル
基を表し、またはＲc はアルキル部分中に１〜５個の炭
素原子を有するフェニルアルキル基（これはフェニル核
中でアルコキシ基により一置換または二置換されていて
もよく、これらの置換基は同じであってもよく、また異
なっていてもよい）を表す｝、かつ
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-4アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 −ＮＲ3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義された
とおりである）を表し、Ｅは結合または直鎖または分枝
C1-5アルキレン基を表し、かつＦはカルボキシ基、合計
２〜６個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基ま
たは合計６〜８個の炭素原子を有するシクロアルコキシ
カルボニル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基が窒素原
子、Ｒb −Ｃ（＜）−基、Ｒc −Ｎ＜基またはカルボニ
ル基を表し、｛式中、Ｒb は水素原子、塩素原子もしく
は臭素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基またはジアルキルアミ
ノ基を表し、かつＲc は水素原子、必要によりヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジ
アルキルアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アミノカルボニル基、ピロリジノ基、ピペリジノ
基、モルホリノ基、ピペラジノ基またはＮ−アルキル−
ピペラジノ基により置換されていてもよいC1-5アルキル
基を表し、またはＲc はアルキル部分中に１〜５個の炭
素原子を有するフェニルアルキル基（これはフェニル核
中でアルコキシ基により一置換または二置換されていて
もよく、これらの置換基は同じであってもよく、また異
なっていてもよい）を表す｝、かつ
【００１２】基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素原子、
Ｒb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒb は先に定義されたとお
りである）またはカルボニル基を表し、また基Ｘ1 〜Ｘ
4 の二つ以下の基がカルボニル基を表してもよく、また
基Ｘ1 〜Ｘ4 の三つ以下の基が環中に位置された窒素原
子を含んでいてもよい、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素
原子を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 が酸素原子
またはＲd −Ｎ＜基を表し、（式中、Ｒd は水素原子、
必要によりヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、ア
ルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ピロリジノ基、
ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基またはＮ−
アルキル−ピペラジノ基により置換されていてもよいC
1-5アルキル基、またはアルキル部分中に１〜５個の炭
素原子を有するフェニルアルキル基（これはフェニル核
中でアルコキシ基により一置換または二置換されていて
もよく、これらの置換基は同じであってもよく、また異
なっていてもよい）、またはC3-6シクロアルキル基を表
し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同じ炭素原子
に結合されている場合には、ＲdはＲc と一緒になって
直鎖または分枝C2-4アルキレン基を表してもよい）特に
ことわらない限り、上記のアルキル部分、アルキレン部
分及びアルコキシ部分は夫々１〜３個の炭素原子を含ん
でいてもよい化合物及びその互変異性体、その立体異性
体並びにこれらの塩である。
Ｒb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒb は先に定義されたとお
りである）またはカルボニル基を表し、また基Ｘ1 〜Ｘ
4 の二つ以下の基がカルボニル基を表してもよく、また
基Ｘ1 〜Ｘ4 の三つ以下の基が環中に位置された窒素原
子を含んでいてもよい、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素
原子を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 が酸素原子
またはＲd −Ｎ＜基を表し、（式中、Ｒd は水素原子、
必要によりヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、ア
ルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ピロリジノ基、
ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基またはＮ−
アルキル−ピペラジノ基により置換されていてもよいC
1-5アルキル基、またはアルキル部分中に１〜５個の炭
素原子を有するフェニルアルキル基（これはフェニル核
中でアルコキシ基により一置換または二置換されていて
もよく、これらの置換基は同じであってもよく、また異
なっていてもよい）、またはC3-6シクロアルキル基を表
し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同じ炭素原子
に結合されている場合には、ＲdはＲc と一緒になって
直鎖または分枝C2-4アルキレン基を表してもよい）特に
ことわらない限り、上記のアルキル部分、アルキレン部
分及びアルコキシ部分は夫々１〜３個の炭素原子を含ん
でいてもよい化合物及びその互変異性体、その立体異性
体並びにこれらの塩である。
【００１３】しかしながら、上記の一般式Ｉの特に好ま
しい化合物は、Ａが必要によりヒドロキシ基または合計
２〜４個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基に
より置換されていてもよいアミジノ基、またはアミノア
ルキル基もしくはベンジルオキシカルボニルアミノアル
キル基、または必要により炭素骨格中でメチル置換され
ていてもよく、また必要により窒素原子の位置で基Ｒa
（式中、Ｒa は水素原子またはメチル基、ベンジル基、
メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基ま
たはCH3-CO-CH2-O-CO-基を表す）により置換されていて
もよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子により置換
されていてもよいピペリジニル基、または４−ピリジル
基もしくは１−イミダゾリル基を表し、
しい化合物は、Ａが必要によりヒドロキシ基または合計
２〜４個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基に
より置換されていてもよいアミジノ基、またはアミノア
ルキル基もしくはベンジルオキシカルボニルアミノアル
キル基、または必要により炭素骨格中でメチル置換され
ていてもよく、また必要により窒素原子の位置で基Ｒa
（式中、Ｒa は水素原子またはメチル基、ベンジル基、
メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基ま
たはCH3-CO-CH2-O-CO-基を表す）により置換されていて
もよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子により置換
されていてもよいピペリジニル基、または４−ピリジル
基もしくは１−イミダゾリル基を表し、
【００１４】Ｂが直鎖または分枝C1-4アルキレン基、ま
たは−アルキレン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−
アルキレン−Ｓ−基、−アルキレン−ＮＲ3 −基、−Ｎ
Ｒ3 −アルキレン−基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（その
アルキレン部分は１個または２個の炭素原子を含んでい
てもよく、またアルキレン−Ｓ−基のアルキレン部分及
び−ＮＲ3 −ＣＯ−基の窒素原子は基Ａに結合されてい
てもよく、かつＲ3 は水素原子またはメチル基を表
す）、または１，４−シクロヘキシレン基を表し、また
はＡが必要により炭素骨格中でメチル基により置換され
ていてもよく、また必要により窒素原子の位置で基Ｒa
（式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）により置
換されていてもよく、また４位の＞ＣＨ−単位が窒素原
子により置換されていてもよいピペリジニル基を表す場
合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基ま
たは４−メトキシカルボニル−ブチル基を表す場合に、
Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表さないことを条
件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または−Ｄ
−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノカルボニル基ま
たは２−メトキシカルボニルエチルアミノカルボニル基
を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表さない場合、Ｂ
がまたフェニレン基を表してもよく、
たは−アルキレン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−
アルキレン−Ｓ−基、−アルキレン−ＮＲ3 −基、−Ｎ
Ｒ3 −アルキレン−基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（その
アルキレン部分は１個または２個の炭素原子を含んでい
てもよく、またアルキレン−Ｓ−基のアルキレン部分及
び−ＮＲ3 −ＣＯ−基の窒素原子は基Ａに結合されてい
てもよく、かつＲ3 は水素原子またはメチル基を表
す）、または１，４−シクロヘキシレン基を表し、また
はＡが必要により炭素骨格中でメチル基により置換され
ていてもよく、また必要により窒素原子の位置で基Ｒa
（式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）により置
換されていてもよく、また４位の＞ＣＨ−単位が窒素原
子により置換されていてもよいピペリジニル基を表す場
合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基ま
たは４−メトキシカルボニル−ブチル基を表す場合に、
Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表さないことを条
件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または−Ｄ
−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノカルボニル基ま
たは２−メトキシカルボニルエチルアミノカルボニル基
を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表さない場合、Ｂ
がまたフェニレン基を表してもよく、
【００１５】基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-4アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 ＮＲ 3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義されたと
おりである）を表し、Ｅは結合または直鎖または分枝C
1-4アルキレン基を表し、かつＦはカルボキシ基、合計
２〜６個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基ま
たはシクロヘキシルオキシカルボニル基を表す｝基Ｘ1
〜Ｘ4 の第二の基が窒素原子またはＲc −Ｎ＜基、Ｒb
−Ｃ（＜）−基もしくはカルボニル基を表し、｛式中、
Ｒb は水素原子もしくは塩素原子またはヒドロキシ基、
メトキシ基、アミノ基、メチルアミノ基もしくはジメチ
ルアミノ基を表し、かつＲc は水素原子、必要によりメ
トキシ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル基または
アミノカルボニル基により置換されていてもよいC1-5ア
ルキル基、またはアルキル部分中に１〜５個の炭素原子
を有するフェニルアルキル基を表す｝、かつ
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-4アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 ＮＲ 3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義されたと
おりである）を表し、Ｅは結合または直鎖または分枝C
1-4アルキレン基を表し、かつＦはカルボキシ基、合計
２〜６個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基ま
たはシクロヘキシルオキシカルボニル基を表す｝基Ｘ1
〜Ｘ4 の第二の基が窒素原子またはＲc −Ｎ＜基、Ｒb
−Ｃ（＜）−基もしくはカルボニル基を表し、｛式中、
Ｒb は水素原子もしくは塩素原子またはヒドロキシ基、
メトキシ基、アミノ基、メチルアミノ基もしくはジメチ
ルアミノ基を表し、かつＲc は水素原子、必要によりメ
トキシ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル基または
アミノカルボニル基により置換されていてもよいC1-5ア
ルキル基、またはアルキル部分中に１〜５個の炭素原子
を有するフェニルアルキル基を表す｝、かつ
【００１６】基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素原子、
Ｒb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒb は先に定義されたとお
りである）またはカルボニル基を表し、また基Ｘ1 〜Ｘ
4 の二つ以下の基がカルボニル基を表してもよく、また
基Ｘ1 〜Ｘ4 の二つ以下の基が環中に位置された窒素原
子を含んでいてもよい、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素
原子を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 が酸素原子
またはＲd −Ｎ＜基を表す、（式中、Ｒd は水素原子、
必要によりヒドロキシ基、メトキシ基、アミノ基、メチ
ルアミノ基、ジメチルアミノ基、モルホリノ基、ピペラ
ジノ基またはＮ−メチル−ピペラジノ基により置換され
ていてもよいC1-5アルキル基、またはアルキル部分中に
１〜５個の炭素原子を有するフェニルアルキル基（これ
はフェニル核中でメトキシシ基により一置換または二置
換されていてもよい）、またはC3-6シクロアルキル基を
表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同じ炭素原
子に結合されている場合には、ＲdはＲc と一緒になっ
て直鎖または分枝C2-3アルキレン基を表してもよい化合
物；
Ｒb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒb は先に定義されたとお
りである）またはカルボニル基を表し、また基Ｘ1 〜Ｘ
4 の二つ以下の基がカルボニル基を表してもよく、また
基Ｘ1 〜Ｘ4 の二つ以下の基が環中に位置された窒素原
子を含んでいてもよい、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素
原子を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 が酸素原子
またはＲd −Ｎ＜基を表す、（式中、Ｒd は水素原子、
必要によりヒドロキシ基、メトキシ基、アミノ基、メチ
ルアミノ基、ジメチルアミノ基、モルホリノ基、ピペラ
ジノ基またはＮ−メチル−ピペラジノ基により置換され
ていてもよいC1-5アルキル基、またはアルキル部分中に
１〜５個の炭素原子を有するフェニルアルキル基（これ
はフェニル核中でメトキシシ基により一置換または二置
換されていてもよい）、またはC3-6シクロアルキル基を
表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同じ炭素原
子に結合されている場合には、ＲdはＲc と一緒になっ
て直鎖または分枝C2-3アルキレン基を表してもよい化合
物；
【００１７】特に、Ａがアミジノ基、アミノアルキル基
またはベンジルオキシカルボニルアミノアルキル基（そ
のアルキル部分は１個または２個の炭素原子を含んでい
てもよい）、または窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒ
a は水素原子またはベンジル基もしくはベンジルオキシ
カルボニル基を表す）により置換されたピペリジン−４
−イル基を表し、Ｂが直鎖または分枝C1-4アルキレン
基、またはＮＨ−ＣＯ−基（そのＮＨ−ＣＯ−基の窒素
原子は基Ａに結合されている）、または１，４−シクロ
ヘキシレン基を表し、またはＡが窒素原子の位置で基Ｒ
a （式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）により
置換されたピペリジン−４−イル基を表す場合、または
−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基または４−メ
トキシカルボニル−ブチル基を表す場合に、Ｘ4 が同時
にＮ−メチル−イミノ基を表さないことを条件として、
Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが
２−カルボキシエチルアミノカルボニル基または２−メ
トキシカルボニルエチルアミノカルボニル基を表し、か
つＸ4 が同時に窒素原子を表さない場合、Ｂがまたフェ
ニレン基を表してもよく、
またはベンジルオキシカルボニルアミノアルキル基（そ
のアルキル部分は１個または２個の炭素原子を含んでい
てもよい）、または窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒ
a は水素原子またはベンジル基もしくはベンジルオキシ
カルボニル基を表す）により置換されたピペリジン−４
−イル基を表し、Ｂが直鎖または分枝C1-4アルキレン
基、またはＮＨ−ＣＯ−基（そのＮＨ−ＣＯ−基の窒素
原子は基Ａに結合されている）、または１，４−シクロ
ヘキシレン基を表し、またはＡが窒素原子の位置で基Ｒ
a （式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）により
置換されたピペリジン−４−イル基を表す場合、または
−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基または４−メ
トキシカルボニル−ブチル基を表す場合に、Ｘ4 が同時
にＮ−メチル−イミノ基を表さないことを条件として、
Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが
２−カルボキシエチルアミノカルボニル基または２−メ
トキシカルボニルエチルアミノカルボニル基を表し、か
つＸ4 が同時に窒素原子を表さない場合、Ｂがまたフェ
ニレン基を表してもよく、
【００１８】基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-4アルキレン基、C2-3アルケニレ
ン基、ＣＯ−基またはＣＯ−ＮＨ−基（ＣＯ−ＮＨ−基
の窒素原子は基Ｅに結合されている）を表し、Ｅは結合
または直鎖または分枝C2-4アルキレン基を表し、かつＦ
はカルボキシ基または合計２〜５個の炭素原子を有する
アルコキシカルボニル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の
基がＲc −Ｎ＜基またはＲb −Ｃ（＜）−基を表し、
｛式中、Ｒb は水素原子または塩素原子を表し、かつＲ
c は水素原子またはメチル基もしくはエチル基を表
す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素原子また
はＨ−Ｃ（＜）−基もしくはカルボニル基を表し、基Ｙ
1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他の基
Ｙ1 またはＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表す、（式中、Ｒd は
水素原子またはC1-4アルキル基を表し、またはＲd はＲ
c と一緒になって直鎖または分枝C2-3アルキレン基を表
す）一般式Ｉの化合物、及びその互変異性体、その立体
異性体並びにこれらの塩である。
（＜）−基またはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、
Ｄは直鎖または分枝C1-4アルキレン基、C2-3アルケニレ
ン基、ＣＯ−基またはＣＯ−ＮＨ−基（ＣＯ−ＮＨ−基
の窒素原子は基Ｅに結合されている）を表し、Ｅは結合
または直鎖または分枝C2-4アルキレン基を表し、かつＦ
はカルボキシ基または合計２〜５個の炭素原子を有する
アルコキシカルボニル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の
基がＲc −Ｎ＜基またはＲb −Ｃ（＜）−基を表し、
｛式中、Ｒb は水素原子または塩素原子を表し、かつＲ
c は水素原子またはメチル基もしくはエチル基を表
す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素原子また
はＨ−Ｃ（＜）−基もしくはカルボニル基を表し、基Ｙ
1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他の基
Ｙ1 またはＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表す、（式中、Ｒd は
水素原子またはC1-4アルキル基を表し、またはＲd はＲ
c と一緒になって直鎖または分枝C2-3アルキレン基を表
す）一般式Ｉの化合物、及びその互変異性体、その立体
異性体並びにこれらの塩である。
【００１９】上記の一般式Ｉの特に最も好ましい化合物
は、Ａがアミジノ基またはピペリジン−４−イル基を表
し、Ｂがエチレン基を表し、またはＡがピペリジン−４
−イル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボ
キシ−ブチル基または４−メトキシカルボニル−ブチル
基を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を
表さないことを条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す
場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミ
ノカルボニル基または２−メトキシカルボニルエチルア
ミノカルボニル基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を
表さない場合、Ｂがまたフェニレン基を表してもよく、
基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、Ｄは直鎖または分
枝C2-4アルキレン基、エテニレン基、−ＣＯ−基または
−ＣＯ−ＮＨ−基（−ＣＯ−ＮＨ−基の窒素原子は基Ｅ
に結合されている）を表し、Ｅは結合またはエチレン基
を表し、かつＦはカルボキシ基または合計２〜５個の炭
素原子を有するアルコキシカルボニル基を表す｝
は、Ａがアミジノ基またはピペリジン−４−イル基を表
し、Ｂがエチレン基を表し、またはＡがピペリジン−４
−イル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボ
キシ−ブチル基または４−メトキシカルボニル−ブチル
基を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を
表さないことを条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す
場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミ
ノカルボニル基または２−メトキシカルボニルエチルア
ミノカルボニル基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を
表さない場合、Ｂがまたフェニレン基を表してもよく、
基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、Ｄは直鎖または分
枝C2-4アルキレン基、エテニレン基、−ＣＯ−基または
−ＣＯ−ＮＨ−基（−ＣＯ−ＮＨ−基の窒素原子は基Ｅ
に結合されている）を表し、Ｅは結合またはエチレン基
を表し、かつＦはカルボキシ基または合計２〜５個の炭
素原子を有するアルコキシカルボニル基を表す｝
【００２０】基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基がＲc −Ｎ＜基ま
たはＲb −Ｃ（＜）−基を表し、｛式中、Ｒb は水素原
子または塩素原子を表し、かつＲc は水素原子またはメ
チル基を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒
素原子またはＨ−Ｃ（＜）−基もしくはカルボニル基を
表し、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつ
その他の基Ｙ1 またはＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表す、（式
中、Ｒd はメチル基を表し、またはＲd はＲc と一緒に
なってｎ−プロピレン基を表す）化合物、及びその互変
異性体、その立体異性体並びにこれらの塩である。
たはＲb −Ｃ（＜）−基を表し、｛式中、Ｒb は水素原
子または塩素原子を表し、かつＲc は水素原子またはメ
チル基を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒
素原子またはＨ−Ｃ（＜）−基もしくはカルボニル基を
表し、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつ
その他の基Ｙ1 またはＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表す、（式
中、Ｒd はメチル基を表し、またはＲd はＲc と一緒に
なってｎ−プロピレン基を表す）化合物、及びその互変
異性体、その立体異性体並びにこれらの塩である。
【００２１】一般式Ｉの特に好ましい化合物の例は以下
のとおりである。 (a) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール、(b) ５−［（２−カ
ルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル
−２−［（４−ピペリジニル）−アミノカルボニル］−
ベンゾイミダゾール、(c) ５−（４−カルボキシ−１−
オキソ−ブチル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、(d) １−
（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン、(e) １
−（４−カルボキシ−ブチル）−３，９−ジメチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチ
ン、(f) ２−（４−アミジノ−フェニル）−９−（４−
カルボキシ−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６−ジ
ヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］プ
リン、(g) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）
−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール及びこ
れらの塩。
のとおりである。 (a) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール、(b) ５−［（２−カ
ルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル
−２−［（４−ピペリジニル）−アミノカルボニル］−
ベンゾイミダゾール、(c) ５−（４−カルボキシ−１−
オキソ−ブチル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、(d) １−
（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン、(e) １
−（４−カルボキシ−ブチル）−３，９−ジメチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチ
ン、(f) ２−（４−アミジノ−フェニル）−９−（４−
カルボキシ−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６−ジ
ヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］プ
リン、(g) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）
−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール及びこ
れらの塩。
【００２２】本発明によれば、新規化合物は、例えば、
下記の方法を使用して得られる。 a)一般式Ｉの化合物（式中、Ｆがカルボキシ基を表す）
を調製するために、一般式
下記の方法を使用して得られる。 a)一般式Ｉの化合物（式中、Ｆがカルボキシ基を表す）
を調製するために、一般式
【００２３】
【化１５】
【００２４】（式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ
2 は、Ｆが合計２〜７個の炭素原子を有するアルコキシ
カルボニル基、アルコキシ部分中に１〜３個の炭素原子
を有するフェニルアルコキシカルボニル基、夫々シクロ
アルキル部分中に３〜７個の炭素原子を有し、またアル
キルオキシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するシクロ
アルキルオキシカルボニル基もしくはシクロアルキルア
ルキルオキシカルボニル基及び開裂可能な基により保護
されたカルボキシル基、例えば、トリメチルシリルオキ
シカルボニル基、メトキシベンジルオキシカルボニル
基、２，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル基も
しくはテトラヒドロピラニルオキシカルボニル基を表す
ことを条件として、先に定義されたとおりである）の化
合物から加水分解、水添分解または熱分解により保護基
を開裂する方法。その加水分解は、酸、例えば、塩酸、
臭化水素酸、硫酸、リン酸、酢酸、酢酸／塩酸、トリク
ロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸の存在下で、または
塩基、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウムもし
くは水酸化カリウムの存在下で、適当な溶媒、例えば、
水、メタノール、水／メタノール、エタノール、水／エ
タノール、水／イソプロパノール、水／テトラヒドロフ
ランまたは水／ジオキサン中で、-10 ℃〜120 ℃の温
度、例えば、周囲温度〜反応混合物の沸騰温度の温度で
適当に行われる。酸加水分解の際に、使用される条件に
応じて、式IIの化合物中に存在し得るその他の加水分解
により開裂可能な基、例えば、アセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、ベンゾイル基、tert. ブチルオキシカル
ボニル基またはベンジルオキシカルボニル基が同時に開
裂し得る。
2 は、Ｆが合計２〜７個の炭素原子を有するアルコキシ
カルボニル基、アルコキシ部分中に１〜３個の炭素原子
を有するフェニルアルコキシカルボニル基、夫々シクロ
アルキル部分中に３〜７個の炭素原子を有し、またアル
キルオキシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するシクロ
アルキルオキシカルボニル基もしくはシクロアルキルア
ルキルオキシカルボニル基及び開裂可能な基により保護
されたカルボキシル基、例えば、トリメチルシリルオキ
シカルボニル基、メトキシベンジルオキシカルボニル
基、２，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル基も
しくはテトラヒドロピラニルオキシカルボニル基を表す
ことを条件として、先に定義されたとおりである）の化
合物から加水分解、水添分解または熱分解により保護基
を開裂する方法。その加水分解は、酸、例えば、塩酸、
臭化水素酸、硫酸、リン酸、酢酸、酢酸／塩酸、トリク
ロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸の存在下で、または
塩基、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウムもし
くは水酸化カリウムの存在下で、適当な溶媒、例えば、
水、メタノール、水／メタノール、エタノール、水／エ
タノール、水／イソプロパノール、水／テトラヒドロフ
ランまたは水／ジオキサン中で、-10 ℃〜120 ℃の温
度、例えば、周囲温度〜反応混合物の沸騰温度の温度で
適当に行われる。酸加水分解の際に、使用される条件に
応じて、式IIの化合物中に存在し得るその他の加水分解
により開裂可能な基、例えば、アセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、ベンゾイル基、tert. ブチルオキシカル
ボニル基またはベンジルオキシカルボニル基が同時に開
裂し得る。
【００２５】Ｆが、例えば、tert. ブチルオキシカルボ
ニル基を表す場合、そのtert. ブチル基はまた必要によ
り不活性溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランまたはジオキ
サン中で好ましくは-10 ℃〜120 ℃の温度、例えば、０
〜60℃の温度で酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸、
ギ酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、リン酸またはポ
リリン酸で処理することにより開裂でき、または必要に
より不活性溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランもしくは
ジオキサン中で、必要により触媒量の酸、例えば、ｐ−
トルエンスルホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸の
存在下で、好ましくは使用される溶媒の沸騰温度、例え
ば、40℃〜100 ℃の温度で熱分解により開裂し得る。Ｆ
が、例えば、ベンジルオキシカルボニル基を表す場合、
そのベンジル基はまた水素化触媒、例えば、パラジウム
／木炭の存在下で、適当な溶媒、例えば、メタノール、
エタノール、エタノール／水、氷酢酸、酢酸エチル、ジ
オキサンまたはジメチルホルムアミド中で、好ましくは
０〜50℃の温度、例えば、周囲温度で、１〜10バールの
水素圧力のもとに水添分解により開裂し得る。水添分解
中に、その他の基がまた同時に還元でき、例えば、ニト
ロ基がアミノ基に還元でき、またベンジルオキシ基がヒ
ドロキシ基に還元でき、またベンジルアミノ基またはベ
ンジルオキシカルボニルアミノ基がアミジノ基に還元し
得る。更に、Ｃ＝Ｃ二重結合が同時に単結合に水素化し
得る。 b)一般式Ｉの化合物（式中、Ｒa が水素原子を表す）を
調製するために、一般式
ニル基を表す場合、そのtert. ブチル基はまた必要によ
り不活性溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、
ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランまたはジオキ
サン中で好ましくは-10 ℃〜120 ℃の温度、例えば、０
〜60℃の温度で酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸、
ギ酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、リン酸またはポ
リリン酸で処理することにより開裂でき、または必要に
より不活性溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランもしくは
ジオキサン中で、必要により触媒量の酸、例えば、ｐ−
トルエンスルホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸の
存在下で、好ましくは使用される溶媒の沸騰温度、例え
ば、40℃〜100 ℃の温度で熱分解により開裂し得る。Ｆ
が、例えば、ベンジルオキシカルボニル基を表す場合、
そのベンジル基はまた水素化触媒、例えば、パラジウム
／木炭の存在下で、適当な溶媒、例えば、メタノール、
エタノール、エタノール／水、氷酢酸、酢酸エチル、ジ
オキサンまたはジメチルホルムアミド中で、好ましくは
０〜50℃の温度、例えば、周囲温度で、１〜10バールの
水素圧力のもとに水添分解により開裂し得る。水添分解
中に、その他の基がまた同時に還元でき、例えば、ニト
ロ基がアミノ基に還元でき、またベンジルオキシ基がヒ
ドロキシ基に還元でき、またベンジルアミノ基またはベ
ンジルオキシカルボニルアミノ基がアミジノ基に還元し
得る。更に、Ｃ＝Ｃ二重結合が同時に単結合に水素化し
得る。 b)一般式Ｉの化合物（式中、Ｒa が水素原子を表す）を
調製するために、一般式
【００２６】
【化１６】
【００２７】（式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ
2 は、Ｒa が合計２〜５個の炭素原子を有するアルコキ
シカルボニル基、アルコキシ部分中に１〜３個の炭素原
子を有するフェニルアルコキシカルボニル基、R1-CO-(R
2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1 及びＲ2 は先に定義されたと
おりである）、またはイミノ基の開裂可能な保護基、例
えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイ
ル基、ベンジル基、メトキシベンジル基もしくは２，４
−ジメトキシベンジル基を表すことを条件として、先に
定義されたとおりである）の化合物から加水分解、水添
分解または熱分解により保護基を開裂する方法。その加
水分解は、酸、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン
酸、酢酸、酢酸／塩酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフ
ルオロ酢酸の存在下で、または塩基、例えば、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの存
在下で、適当な溶媒、例えば、水、メタノール、水／メ
タノール、エタノール、水／エタノール、水／イソプロ
パノール、水／テトラヒドロフラン、エーテル／ジオキ
サンまたは水／ジオキサン中で、-10 ℃〜120 ℃の温
度、例えば、周囲温度〜反応混合物の沸騰温度の温度で
適当に行われる。酸加水分解の際に、使用される条件に
応じて、式III の化合物中に存在し得るその他の加水分
解により開裂可能な基、例えば、アルコキシカルボニル
基またはフェニルアルコキシカルボニル基が同時に開裂
し得る。
2 は、Ｒa が合計２〜５個の炭素原子を有するアルコキ
シカルボニル基、アルコキシ部分中に１〜３個の炭素原
子を有するフェニルアルコキシカルボニル基、R1-CO-(R
2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1 及びＲ2 は先に定義されたと
おりである）、またはイミノ基の開裂可能な保護基、例
えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイ
ル基、ベンジル基、メトキシベンジル基もしくは２，４
−ジメトキシベンジル基を表すことを条件として、先に
定義されたとおりである）の化合物から加水分解、水添
分解または熱分解により保護基を開裂する方法。その加
水分解は、酸、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン
酸、酢酸、酢酸／塩酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフ
ルオロ酢酸の存在下で、または塩基、例えば、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの存
在下で、適当な溶媒、例えば、水、メタノール、水／メ
タノール、エタノール、水／エタノール、水／イソプロ
パノール、水／テトラヒドロフラン、エーテル／ジオキ
サンまたは水／ジオキサン中で、-10 ℃〜120 ℃の温
度、例えば、周囲温度〜反応混合物の沸騰温度の温度で
適当に行われる。酸加水分解の際に、使用される条件に
応じて、式III の化合物中に存在し得るその他の加水分
解により開裂可能な基、例えば、アルコキシカルボニル
基またはフェニルアルコキシカルボニル基が同時に開裂
し得る。
【００２８】Ｒa が、例えば、tert. ブチルオキシカル
ボニル基を表す場合、そのtert. ブチルオキシカルボニ
ル基はまた必要により不活性溶媒、例えば、メタノー
ル、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル／ジオ
キサンまたはエーテル／ジオキサン／メタノール中で好
ましくは-10 ℃〜120 ℃の温度、例えば、０〜60℃の温
度で酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸、ギ酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸で
処理することにより開裂でき、または必要により不活性
溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼ
ン、トルエン、テトラヒドロフランもしくはジオキサン
中で、必要により触媒量の酸、例えば、ｐ−トルエンス
ルホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸の存在下で、
好ましくは使用される溶媒の沸騰温度、例えば、40℃〜
100 ℃の温度で熱分解により開裂し得る。Ｒa が、例え
ば、ベンジル基またはベンジルオキシカルボニル基を表
す場合、そのベンジル基またはベンジルオキシカルボニ
ル基は水素化触媒、例えば、パラジウム／木炭の存在下
で、適当な溶媒、例えば、メタノール、エタノール、エ
タノール／水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオキサンまたは
ジメチルホルムアミド中で、好ましくは０〜50℃の温
度、例えば、周囲温度で、１〜10バールの水素圧力のも
とに水添分解により開裂し得る。水添分解中に、その他
の基がまた同時に還元でき、例えば、ニトロ基がアミノ
基に還元でき、またベンジルオキシ基がヒドロキシ基に
還元でき、またベンジルアミノ基がアミノ基に還元し得
る。更に、存在するＣ＝Ｃ二重結合が同時に単結合に水
素化し得る。
ボニル基を表す場合、そのtert. ブチルオキシカルボニ
ル基はまた必要により不活性溶媒、例えば、メタノー
ル、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル／ジオ
キサンまたはエーテル／ジオキサン／メタノール中で好
ましくは-10 ℃〜120 ℃の温度、例えば、０〜60℃の温
度で酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸、ギ酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸で
処理することにより開裂でき、または必要により不活性
溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼ
ン、トルエン、テトラヒドロフランもしくはジオキサン
中で、必要により触媒量の酸、例えば、ｐ−トルエンス
ルホン酸、硫酸、リン酸またはポリリン酸の存在下で、
好ましくは使用される溶媒の沸騰温度、例えば、40℃〜
100 ℃の温度で熱分解により開裂し得る。Ｒa が、例え
ば、ベンジル基またはベンジルオキシカルボニル基を表
す場合、そのベンジル基またはベンジルオキシカルボニ
ル基は水素化触媒、例えば、パラジウム／木炭の存在下
で、適当な溶媒、例えば、メタノール、エタノール、エ
タノール／水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオキサンまたは
ジメチルホルムアミド中で、好ましくは０〜50℃の温
度、例えば、周囲温度で、１〜10バールの水素圧力のも
とに水添分解により開裂し得る。水添分解中に、その他
の基がまた同時に還元でき、例えば、ニトロ基がアミノ
基に還元でき、またベンジルオキシ基がヒドロキシ基に
還元でき、またベンジルアミノ基がアミノ基に還元し得
る。更に、存在するＣ＝Ｃ二重結合が同時に単結合に水
素化し得る。
【００２９】c)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｙ1 または
Ｙ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他の基Ｙ1 また
はＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及び
Ｒd−Ｎ＜が同じ炭素原子に結合されている場合には、
Ｒc 及びＲd はまた一緒になってC2-5ｎ−アルキレン基
を表す）を調製するために、必要により反応混合物中で
生成されてもよい一般式
Ｙ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他の基Ｙ1 また
はＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及び
Ｒd−Ｎ＜が同じ炭素原子に結合されている場合には、
Ｒc 及びＲd はまた一緒になってC2-5ｎ−アルキレン基
を表す）を調製するために、必要により反応混合物中で
生成されてもよい一般式
【００３０】
【化１７】
【００３１】［式中、Ｘ1 〜Ｘ4 は先に定義されたとお
りであり、基Ｚ1 またはＺ2 の一つはＡ−Ｂ−ＣＯ−Ｎ
Ｒd1−基を表し、かつその他の基Ｚ1 またはＺ2 はＨＮ
Ｒd2−基を表す、（式中、Ａ及びＢは先に定義されたと
おりであり、基Ｒd1またはＲd2の一つは水素原子を表
し、かつその他の基Ｒd1またはＲd2は先にＲd に関して
示された意味を有する）］の化合物を環化し、続いて、
必要により、使用された保護基を開裂する方法。その環
化は、必要により、溶媒または溶媒の混合物、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、氷酢酸、
ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン、グリ
コール、グリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、スルホラン、ジメチルホル
ムアミド、ジフェニルエーテルまたはテトラリン中で、
または一般式IVの化合物を調製するのに使用される過剰
のアシル化剤、例えば、相当する酸または相当するニト
リル、酸無水物、酸ハライド、エステルもしくはアミド
中で、例えば、０〜250 ℃の温度、好ましくは100〜250
℃の温度、特に有利には反応混合物の沸騰温度で、必
要により縮合剤、例えば、オキシ塩化リン、塩化チオニ
ル、塩化スルフリル、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸、無水酢
酸の存在下で、または必要により塩基、例えば、水酸化
ナトリウム、カリウムエトキシドもしくはカリウムter
t. ブトキシドの存在下で行われる。しかしながら、そ
の環化はまた溶媒及び／または縮合剤を使用しないで行
われてもよい。
りであり、基Ｚ1 またはＺ2 の一つはＡ−Ｂ−ＣＯ−Ｎ
Ｒd1−基を表し、かつその他の基Ｚ1 またはＺ2 はＨＮ
Ｒd2−基を表す、（式中、Ａ及びＢは先に定義されたと
おりであり、基Ｒd1またはＲd2の一つは水素原子を表
し、かつその他の基Ｒd1またはＲd2は先にＲd に関して
示された意味を有する）］の化合物を環化し、続いて、
必要により、使用された保護基を開裂する方法。その環
化は、必要により、溶媒または溶媒の混合物、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、氷酢酸、
ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン、グリ
コール、グリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、スルホラン、ジメチルホル
ムアミド、ジフェニルエーテルまたはテトラリン中で、
または一般式IVの化合物を調製するのに使用される過剰
のアシル化剤、例えば、相当する酸または相当するニト
リル、酸無水物、酸ハライド、エステルもしくはアミド
中で、例えば、０〜250 ℃の温度、好ましくは100〜250
℃の温度、特に有利には反応混合物の沸騰温度で、必
要により縮合剤、例えば、オキシ塩化リン、塩化チオニ
ル、塩化スルフリル、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸、無水酢
酸の存在下で、または必要により塩基、例えば、水酸化
ナトリウム、カリウムエトキシドもしくはカリウムter
t. ブトキシドの存在下で行われる。しかしながら、そ
の環化はまた溶媒及び／または縮合剤を使用しないで行
われてもよい。
【００３２】しかしながら、相当するジアミノ化合物を
アシル化することにより、または相当するｏ−ニトロ−
アシルアミノ化合物を還元することにより反応混合物中
で一般式IVの化合物を調製することによりその反応を行
うことが特に有利である。ニトロ基の還元がヒドロキシ
ルアミン段階で停止される場合、その後の環化は一般式
Ｉの化合物のＮ−オキサイドを生じる。こうして得られ
たＮ−オキサイドは、その後、還元により一般式Ｉの相
当する化合物に変換し得る。得られる式ＩのＮ−オキサ
イドのその後の還元は、溶媒、例えば、水、水／エタノ
ール、メタノール、氷酢酸、酢酸エチルまたはジメチル
ホルムアミド中で、水素化触媒、例えば、ラネーニッケ
ル、白金またはパラジウム／木炭の存在下で水素を用い
て、また酸、例えば、酢酸、塩酸または硫酸の存在下で
金属、例えば、鉄、スズまたは亜鉛を用いて、また硫酸
鉄(II)、塩化スズ(II)またはナトリウムジチオニトの如
き塩を用いて、また３価のリンの誘導体、例えば、トリ
フェニルホスフィン、トリエチルホスファイトまたは三
塩化リンを用いて、またラネーニッケルの存在下でヒド
ラジンを用いて、０〜50℃の温度、好ましくは周囲温度
で行われることが好ましい。使用される保護基の任意の
その後の開裂は、水性溶媒、例えば、水、イソプロパノ
ール／水、テトラヒドロフラン／水またはジオキサン／
水中で、酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸もしくは
硫酸の存在下で、またはアルカリ金属塩基、例えば、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウ
ムの存在下で加水分解により、または、例えば、ヨード
トリメチルシランの存在下で、０〜100 ℃の温度、好ま
しくは10〜50℃の温度でエーテル開裂により行われるこ
とが好ましい。
アシル化することにより、または相当するｏ−ニトロ−
アシルアミノ化合物を還元することにより反応混合物中
で一般式IVの化合物を調製することによりその反応を行
うことが特に有利である。ニトロ基の還元がヒドロキシ
ルアミン段階で停止される場合、その後の環化は一般式
Ｉの化合物のＮ−オキサイドを生じる。こうして得られ
たＮ−オキサイドは、その後、還元により一般式Ｉの相
当する化合物に変換し得る。得られる式ＩのＮ−オキサ
イドのその後の還元は、溶媒、例えば、水、水／エタノ
ール、メタノール、氷酢酸、酢酸エチルまたはジメチル
ホルムアミド中で、水素化触媒、例えば、ラネーニッケ
ル、白金またはパラジウム／木炭の存在下で水素を用い
て、また酸、例えば、酢酸、塩酸または硫酸の存在下で
金属、例えば、鉄、スズまたは亜鉛を用いて、また硫酸
鉄(II)、塩化スズ(II)またはナトリウムジチオニトの如
き塩を用いて、また３価のリンの誘導体、例えば、トリ
フェニルホスフィン、トリエチルホスファイトまたは三
塩化リンを用いて、またラネーニッケルの存在下でヒド
ラジンを用いて、０〜50℃の温度、好ましくは周囲温度
で行われることが好ましい。使用される保護基の任意の
その後の開裂は、水性溶媒、例えば、水、イソプロパノ
ール／水、テトラヒドロフラン／水またはジオキサン／
水中で、酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸もしくは
硫酸の存在下で、またはアルカリ金属塩基、例えば、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウ
ムの存在下で加水分解により、または、例えば、ヨード
トリメチルシランの存在下で、０〜100 ℃の温度、好ま
しくは10〜50℃の温度でエーテル開裂により行われるこ
とが好ましい。
【００３３】d)一般式Ｉの化合物（式中、Ｂが−ＮＲ3
−ＣＯ−基を表す）を調製するために、一般式
−ＣＯ−基を表す）を調製するために、一般式
【００３４】
【化１８】
【００３５】（式中、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は先に
定義されたとおりであり、かつHal は塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子を表す）の化合物を一般式 Ａ’−ＨＮＲ3 (VI) （式中、Ｒ3 は先に定義されたとおりであり、かつＡ’
は必要により炭素骨格中で１個または２個のアルキル基
により置換されていてもよく、また窒素原子の位置で基
Ｒa （式中、Ｒa は先に定義されたとおりであり、但
し、Ｒa が水素原子を除いて先に示された意味を有する
ことを条件とする）により置換されていてもよいピペリ
ジニル基を表し、またはイミノ基の開裂可能な保護基、
例えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾ
イル基、ベンジル基、メトキシベンジル基または２，４
−ジメトキシベンジル基を表す）の化合物と反応させ、
続いて、必要により、使用された保護基を開裂する方
法。その反応は、溶媒、例えば、メタノール／水、エタ
ノール／水、イソプロパノール／水または水中で、必要
により炭酸水素ナトリウムの如き塩基の存在下で80〜10
0 ℃の温度、好ましくは使用される溶媒の沸騰温度で都
合よく行われる。使用された保護基の任意のその後の開
裂は、水性溶媒、例えば、水、イソプロパノール／水、
テトラヒドロフラン／水またはジオキサン／水中で、
酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸もしくは硫酸の存
在下で、またはアルカリ金属塩基、例えば、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの存在
下で加水分解により、または、例えば、ヨードトリメチ
ルシランの存在下で、０〜100 ℃の温度、好ましくは10
〜50℃の温度でエーテル開裂により行われることが好ま
しい。
定義されたとおりであり、かつHal は塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子を表す）の化合物を一般式 Ａ’−ＨＮＲ3 (VI) （式中、Ｒ3 は先に定義されたとおりであり、かつＡ’
は必要により炭素骨格中で１個または２個のアルキル基
により置換されていてもよく、また窒素原子の位置で基
Ｒa （式中、Ｒa は先に定義されたとおりであり、但
し、Ｒa が水素原子を除いて先に示された意味を有する
ことを条件とする）により置換されていてもよいピペリ
ジニル基を表し、またはイミノ基の開裂可能な保護基、
例えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾ
イル基、ベンジル基、メトキシベンジル基または２，４
−ジメトキシベンジル基を表す）の化合物と反応させ、
続いて、必要により、使用された保護基を開裂する方
法。その反応は、溶媒、例えば、メタノール／水、エタ
ノール／水、イソプロパノール／水または水中で、必要
により炭酸水素ナトリウムの如き塩基の存在下で80〜10
0 ℃の温度、好ましくは使用される溶媒の沸騰温度で都
合よく行われる。使用された保護基の任意のその後の開
裂は、水性溶媒、例えば、水、イソプロパノール／水、
テトラヒドロフラン／水またはジオキサン／水中で、
酸、例えば、トリフルオロ酢酸、塩酸もしくは硫酸の存
在下で、またはアルカリ金属塩基、例えば、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの存在
下で加水分解により、または、例えば、ヨードトリメチ
ルシランの存在下で、０〜100 ℃の温度、好ましくは10
〜50℃の温度でエーテル開裂により行われることが好ま
しい。
【００３６】e)一般式Ｉの化合物（式中、Ｆが合計２〜
７個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、アル
コキシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するフェニルア
ルコキシカルボニル基、夫々シクロアルキル部分中に３
〜７個の炭素原子を有し、またアルキルオキシ部分中に
１〜３個の炭素原子を有するシクロアルキルオキシカル
ボニル基もしくはシクロアルキルアルコキシカルボニル
基を表す）を調製するために、一般式
７個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、アル
コキシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するフェニルア
ルコキシカルボニル基、夫々シクロアルキル部分中に３
〜７個の炭素原子を有し、またアルキルオキシ部分中に
１〜３個の炭素原子を有するシクロアルキルオキシカル
ボニル基もしくはシクロアルキルアルコキシカルボニル
基を表す）を調製するために、一般式
【００３７】
【化１９】
【００３８】（式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ
2 は、Ｆがカルボキシ基を表し、またはＺ3がヒドロキ
シ基を表す場合に、Ｆがまたエステル化されたカルボキ
シ基、例えば、合計２〜５個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基またはアルコキシ部分中に１〜３個の
炭素原子を有するフェニルアルコキシカルボニル基を表
してもよいことを条件として、先に定義されたとおりで
ある）の化合物を一般式 Ｚ3 −Ｒ4 (VIII) （式中、Ｒ4 はC1-6アルキル基、アルキル部分中に１〜
３個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、シクロア
ルキル部分中に３〜７個の炭素原子を有し、またアルキ
ル部分中に１〜３個の炭素原子を有するシクロアルキル
基またはシクロアルキルアルキル基を表し、かつＺ3 は
ヒドロキシ基を表し、またはＦがカルボキシ基を表す場
合に、Ｚ3 はまた求核性脱離基、例えば、ハロゲン原子
またはスルホニルオキシ基、例えば、塩素原子、臭素原
子もしくはヨウ素原子、またはメタンスルホニルオキシ
基もしくはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表しても
よい）の化合物と反応させる方法。
2 は、Ｆがカルボキシ基を表し、またはＺ3がヒドロキ
シ基を表す場合に、Ｆがまたエステル化されたカルボキ
シ基、例えば、合計２〜５個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基またはアルコキシ部分中に１〜３個の
炭素原子を有するフェニルアルコキシカルボニル基を表
してもよいことを条件として、先に定義されたとおりで
ある）の化合物を一般式 Ｚ3 −Ｒ4 (VIII) （式中、Ｒ4 はC1-6アルキル基、アルキル部分中に１〜
３個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、シクロア
ルキル部分中に３〜７個の炭素原子を有し、またアルキ
ル部分中に１〜３個の炭素原子を有するシクロアルキル
基またはシクロアルキルアルキル基を表し、かつＺ3 は
ヒドロキシ基を表し、またはＦがカルボキシ基を表す場
合に、Ｚ3 はまた求核性脱離基、例えば、ハロゲン原子
またはスルホニルオキシ基、例えば、塩素原子、臭素原
子もしくはヨウ素原子、またはメタンスルホニルオキシ
基もしくはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表しても
よい）の化合物と反応させる方法。
【００３９】その反応は、適当な溶媒、例えば、相当す
るアルコール、例えば、メタノール、エタノールもしく
はイソプロパノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ピリジン、トルエンまたはジメチルス
ルホキシド中で、酸活性化剤及び／または脱水剤、例え
ば、塩化水素、濃硫酸、塩化チオニル、エチルクロロホ
ルメート、カルボニルジイミダゾールまたはＮ，Ｎ’−
ジシクロヘキシル−カルボジイミドもしくはそのイソ尿
素エステルの存在下で、必要により塩化銅の如き反応促
進剤の存在下で、例えば、相当する炭酸ジエステルを用
いるエステル交換により、または、好ましくは炭酸カリ
ウムの如き塩基の存在下で、必要によりヨウ化カリウム
の如き反応促進剤の存在下で０〜100 ℃の温度、好まし
くは20℃〜当該溶媒の沸騰温度の温度で相当するハライ
ドと反応させることにより適当に行われる。Ｚ3 が求核
性脱離基を表す場合、その反応は一般式VII の化合物の
アルカリ金属塩を用いて行われることが好ましい。
るアルコール、例えば、メタノール、エタノールもしく
はイソプロパノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ピリジン、トルエンまたはジメチルス
ルホキシド中で、酸活性化剤及び／または脱水剤、例え
ば、塩化水素、濃硫酸、塩化チオニル、エチルクロロホ
ルメート、カルボニルジイミダゾールまたはＮ，Ｎ’−
ジシクロヘキシル−カルボジイミドもしくはそのイソ尿
素エステルの存在下で、必要により塩化銅の如き反応促
進剤の存在下で、例えば、相当する炭酸ジエステルを用
いるエステル交換により、または、好ましくは炭酸カリ
ウムの如き塩基の存在下で、必要によりヨウ化カリウム
の如き反応促進剤の存在下で０〜100 ℃の温度、好まし
くは20℃〜当該溶媒の沸騰温度の温度で相当するハライ
ドと反応させることにより適当に行われる。Ｚ3 が求核
性脱離基を表す場合、その反応は一般式VII の化合物の
アルカリ金属塩を用いて行われることが好ましい。
【００４０】f)一般式Ｉの化合物（式中、Ａが必要によ
り窒素原子の位置でC1-3アルキル基により置換されてい
てもよいアミジノ基を表す）を調製するために、必要に
より反応混合物中で生成されてもよい一般式
り窒素原子の位置でC1-3アルキル基により置換されてい
てもよいアミジノ基を表す）を調製するために、必要に
より反応混合物中で生成されてもよい一般式
【００４１】
【化２０】
【００４２】（式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ
2 は、ＡがＺ4 −Ｃ（＝ＮＨ）−基（式中、Ｚ4 はアル
コキシ基もしくはアラルコキシ基、例えば、メトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基
もしくはベンジルオキシ基またはアルキルチオ基もしく
はアラルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチ
オ基、ｎ−プロピルチオ基もしくはベンジルチオ基また
はアミノ基を表す）を表すことを条件として、先に定義
されたとおりである）の化合物を一般式 Ｒ5 −ＮＨ2 (X) （式中、Ｒ5 は水素原子またはC1-3アルキル基を表す）
のアミンまたはその酸付加塩と反応させる方法。その反
応は、溶媒、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロパノール、水、メタノール／水、テトラヒドロフラン
またはジオキサン中で０〜150 ℃の温度、好ましくは20
〜120 ℃の温度で、相当する遊離アミンまたは相当する
酸付加塩、例えば、炭酸アンモニウムもしくは酢酸アン
モニウムを用いて適当に行われる。一般式IXの化合物
は、例えば、相当するニトリルを塩酸の如き酸の存在下
で、または相当するアルコキシド、例えば、ナトリウム
メトキシドもしくはナトリウムエトキシドの存在下で、
適当なアルコール、例えば、メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノールまたはベンジルア
ルコールと反応させることにより、または相当するアミ
ドを溶媒、例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン
またはジオキサン中で、-10 ℃〜50℃の温度、好ましく
は０〜20℃の温度でトリアルキルオキソニウム塩、例え
ば、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレートと
反応させることにより、または相当するニトリルを溶
媒、例えば、ピリジンまたはジメチルホルムアミド中
で、トリエチルアミンの如き塩基の存在下で硫化水素と
適当に反応させ、続いて得られるチオアミドを相当する
アルキルハライドまたはアラルキルハライドでアルキル
化することにより得られる。
2 は、ＡがＺ4 −Ｃ（＝ＮＨ）−基（式中、Ｚ4 はアル
コキシ基もしくはアラルコキシ基、例えば、メトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基
もしくはベンジルオキシ基またはアルキルチオ基もしく
はアラルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチ
オ基、ｎ−プロピルチオ基もしくはベンジルチオ基また
はアミノ基を表す）を表すことを条件として、先に定義
されたとおりである）の化合物を一般式 Ｒ5 −ＮＨ2 (X) （式中、Ｒ5 は水素原子またはC1-3アルキル基を表す）
のアミンまたはその酸付加塩と反応させる方法。その反
応は、溶媒、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロパノール、水、メタノール／水、テトラヒドロフラン
またはジオキサン中で０〜150 ℃の温度、好ましくは20
〜120 ℃の温度で、相当する遊離アミンまたは相当する
酸付加塩、例えば、炭酸アンモニウムもしくは酢酸アン
モニウムを用いて適当に行われる。一般式IXの化合物
は、例えば、相当するニトリルを塩酸の如き酸の存在下
で、または相当するアルコキシド、例えば、ナトリウム
メトキシドもしくはナトリウムエトキシドの存在下で、
適当なアルコール、例えば、メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノールまたはベンジルア
ルコールと反応させることにより、または相当するアミ
ドを溶媒、例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン
またはジオキサン中で、-10 ℃〜50℃の温度、好ましく
は０〜20℃の温度でトリアルキルオキソニウム塩、例え
ば、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレートと
反応させることにより、または相当するニトリルを溶
媒、例えば、ピリジンまたはジメチルホルムアミド中
で、トリエチルアミンの如き塩基の存在下で硫化水素と
適当に反応させ、続いて得られるチオアミドを相当する
アルキルハライドまたはアラルキルハライドでアルキル
化することにより得られる。
【００４３】g)一般式Ｉの化合物（式中、Ａがアミジノ
基またはグアニジノ基（その窒素原子の一つの位置で、
水素原子がアルキル基またはアルコキシカルボニル基に
より置換されており、上記のアルキル部分及びアルコキ
シ部分は夫々１〜３個の炭素原子を含んでいてもよ
い）、または必要により炭素骨格中で１個または２個の
アルキル基により置換されていてもよく、また窒素原子
の位置で基Ｒa （式中、Ｒ a は水素原子を除いて先に示
された意味を有する）により置換されていてもよいピペ
リジニル基（そのピペリジニル基中で、４位の＞ＣＨ−
単位は更に窒素原子により置換されていてもよい）を表
す）を調製するために、一般式
基またはグアニジノ基（その窒素原子の一つの位置で、
水素原子がアルキル基またはアルコキシカルボニル基に
より置換されており、上記のアルキル部分及びアルコキ
シ部分は夫々１〜３個の炭素原子を含んでいてもよ
い）、または必要により炭素骨格中で１個または２個の
アルキル基により置換されていてもよく、また窒素原子
の位置で基Ｒa （式中、Ｒ a は水素原子を除いて先に示
された意味を有する）により置換されていてもよいピペ
リジニル基（そのピペリジニル基中で、４位の＞ＣＨ−
単位は更に窒素原子により置換されていてもよい）を表
す）を調製するために、一般式
【００４４】
【化２１】
【００４５】（式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ
2 は、Ａがアミジノ基もしくはグアニジノ基または必要
により炭素骨格中で１個または２個のアルキル基により
置換されていてもよく、また窒素原子の位置で未置換で
あるピペリジニル基（そのピペリジニル基中で、４位の
＞ＣＨ−単位は更に窒素原子により置換されていてもよ
い）を表すことを条件として、先に定義されたとおりで
ある）の化合物を一般式 Ｚ5 −Ｒ6 (XII) （式中、Ｒ6 は合計２〜５個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基、アルキル部分またはアルコキシ部分
中に１〜３個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル
アルキル基もしくはフェニルアルコキシカルボニル基ま
たはR1-CO-(R2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1 及びＲ2 は先に
定義されたとおりである）を表し、かつＺ5 は求核性脱
離基、例えば、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アリ
ールチオ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アラルコ
キシカルボニルオキシ基またはＮ−イミダゾリル基、例
えば、塩素原子、臭素原子もしくはヨウ素原子または４
−ニトロ−フェノキシ基を表し、またはＲ6 がアルキル
基またはフェニルアルキルを表す場合には、Ｚ5 はまた
基Ｒ6の隣接メチレン基の窒素原子と一緒になって酸素
原子を表す）の化合物と反応させる方法。
2 は、Ａがアミジノ基もしくはグアニジノ基または必要
により炭素骨格中で１個または２個のアルキル基により
置換されていてもよく、また窒素原子の位置で未置換で
あるピペリジニル基（そのピペリジニル基中で、４位の
＞ＣＨ−単位は更に窒素原子により置換されていてもよ
い）を表すことを条件として、先に定義されたとおりで
ある）の化合物を一般式 Ｚ5 −Ｒ6 (XII) （式中、Ｒ6 は合計２〜５個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基、アルキル部分またはアルコキシ部分
中に１〜３個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル
アルキル基もしくはフェニルアルコキシカルボニル基ま
たはR1-CO-(R2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1 及びＲ2 は先に
定義されたとおりである）を表し、かつＺ5 は求核性脱
離基、例えば、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アリ
ールチオ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アラルコ
キシカルボニルオキシ基またはＮ−イミダゾリル基、例
えば、塩素原子、臭素原子もしくはヨウ素原子または４
−ニトロ−フェノキシ基を表し、またはＲ6 がアルキル
基またはフェニルアルキルを表す場合には、Ｚ5 はまた
基Ｒ6の隣接メチレン基の窒素原子と一緒になって酸素
原子を表す）の化合物と反応させる方法。
【００４６】そのアシル化は、溶媒、例えば、テトラヒ
ドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホ
ルムアミド、水またはこれらの溶媒の混合物中で、必要
により塩基、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムも
しくは水酸化ナトリウム溶液の存在下で、または三級有
機塩基、例えば、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−ジイ
ソプロピルアミン、Ｎ−メチル−モルホリン、ピリジン
もしくは４−ジメチルアミノ−ピリジン（これらは同時
に溶媒として利用できる）の存在下で、-30 〜100 ℃の
温度、好ましくは-10 〜60℃の温度で適当に行われる。
式XII の化合物（式中、Ｚ5 が求核性脱離基を表す）の
化合物によるアルキル化は、溶媒、例えば、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホ
キシドまたはジメチルホルムアミド中で、必要により塩
基、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムもしくは水
酸化ナトリウム溶液の存在下で、または三級有機塩基、
例えば、Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミンもしくはＮ
−メチル−モルホリン（これらは同時に溶媒として利用
できる）の存在下で、-30 〜100℃の温度、好ましくは-
10 〜80℃の温度で都合よく行われる。一般式XII のカ
ルボニル化合物による還元アルキル化は、錯体金属水素
化物、例えば、ホウ水素化ナトリウム、ホウ水素化リチ
ウムまたはシアノホウ水素化ナトリウムの存在下で、適
当に６〜７のpHで周囲温度で行われ、または水素化触
媒、例えば、パラジウム／木炭の存在下で水素を用いて
１〜５バールの水素圧のもとに行われる。しかしなが
ら、メチル化は、還元剤としてのギ酸の存在下で高温、
例えば、60〜120 ℃の温度で行われることが好ましい。
ドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ジメチルホ
ルムアミド、水またはこれらの溶媒の混合物中で、必要
により塩基、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムも
しくは水酸化ナトリウム溶液の存在下で、または三級有
機塩基、例えば、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−ジイ
ソプロピルアミン、Ｎ−メチル−モルホリン、ピリジン
もしくは４−ジメチルアミノ−ピリジン（これらは同時
に溶媒として利用できる）の存在下で、-30 〜100 ℃の
温度、好ましくは-10 〜60℃の温度で適当に行われる。
式XII の化合物（式中、Ｚ5 が求核性脱離基を表す）の
化合物によるアルキル化は、溶媒、例えば、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホ
キシドまたはジメチルホルムアミド中で、必要により塩
基、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムもしくは水
酸化ナトリウム溶液の存在下で、または三級有機塩基、
例えば、Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミンもしくはＮ
−メチル−モルホリン（これらは同時に溶媒として利用
できる）の存在下で、-30 〜100℃の温度、好ましくは-
10 〜80℃の温度で都合よく行われる。一般式XII のカ
ルボニル化合物による還元アルキル化は、錯体金属水素
化物、例えば、ホウ水素化ナトリウム、ホウ水素化リチ
ウムまたはシアノホウ水素化ナトリウムの存在下で、適
当に６〜７のpHで周囲温度で行われ、または水素化触
媒、例えば、パラジウム／木炭の存在下で水素を用いて
１〜５バールの水素圧のもとに行われる。しかしなが
ら、メチル化は、還元剤としてのギ酸の存在下で高温、
例えば、60〜120 ℃の温度で行われることが好ましい。
【００４７】h)一般式Ｉの化合物（式中、Ｄがスルフィ
ニル基またはスルホニル基を表す）を調製するために、
一般式
ニル基またはスルホニル基を表す）を調製するために、
一般式
【００４８】
【化２２】
【００４９】（式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ
2 は、Ｄが硫黄原子またはスルフィニル基を表すことを
条件として、先に定義されたとおりである）の化合物を
酸化する方法。その酸化は、溶媒または溶媒の混合物、
例えば、水、水／ピリジン、アセトン、塩化メチレン、
氷酢酸、氷酢酸／無水酢酸、希硫酸またはトリフルオロ
酢酸中で、都合よくは、使用される酸化剤に応じて、-8
0 〜100 ℃の温度で行われることが好ましい。一般式Ｉ
の相当するＳ−オキサイド化合物を調製するために、そ
の酸化は１当量の酸化剤を使用して、例えば、０〜20℃
で氷酢酸、トリフルオロ酢酸またはギ酸中で、または０
〜60℃でアセトン中で過酸化水素を用いて、また０〜50
℃で氷酢酸またはトリフルオロ酢酸中で過ギ酸の如き過
酸を用いて、また-20 〜60℃で塩化メチレンまたはクロ
ロホルム中でｍ−クロロ過安息香酸を用いて、また-15
〜25℃で水性メタノールまたはエタノール中でメタ過ヨ
ウ素酸ナトリウムを用いて、また必要により酢酸ナトリ
ウムの如き弱塩基の存在下で、氷酢酸または水性酢酸中
で臭素を用いて、またエタノール中でＮ−ブロモ−スク
シンイミドを用いて、また-80 〜-30 ℃でメタノール中
でtert. ブチル−ハイポクロリトを用いて、また０〜50
℃で水性ピリジン中でヨードベンゼンジクロリドを用い
て、また０〜20℃で氷酢酸中で硝酸を用いて、また０〜
20℃で氷酢酸またはアセトン中でクロム酸を用いて、ま
た-70 ℃で塩化メチレン中で塩化スルフリルを用いて適
当に行われ、得られるチオエーテル−塩素錯体が水性エ
タノールで適当に加水分解される。
2 は、Ｄが硫黄原子またはスルフィニル基を表すことを
条件として、先に定義されたとおりである）の化合物を
酸化する方法。その酸化は、溶媒または溶媒の混合物、
例えば、水、水／ピリジン、アセトン、塩化メチレン、
氷酢酸、氷酢酸／無水酢酸、希硫酸またはトリフルオロ
酢酸中で、都合よくは、使用される酸化剤に応じて、-8
0 〜100 ℃の温度で行われることが好ましい。一般式Ｉ
の相当するＳ−オキサイド化合物を調製するために、そ
の酸化は１当量の酸化剤を使用して、例えば、０〜20℃
で氷酢酸、トリフルオロ酢酸またはギ酸中で、または０
〜60℃でアセトン中で過酸化水素を用いて、また０〜50
℃で氷酢酸またはトリフルオロ酢酸中で過ギ酸の如き過
酸を用いて、また-20 〜60℃で塩化メチレンまたはクロ
ロホルム中でｍ−クロロ過安息香酸を用いて、また-15
〜25℃で水性メタノールまたはエタノール中でメタ過ヨ
ウ素酸ナトリウムを用いて、また必要により酢酸ナトリ
ウムの如き弱塩基の存在下で、氷酢酸または水性酢酸中
で臭素を用いて、またエタノール中でＮ−ブロモ−スク
シンイミドを用いて、また-80 〜-30 ℃でメタノール中
でtert. ブチル−ハイポクロリトを用いて、また０〜50
℃で水性ピリジン中でヨードベンゼンジクロリドを用い
て、また０〜20℃で氷酢酸中で硝酸を用いて、また０〜
20℃で氷酢酸またはアセトン中でクロム酸を用いて、ま
た-70 ℃で塩化メチレン中で塩化スルフリルを用いて適
当に行われ、得られるチオエーテル−塩素錯体が水性エ
タノールで適当に加水分解される。
【００５０】一般式ＩのＳ，Ｓ−ジオキサイド化合物を
調製するために、その酸化は、相当するアルキルフィニ
ル化合物から出発して、適当に１当量以上の酸化剤を使
用して、または相当するアルキルスルフェニル化合物か
ら出発して、適当に２当量以上の酸化剤を使用して、例
えば、20〜100 ℃で氷酢酸／無水酢酸、トリフルオロ酢
酸またはギ酸中で、または０〜60℃でアセトン中で過酸
化水素を用いて、また０〜60℃の温度で氷酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、塩化メチレンまたはクロロホルム中で過ギ
酸またはｍ−クロロ過安息香酸の如き過酸を用いて、ま
た０〜20℃で氷酢酸中で硝酸を用いて、また０〜20℃で
氷酢酸、水／硫酸またはアセトン中でクロム酸または過
マンガン酸カリウムを用いて行われる。
調製するために、その酸化は、相当するアルキルフィニ
ル化合物から出発して、適当に１当量以上の酸化剤を使
用して、または相当するアルキルスルフェニル化合物か
ら出発して、適当に２当量以上の酸化剤を使用して、例
えば、20〜100 ℃で氷酢酸／無水酢酸、トリフルオロ酢
酸またはギ酸中で、または０〜60℃でアセトン中で過酸
化水素を用いて、また０〜60℃の温度で氷酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、塩化メチレンまたはクロロホルム中で過ギ
酸またはｍ−クロロ過安息香酸の如き過酸を用いて、ま
た０〜20℃で氷酢酸中で硝酸を用いて、また０〜20℃で
氷酢酸、水／硫酸またはアセトン中でクロム酸または過
マンガン酸カリウムを用いて行われる。
【００５１】i)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4
の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基（式中、Ｄは直鎖または分
枝C1-6アルキル基またはC2-6アルケニル基を表す）を表
す）を調製するために、一般式
の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基（式中、Ｄは直鎖または分
枝C1-6アルキル基またはC2-6アルケニル基を表す）を表
す）を調製するために、一般式
【００５２】
【化２３】
【００５３】（式中、Ａ、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ
4 は、基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＨ−Ｎ＜基を表すことを条
件として、先に定義されたとおりである）の化合物を一
般式 Ｚ6 −Ｄ’−Ｅ−Ｆ (XV) （式中、Ｅ及びＦは先に定義されたとおりであり、Ｄ’
は直鎖または分枝C1-6アルキル基またはC2-6アルケニル
基を表し、かつＺ6 は脱離基、例えば、塩素原子、臭素
原子もしくはヨウ素原子、またはヒドロキシ基、メトキ
シ基、エトキシ基もしくはベンジルオキシ基を表し、ま
たはＤ’が基Ｆに直接結合された炭素−炭素二重結合を
含む場合には、Ｚ6 はまた水素原子を表してもよい）の
化合物と反応させる方法。その反応は、適当な溶媒、例
えば、相当するアルコール、例えば、メタノール、エタ
ノールもしくはイソプロパノール、塩化メチレン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、トルエンまた
はジメチルスルホキシド中で、必要により塩基、例え
ば、炭酸カリウムもしくは水素化ナトリウムの存在下
で、また必要により反応促進剤、例えば、ヨウ化カリウ
ムの存在下で、０〜100 ℃の温度、好ましくは20℃〜当
該溶媒の沸騰温度の温度で行われることが好ましい。Ｚ
6 がヒドロキシ基を表す場合、その反応はトリフェニル
ホスフィン／ジエチルアゾジカルボキシレートの如き活
性化剤の存在下で行われることが好ましい。
4 は、基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＨ−Ｎ＜基を表すことを条
件として、先に定義されたとおりである）の化合物を一
般式 Ｚ6 −Ｄ’−Ｅ−Ｆ (XV) （式中、Ｅ及びＦは先に定義されたとおりであり、Ｄ’
は直鎖または分枝C1-6アルキル基またはC2-6アルケニル
基を表し、かつＺ6 は脱離基、例えば、塩素原子、臭素
原子もしくはヨウ素原子、またはヒドロキシ基、メトキ
シ基、エトキシ基もしくはベンジルオキシ基を表し、ま
たはＤ’が基Ｆに直接結合された炭素−炭素二重結合を
含む場合には、Ｚ6 はまた水素原子を表してもよい）の
化合物と反応させる方法。その反応は、適当な溶媒、例
えば、相当するアルコール、例えば、メタノール、エタ
ノールもしくはイソプロパノール、塩化メチレン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、トルエンまた
はジメチルスルホキシド中で、必要により塩基、例え
ば、炭酸カリウムもしくは水素化ナトリウムの存在下
で、また必要により反応促進剤、例えば、ヨウ化カリウ
ムの存在下で、０〜100 ℃の温度、好ましくは20℃〜当
該溶媒の沸騰温度の温度で行われることが好ましい。Ｚ
6 がヒドロキシ基を表す場合、その反応はトリフェニル
ホスフィン／ジエチルアゾジカルボキシレートの如き活
性化剤の存在下で行われることが好ましい。
【００５４】j)一般式Ｉの化合物（式中、ＤがC2-6アル
キレン基を表す）を調製するために、一般式
キレン基を表す）を調製するために、一般式
【００５５】
【化２４】
【００５６】（式中、Ａ、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ
4 は、ＤがC2-6アルケニレン基を表すことを条件とし
て、先に定義されたとおりである）の化合物の接触水素
化。その接触水素化は、パラジウム／木炭の如き水素化
触媒の存在下で、適当な溶媒、例えば、メタノール、エ
タノール、エタノール／水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオ
キサンまたはジメチルホルムアミド中で、０〜50℃の温
度、例えば、周囲温度で１〜10バールの水素圧のもとに
行われる。接触水素化中に、その他の基が同時に還元で
き、例えば、ニトロ基がアミノ基に還元でき、またベン
ジルオキシ基がヒドロキシ基に還元でき、またベンジル
アミノ基またはベンジルオキシカルボニルアミノ基がア
ミノ基に還元し得る。更に、その他のＣ＝Ｃ二重結合が
同時に単結合に水素化し得る。
4 は、ＤがC2-6アルケニレン基を表すことを条件とし
て、先に定義されたとおりである）の化合物の接触水素
化。その接触水素化は、パラジウム／木炭の如き水素化
触媒の存在下で、適当な溶媒、例えば、メタノール、エ
タノール、エタノール／水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオ
キサンまたはジメチルホルムアミド中で、０〜50℃の温
度、例えば、周囲温度で１〜10バールの水素圧のもとに
行われる。接触水素化中に、その他の基が同時に還元で
き、例えば、ニトロ基がアミノ基に還元でき、またベン
ジルオキシ基がヒドロキシ基に還元でき、またベンジル
アミノ基またはベンジルオキシカルボニルアミノ基がア
ミノ基に還元し得る。更に、その他のＣ＝Ｃ二重結合が
同時に単結合に水素化し得る。
【００５７】k)一般式Ｉの化合物（式中、Ａがヒドロキ
シ基により置換されたアミジノ基を表す）を調製するた
めに、一般式
シ基により置換されたアミジノ基を表す）を調製するた
めに、一般式
【００５８】
【化２５】
【００５９】（式中、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ4 は
先に定義されたとおりである）の化合物を塩基の存在下
でヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させる方法。
その反応は、溶媒、例えば、メタノール、水／メタノー
ル、エタノール、エタノール／水またはテトラヒドロフ
ラン／水中で、必要により塩基、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムまたはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミンの存在下で、20〜100 ℃の温度、好ましくは使用
される溶媒の沸騰温度で行われることが好ましい。 l)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも
一つがメチン基を表す）を調製するために、一般式
先に定義されたとおりである）の化合物を塩基の存在下
でヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させる方法。
その反応は、溶媒、例えば、メタノール、水／メタノー
ル、エタノール、エタノール／水またはテトラヒドロフ
ラン／水中で、必要により塩基、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムまたはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミンの存在下で、20〜100 ℃の温度、好ましくは使用
される溶媒の沸騰温度で行われることが好ましい。 l)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも
一つがメチン基を表す）を調製するために、一般式
【００６０】
【化２６】
【００６１】（式中、Ａ、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ
4 は、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも一つが塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子により置換されたメチン基を表す
ことを条件として、先に定義されたとおりである）の化
合物を脱ハロゲン化する方法。その脱ハロゲン化は、パ
ラジウム／木炭の如き水素化触媒の存在下で、適当な溶
媒、例えば、メタノール、エタノール、エタノール／
水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオキサンまたはジメチルホ
ルムアミド中で、０〜50℃の温度、例えば、周囲温度で
１〜10バールの水素圧のもとに行われる。接触水素化中
に、その他の基が同時に還元でき、例えば、ニトロ基が
アミノ基に還元でき、またベンジルオキシ基がヒドロキ
シ基に還元でき、またベンジルアミノ基またはベンジル
オキシカルボニルアミノ基がアミノ基に還元し得る。更
に、その他のＣ＝Ｃ二重結合が同時に単結合に水素化し
得る。本発明により一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜
Ｘ4 の少なくとも一つがカルボニル基を表す）が得られ
る場合、これはハロゲン化により相当する一般式Ｉの化
合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも一つが塩素原子
または臭素原子により置換されたメチン基を表す）に変
換し得る。その後のハロゲン化は、ハロゲン化剤、例え
ば、オキシ塩化リン、オキシ臭化リンまたは五塩化リン
を用いて、トルエンの如き不活性溶媒中で行われること
が好ましいが、使用される溶媒は過剰の当該ハロゲン化
剤、例えば、オキシ塩化リンであることが好ましく、高
温、例えば、80〜120 ℃の温度で行われる。
4 は、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも一つが塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子により置換されたメチン基を表す
ことを条件として、先に定義されたとおりである）の化
合物を脱ハロゲン化する方法。その脱ハロゲン化は、パ
ラジウム／木炭の如き水素化触媒の存在下で、適当な溶
媒、例えば、メタノール、エタノール、エタノール／
水、氷酢酸、酢酸エチル、ジオキサンまたはジメチルホ
ルムアミド中で、０〜50℃の温度、例えば、周囲温度で
１〜10バールの水素圧のもとに行われる。接触水素化中
に、その他の基が同時に還元でき、例えば、ニトロ基が
アミノ基に還元でき、またベンジルオキシ基がヒドロキ
シ基に還元でき、またベンジルアミノ基またはベンジル
オキシカルボニルアミノ基がアミノ基に還元し得る。更
に、その他のＣ＝Ｃ二重結合が同時に単結合に水素化し
得る。本発明により一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜
Ｘ4 の少なくとも一つがカルボニル基を表す）が得られ
る場合、これはハロゲン化により相当する一般式Ｉの化
合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも一つが塩素原子
または臭素原子により置換されたメチン基を表す）に変
換し得る。その後のハロゲン化は、ハロゲン化剤、例え
ば、オキシ塩化リン、オキシ臭化リンまたは五塩化リン
を用いて、トルエンの如き不活性溶媒中で行われること
が好ましいが、使用される溶媒は過剰の当該ハロゲン化
剤、例えば、オキシ塩化リンであることが好ましく、高
温、例えば、80〜120 ℃の温度で行われる。
【００６２】前記の反応において、存在する反応性基、
例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基またはイミノ基は、通常の保
護基（これらは反応後に再度開裂し得る）により反応中
に保護し得る。例えば、ヒドロキシ基の保護基はトリメ
チルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基、tert. ブチ
ル基、トリチル基、ベンジル基またはテトラヒドロピラ
ニル基であってもよく、カルボキシル基の保護基はトリ
メチルシリル基、メチル基、エチル基、tert. ブチル
基、ベンジル基またはテトラヒドロピラニル基であって
もよく、ホスホノ基の保護基はトリメチルシリル基、メ
チル基、エチル基またはベンジル基であってもよく、ま
たアミノ基、アルキルアミノ基またはイミノ基の保護基
はアセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル
基、エトキシカルボニル基、tert. ブトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンジル基、メトキ
シベンジル基または２，４−ジメトキシベンジル基であ
ってもよく、そしてアミノ基に関してフタリル基がまた
考えられる。
例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基またはイミノ基は、通常の保
護基（これらは反応後に再度開裂し得る）により反応中
に保護し得る。例えば、ヒドロキシ基の保護基はトリメ
チルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基、tert. ブチ
ル基、トリチル基、ベンジル基またはテトラヒドロピラ
ニル基であってもよく、カルボキシル基の保護基はトリ
メチルシリル基、メチル基、エチル基、tert. ブチル
基、ベンジル基またはテトラヒドロピラニル基であって
もよく、ホスホノ基の保護基はトリメチルシリル基、メ
チル基、エチル基またはベンジル基であってもよく、ま
たアミノ基、アルキルアミノ基またはイミノ基の保護基
はアセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル
基、エトキシカルボニル基、tert. ブトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンジル基、メトキ
シベンジル基または２，４−ジメトキシベンジル基であ
ってもよく、そしてアミノ基に関してフタリル基がまた
考えられる。
【００６３】保護基の任意のその後の開裂は、例えば、
水性溶媒、例えば、水、イソプロパノール／水、テトラ
ヒドロフラン／水またはジオキサン／水中で、酸、例え
ば、トリフルオロ酢酸、塩酸、臭化水素酸もしくは硫酸
の存在下で、またはアルカリ金属塩基、例えば、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの
存在下で加水分解により行われてもよく、または、例え
ば、ヨードトリメチルシランの存在下で、０〜100 ℃の
温度、好ましくは10〜50℃の温度でエーテル開裂により
行い得る。しかしながら、ベンジル基、メトキシベンジ
ル基またはベンジルオキシカルボニル基は、例えば、水
素を使用してパラジウム／木炭の如き触媒の存在下で溶
媒、例えば、メタノール、エタノール、酢酸エチルまた
は氷酢酸中で、必要により塩酸の如き酸を添加して０〜
50℃の温度、好ましくは周囲温度で、１〜７バール、好
ましくは３〜５バールの水素圧のもとに水添分解により
開裂し得る。また、メトキシベンジル基は、セリウム(I
V)- アンモニウムニトレートの如き酸化剤の存在下で溶
媒、例えば、塩化メチレン、アセトニトリルまたはアセ
トニトリル／水中で０〜50℃の温度、好ましくは周囲温
度で開裂し得る。
水性溶媒、例えば、水、イソプロパノール／水、テトラ
ヒドロフラン／水またはジオキサン／水中で、酸、例え
ば、トリフルオロ酢酸、塩酸、臭化水素酸もしくは硫酸
の存在下で、またはアルカリ金属塩基、例えば、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの
存在下で加水分解により行われてもよく、または、例え
ば、ヨードトリメチルシランの存在下で、０〜100 ℃の
温度、好ましくは10〜50℃の温度でエーテル開裂により
行い得る。しかしながら、ベンジル基、メトキシベンジ
ル基またはベンジルオキシカルボニル基は、例えば、水
素を使用してパラジウム／木炭の如き触媒の存在下で溶
媒、例えば、メタノール、エタノール、酢酸エチルまた
は氷酢酸中で、必要により塩酸の如き酸を添加して０〜
50℃の温度、好ましくは周囲温度で、１〜７バール、好
ましくは３〜５バールの水素圧のもとに水添分解により
開裂し得る。また、メトキシベンジル基は、セリウム(I
V)- アンモニウムニトレートの如き酸化剤の存在下で溶
媒、例えば、塩化メチレン、アセトニトリルまたはアセ
トニトリル／水中で０〜50℃の温度、好ましくは周囲温
度で開裂し得る。
【００６４】Ｏ，Ｏ’−ジアルキルホスホノ基から１個
のアルキル基のみの開裂は、例えば、ヨウ化ナトリウム
を用いて溶媒、例えば、アセトン、エチルメチルケト
ン、アセトニトリルまたはジメチルホルムアミド中で40
〜150 ℃の温度、好ましくは60〜100 ℃の温度で行われ
る。Ｏ，Ｏ’−ジアルキルホスホノ基から両方のアルキ
ル基の開裂は、ヨードトリメチルシラン、ブロモトリメ
チルシランまたはクロロトリメチルシラン／ヨウ化ナト
リウムを用いて溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホ
ルムまたはアセトニトリル中で０℃〜反応混合物の沸騰
温度の温度、好ましくは20〜60℃の温度で行われること
が好ましい。tert. ブチル基またはtert. ブチルオキシ
カルボニル基は、必要により溶媒、例えば、塩化メチレ
ン、ジオキサンまたはエーテルを使用して、トリフルオ
ロ酢酸または塩酸の如き酸で処理することにより開裂さ
れることが好ましい。フタリル基の開裂は、ヒドラジン
または一級アミン、例えば、メチルアミン、エチルアミ
ンもしくはｎ−ブチルアミンの存在下で溶媒、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、トルエン
／水またはジオキサン中で20〜50℃の温度で行われるこ
とが好ましい。
のアルキル基のみの開裂は、例えば、ヨウ化ナトリウム
を用いて溶媒、例えば、アセトン、エチルメチルケト
ン、アセトニトリルまたはジメチルホルムアミド中で40
〜150 ℃の温度、好ましくは60〜100 ℃の温度で行われ
る。Ｏ，Ｏ’−ジアルキルホスホノ基から両方のアルキ
ル基の開裂は、ヨードトリメチルシラン、ブロモトリメ
チルシランまたはクロロトリメチルシラン／ヨウ化ナト
リウムを用いて溶媒、例えば、塩化メチレン、クロロホ
ルムまたはアセトニトリル中で０℃〜反応混合物の沸騰
温度の温度、好ましくは20〜60℃の温度で行われること
が好ましい。tert. ブチル基またはtert. ブチルオキシ
カルボニル基は、必要により溶媒、例えば、塩化メチレ
ン、ジオキサンまたはエーテルを使用して、トリフルオ
ロ酢酸または塩酸の如き酸で処理することにより開裂さ
れることが好ましい。フタリル基の開裂は、ヒドラジン
または一級アミン、例えば、メチルアミン、エチルアミ
ンもしくはｎ−ブチルアミンの存在下で溶媒、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、トルエン
／水またはジオキサン中で20〜50℃の温度で行われるこ
とが好ましい。
【００６５】更に、得られた一般式Ｉの化合物は、前記
のそれらの鏡像体及び／またはジアステレオマーに分割
し得る。こうして、例えば、シス／トランス混合物はそ
れらのシス異性体及びトランス異性体に分割でき、そし
て少なくとも１個の光学活性炭素原子を有する化合物
は、それらの鏡像体に分割し得る。こうして、例えば、
得られたシス／トランス混合物は、クロマトグラフィー
によりそのシス異性体及びトランス異性体に分割でき、
そしてラセミ形態で生じる一般式Ｉの化合物は、それ自
体知られている方法（Allinger N.L. 及びEliel E.L.著
“Topics in Stereochemistry"、６巻、Wiley Intersci
ence、1971を参照のこと) によりそれらの光学鏡像体に
分離でき、そして少なくとも２個の不斉炭素原子を有す
る一般式Ｉの化合物は既知の方法を使用して、例えば、
クロマトグラフィー及び／または分別結晶化によりそれ
らの物理化学的差異に基いて、そのジアステレオマーに
分離でき、それらがラセミ形態で生じる場合には、それ
らは続いて上記のように鏡像体に分離し得る。
のそれらの鏡像体及び／またはジアステレオマーに分割
し得る。こうして、例えば、シス／トランス混合物はそ
れらのシス異性体及びトランス異性体に分割でき、そし
て少なくとも１個の光学活性炭素原子を有する化合物
は、それらの鏡像体に分割し得る。こうして、例えば、
得られたシス／トランス混合物は、クロマトグラフィー
によりそのシス異性体及びトランス異性体に分割でき、
そしてラセミ形態で生じる一般式Ｉの化合物は、それ自
体知られている方法（Allinger N.L. 及びEliel E.L.著
“Topics in Stereochemistry"、６巻、Wiley Intersci
ence、1971を参照のこと) によりそれらの光学鏡像体に
分離でき、そして少なくとも２個の不斉炭素原子を有す
る一般式Ｉの化合物は既知の方法を使用して、例えば、
クロマトグラフィー及び／または分別結晶化によりそれ
らの物理化学的差異に基いて、そのジアステレオマーに
分離でき、それらがラセミ形態で生じる場合には、それ
らは続いて上記のように鏡像体に分離し得る。
【００６６】鏡像体の分離は、キラル相によるカラム分
離もしくは光学活性溶媒による再結晶により、またはラ
セミ化合物と塩または誘導体、例えば、エステルまたは
アミドを生成する光学活性物質（特に酸及びその活性誘
導体またはアルコール）と反応させ、こうして得られた
ジアステレオマーの塩混合物または誘導体の分離（例え
ば、それらの異なる溶解性に基く分離）により行われる
ことが好ましく、一方、遊離鏡像体は好適な薬剤の作用
により純粋なジアステレオマーの塩から遊離し得る。特
に普通の光学活性の酸として、例えば、酒石酸、ジベン
ゾイル酒石酸、ジ−ｏ−トリル酒石酸、リンゴ酸、マン
デル酸、ショウノウスルホン酸、グルタミン酸、アスパ
ラギン酸及びキナ酸のＤ形態及びＬ形態が挙げられる。
光学活性のアルコールの例として、例えば、（＋）メン
トールまたは（−）メントールが挙げられ、そしてアミ
ド中の光学活性アシル基の例として、例えば、（＋）メ
ンチルオキシカルボニルまたは（−）メンチルオキシカ
ルボニルが挙げられる。
離もしくは光学活性溶媒による再結晶により、またはラ
セミ化合物と塩または誘導体、例えば、エステルまたは
アミドを生成する光学活性物質（特に酸及びその活性誘
導体またはアルコール）と反応させ、こうして得られた
ジアステレオマーの塩混合物または誘導体の分離（例え
ば、それらの異なる溶解性に基く分離）により行われる
ことが好ましく、一方、遊離鏡像体は好適な薬剤の作用
により純粋なジアステレオマーの塩から遊離し得る。特
に普通の光学活性の酸として、例えば、酒石酸、ジベン
ゾイル酒石酸、ジ−ｏ−トリル酒石酸、リンゴ酸、マン
デル酸、ショウノウスルホン酸、グルタミン酸、アスパ
ラギン酸及びキナ酸のＤ形態及びＬ形態が挙げられる。
光学活性のアルコールの例として、例えば、（＋）メン
トールまたは（−）メントールが挙げられ、そしてアミ
ド中の光学活性アシル基の例として、例えば、（＋）メ
ンチルオキシカルボニルまたは（−）メンチルオキシカ
ルボニルが挙げられる。
【００６７】更に、得られた式Ｉの化合物は、その塩、
特に医薬用途のために無機または有機の酸とのそれらの
生理学上許される塩に変換し得る。好適な酸の例とし
て、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、酢酸、フマル
酸、コハク酸、乳酸、クエン酸、酒石酸またはマレイン
酸が挙げられる。加えて、こうして得られた式Ｉの新規
化合物は、それらがカルボキシル基を含む場合、続いて
所望により、無機または有機の塩基とそれらの付加塩、
更に特別に、医薬用途のために、それらの生理学上許さ
れる付加塩に変換し得る。好適な塩基の例として、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、シクロヘ
キシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン
及びトリエタノールアミンが挙げられる。出発物質とし
て使用される化合物は、或る場合には文献により知られ
ており、または文献により知られている方法（例えば、
例Ｉ〜XVに記載されている）により得ることができる。
特に医薬用途のために無機または有機の酸とのそれらの
生理学上許される塩に変換し得る。好適な酸の例とし
て、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、酢酸、フマル
酸、コハク酸、乳酸、クエン酸、酒石酸またはマレイン
酸が挙げられる。加えて、こうして得られた式Ｉの新規
化合物は、それらがカルボキシル基を含む場合、続いて
所望により、無機または有機の塩基とそれらの付加塩、
更に特別に、医薬用途のために、それらの生理学上許さ
れる付加塩に変換し得る。好適な塩基の例として、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、シクロヘ
キシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン
及びトリエタノールアミンが挙げられる。出発物質とし
て使用される化合物は、或る場合には文献により知られ
ており、または文献により知られている方法（例えば、
例Ｉ〜XVに記載されている）により得ることができる。
【００６８】前記のように、一般式Ｉの新規な縮合５員
複素環化合物及びその付加塩、特に無機または有機の酸
または塩基とその生理学上許される付加塩は、有益な性
質を有する。こうして、一般式Ｉの新規化合物（式中、
Ａが必要により窒素原子の一つの位置でアルキル基また
は生体内で開裂し得る基により置換されていてもよいア
ミジノ基またはグアニジノ基を表し、またはＡが必要に
より炭素骨格中で１個または２個のアルキルにより置換
されていてもよく、またその窒素原子の位置で基Ｒ
a （これは必要により生体内で開裂し得る）により置換
されていてもよいピペリジニル基（このピペリジニル基
中で、４位の＞ＣＨ−単位は更に窒素原子により置換さ
れていてもよい）を表し、またＦがカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホノ基、Ｏ−アルキル−ホスホノ基もしくは
５−テトラゾリル基または生体内でカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホノ基またはＯ−アルキル−ホスホノ基に変
換し得る基を表す）は、有益な薬理学的性質を有し、そ
して骨退化に対する抑制効果を有することの他に、それ
らは、特に、抗血栓作用、抗凝集作用及び腫瘍または転
移の抑制作用を有する。ＦがＯ，Ｏ’−ジアルキル−ホ
スホノ基を表す一般式Ｉの化合物は、一般式Ｉの化合物
を調製するのに有益な中間体生成物である。
複素環化合物及びその付加塩、特に無機または有機の酸
または塩基とその生理学上許される付加塩は、有益な性
質を有する。こうして、一般式Ｉの新規化合物（式中、
Ａが必要により窒素原子の一つの位置でアルキル基また
は生体内で開裂し得る基により置換されていてもよいア
ミジノ基またはグアニジノ基を表し、またはＡが必要に
より炭素骨格中で１個または２個のアルキルにより置換
されていてもよく、またその窒素原子の位置で基Ｒ
a （これは必要により生体内で開裂し得る）により置換
されていてもよいピペリジニル基（このピペリジニル基
中で、４位の＞ＣＨ−単位は更に窒素原子により置換さ
れていてもよい）を表し、またＦがカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホノ基、Ｏ−アルキル−ホスホノ基もしくは
５−テトラゾリル基または生体内でカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホノ基またはＯ−アルキル−ホスホノ基に変
換し得る基を表す）は、有益な薬理学的性質を有し、そ
して骨退化に対する抑制効果を有することの他に、それ
らは、特に、抗血栓作用、抗凝集作用及び腫瘍または転
移の抑制作用を有する。ＦがＯ，Ｏ’−ジアルキル−ホ
スホノ基を表す一般式Ｉの化合物は、一般式Ｉの化合物
を調製するのに有益な中間体生成物である。
【００６９】例えば、一般式Ｉの化合物を、以下のよう
にしてそれらの生物作用に関して調べた。 １．ヒト血小板への3H-BIBU 52の結合の抑制 血漿中のヒト血小板の懸濁液を、3H-BIBU 52［即ち、
（３Ｓ，５Ｓ）−５−［（４’−アミジノ−４−ビフェ
ニリル）オキシメチル］−３−［（カルボキシル）メチ
ル］−２−ピロリジノン［３−3H−４−ビフェニリ
ル］］（これは文献により知られている125I- フィブリ
ノーゲンリガンドに代わるものである）（本件出願人の
ドイツ特許出願第P 4214245.8 号（1992年４月30日出
願）を参照のこと）及び種々の濃度の試験物質と共にイ
ンキュベートする。遊離リガンドと結合リガンドを遠心
分離により分離し、シンチレーションカウントにより定
量的に測定する。試験物質による3H-BIBU 52結合の抑制
を、得られた測定値から求める。
にしてそれらの生物作用に関して調べた。 １．ヒト血小板への3H-BIBU 52の結合の抑制 血漿中のヒト血小板の懸濁液を、3H-BIBU 52［即ち、
（３Ｓ，５Ｓ）−５−［（４’−アミジノ−４−ビフェ
ニリル）オキシメチル］−３−［（カルボキシル）メチ
ル］−２−ピロリジノン［３−3H−４−ビフェニリ
ル］］（これは文献により知られている125I- フィブリ
ノーゲンリガンドに代わるものである）（本件出願人の
ドイツ特許出願第P 4214245.8 号（1992年４月30日出
願）を参照のこと）及び種々の濃度の試験物質と共にイ
ンキュベートする。遊離リガンドと結合リガンドを遠心
分離により分離し、シンチレーションカウントにより定
量的に測定する。試験物質による3H-BIBU 52結合の抑制
を、得られた測定値から求める。
【００７０】これを行うために、提供者の血液を逆肘脈
(anticubital vein)から採取し、クエン酸三ナトリウム
（最終濃度13mM）で凝固阻止する。その血液を170 x g
で10分間遠心分離し、上澄みの血小板に富む血漿(PRP)
を除去する。血漿を得るために残りの血液をもう一度激
しく遠心分離する。PRP を自己血漿で1:10に希釈する。
750 mlを周囲温度で20分間にわたって生理塩類溶液50m
l、試験物質溶液100 ml、14C-蔗糖（3700 Bq ）50ml及
び3H-BIBU 52（最終濃度：５nM) 50mlと共にインキュベ
ートする。非特異的結合を測定するために、試験物質に
代えてBIBU 52 （最終濃度：30mM) ５mlを使用する。試
料を10000 x g で20秒間遠心分離し、上澄みを注いで除
く。遊離リガンドを測定するために、その100 mlを測定
する。そのペレットを0.2NのNaOH 500mlに溶解し、450
mlをシンチレーター２ml及び5Nの塩酸25mlと混合し、測
定する。ペレット中に残っている残留血漿を14C 含量か
ら測定し、結合リガンドを3H測定から求める。非特異的
結合が引かれた後に、ペレットの活性を試験物質の濃度
に対してプロットし、結合の50％抑制に関する濃度を求
める。
(anticubital vein)から採取し、クエン酸三ナトリウム
（最終濃度13mM）で凝固阻止する。その血液を170 x g
で10分間遠心分離し、上澄みの血小板に富む血漿(PRP)
を除去する。血漿を得るために残りの血液をもう一度激
しく遠心分離する。PRP を自己血漿で1:10に希釈する。
750 mlを周囲温度で20分間にわたって生理塩類溶液50m
l、試験物質溶液100 ml、14C-蔗糖（3700 Bq ）50ml及
び3H-BIBU 52（最終濃度：５nM) 50mlと共にインキュベ
ートする。非特異的結合を測定するために、試験物質に
代えてBIBU 52 （最終濃度：30mM) ５mlを使用する。試
料を10000 x g で20秒間遠心分離し、上澄みを注いで除
く。遊離リガンドを測定するために、その100 mlを測定
する。そのペレットを0.2NのNaOH 500mlに溶解し、450
mlをシンチレーター２ml及び5Nの塩酸25mlと混合し、測
定する。ペレット中に残っている残留血漿を14C 含量か
ら測定し、結合リガンドを3H測定から求める。非特異的
結合が引かれた後に、ペレットの活性を試験物質の濃度
に対してプロットし、結合の50％抑制に関する濃度を求
める。
【００７１】２．抗血栓活性 方法 血小板凝集を、ボーン(Born)及びクロス(Cross) の方法
(J.Physiol.170、397(1964))を使用して健康な被験者か
ら採取した血小板に富む血漿中で測定する。凝固を抑制
するために、血液を1:10の容積比で3.14％のクエン酸ナ
トリウムと混合する。コラーゲン誘発凝集 血小板懸濁液中の光学密度の減少のパターンを、凝集を
誘発する物質の添加後に光度計で測定し、記録する。凝
集の速度を密度曲線の勾配の角度から求める。最高の光
透過率がある曲線の点を使用して光学密度を計算する。
使用されるコラーゲンの量は、できるだけ少ないが、不
可逆反応曲線を得るのに充分である。ミュンヘンのホル
モンケミ(Hormonchemie)により製造された通常の市販の
コラーゲンを使用する。コラーゲンの添加前に、血漿を
物質と共に37℃で10分間インキュベートする。得られた
測定値から、EC50をグラフにより測定し、これは凝集の
抑制に関して光学密度の50％の変化を与える濃度を表
す。下記の表は、得られた結果を示す。
(J.Physiol.170、397(1964))を使用して健康な被験者か
ら採取した血小板に富む血漿中で測定する。凝固を抑制
するために、血液を1:10の容積比で3.14％のクエン酸ナ
トリウムと混合する。コラーゲン誘発凝集 血小板懸濁液中の光学密度の減少のパターンを、凝集を
誘発する物質の添加後に光度計で測定し、記録する。凝
集の速度を密度曲線の勾配の角度から求める。最高の光
透過率がある曲線の点を使用して光学密度を計算する。
使用されるコラーゲンの量は、できるだけ少ないが、不
可逆反応曲線を得るのに充分である。ミュンヘンのホル
モンケミ(Hormonchemie)により製造された通常の市販の
コラーゲンを使用する。コラーゲンの添加前に、血漿を
物質と共に37℃で10分間インキュベートする。得られた
測定値から、EC50をグラフにより測定し、これは凝集の
抑制に関して光学密度の50％の変化を与える濃度を表
す。下記の表は、得られた結果を示す。
【００７２】
【表１】 物質 （実施例番号） フィブリノーゲン結合試験 血小板凝集 の抑制 IC50［nM］ EC50［nM］ 1 110 430 1(1) 26000 >10000 2 200 2000 1(15) 490 1250 1(48) 280 250 1(49) 270 150 1(61) 150 110 1(63) 9800 4400 1(64) 50000 30000 1(67) 1100 2300 6(12) 24000 6400 7(12) 1300 660
【００７３】本発明の化合物は良く寛容される。何とな
れば、夫々の場合に３匹のマウスへの実施例１の化合物
30mg/kg の静脈内投与後に、動物が死亡しなかったから
である。細胞間の相互作用または細胞と基質の相互作用
に関するそれらの抑制作用に鑑みて、一般式Ｉの新規な
縮合５員複素環化合物及びその生理学上許される付加塩
は、大小の細胞凝集物が生じる疾患または細胞と基質の
相互作用が役割を果たす疾患を治療または予防するのに
適し、例えば、静脈及び動脈の血栓、脳血管疾患、肺塞
栓症、心不全、動脈硬化、骨多孔症及び腫瘍の転移を治
療または予防すること、並びに細胞間の相互作用または
細胞と固体構造の相互作用の遺伝によりひき起こされた
疾患または後天性疾患の治療に適する。また、それら
は、血栓溶解薬または管腔内外の(transluminal)血管形
成の如き血管介入を伴う血栓の平行治療、またはショッ
ク、乾癬、糖尿病及び炎症の治療に適する。
れば、夫々の場合に３匹のマウスへの実施例１の化合物
30mg/kg の静脈内投与後に、動物が死亡しなかったから
である。細胞間の相互作用または細胞と基質の相互作用
に関するそれらの抑制作用に鑑みて、一般式Ｉの新規な
縮合５員複素環化合物及びその生理学上許される付加塩
は、大小の細胞凝集物が生じる疾患または細胞と基質の
相互作用が役割を果たす疾患を治療または予防するのに
適し、例えば、静脈及び動脈の血栓、脳血管疾患、肺塞
栓症、心不全、動脈硬化、骨多孔症及び腫瘍の転移を治
療または予防すること、並びに細胞間の相互作用または
細胞と固体構造の相互作用の遺伝によりひき起こされた
疾患または後天性疾患の治療に適する。また、それら
は、血栓溶解薬または管腔内外の(transluminal)血管形
成の如き血管介入を伴う血栓の平行治療、またはショッ
ク、乾癬、糖尿病及び炎症の治療に適する。
【００７４】上記の疾患の治療または予防に関して、投
与量は、毎日４回までの投与で、体重１kg当たり0.1mg
〜30mg、好ましくは体重１kg当たり１mg〜15mgである。
この目的のため、本発明により製造された式Ｉの化合物
は、必要によりその他の活性物質、例えば、トロンボキ
サンレセプター拮抗物質及びトロンボキサン合成インヒ
ビターまたはこれらの組み合わせ、セロトニン拮抗物
質、α−レセプター拮抗物質、グリセロールトリニトレ
ートの如きアルキルニトレート、ホスホジエステラーゼ
インヒビター、プロスタサイクリン及びこれらの類縁
体、血栓溶解薬、例えば、tPA 、プロウロキナーゼ、ウ
ロキナーゼ、ストレプトキナーゼ、または血液凝固阻止
薬、例えば、ヘパリン、デルマタンスルフェート、活性
プロテインＣ、ビタミンＫ拮抗物質、ヒルジン、トロン
ビンまたはその他の活性凝固因子のインヒビターと組み
合わせて、一種以上の不活性の通常の担体及び／または
希釈剤、例えば、トウモロコシ澱粉、ラクトース、蔗
糖、微結晶性セルロース、ステアリン酸マグネシウム、
ポリビニルピロリドン、クエン酸、酒石酸、水、水／エ
タノール、水／グリセロール、水／ソルビトール、水／
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ステ
アリルアルコール、カルボキシメチルセルロースまたは
脂肪物質、例えば、硬質脂肪またはこれらの適当な混合
物と一緒に通常のガレン製剤、例えば、単純錠剤もしく
は被覆錠剤、カプセル、粉末、懸濁液、溶液、スプレー
または座薬中に混入し得る。以下の実施例は本発明を説
明することを目的とする。
与量は、毎日４回までの投与で、体重１kg当たり0.1mg
〜30mg、好ましくは体重１kg当たり１mg〜15mgである。
この目的のため、本発明により製造された式Ｉの化合物
は、必要によりその他の活性物質、例えば、トロンボキ
サンレセプター拮抗物質及びトロンボキサン合成インヒ
ビターまたはこれらの組み合わせ、セロトニン拮抗物
質、α−レセプター拮抗物質、グリセロールトリニトレ
ートの如きアルキルニトレート、ホスホジエステラーゼ
インヒビター、プロスタサイクリン及びこれらの類縁
体、血栓溶解薬、例えば、tPA 、プロウロキナーゼ、ウ
ロキナーゼ、ストレプトキナーゼ、または血液凝固阻止
薬、例えば、ヘパリン、デルマタンスルフェート、活性
プロテインＣ、ビタミンＫ拮抗物質、ヒルジン、トロン
ビンまたはその他の活性凝固因子のインヒビターと組み
合わせて、一種以上の不活性の通常の担体及び／または
希釈剤、例えば、トウモロコシ澱粉、ラクトース、蔗
糖、微結晶性セルロース、ステアリン酸マグネシウム、
ポリビニルピロリドン、クエン酸、酒石酸、水、水／エ
タノール、水／グリセロール、水／ソルビトール、水／
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ステ
アリルアルコール、カルボキシメチルセルロースまたは
脂肪物質、例えば、硬質脂肪またはこれらの適当な混合
物と一緒に通常のガレン製剤、例えば、単純錠剤もしく
は被覆錠剤、カプセル、粉末、懸濁液、溶液、スプレー
または座薬中に混入し得る。以下の実施例は本発明を説
明することを目的とする。
【００７５】例Ｉ ３−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル）−プロピオニルクロリド ３−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル）−プロピオン酸3.09g 、塩化メチレン50ml及び五塩
化リン2.08g を合わせ、周囲温度で６時間放置する。そ
の混合物を減圧で蒸発させ、トルエンと共にもう一度蒸
発させる。残っている残渣を更に精製しないで使用す
る。 収量：3.1g（理論値の100 ％)
ル）−プロピオニルクロリド ３−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル）−プロピオン酸3.09g 、塩化メチレン50ml及び五塩
化リン2.08g を合わせ、周囲温度で６時間放置する。そ
の混合物を減圧で蒸発させ、トルエンと共にもう一度蒸
発させる。残っている残渣を更に精製しないで使用す
る。 収量：3.1g（理論値の100 ％)
【００７６】例II ３−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル）−プロピオン酸 ３−（４−ピペリジニル）−プロピオン酸24.6g を０℃
に冷却した1Nの水酸化ナトリウム溶液170 mlに溶解し、
ビブロ(Vibro) ミキサーを使用して、1Nの水酸化ナトリ
ウム溶液175 ml及びベンジルオキシカルボニルクロリド
25mlを30分の期間にわたって別々に滴下して添加する。
得られる混合物を０℃で更に60分間反応させ、周囲温度
で16時間放置する。その混合物をエーテル／石油エーテ
ルの4:1混合物で洗浄し、水相を4Nの塩酸で酸性にし、
エーテルで抽出する。エーテル抽出液を減圧で蒸発させ
る。油状残渣を直接使用する。 収量：50g(理論値の100 ％) 、 Ｒf 値：0.65（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=5:1:0.1) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) トランス−４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ
−メチル）−シクロヘキサン−カルボン酸 融点：109 〜110 ℃
ル）−プロピオン酸 ３−（４−ピペリジニル）−プロピオン酸24.6g を０℃
に冷却した1Nの水酸化ナトリウム溶液170 mlに溶解し、
ビブロ(Vibro) ミキサーを使用して、1Nの水酸化ナトリ
ウム溶液175 ml及びベンジルオキシカルボニルクロリド
25mlを30分の期間にわたって別々に滴下して添加する。
得られる混合物を０℃で更に60分間反応させ、周囲温度
で16時間放置する。その混合物をエーテル／石油エーテ
ルの4:1混合物で洗浄し、水相を4Nの塩酸で酸性にし、
エーテルで抽出する。エーテル抽出液を減圧で蒸発させ
る。油状残渣を直接使用する。 収量：50g(理論値の100 ％) 、 Ｒf 値：0.65（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=5:1:0.1) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) トランス−４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ
−メチル）−シクロヘキサン−カルボン酸 融点：109 〜110 ℃
【００７７】例III ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−トリクロロメチル−ベン
ゾイミダゾール ３−アミノ−４−メチルアミノ−安息香酸−［Ｎ−（２
−メトキシカルボニル−エチル）−アミド］10g を氷酢
酸35mlに溶解し、20分以内に氷酢酸５ml中のメチルトリ
クロロアセトイミデート7.05g の溶液をそれに滴下して
添加する。その混合物を周囲温度で更に16時間攪拌し、
氷酢酸を減圧で蒸留して除き、残渣を更に精製しないで
使用する。 収量：15g(理論値の100 ％) 、 Ｒf 値：0.71（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
ルボニル］−１−メチル−２−トリクロロメチル−ベン
ゾイミダゾール ３−アミノ−４−メチルアミノ−安息香酸−［Ｎ−（２
−メトキシカルボニル−エチル）−アミド］10g を氷酢
酸35mlに溶解し、20分以内に氷酢酸５ml中のメチルトリ
クロロアセトイミデート7.05g の溶液をそれに滴下して
添加する。その混合物を周囲温度で更に16時間攪拌し、
氷酢酸を減圧で蒸留して除き、残渣を更に精製しないで
使用する。 収量：15g(理論値の100 ％) 、 Ｒf 値：0.71（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
【００７８】例IV イソプロピル５−（３−アミノ−４−メチルアミノ−フ
ェニル）−５−オキソ−バレリエート イソプロピル５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フ
ェニル）−５−オキソ−バレリエート2.4gを、水素を使
用して0.1gの10％のパラジウム／木炭の存在下でイソプ
ロパノール80ml中で４バールで周囲温度で48時間にわた
って水素化する。触媒を濾別し、濾液を減圧で蒸発さ
せ、残渣をシリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／石油エー
テル=8:2) で精製する。 収量：1.0g（理論値の46％) 、 Ｒf 値：0.67（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1)
ェニル）−５−オキソ−バレリエート イソプロピル５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フ
ェニル）−５−オキソ−バレリエート2.4gを、水素を使
用して0.1gの10％のパラジウム／木炭の存在下でイソプ
ロパノール80ml中で４バールで周囲温度で48時間にわた
って水素化する。触媒を濾別し、濾液を減圧で蒸発さ
せ、残渣をシリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／石油エー
テル=8:2) で精製する。 収量：1.0g（理論値の46％) 、 Ｒf 値：0.67（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1)
【００７９】例Ｖ ４−アミノ−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）
−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオ
ン 塩基として固体水酸化ナトリウムを使用して、実施例11
(4) と同様にして４−アミノ−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ
−ピリミジン−２，６−ジオンから調製した。 融点：110 〜112 ℃ 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−１−（４
−エトキシカルボニル−ブチル）−３−（４−メトキシ
−ベンジル）−４−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミ
ジン−２，６−ジオン カリウムtert. ブトキシドを含むジメチルホルムアミド
を使用する。 Ｒf 値：0.52（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1) (2) ９−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−７−（４
−エトキシカルボニル−ブチル）−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−ａ］ピリミジン−６，
８−ジオン Ｒf 値：0.55（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1)
−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオ
ン 塩基として固体水酸化ナトリウムを使用して、実施例11
(4) と同様にして４−アミノ−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ
−ピリミジン−２，６−ジオンから調製した。 融点：110 〜112 ℃ 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−１−（４
−エトキシカルボニル−ブチル）−３−（４−メトキシ
−ベンジル）−４−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミ
ジン−２，６−ジオン カリウムtert. ブトキシドを含むジメチルホルムアミド
を使用する。 Ｒf 値：0.52（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1) (2) ９−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−７−（４
−エトキシカルボニル−ブチル）−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−ａ］ピリミジン−６，
８−ジオン Ｒf 値：0.55（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1)
【００８０】例VI ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−キ
サンチン ５−アミノ−１−メチル−６−メチルアミノ−１Ｈ，３
Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン2.1gをテトラヒドロフ
ラン150 mlに懸濁させ、４−ジメチルアミノ−ピリジン
9.1gを攪拌し、還流しながら添加する。15分後に、４−
シアノ−ベンゾイルクロリド2.2gを添加し、その混合物
を攪拌しながら更に２時間還流させる。その反応混合物
を蒸発させ、残渣を200 〜205 ℃に45分間加熱する。冷
却後、生成物をメタノール15mlですり砕き、濾過し、メ
タノール、エーテルで洗浄し、この形態で更に使用す
る。 収量：2.0g（理論値の58％) 、 Ｒf 値：0.79（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1、２回展開した後)
サンチン ５−アミノ−１−メチル−６−メチルアミノ−１Ｈ，３
Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン2.1gをテトラヒドロフ
ラン150 mlに懸濁させ、４−ジメチルアミノ−ピリジン
9.1gを攪拌し、還流しながら添加する。15分後に、４−
シアノ−ベンゾイルクロリド2.2gを添加し、その混合物
を攪拌しながら更に２時間還流させる。その反応混合物
を蒸発させ、残渣を200 〜205 ℃に45分間加熱する。冷
却後、生成物をメタノール15mlですり砕き、濾過し、メ
タノール、エーテルで洗浄し、この形態で更に使用す
る。 収量：2.0g（理論値の58％) 、 Ｒf 値：0.79（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1、２回展開した後)
【００８１】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−キサン
チン a)５−［［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−カルボニルアミノ］−１−
メチル−６−メチルアミノ−ウラシル 混合物を５時間還流させ、テトラヒドロフランの蒸発後
に残っている残渣を酢酸エチル／エタノール(3:1) で蒸
解する。 Ｒf 値：0.79（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=7:3:0.1) b)８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−キサンチ
ン 250 ℃に10分間加熱した。 Ｒf 値：0.62（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=8:2:0.1)
ピペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−キサン
チン a)５−［［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−カルボニルアミノ］−１−
メチル−６−メチルアミノ−ウラシル 混合物を５時間還流させ、テトラヒドロフランの蒸発後
に残っている残渣を酢酸エチル／エタノール(3:1) で蒸
解する。 Ｒf 値：0.79（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=7:3:0.1) b)８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−キサンチ
ン 250 ℃に10分間加熱した。 Ｒf 値：0.62（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=8:2:0.1)
【００８２】(2) ２−［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−８，10−ジオ
キソ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，
２，３−ｃｄ］プリン a)９−［［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−カルボニル−アミノ］−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−
ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ジメチルホルムアミド中の３−（１−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル）−プロピオン酸及びカル
ボニルジイミダゾールを使用する。 Ｒf 値：0.73（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=8:2) b)２−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−８，10−ジオキソ−５，６−
ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］
プリン 240 ℃に1.5 時間加熱した。 Ｒf 値：0.52（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=9:1)
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−８，10−ジオ
キソ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，
２，３−ｃｄ］プリン a)９−［［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−カルボニル−アミノ］−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−
ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ジメチルホルムアミド中の３−（１−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル）−プロピオン酸及びカル
ボニルジイミダゾールを使用する。 Ｒf 値：0.73（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=8:2) b)２−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−８，10−ジオキソ−５，６−
ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］
プリン 240 ℃に1.5 時間加熱した。 Ｒf 値：0.52（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=9:1)
【００８３】(3) ８−［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−９−イソプロ
ピル−キサンチン a)５−［［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−カルボニルアミノ］−４−
イソプロピルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６
−ジオン (2a)と同様の操作。 Ｒf 値：0.59（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1 、３回展開した後 ) b)８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−９−イソプロピル−キサンチ
ン 2.5g以下のバッチを使用し、混合物を250 〜275 ℃に最
高10分間加熱する。 Ｒf 値：0.69（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1 、３回展開した後 )
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−９−イソプロ
ピル−キサンチン a)５−［［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−カルボニルアミノ］−４−
イソプロピルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６
−ジオン (2a)と同様の操作。 Ｒf 値：0.59（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1 、３回展開した後 ) b)８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−９−イソプロピル−キサンチ
ン 2.5g以下のバッチを使用し、混合物を250 〜275 ℃に最
高10分間加熱する。 Ｒf 値：0.69（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1 、３回展開した後 )
【００８４】(4) ８−（４−シアノ−フェニル）−３，
７−ジメチル−キサンチン a)４−アミノ−５−［Ｎ−（４−シアノベンゾイル）−
Ｎ−メチル−アミノ］−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリ
ミジン−２，６−ジオン その処理をテトラヒドロフラン及び水酸化ナトリウム溶
液中で周囲温度で行う。出発物質４−アミノ−３−メチ
ル−５−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，
６−ジオンを４−アミノ−５−ブロモ−３−メチル−１
Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオンから得る。 融点：275 ℃より高い Ｒf 値：0.29（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1) b)８−（４−シアノ−フェニル）−３，７−ジメチル−
キサンチン ４−ジメチルアミノピリジンの存在下で250 ℃に10分間
加熱した。 融点：300 ℃より高い Ｒf 値：0.30（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1)
７−ジメチル−キサンチン a)４−アミノ−５−［Ｎ−（４−シアノベンゾイル）−
Ｎ−メチル−アミノ］−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリ
ミジン−２，６−ジオン その処理をテトラヒドロフラン及び水酸化ナトリウム溶
液中で周囲温度で行う。出発物質４−アミノ−３−メチ
ル−５−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，
６−ジオンを４−アミノ−５−ブロモ−３−メチル−１
Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオンから得る。 融点：275 ℃より高い Ｒf 値：0.29（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1) b)８−（４−シアノ−フェニル）−３，７−ジメチル−
キサンチン ４−ジメチルアミノピリジンの存在下で250 ℃に10分間
加熱した。 融点：300 ℃より高い Ｒf 値：0.30（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1)
【００８５】(5) ８−［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−３，７−ジメ
チル−キサンチン a)４−アミノ−５−［［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］カルボニルアミ
ノ］−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−
ジオン 操作は(2a)と同様であるが、トリエチルアミンの存在下
でＯ−（１Ｈ−１−ベンゾトリアゾリル）Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム−テトラフルオロ
ボレートを使用する。 融点：223 〜224 ℃(220℃から焼結) Ｒf 値：0.34（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=15:1:0.1 、２回展開した後 ) b)８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−３，７−ジメチル−キサンチ
ン 275 ℃に10分間加熱した。 融点：200 〜203 ℃(198℃から焼結) Ｒf 値：0.88（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=15:1:0.1 、２回展開した後 )
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−３，７−ジメ
チル−キサンチン a)４−アミノ−５−［［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］カルボニルアミ
ノ］−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−
ジオン 操作は(2a)と同様であるが、トリエチルアミンの存在下
でＯ−（１Ｈ−１−ベンゾトリアゾリル）Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム−テトラフルオロ
ボレートを使用する。 融点：223 〜224 ℃(220℃から焼結) Ｒf 値：0.34（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=15:1:0.1 、２回展開した後 ) b)８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−３，７−ジメチル−キサンチ
ン 275 ℃に10分間加熱した。 融点：200 〜203 ℃(198℃から焼結) Ｒf 値：0.88（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=15:1:0.1 、２回展開した後 )
【００８６】(6) ８−［４−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−フェニル］−３，９−ジ
メチル−キサンチン a)５−［４−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−ベンゾイルアミノ］−３−メチル−４−
メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオ
ン 操作は(5a)と同様である。 融点：262 〜265 ℃（分解) Ｒf 値：0.35（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1、２回展開した後 ) b)８−［４−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−フェニル］−３，９−ジメチル−キサン
チン 259 ℃に加熱、乾燥したジフェニルエーテルを攪拌しな
がら添加し、その混合物をこの温度で合計３時間保つ。 融点：260 〜263 ℃ Ｒf 値：0.50（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1)
ボニル−４−ピペリジニル）−フェニル］−３，９−ジ
メチル−キサンチン a)５−［４−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−ベンゾイルアミノ］−３−メチル−４−
メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオ
ン 操作は(5a)と同様である。 融点：262 〜265 ℃（分解) Ｒf 値：0.35（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1、２回展開した後 ) b)８−［４−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニル）−フェニル］−３，９−ジメチル−キサン
チン 259 ℃に加熱、乾燥したジフェニルエーテルを攪拌しな
がら添加し、その混合物をこの温度で合計３時間保つ。 融点：260 〜263 ℃ Ｒf 値：0.50（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1)
【００８７】(7) ５−（４−シアノ−ベンゾイルアミ
ノ）−３−（４−メトキシ−ベンジル）−４−メチルア
ミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン 操作は(1a)と同様である。 融点：245 〜250 ℃（分解) Ｒf 値：0.40（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1) (8) ９−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−ａ］ピリミ
ジン−６，８−ジオン 操作は(1a)と同様である。 融点：290 ℃より高い Ｒf 値：0.32（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1) (9) メチル３−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル）−ベンゾイルアミノ］−４−
メチルアミノ−シンナメート 操作は(5a)と同様である。 Ｒf 値：0.64（シリカゲル；酢酸エチル／石油エーテル
=7:3)
ノ）−３−（４−メトキシ−ベンジル）−４−メチルア
ミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン 操作は(1a)と同様である。 融点：245 〜250 ℃（分解) Ｒf 値：0.40（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1) (8) ９−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−ａ］ピリミ
ジン−６，８−ジオン 操作は(1a)と同様である。 融点：290 ℃より高い Ｒf 値：0.32（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1) (9) メチル３−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル）−ベンゾイルアミノ］−４−
メチルアミノ−シンナメート 操作は(5a)と同様である。 Ｒf 値：0.64（シリカゲル；酢酸エチル／石油エーテル
=7:3)
【００８８】例VII イソプロピル５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フ
ェニル）−５−オキソ−バレリエート a)５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フェニル）−
５−オキソ吉草酸 ５−（４−クロロ−３−ニトロ−フェニル）−５−オキ
ソ−吉草酸（５−（４−クロロフェニル）−５−オキソ
−吉草酸を発煙硝酸で-5℃でニトロ化することにより調
製した)13.6gを加圧容器中で40％のメチルアミン水溶液
250 mlと共に50℃に８時間加熱する。その反応溶液を減
圧で蒸発させ、沈殿を水中に吸収させ、塩酸で酸性にす
る。沈殿した生成物を更に精製しないで使用する。 Ｒf 値：0.35（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1) b)イソプロピル５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−
フェニル）−５−オキソ−バレリエート 得られた粗５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フェ
ニル）−５−オキソ吉草酸をスチーム浴上で６時間にわ
たってイソプロパノール性塩酸300 mlと共に加熱する。
その混合物を減圧で蒸発させ、残渣をシリカゲル（溶離
剤：最初に、酢酸エチル／エタノール=100:1、次に酢酸
エチル／石油エーテル=1:1) で２回クロマトグラフィー
にかけることにより精製する。 収量：2.4g（理論値の15％) 、 Ｒf 値：0.80（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) メチル３−アミノ−４−メチルアミノ−シンナメー
ト b)と同じ操作を使用する。 Ｒf 値：0.65（シリカゲル；酢酸エチル／石油エーテル
=7:3) (2) ４−メチルアミノ−３−ニトロケイ皮酸 a)と同様にして調製する。酢酸ナトリウムの存在下で無
水酢酸中で４−クロロ−３−ニトロ−ベンズアルデヒド
を加熱することにより出発物質を得る。 Ｒf 値：0.83（塩化メチレン／メタノール=50:1)
ェニル）−５−オキソ−バレリエート a)５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フェニル）−
５−オキソ吉草酸 ５−（４−クロロ−３−ニトロ−フェニル）−５−オキ
ソ−吉草酸（５−（４−クロロフェニル）−５−オキソ
−吉草酸を発煙硝酸で-5℃でニトロ化することにより調
製した)13.6gを加圧容器中で40％のメチルアミン水溶液
250 mlと共に50℃に８時間加熱する。その反応溶液を減
圧で蒸発させ、沈殿を水中に吸収させ、塩酸で酸性にす
る。沈殿した生成物を更に精製しないで使用する。 Ｒf 値：0.35（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1) b)イソプロピル５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−
フェニル）−５−オキソ−バレリエート 得られた粗５−（４−メチルアミノ−３−ニトロ−フェ
ニル）−５−オキソ吉草酸をスチーム浴上で６時間にわ
たってイソプロパノール性塩酸300 mlと共に加熱する。
その混合物を減圧で蒸発させ、残渣をシリカゲル（溶離
剤：最初に、酢酸エチル／エタノール=100:1、次に酢酸
エチル／石油エーテル=1:1) で２回クロマトグラフィー
にかけることにより精製する。 収量：2.4g（理論値の15％) 、 Ｒf 値：0.80（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) メチル３−アミノ−４−メチルアミノ−シンナメー
ト b)と同じ操作を使用する。 Ｒf 値：0.65（シリカゲル；酢酸エチル／石油エーテル
=7:3) (2) ４−メチルアミノ−３−ニトロケイ皮酸 a)と同様にして調製する。酢酸ナトリウムの存在下で無
水酢酸中で４−クロロ−３−ニトロ−ベンズアルデヒド
を加熱することにより出発物質を得る。 Ｒf 値：0.83（塩化メチレン／メタノール=50:1)
【００８９】例IX ９−アミノ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド
［１，６−ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ９−ニトロソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミ
ド［１，６−ａ］ピリミジン−６，８−ジオン3.4gをメ
タノール250 ml中でラネーニッケル2.5gの存在下で周囲
温度で16時間にわたって５バールの水素で処理する。水
25mlを添加し、その混合物をスチーム浴上で加熱し、熱
時濾過する。濾液を蒸発させ、残渣をその粗形態で更に
処理する。 収量：3g（理論値の95％) 、 Ｒf 値：0.13（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−アミノ−４−イソプロピルアミノ−１Ｈ，３Ｈ
−ピリミジン−２，６−ジオン Ｒf 値：0.52（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=8:2:0.1) (2) ４，５−ジアミノ−１−（４−エトキシカルボニル
−ブチル）−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−
２，６−ジオン Ｒf 値：0.84（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1、２回展開した後) (3) ５−アミノ−３−（４−メトキシ−ベンジル）−４
−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジ
オン Ｒf 値：0.50（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール／
濃アンモニア=8:2:0.1)
［１，６−ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ９−ニトロソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミ
ド［１，６−ａ］ピリミジン−６，８−ジオン3.4gをメ
タノール250 ml中でラネーニッケル2.5gの存在下で周囲
温度で16時間にわたって５バールの水素で処理する。水
25mlを添加し、その混合物をスチーム浴上で加熱し、熱
時濾過する。濾液を蒸発させ、残渣をその粗形態で更に
処理する。 収量：3g（理論値の95％) 、 Ｒf 値：0.13（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−アミノ−４−イソプロピルアミノ−１Ｈ，３Ｈ
−ピリミジン−２，６−ジオン Ｒf 値：0.52（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=8:2:0.1) (2) ４，５−ジアミノ−１−（４−エトキシカルボニル
−ブチル）−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−
２，６−ジオン Ｒf 値：0.84（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1、２回展開した後) (3) ５−アミノ−３−（４−メトキシ−ベンジル）−４
−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジ
オン Ｒf 値：0.50（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール／
濃アンモニア=8:2:0.1)
【００９０】例Ｘ ９−ニトロソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミ
ド［１，６−ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−
ａ］ピリミジン−６，８−ジオン3.35g をスチーム浴上
で水65mlに溶解し、30分かけて亜硝酸ナトリウム1.63g
を添加した後、氷酢酸2.75mlを滴下して添加する。その
混合物を30分間攪拌し、半分の容積まで蒸発させ、氷水
で冷却し、沈殿を濾別する。 収量：3.5g（理論値の90％) 、 Ｒf 値：0.02（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ４−イソプロピルアミノ−５−ニトロソ−１Ｈ，３
Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン 融点：224 〜226 ℃（分解） (2) ４−アミノ−１−（４−エトキシカルボニル−ブチ
ル）−３−メチル−５−ニトロソ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミ
ジン−２，６−ジオン その処理を周囲温度で行う。 融点：182 〜183 ℃（分解） (3) ３−（４−メトキシ−ベンジル）−４−メチルアミ
ノ−５−ニトロソ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−
ジオン 融点：167 ℃（分解）
ド［１，６−ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−
ａ］ピリミジン−６，８−ジオン3.35g をスチーム浴上
で水65mlに溶解し、30分かけて亜硝酸ナトリウム1.63g
を添加した後、氷酢酸2.75mlを滴下して添加する。その
混合物を30分間攪拌し、半分の容積まで蒸発させ、氷水
で冷却し、沈殿を濾別する。 収量：3.5g（理論値の90％) 、 Ｒf 値：0.02（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ４−イソプロピルアミノ−５−ニトロソ−１Ｈ，３
Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン 融点：224 〜226 ℃（分解） (2) ４−アミノ−１−（４−エトキシカルボニル−ブチ
ル）−３−メチル−５−ニトロソ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミ
ジン−２，６−ジオン その処理を周囲温度で行う。 融点：182 〜183 ℃（分解） (3) ３−（４−メトキシ−ベンジル）−４−メチルアミ
ノ−５−ニトロソ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−
ジオン 融点：167 ℃（分解）
【００９１】例XI ３，４−ジヒドロ−２Ｈ，７Ｈ−ピリミド［１，６−
ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ６−［（３−トルエンスルホニルオキシ−プロピル）−
アミノ］−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−４，６−ジオン
（６−クロロウラシルと３−アミノプロパノールから、
その後、トルエントルエンスルホニルクロリドと反応さ
せることにより調製した）16g を1Nの水酸化ナトリウム
溶液100 ml中で90℃に２時間加熱する。その混合物を塩
化アンモニウムで緩衝し、生成した沈殿を酢酸エチルで
蒸解する。 収量：3.5g（理論値の45％) 、 Ｒf 値：0.89（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
ａ］ピリミジン−６，８−ジオン ６−［（３−トルエンスルホニルオキシ−プロピル）−
アミノ］−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−４，６−ジオン
（６−クロロウラシルと３−アミノプロパノールから、
その後、トルエントルエンスルホニルクロリドと反応さ
せることにより調製した）16g を1Nの水酸化ナトリウム
溶液100 ml中で90℃に２時間加熱する。その混合物を塩
化アンモニウムで緩衝し、生成した沈殿を酢酸エチルで
蒸解する。 収量：3.5g（理論値の45％) 、 Ｒf 値：0.89（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【００９２】例XII ５−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−１−（４−エ
トキシカルボニル−ブチル）−４−メチルアミノ−１
Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ５−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−１−（４−エ
トキシカルボニル−ブチル）−３−（４−メトキシ−ベ
ンジル）−４−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン
−２，６−ジオン3.3gをトリフルオロ酢酸30ml中で窒素
雰囲気下で65℃で４日間攪拌する。その混合物を蒸発さ
せ、残渣を水ですり砕き、得られた固体生成物を濾別す
る。 収量：1.62g(理論値の63％) 、 融点：200 ℃より高い Ｒf 値：0.33（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=9:1)
トキシカルボニル−ブチル）−４−メチルアミノ−１
Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ５−（４−シアノ−ベンゾイルアミノ）−１−（４−エ
トキシカルボニル−ブチル）−３−（４−メトキシ−ベ
ンジル）−４−メチルアミノ−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン
−２，６−ジオン3.3gをトリフルオロ酢酸30ml中で窒素
雰囲気下で65℃で４日間攪拌する。その混合物を蒸発さ
せ、残渣を水ですり砕き、得られた固体生成物を濾別す
る。 収量：1.62g(理論値の63％) 、 融点：200 ℃より高い Ｒf 値：0.33（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=9:1)
【００９３】例XIII ３−（４−メトキシ−ベンジル）−４−メチルアミノ−
１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ４−クロロ−３−（４−メトキシ−ベンジル）−１Ｈ，
３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン68g をボンベ中で40
％のメチルアミン水溶液150 mlと共に120 ℃に１時間加
熱する。水500 mlを添加し、固体生成物を濾別し、エタ
ノールで煮る。 収量：17g （理論値の22％) 、 Ｒf 値：0.55（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
8:2)
１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ４−クロロ−３−（４−メトキシ−ベンジル）−１Ｈ，
３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン68g をボンベ中で40
％のメチルアミン水溶液150 mlと共に120 ℃に１時間加
熱する。水500 mlを添加し、固体生成物を濾別し、エタ
ノールで煮る。 収量：17g （理論値の22％) 、 Ｒf 値：0.55（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
8:2)
【００９４】例XIV ４−クロロ−３−（４−メトキシ−ベンジル）−１Ｈ，
３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ６−クロロ−ウラシル45.1g 、炭酸水素カリウム30.9g
及びジメチルスルホキシド300 mlの混合物を80℃に２時
間加熱する。４−メトキシ−ベンジルクロリド41.9g を
添加し、その混合物を80℃に更に４時間加熱する。溶媒
を減圧で蒸発させ、残渣を水2000mlに注ぎ、得られた固
体生成物を濾別する。 収量：68g （理論値の96％) 、 融点：270 〜274 ℃ Ｒf 値：0.90（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ６−クロロ−ウラシル45.1g 、炭酸水素カリウム30.9g
及びジメチルスルホキシド300 mlの混合物を80℃に２時
間加熱する。４−メトキシ−ベンジルクロリド41.9g を
添加し、その混合物を80℃に更に４時間加熱する。溶媒
を減圧で蒸発させ、残渣を水2000mlに注ぎ、得られた固
体生成物を濾別する。 収量：68g （理論値の96％) 、 融点：270 〜274 ℃ Ｒf 値：0.90（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
【００９５】例XV ３−アミノ−４−メチルアミノ−ケイ皮酸 ４−メチルアミノ−３−ニトロ−ケイ皮酸11g を沸騰し
ている５％の水酸化ナトリウム溶液190 ml中に入れ、ナ
トリウムジチオニトを、赤色が消失するまで添加する
（合計31g)。冷却すると、生成物が結晶化する。 収量：6g（理論値の63％) 、 Ｒf 値：0.31（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
ている５％の水酸化ナトリウム溶液190 ml中に入れ、ナ
トリウムジチオニトを、赤色が消失するまで添加する
（合計31g)。冷却すると、生成物が結晶化する。 収量：6g（理論値の63％) 、 Ｒf 値：0.31（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
【００９６】実施例１ ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボニ
ル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール0.4gを48％の臭化
水素酸２mlと共に周囲温度で18時間攪拌する。その混合
物を減圧で蒸発、乾燥させ、減圧で90℃で固体水酸化ナ
トリウムで乾燥する。 収量：0.5g（理論値の90％) 、 Ｒf 値：0.71（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
ル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール0.4gを48％の臭化
水素酸２mlと共に周囲温度で18時間攪拌する。その混合
物を減圧で蒸発、乾燥させ、減圧で90℃で固体水酸化ナ
トリウムで乾燥する。 収量：0.5g（理論値の90％) 、 Ｒf 値：0.71（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【００９７】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−ア
ミノカルボニル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.72（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (2) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（１−メチル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水
素酸塩 (3) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［１−（４−ピペリジニル）
−２−プロピル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (4) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−プロピル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (5) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−シクロヘキシル−３−メチル−
キサンチン二臭化水素酸塩
ニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−ア
ミノカルボニル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.72（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (2) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（１−メチル−４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水
素酸塩 (3) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［１−（４−ピペリジニル）
−２−プロピル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (4) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−プロピル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (5) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−シクロヘキシル−３−メチル−
キサンチン二臭化水素酸塩
【００９８】(6) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリ
ジニル）−アミノメチル］−ベンゾイミダゾール二臭化
水素酸塩 (7) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［Ｎ−メチル−Ｎ−（４−ピ
ペリジニルメチル）−アミノ］−ベンゾイミダゾール二
臭化水素酸塩 (8) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［［Ｎ−メチル−Ｎ−（４−
ピペリジニル）−アミノ］−メチル］−ベンゾイミダゾ
ール三臭化水素酸塩 (9) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−メ
チルチオ］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (10)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［４−（４−ピペリジニル）
−ブチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリ
ジニル）−アミノメチル］−ベンゾイミダゾール二臭化
水素酸塩 (7) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［Ｎ−メチル−Ｎ−（４−ピ
ペリジニルメチル）−アミノ］−ベンゾイミダゾール二
臭化水素酸塩 (8) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［［Ｎ−メチル−Ｎ−（４−
ピペリジニル）−アミノ］−メチル］−ベンゾイミダゾ
ール三臭化水素酸塩 (9) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−メ
チルチオ］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (10)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［４−（４−ピペリジニル）
−ブチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩
【００９９】(11)５−［（２−カルボキシ−エチル）−
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［３−（４−ピ
ペリジニル）−プロピル］−ベンゾイミダゾール二臭化
水素酸塩 (12)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−（２−ピペラジノ−エチル）
−ベンゾイミダゾール三臭化水素酸塩 (13)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（２−メチル−ピペラ
ジノ）−エチル］−ベンゾイミダゾール三臭化水素酸塩 (14)５−（４−カルボキシ−ブチル）−１−メチル−２
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミ
ダゾール二臭化水素酸塩 (15)５−（４−カルボキシ−１−オキソ−ブチル）−１
−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.66（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［３−（４−ピ
ペリジニル）−プロピル］−ベンゾイミダゾール二臭化
水素酸塩 (12)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−（２−ピペラジノ−エチル）
−ベンゾイミダゾール三臭化水素酸塩 (13)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（２−メチル−ピペラ
ジノ）−エチル］−ベンゾイミダゾール三臭化水素酸塩 (14)５−（４−カルボキシ−ブチル）−１−メチル−２
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミ
ダゾール二臭化水素酸塩 (15)５−（４−カルボキシ−１−オキソ−ブチル）−１
−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.66（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１００】(16)５−［（２−カルボキシ−プロピル）
−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化
水素酸塩 (17)５−［（３−カルボキシ−プロピル）−アミノカル
ボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (18)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−シクロヘキシル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸
塩 (19)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−６−メチル−アミノ−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
二臭化水素酸塩 (20)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−６−ジメチルアミノ−１−メチル−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
二臭化水素酸塩
−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化
水素酸塩 (17)５−［（３−カルボキシ−プロピル）−アミノカル
ボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (18)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−シクロヘキシル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸
塩 (19)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−６−メチル−アミノ−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
二臭化水素酸塩 (20)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−６−ジメチルアミノ−１−メチル−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
二臭化水素酸塩
【０１０１】(21)５−［（２−（カルボキシ−エチル）
−アミノカルボニル］−６−ヒドロキシ−１−メチル−
２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイ
ミダゾール二臭化水素酸塩 (22)６−アミノ−５−［（２−カルボキシ−エチル）−
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水
素酸塩 (23)５(6) −［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカ
ルボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (24)６−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (25)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−（４−フェニル−ブチル）−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
二臭化水素酸塩
−アミノカルボニル］−６−ヒドロキシ−１−メチル−
２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイ
ミダゾール二臭化水素酸塩 (22)６−アミノ−５−［（２−カルボキシ−エチル）−
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水
素酸塩 (23)５(6) −［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカ
ルボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (24)６−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (25)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−（４−フェニル−ブチル）−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
二臭化水素酸塩
【０１０２】(26)６−（３−カルボキシ−プロピルスル
ホニル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (27)１−ｎ−ブチル−５−［（２−カルボキシ−エチ
ル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (28)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−（３−モルホリノ−プロピル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール三臭化水素酸塩 (29)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−［３−（４−メチル−ピペラジノ）−プ
ロピル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−ベンゾイミダゾール三臭化水素酸塩 (30)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−（３−ピペラジノ−プロピル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール三臭化水素酸塩
ホニル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (27)１−ｎ−ブチル−５−［（２−カルボキシ−エチ
ル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (28)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−（３−モルホリノ−プロピル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール三臭化水素酸塩 (29)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−［３−（４−メチル−ピペラジノ）−プ
ロピル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−ベンゾイミダゾール三臭化水素酸塩 (30)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−（３−ピペラジノ−プロピル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール三臭化水素酸塩
【０１０３】(31)１−（２−アミノ−エチル）−５−
［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］
−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾ
イミダゾール三臭化水素酸塩 (32)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−ベンゾオキサゾール臭化水素酸塩 (33)６−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−３−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン二臭
化水素酸塩 (34)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピリジル）−エ
チル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (35)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−２−（３−イミダゾリル−プロピル）−１−メ
チル−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩
［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］
−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾ
イミダゾール三臭化水素酸塩 (32)５−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−ベンゾオキサゾール臭化水素酸塩 (33)６−［（２−（カルボキシ−エチル）−アミノカル
ボニル］−３−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン二臭
化水素酸塩 (34)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピリジル）−エ
チル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (35)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−２−（３−イミダゾリル−プロピル）−１−メ
チル−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩
【０１０４】(36)５−［（２−カルボキシ−エチル）−
カルボニルアミノ］−１−メチル−２−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水
素酸塩 (37)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノスルホ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (38)６−（３−カルボキシ−プロピルチオ）−１−メチ
ル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベン
ゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (39)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−３−メチル−９−（３−フェニル−
プロピル）−キサンチン二臭化水素酸塩 (40)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−イソブチル−３−メチル−キサ
ンチン二臭化水素酸塩
カルボニルアミノ］−１−メチル−２−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水
素酸塩 (37)５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノスルホ
ニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (38)６−（３−カルボキシ−プロピルチオ）−１−メチ
ル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベン
ゾイミダゾール二臭化水素酸塩 (39)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−３−メチル−９−（３−フェニル−
プロピル）−キサンチン二臭化水素酸塩 (40)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−イソブチル−３−メチル−キサ
ンチン二臭化水素酸塩
【０１０５】(41)８−（４−アミジノ−フェニル）−１
−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−９−（２
−モルホリノ−エチル）−キサンチン三臭化水素酸塩 (42)８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ベンジル−
１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−キサン
チン二臭化水素酸塩 (43)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−メチル−３−（３−フェニル−
プロピル）−キサンチン二臭化水素酸塩 (44)８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ｎ−ブチル
−１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−キサ
ンチン二臭化水素酸塩 (45)６−（３−カルボキシ−プロピルオキシ）−１−メ
チル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベ
ンゾイミダゾール二臭化水素酸塩
−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−９−（２
−モルホリノ−エチル）−キサンチン三臭化水素酸塩 (42)８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ベンジル−
１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−キサン
チン二臭化水素酸塩 (43)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−メチル−３−（３−フェニル−
プロピル）−キサンチン二臭化水素酸塩 (44)８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ｎ−ブチル
−１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−キサ
ンチン二臭化水素酸塩 (45)６−（３−カルボキシ−プロピルオキシ）−１−メ
チル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベ
ンゾイミダゾール二臭化水素酸塩
【０１０６】(46)８−（４−アミジノ−フェニル）−１
−（４−カルボキシ−ｎ−ペンチル）−３，９−ジメチ
ル−キサンチン二臭化水素酸塩 (47)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−イソプロピル−キサンチン二臭
化水素酸塩 (48)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン
二塩酸塩 混合物を6Nの塩酸と共にスチーム浴上で１時間加熱す
る。 融点：211 ℃（分解） Ｒf 値：0.61（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (49)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３，９−ジメチ
ル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサ
ンチン二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.70（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (50)１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−イソプロピ
ル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサ
ンチン二臭化水素酸塩 使用した出発物質は８−［２−（１−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−１−（４−
エトキシカルボニル−ブチル）−２−［（４−エトキシ
カルボニル−ブチル）−オキシ］−９−イソプロピル−
１Ｈ−プリン−６−オンである。 Ｒf 値：0.59（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
−（４−カルボキシ−ｎ−ペンチル）−３，９−ジメチ
ル−キサンチン二臭化水素酸塩 (47)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−イソプロピル−キサンチン二臭
化水素酸塩 (48)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン
二塩酸塩 混合物を6Nの塩酸と共にスチーム浴上で１時間加熱す
る。 融点：211 ℃（分解） Ｒf 値：0.61（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (49)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３，９−ジメチ
ル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサ
ンチン二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.70（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (50)１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−イソプロピ
ル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサ
ンチン二臭化水素酸塩 使用した出発物質は８−［２−（１−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−１−（４−
エトキシカルボニル−ブチル）−２−［（４−エトキシ
カルボニル−ブチル）−オキシ］−９−イソプロピル−
１Ｈ−プリン−６−オンである。 Ｒf 値：0.59（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１０７】(51)１−（３−カルボキシ−プロピル）−
３，９−ジメチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (52)１−（５−カルボキシ−ペンチル）−３，９−ジメ
チル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キ
サンチン二臭化水素酸塩 (53)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−９
−（２−モルホリノ−エチル）−８−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−キサンチン三臭化水素酸塩 (54)８−（４−カルボキシ−ブチル）−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−７，９−ジオキソ−４，
５−ジヒドロ−８Ｈ−イミダゾ［１，２，３−ｃｄ］プ
リン二臭化水素酸塩 (55)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン
二臭化水素酸塩
３，９−ジメチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (52)１−（５−カルボキシ−ペンチル）−３，９−ジメ
チル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キ
サンチン二臭化水素酸塩 (53)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−９
−（２−モルホリノ−エチル）−８−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−キサンチン三臭化水素酸塩 (54)８−（４−カルボキシ−ブチル）−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−７，９−ジオキソ−４，
５−ジヒドロ−８Ｈ−イミダゾ［１，２，３−ｃｄ］プ
リン二臭化水素酸塩 (55)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン
二臭化水素酸塩
【０１０８】(56)３−ｎ−ブチル−１−（４−カルボキ
シ−ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (57)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−カルボキシ
メチル−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (58)３−アミノカルボニルメチル−１−（４−カルボキ
シ−ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (59)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−イソプロピ
ル−７−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エ
チル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (60)１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ヒポキサン
チン二臭化水素酸塩
シ−ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (57)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−カルボキシ
メチル−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (58)３−アミノカルボニルメチル−１−（４−カルボキ
シ−ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (59)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−イソプロピ
ル−７−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エ
チル］−キサンチン二臭化水素酸塩 (60)１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−８
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ヒポキサン
チン二臭化水素酸塩
【０１０９】(61)２−（４−アミジノ−フェニル）−９
−（４−カルボキシ−ブチル）−８，10−ジオキソ−
５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３
−ｃｄ］プリン二臭化水素酸塩 融点：40℃から焼結 Ｒf 値：0.68（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (62)２−（４−アミジノ−フェニル）−８−（４−カル
ボキシ−ブチル）−７，９−ジオキソ−４，５−ジヒド
ロ−８Ｈ−イミダゾ［１，２，３−ｃｄ］プリン二臭化
水素酸塩 (63)９−（４−カルボキシ−ブチル）−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−８，10−ジオキソ−５，
６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃ
ｄ］プリン二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.72（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (64)８−（トランス−４−アミノメチル−シクロヘキシ
ル）−１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−
キサンチン二塩酸塩 出発物質は８−［トランス−４−（ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−メチル）シクロヘキシル］−１−（４−
エトキシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチ
ンであり、(48)と同じ操作を使用する。 融点：248 ℃（分解） Ｒf 値：0.59（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (65)１−（２−カルボキシ−エチル）−３，９−ジメチ
ル−８−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−キサ
ンチン二塩酸塩 (64)と同じ操作を使用する。 融点：122 ℃（分解） Ｒf 値：0.61（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
−（４−カルボキシ−ブチル）−８，10−ジオキソ−
５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３
−ｃｄ］プリン二臭化水素酸塩 融点：40℃から焼結 Ｒf 値：0.68（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (62)２−（４−アミジノ−フェニル）−８−（４−カル
ボキシ−ブチル）−７，９−ジオキソ−４，５−ジヒド
ロ−８Ｈ−イミダゾ［１，２，３−ｃｄ］プリン二臭化
水素酸塩 (63)９−（４−カルボキシ−ブチル）−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−８，10−ジオキソ−５，
６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃ
ｄ］プリン二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.72（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (64)８−（トランス−４−アミノメチル−シクロヘキシ
ル）−１−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル−
キサンチン二塩酸塩 出発物質は８−［トランス−４−（ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−メチル）シクロヘキシル］−１−（４−
エトキシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチ
ンであり、(48)と同じ操作を使用する。 融点：248 ℃（分解） Ｒf 値：0.59（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (65)１−（２−カルボキシ−エチル）−３，９−ジメチ
ル−８−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−キサ
ンチン二塩酸塩 (64)と同じ操作を使用する。 融点：122 ℃（分解） Ｒf 値：0.61（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１１０】(66)８−（４−アミジノ−フェニル）−１
−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−キサンチ
ン二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.48（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (67)５−（２−カルボキシ−エテニル）−１−メチル−
２−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベンゾイ
ミダゾール二臭化水素酸塩 融点：250 ℃より高い Ｒf 値：0.67（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (68)５−（２−カルボキシ−エチル）−１−メチル−２
−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベンゾイミ
ダゾール二臭化水素酸塩 融点：256 ℃（分解） Ｒf 値：0.67（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (69)５−（２−カルボキシ−エチル）−１−メチル−２
−（４−ピペラジノ−フェニル）−ベンゾイミダゾール
三臭化水素酸塩 (70)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−２−クロロ−９−メチル−ヒポキサ
ンチン二塩酸塩 濃塩酸を使用し、処理を室温で行う。 Ｒf 値：0.54（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (71)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−メチル−ヒポキサンチン二塩酸
塩 (70)と同じ操作を使用する。 Ｒf 値：0.71（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
−（４−カルボキシ−ブチル）−９−メチル−キサンチ
ン二臭化水素酸塩 Ｒf 値：0.48（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (67)５−（２−カルボキシ−エテニル）−１−メチル−
２−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベンゾイ
ミダゾール二臭化水素酸塩 融点：250 ℃より高い Ｒf 値：0.67（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (68)５−（２−カルボキシ−エチル）−１−メチル−２
−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベンゾイミ
ダゾール二臭化水素酸塩 融点：256 ℃（分解） Ｒf 値：0.67（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (69)５−（２−カルボキシ−エチル）−１−メチル−２
−（４−ピペラジノ−フェニル）−ベンゾイミダゾール
三臭化水素酸塩 (70)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−２−クロロ−９−メチル−ヒポキサ
ンチン二塩酸塩 濃塩酸を使用し、処理を室温で行う。 Ｒf 値：0.54（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (71)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−メチル−ヒポキサンチン二塩酸
塩 (70)と同じ操作を使用する。 Ｒf 値：0.71（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１１１】実施例２ ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール 10％のパラジウム／木炭0.1gの存在下でメタノール20ml
中の２−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−５−［（２−メトキシカル
ボニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチルベ
ンゾイミダゾール1gを周囲温度で６時間にわたって４バ
ールの水素で処理する。触媒を濾別した後、その混合物
を減圧で蒸発させる。 収量：0.7g（理論値の97％) 、 Ｒf 値：0.68（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
ルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール 10％のパラジウム／木炭0.1gの存在下でメタノール20ml
中の２−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−５−［（２−メトキシカル
ボニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチルベ
ンゾイミダゾール1gを周囲温度で６時間にわたって４バ
ールの水素で処理する。触媒を濾別した後、その混合物
を減圧で蒸発させる。 収量：0.7g（理論値の97％) 、 Ｒf 値：0.68（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１１２】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−アミノカルボニル］−ベンゾイミダゾール 20％のパラジウム／木炭を使用し、メタノール性塩酸を
添加して２−［（１−ベンジル−４−ピペリジニル）−
アミノカルボニル］−５−［（２−メトキシカルボニル
−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−ベンゾ
イミダゾールから得た。 Ｒf 値：0.56（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (2) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［１−（４−ピペリ
ジニル）−２−プロピル］−ベンゾイミダゾール (3) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−プロピル］−ベンゾイミダゾール (4) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−オキシメチル］−ベンゾイミダゾール (5) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−アミノメチル］−ベンゾイミダゾール
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−アミノカルボニル］−ベンゾイミダゾール 20％のパラジウム／木炭を使用し、メタノール性塩酸を
添加して２−［（１−ベンジル−４−ピペリジニル）−
アミノカルボニル］−５−［（２−メトキシカルボニル
−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−ベンゾ
イミダゾールから得た。 Ｒf 値：0.56（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (2) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［１−（４−ピペリ
ジニル）−２−プロピル］−ベンゾイミダゾール (3) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−プロピル］−ベンゾイミダゾール (4) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−オキシメチル］−ベンゾイミダゾール (5) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−アミノメチル］−ベンゾイミダゾール
【０１１３】(6) ５−［（２−メトキシカルボニル−エ
チル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［Ｎ−
メチル−Ｎ−（４−ピペリジニルメチル）−アミノ］−
ベンゾイミダゾール (7) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［［Ｎ−メチル−Ｎ
−（４−ピペリジニル）−アミノ］−メチル］−ベンゾ
イミダゾール (8) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−メチルチオ］−ベンゾイミダゾール (9) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［４−（４−ピペリ
ジニル）−ブチル］−ベンゾイミダゾール (10)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［３−（４−ピペリ
ジニル）−プロピル］−ベンゾイミダゾール
チル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［Ｎ−
メチル−Ｎ−（４−ピペリジニルメチル）−アミノ］−
ベンゾイミダゾール (7) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［［Ｎ−メチル−Ｎ
−（４−ピペリジニル）−アミノ］−メチル］−ベンゾ
イミダゾール (8) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニ
ル）−メチルチオ］−ベンゾイミダゾール (9) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［４−（４−ピペリ
ジニル）−ブチル］−ベンゾイミダゾール (10)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［３−（４−ピペリ
ジニル）−プロピル］−ベンゾイミダゾール
【０１１４】(11)５−［（２−メトキシカルボニル−エ
チル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−（２−
ピペラジノ−エチル）−ベンゾイミダゾール (12)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（２−メチル
−ピペラジノ）−エチル］−ベンゾイミダゾール (13)５−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−１−メ
チル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベ
ンゾイミダゾール (14)５−（４−イソプロピルオキシカルボニル−１−オ
キソ−ブチル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール Ｒf 値：0.31（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (15)５−［（２−メトキシカルボニル−プロピル）−ア
ミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
チル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−（２−
ピペラジノ−エチル）−ベンゾイミダゾール (12)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（２−メチル
−ピペラジノ）−エチル］−ベンゾイミダゾール (13)５−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−１−メ
チル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベ
ンゾイミダゾール (14)５−（４−イソプロピルオキシカルボニル−１−オ
キソ−ブチル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール Ｒf 値：0.31（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (15)５−［（２−メトキシカルボニル−プロピル）−ア
ミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
【０１１５】(16)５−［（３−メトキシカルボニル−プ
ロピル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２
−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾー
ル (17)６−メトキシ−５−［（２−メトキシカルボニル−
エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２
−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾー
ル (18)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−６−メチルアミノ−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール (19)６−ジメチルアミノ−５−［（２−メトキシカルボ
ニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミ
ダゾール (20)６−ヒドロキシ−５−［（２−メトキシカルボニル
−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール
ロピル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２
−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾー
ル (17)６−メトキシ−５−［（２−メトキシカルボニル−
エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２
−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾー
ル (18)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−６−メチルアミノ−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール (19)６−ジメチルアミノ−５−［（２−メトキシカルボ
ニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２
−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミ
ダゾール (20)６−ヒドロキシ−５−［（２−メトキシカルボニル
−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール
【０１１６】(21)６−アミノ−５−［（２−メトキシカ
ルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル
−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾ
イミダゾール (22)５(6) −［（２−メトキシカルボニル−エチル）−
アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール (23)６−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (24)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−（４−フェニル−ブチル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール (25)１−［２−（３，４−ジメトキシ−フェニル）−エ
チル］−５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−
アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール
ルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル
−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾ
イミダゾール (22)５(6) −［（２−メトキシカルボニル−エチル）−
アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール (23)６−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (24)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−（４−フェニル−ブチル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール (25)１−［２−（３，４−ジメトキシ−フェニル）−エ
チル］−５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−
アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリジニル）
−エチル］−ベンゾイミダゾール
【０１１７】(26)１−ｎ−ブチル−５−［（２−メトキ
シカルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール (27)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−（３−モルホリノ−プロピル）−
２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイ
ミダゾール (28)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−［３−（４−メチル−ピペラジ
ノ）−プロピル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ベンゾイミダゾール (29)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−（３−ピペラジノ−プロピル）−
２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイ
ミダゾール (30)１−（２−アミノ−エチル）−５−［（２−メトキ
シカルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール
シカルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール (27)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−（３−モルホリノ−プロピル）−
２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイ
ミダゾール (28)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−［３−（４−メチル−ピペラジ
ノ）−プロピル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ベンゾイミダゾール (29)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−（３−ピペラジノ−プロピル）−
２−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイ
ミダゾール (30)１−（２−アミノ−エチル）−５−［（２−メトキ
シカルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾール
【０１１８】(31)５−［（２−メトキシカルボニル−エ
チル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾオキサゾール (32)６−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−３−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−イミダゾ［４，５ｂ］ピリジン (33)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−カル
ボニルアミノ］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (34)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノスルホニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (35)３，９−ジメチル−１−（４−エトキシカルボニル
−ブチル）−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−キサンチン Ｒf 値：0.41（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
チル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾオキサゾール (32)６−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−３−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−イミダゾ［４，５ｂ］ピリジン (33)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−カル
ボニルアミノ］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (34)５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノスルホニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (35)３，９−ジメチル−１−（４−エトキシカルボニル
−ブチル）−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−キサンチン Ｒf 値：0.41（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１１９】(36)３，７−ジメチル−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−８−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−キサンチン 融点：206 〜208 ℃（205 ℃から焼結） Ｒf 値：0.34（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (37)３，９−ジメチル−１−（３−メトキシカルボニル
−プロピル）−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−キサンチン (38)３，９−ジメチル−１−（５−メトキシカルボニル
−ペンチル）−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−キサンチン (39)１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メ
チル−９−（２−モルホリノ−エチル）−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (40)１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−
（２−メトキシ−エチル）−３−メチル−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン
シカルボニル−ブチル）−８−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−キサンチン 融点：206 〜208 ℃（205 ℃から焼結） Ｒf 値：0.34（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (37)３，９−ジメチル−１−（３−メトキシカルボニル
−プロピル）−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−キサンチン (38)３，９−ジメチル−１−（５−メトキシカルボニル
−ペンチル）−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−キサンチン (39)１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メ
チル−９−（２−モルホリノ−エチル）−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (40)１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−
（２−メトキシ−エチル）−３−メチル−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン
【０１２０】(41)１−（４−メトキシカルボニル−ブチ
ル）−３−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−キサンチン (42)３−ｎ−ブチル−１−（４−メトキシカルボニル−
ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−キサンチン (43)１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メ
トキシカルボニルメチル−９−メチル−８−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (44)３−アミノカルボニルメチル−１−（４−メトキシ
カルボニル−ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (45)３−イソプロピル−１−（４−メトキシカルボニル
−ブチル）−７−メチル−８−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−キサンチン
ル）−３−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−キサンチン (42)３−ｎ−ブチル−１−（４−メトキシカルボニル−
ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−キサンチン (43)１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メ
トキシカルボニルメチル−９−メチル−８−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (44)３−アミノカルボニルメチル−１−（４−メトキシ
カルボニル−ブチル）−９−メチル−８−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (45)３−イソプロピル−１−（４−メトキシカルボニル
−ブチル）−７−メチル−８−［２−（４−ピペリジニ
ル）−エチル］−キサンチン
【０１２１】(46)１−（４−メトキシカルボニル−ブチ
ル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ヒポキサンチン (47)９−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−８，10−ジオ
キソ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，
２，３−ｃｄ］プリン Ｒf 値：0.03（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) (48)８−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−７，９−ジオ
キソ−８Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］プリン (49)６−（３−メトキシカルボニル−プロピルオキシ）
−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール (50)６−（３−メトキシカルボニル−プロピルチオ）−
１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール
ル）−９−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ヒポキサンチン (47)９−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−８，10−ジオ
キソ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，
２，３−ｃｄ］プリン Ｒf 値：0.03（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) (48)８−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−７，９−ジオ
キソ−８Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］プリン (49)６−（３−メトキシカルボニル−プロピルオキシ）
−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール (50)６−（３−メトキシカルボニル−プロピルチオ）−
１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール
【０１２２】(51)６−（３−メトキシカルボニル−プロ
ピルスルホニル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (52)１−シクロプロピル−５−［（２−メトキシカルボ
ニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (53)１−シクロヘキシル−５−［（２−メトキシカルボ
ニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (54)９−シクロプロピル−１−（４−メトキシカルボニ
ル−ブチル）−３−メチル−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチン (55)１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−３−メ
チル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キ
サンチン二塩酸塩 処理をエタノール中で行う。 融点：185 ℃（155 ℃から分解開始） Ｒf 値：0.38（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=8:2:0.1)
ピルスルホニル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (52)１−シクロプロピル−５−［（２−メトキシカルボ
ニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (53)１−シクロヘキシル−５−［（２−メトキシカルボ
ニル−エチル）−アミノカルボニル］−２−［２−（４
−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (54)９−シクロプロピル−１−（４−メトキシカルボニ
ル−ブチル）−３−メチル−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチン (55)１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−３−メ
チル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キ
サンチン二塩酸塩 処理をエタノール中で行う。 融点：185 ℃（155 ℃から分解開始） Ｒf 値：0.38（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=8:2:0.1)
【０１２３】実施例３ ２−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペ
リジニル）−エチル］−５−［（２−メトキシカルボニ
ル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−ベン
ゾイミダゾール 2.5gの３−アミノ−４−メチルアミノ−安息香酸−［Ｎ
−（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミド］［Ｒ
f 値：0.28（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=50:
2)；４−クロロ−３−ニトロ−ベンゾイルクロリドとβ
−アラニンから、1Nの水酸化ナトリウム溶液中で反応さ
せて４−クロロ−３−ニトロ−安息香酸−［Ｎ−（２−
カルボキシエチル）−アミド］（融点：165 〜167 ℃）
を得、この生成物を加圧容器中で50℃で40％のメチルア
ミン水溶液と反応させて４−メチルアミノ−３−ニトロ
−安息香酸−［Ｎ−（２−カルボキシ−エチル）−アミ
ド］（融点：187 〜189 ℃）を得、メタノール／エーテ
ル性塩酸でエステル化して４−メチルアミノ−３−ニト
ロ−安息香酸−［Ｎ−（２−メトキシカルボニル−エチ
ル）−アミド］（融点：125 〜127 ℃）を得、メタノー
ル中で10％のパラジウム／木炭の存在下で３バールの圧
力で周囲温度で水素で還元することにより調製した］、
塩化メチレン50ml、Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミン
1.74ml及び４−ジメチルアミノ−ピリジン0.1gの混合物
を、３−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペリ
ジニル）−プロピオニルクロリド3.1gと合わせ、その混
合物を周囲温度で16時間攪拌する。その混合物を減圧で
蒸発させ、酢酸エチル／希塩酸中に吸収させ、水相を酢
酸エチルで２回抽出する。酢酸エチル相を蒸発させ、残
渣を氷酢酸30mlに吸収させ、スチーム浴上で1.5 時間加
熱する。その混合物を減圧で蒸発させ、水を添加し、得
られる混合物を重炭酸ナトリウムの添加により中和す
る。それを酢酸エチルで抽出し、有機相を蒸発させ、残
渣をシリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／エタノール=10
0:1〜6:4)によるクロマトグラフィーにより精製する。 収量：1.2g（理論値の24％) 、 Ｒf 値：0.63（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
8:2)
リジニル）−エチル］−５−［（２−メトキシカルボニ
ル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−ベン
ゾイミダゾール 2.5gの３−アミノ−４−メチルアミノ−安息香酸−［Ｎ
−（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミド］［Ｒ
f 値：0.28（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=50:
2)；４−クロロ−３−ニトロ−ベンゾイルクロリドとβ
−アラニンから、1Nの水酸化ナトリウム溶液中で反応さ
せて４−クロロ−３−ニトロ−安息香酸−［Ｎ−（２−
カルボキシエチル）−アミド］（融点：165 〜167 ℃）
を得、この生成物を加圧容器中で50℃で40％のメチルア
ミン水溶液と反応させて４−メチルアミノ−３−ニトロ
−安息香酸−［Ｎ−（２−カルボキシ−エチル）−アミ
ド］（融点：187 〜189 ℃）を得、メタノール／エーテ
ル性塩酸でエステル化して４−メチルアミノ−３−ニト
ロ−安息香酸−［Ｎ−（２−メトキシカルボニル−エチ
ル）−アミド］（融点：125 〜127 ℃）を得、メタノー
ル中で10％のパラジウム／木炭の存在下で３バールの圧
力で周囲温度で水素で還元することにより調製した］、
塩化メチレン50ml、Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミン
1.74ml及び４−ジメチルアミノ−ピリジン0.1gの混合物
を、３−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペリ
ジニル）−プロピオニルクロリド3.1gと合わせ、その混
合物を周囲温度で16時間攪拌する。その混合物を減圧で
蒸発させ、酢酸エチル／希塩酸中に吸収させ、水相を酢
酸エチルで２回抽出する。酢酸エチル相を蒸発させ、残
渣を氷酢酸30mlに吸収させ、スチーム浴上で1.5 時間加
熱する。その混合物を減圧で蒸発させ、水を添加し、得
られる混合物を重炭酸ナトリウムの添加により中和す
る。それを酢酸エチルで抽出し、有機相を蒸発させ、残
渣をシリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／エタノール=10
0:1〜6:4)によるクロマトグラフィーにより精製する。 収量：1.2g（理論値の24％) 、 Ｒf 値：0.63（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
8:2)
【０１２４】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−２−［２−（１−メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル）−エチル］−１−メチル−ベンゾ
イミダゾール (2) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピリジ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (3) ２−［３−（１−イミダゾリル）−プロピル］−５
−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−メチル−ベンゾイミダゾール (4) ２−［（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペ
リジニル）−エチル］−５−（４−イソプロピルオキシ
カルボニル−１−オキソ−ブチル）−１−メチル−ベン
ゾイミダゾール Ｒf 値：0.62（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1) (5) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（１−メチル
−４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
ノカルボニル］−２−［２−（１−メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル）−エチル］−１−メチル−ベンゾ
イミダゾール (2) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピリジ
ル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (3) ２−［３−（１−イミダゾリル）−プロピル］−５
−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカル
ボニル］−１−メチル−ベンゾイミダゾール (4) ２−［（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペ
リジニル）−エチル］−５−（４−イソプロピルオキシ
カルボニル−１−オキソ−ブチル）−１−メチル−ベン
ゾイミダゾール Ｒf 値：0.62（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1) (5) ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミ
ノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（１−メチル
−４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール
【０１２５】実施例４ ２−［（１−ベンジル−４−ピペリジニル）−アミノカ
ルボニル］−５−［（２−メトキシカルボニル−エチ
ル）−アミノカルボニル］−１−メチル−ベンゾイミダ
ゾール ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−トリクロロメチル−ベン
ゾイミダゾール3.78g 、４−アミノ−１−ベンジル−ピ
ペリジン1.9g、重炭酸ナトリウム2.5g及び水40mlの混合
物をスチーム浴上で10時間加熱する。存在する固体生成
物を濾別し、水洗し、酢酸エチルで再結晶する。 収量：1.0g（理論値の22％) 、 融点：168 〜170 ℃ Ｒf 値：0.32（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
ルボニル］−５−［（２−メトキシカルボニル−エチ
ル）−アミノカルボニル］−１−メチル−ベンゾイミダ
ゾール ５−［（２−メトキシカルボニル−エチル）−アミノカ
ルボニル］−１−メチル−２−トリクロロメチル−ベン
ゾイミダゾール3.78g 、４−アミノ−１−ベンジル−ピ
ペリジン1.9g、重炭酸ナトリウム2.5g及び水40mlの混合
物をスチーム浴上で10時間加熱する。存在する固体生成
物を濾別し、水洗し、酢酸エチルで再結晶する。 収量：1.0g（理論値の22％) 、 融点：168 〜170 ℃ Ｒf 値：0.32（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3)
【０１２６】実施例５ ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチル−
１−（４−イソプロピルオキシカルボニル−ブチル）−
キサンチン二塩酸塩 ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カルボキ
シ−ブチル）−３，９−ジメチル−キサンチン0.15g を
イソプロパノール30ml中に懸濁させる。塩酸ガスを60分
間にわたってパイプ輸送し、その混合物を更に２時間攪
拌する。次いでそれを蒸発、乾燥させ、残渣をエーテル
ですり砕き、その後、無定形の固体生成物を得る。 収量：0.14g （理論値の72％) 、 Ｒf 値：0.38（シリカゲル；ｎ−ブタノール／氷酢酸／
水=4:1:2)
１−（４−イソプロピルオキシカルボニル−ブチル）−
キサンチン二塩酸塩 ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カルボキ
シ−ブチル）−３，９−ジメチル−キサンチン0.15g を
イソプロパノール30ml中に懸濁させる。塩酸ガスを60分
間にわたってパイプ輸送し、その混合物を更に２時間攪
拌する。次いでそれを蒸発、乾燥させ、残渣をエーテル
ですり砕き、その後、無定形の固体生成物を得る。 収量：0.14g （理論値の72％) 、 Ｒf 値：0.38（シリカゲル；ｎ−ブタノール／氷酢酸／
水=4:1:2)
【０１２７】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−［（２−イソブチルオキシカルボニル−エチ
ル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (2) ５−［（２−シクロヘキシルオキシカルボニル−エ
チル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (3) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−シク
ロヘキシルオキシカルボニル−ブチル）−３，９−ジメ
チル−キサンチン (4) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチ
ル−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサン
チン (5) ８−（トランス−４−アミノメチル−シクロヘキシ
ル）−１−（４−メトキシカルボニルブチル）−３−メ
チル−キサンチン二塩酸塩 その処理をエーテル性塩酸を添加したメタノール中で行
う。 融点：264 〜266 ℃（分解） Ｒf 値：0.49（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (6) ３，９−ジメチル−１−（２−メトキシ−カルボニ
ル−エチル）−８−［４−（４−ピペリジニル）−フェ
ニル］−キサンチン二塩酸塩 融点：120 ℃（分解） Ｒf 値：0.18（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
ル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (2) ５−［（２−シクロヘキシルオキシカルボニル−エ
チル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (3) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−シク
ロヘキシルオキシカルボニル−ブチル）−３，９−ジメ
チル−キサンチン (4) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチ
ル−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサン
チン (5) ８−（トランス−４−アミノメチル−シクロヘキシ
ル）−１−（４−メトキシカルボニルブチル）−３−メ
チル−キサンチン二塩酸塩 その処理をエーテル性塩酸を添加したメタノール中で行
う。 融点：264 〜266 ℃（分解） Ｒf 値：0.49（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (6) ３，９−ジメチル−１−（２−メトキシ−カルボニ
ル−エチル）−８−［４−（４−ピペリジニル）−フェ
ニル］−キサンチン二塩酸塩 融点：120 ℃（分解） Ｒf 値：0.18（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１２８】実施例６ ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カルボキ
シ−ブチル）−３，９−ジメチル−キサンチン ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチル−
（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン0.4
g、水５ml、1Nの水酸化リチウム５ml及びテトラヒドロ
フラン５mlを周囲温度で60分間攪拌する。テトラヒドロ
フランを減圧で蒸発させ、塩化アンモニウム0.27g を添
加し、その後、反応混合物を減圧でその容積の半分まで
蒸発させる。沈殿した固体生成物を少量の水で洗浄し、
次いでアセトン、エーテルで洗浄する。 収量：0.35g （理論値の99％) 、 融点：263 〜265 ℃（分解） Ｒf 値：0.49（シリカゲル；ブタノール／氷酢酸／水=
4:1:1.5)
シ−ブチル）−３，９−ジメチル−キサンチン ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチル−
（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン0.4
g、水５ml、1Nの水酸化リチウム５ml及びテトラヒドロ
フラン５mlを周囲温度で60分間攪拌する。テトラヒドロ
フランを減圧で蒸発させ、塩化アンモニウム0.27g を添
加し、その後、反応混合物を減圧でその容積の半分まで
蒸発させる。沈殿した固体生成物を少量の水で洗浄し、
次いでアセトン、エーテルで洗浄する。 収量：0.35g （理論値の99％) 、 融点：263 〜265 ℃（分解） Ｒf 値：0.49（シリカゲル；ブタノール／氷酢酸／水=
4:1:1.5)
【０１２９】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−オ
キシメチル］−ベンゾイミダゾール (2) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−６−メトキシ−１−メチル−２−［（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (3) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−［２−（３，４−ジメトキシ−フェニル）
−エチル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール (4) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−［２−（３，４−ジメトキシ−
フェニル）−エチル］−３−メチル−キサンチン (5) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−３−（３−メトキシ−プロピル）−
９−メチル−キサンチン
ニル］−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−オ
キシメチル］−ベンゾイミダゾール (2) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−６−メトキシ−１−メチル−２−［（４−ピペ
リジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (3) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−［２−（３，４−ジメトキシ−フェニル）
−エチル］−２−［２−（４−ピペリジニル）−エチ
ル］−ベンゾイミダゾール (4) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−［２−（３，４−ジメトキシ−
フェニル）−エチル］−３−メチル−キサンチン (5) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−３−（３−メトキシ−プロピル）−
９−メチル−キサンチン
【０１３０】(6) １−（４−カルボキシ−ブチル）−９
−（２−メトキシ−エチル）−３−メチル−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (7) ６−（３−カルボキシ−プロピルスルフィニル）−
１−メチル−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−
ベンゾイミダゾール (8) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−シクロプロピル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (9) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−シクロプロピル−３−メチル−
キサンチン (10)１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−シクロプロ
ピル−３−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−キサンチン (11)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−３，７−ジメチル−キサンチン二臭
化水素酸塩 融点：290 〜292 ℃（288 ℃から焼結） Ｒf 値：0.68（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4、２回展開した後) (12)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３，７−ジメチ
ル−８−［２−（４−ピペリジニル）エチル］−キサン
チン 融点：278 〜280 ℃（270 ℃から焼結） Ｒf 値：0.57（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
−（２−メトキシ−エチル）−３−メチル−８−［２−
（４−ピペリジニル）−エチル］−キサンチン (7) ６−（３−カルボキシ−プロピルスルフィニル）−
１−メチル−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−
ベンゾイミダゾール (8) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボ
ニル］−１−シクロプロピル−２−［２−（４−ピペリ
ジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール (9) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−９−シクロプロピル−３−メチル−
キサンチン (10)１−（４−カルボキシ−ブチル）−９−シクロプロ
ピル−３−メチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−キサンチン (11)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−カル
ボキシ−ブチル）−３，７−ジメチル−キサンチン二臭
化水素酸塩 融点：290 〜292 ℃（288 ℃から焼結） Ｒf 値：0.68（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4、２回展開した後) (12)１−（４−カルボキシ−ブチル）−３，７−ジメチ
ル−８−［２−（４−ピペリジニル）エチル］−キサン
チン 融点：278 〜280 ℃（270 ℃から焼結） Ｒf 値：0.57（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１３１】実施例７ ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチル−
１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン
塩酸塩・酢酸水素塩 ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン3.
3gをメタノール150 ml中に懸濁させ、-30 ℃に冷却す
る。温度を-5〜-10 ℃に保ちながら塩酸ガスを30分間パ
イプ輸送し、その混合物を周囲温度で16時間放置する。
その混合物を減圧で蒸発、乾燥させ、メタノールと共に
もう一度蒸発させる。残渣をメタノール150 mlに溶解
し、炭酸アンモニウムをそれに数回に分けて添加する。
得られる混合物を周囲温度で更に16時間攪拌し、エーテ
ル性塩酸でわずかに酸性にし、減圧で蒸発、乾燥させ
る。それを塩化メチレンですり砕き、得られた固体生成
物をシリカゲル（溶離剤：メタノール、次にメタノール
／2Nの酢酸=10:1)によるクロマトグラフィーにより精製
する。 収量：1.0g（理論値の24％) 、 融点：224 〜226 ℃（分解） Ｒf 値：0.37（シリカゲル；ｎ−ブタノール／氷酢酸／
水=4:1:2)
１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン
塩酸塩・酢酸水素塩 ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン3.
3gをメタノール150 ml中に懸濁させ、-30 ℃に冷却す
る。温度を-5〜-10 ℃に保ちながら塩酸ガスを30分間パ
イプ輸送し、その混合物を周囲温度で16時間放置する。
その混合物を減圧で蒸発、乾燥させ、メタノールと共に
もう一度蒸発させる。残渣をメタノール150 mlに溶解
し、炭酸アンモニウムをそれに数回に分けて添加する。
得られる混合物を周囲温度で更に16時間攪拌し、エーテ
ル性塩酸でわずかに酸性にし、減圧で蒸発、乾燥させ
る。それを塩化メチレンですり砕き、得られた固体生成
物をシリカゲル（溶離剤：メタノール、次にメタノール
／2Nの酢酸=10:1)によるクロマトグラフィーにより精製
する。 収量：1.0g（理論値の24％) 、 融点：224 〜226 ℃（分解） Ｒf 値：0.37（シリカゲル；ｎ−ブタノール／氷酢酸／
水=4:1:2)
【０１３２】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ８−（４−アミジノ−フェニル）−９−［２−
（３，４−ジメトキシ−フェニル）−エチル］−１−
（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キ
サンチン (2) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−３−メチル−９−（３−フ
ェニル−プロピル）−キサンチン (3) ８−（４−アミジノ−フェニル）−９−イソブチル
−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メチ
ル−キサンチン (4) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−３−メチル−９−（２−モ
ルホリノ−エチル）−キサンチン (5) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ベンジル−
１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル
−キサンチン
（３，４−ジメトキシ−フェニル）−エチル］−１−
（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キ
サンチン (2) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−３−メチル−９−（３−フ
ェニル−プロピル）−キサンチン (3) ８−（４−アミジノ−フェニル）−９−イソブチル
−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−メチ
ル−キサンチン (4) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−３−メチル−９−（２−モ
ルホリノ−エチル）−キサンチン (5) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ベンジル−
１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル
−キサンチン
【０１３３】(6) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１
−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル−
３−（３−フェニル−プロピル）−キサンチン (7) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ｎ−ブチル
−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−メチ
ル−キサンチン (8) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−３−（３−メトキシ−プロ
ピル）−９−メチル−キサンチン (9) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチ
ル−１−（４−メトキシカルボニル−ペンチル）−キサ
ンチン (10)８−（４−アミジノ−フェニル）−９−イソプロピ
ル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサン
チン
−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル−
３−（３−フェニル−プロピル）−キサンチン (7) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３−ｎ−ブチル
−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−９−メチ
ル−キサンチン (8) ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−３−（３−メトキシ−プロ
ピル）−９−メチル−キサンチン (9) ８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−ジメチ
ル−１−（４−メトキシカルボニル−ペンチル）−キサ
ンチン (10)８−（４−アミジノ−フェニル）−９−イソプロピ
ル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサン
チン
【０１３４】(11)８−（４−アミジノ−フェニル）−
３，７−ジメチル−１−（４−メトキシカルボニル−ブ
チル）−キサンチン 融点：248 〜250 ℃（分解） Ｒf 値：0.43（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=3:1:0.1、２回展開した後) (12)２−（４−アミジノ−フェニル）−９−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６
−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃ
ｄ］プリン 融点：105 ℃から分解 Ｒf 値：0.38（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (13)２−（４−アミジノ−フェニル）−８−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−７，９−ジオキソ−４，５
−ジヒドロ−８Ｈ−イミダゾ［１，２，３−ｃｄ］プリ
ン (14)８−（４−アミジノ−フェニル）−９−シクロプロ
ピル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−キサンチン (15)８−（４−アミジノ−フェニル）−９−シクロヘキ
シル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−キサンチン (16)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−９−メチルキサンチン 融点：225 ℃（分解、202 ℃から焼結） Ｒf 値：0.35（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (17)８−（４−アミジノ−フェニル）−２−クロロ−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル−
ヒポキサンチン エタノール性塩酸を使用する。 Ｒf 値：0.30（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
３，７−ジメチル−１−（４−メトキシカルボニル−ブ
チル）−キサンチン 融点：248 〜250 ℃（分解） Ｒf 値：0.43（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=3:1:0.1、２回展開した後) (12)２−（４−アミジノ−フェニル）−９−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６
−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃ
ｄ］プリン 融点：105 ℃から分解 Ｒf 値：0.38（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (13)２−（４−アミジノ−フェニル）−８−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−７，９−ジオキソ−４，５
−ジヒドロ−８Ｈ−イミダゾ［１，２，３−ｃｄ］プリ
ン (14)８−（４−アミジノ−フェニル）−９−シクロプロ
ピル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−キサンチン (15)８−（４−アミジノ−フェニル）−９−シクロヘキ
シル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−キサンチン (16)８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−９−メチルキサンチン 融点：225 ℃（分解、202 ℃から焼結） Ｒf 値：0.35（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) (17)８−（４−アミジノ−フェニル）−２−クロロ−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル−
ヒポキサンチン エタノール性塩酸を使用する。 Ｒf 値：0.30（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１３５】実施例８ ３，９−ジメチル−８−［４−（Ｎ−メトキシカルボニ
ル−アミジノ）−フェニル］−１−（４−メトキシカル
ボニル−ブチル）−キサンチン 水酸化ナトリウム溶液を添加し、激しく攪拌して塩化メ
チレン中で８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−
ジメチル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−
キサンチンとメチルクロロホルメートから調製した。
ル−アミジノ）−フェニル］−１−（４−メトキシカル
ボニル−ブチル）−キサンチン 水酸化ナトリウム溶液を添加し、激しく攪拌して塩化メ
チレン中で８−（４−アミジノ−フェニル）−３，９−
ジメチル−１−（４−メトキシカルボニル−ブチル）−
キサンチンとメチルクロロホルメートから調製した。
【０１３６】実施例９ ８−［２−（１−アセトキシメトキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−１−
（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミンの存在下で周囲温度
で塩化メチレン中で３，９−ジメチル−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチンとアセトキシメチル−
（４−ニトロ−フェニル）−カーボネートから調製し
た。同様にして下記の化合物を得る。 ２−［２−（１−アセトキシメチルオキシカルボニル−
４−ピペリジニル）−エチル］−５−［（２−メトキシ
カルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチ
ル−ベンゾイミダゾール
ピペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−１−
（４−メトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン Ｎ−エチル−ジイソプロピルアミンの存在下で周囲温度
で塩化メチレン中で３，９−ジメチル−１−（４−メト
キシカルボニル−ブチル）−８−［２−（４−ピペリジ
ニル）−エチル］−キサンチンとアセトキシメチル−
（４−ニトロ−フェニル）−カーボネートから調製し
た。同様にして下記の化合物を得る。 ２−［２−（１−アセトキシメチルオキシカルボニル−
４−ピペリジニル）−エチル］−５−［（２−メトキシ
カルボニル−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチ
ル−ベンゾイミダゾール
【０１３７】実施例10 ６−（３−メトキシカルボニル−プロピルスルフィニ
ル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ベンゾイミダゾール 氷で冷却しながら氷酢酸中で６−（３−メトキシカルボ
ニル−プロピルチオ）−１−メチル−２−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾールと30％
の過酸化水素から調製した。
ル）−１−メチル−２−［２−（４−ピペリジニル）−
エチル］−ベンゾイミダゾール 氷で冷却しながら氷酢酸中で６−（３−メトキシカルボ
ニル−プロピルチオ）−１−メチル−２−［２−（４−
ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾールと30％
の過酸化水素から調製した。
【０１３８】実施例11 ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−キ
サンチン4.5gを80℃でジメチルスルホキシドに溶解し、
炭酸カリウム2.3gを添加し、その混合物を80℃で２時間
攪拌する。それを冷却し、エチル５−ブロモ−バレリエ
ート2.6 mlを滴下して添加し、得られる混合物を攪拌し
ながら80℃に４時間加熱する。溶媒を減圧で蒸発させ、
残渣を酢酸エチル250 mlと水150 mlの混合物に吸収させ
る。水相を分離し、酢酸エチル100 mlでもう２回抽出
し、合わせた有機相を蒸発させる。残渣をシリカゲル
（溶離剤：酢酸エチル）によるカラムクロマトグラフィ
ーにより精製する。 収量：3.4g（理論値の52％) 、 融点：148 〜150 ℃ Ｒf 値：0.69（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1)
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−キ
サンチン4.5gを80℃でジメチルスルホキシドに溶解し、
炭酸カリウム2.3gを添加し、その混合物を80℃で２時間
攪拌する。それを冷却し、エチル５−ブロモ−バレリエ
ート2.6 mlを滴下して添加し、得られる混合物を攪拌し
ながら80℃に４時間加熱する。溶媒を減圧で蒸発させ、
残渣を酢酸エチル250 mlと水150 mlの混合物に吸収させ
る。水相を分離し、酢酸エチル100 mlでもう２回抽出
し、合わせた有機相を蒸発させる。残渣をシリカゲル
（溶離剤：酢酸エチル）によるカラムクロマトグラフィ
ーにより精製する。 収量：3.4g（理論値の52％) 、 融点：148 〜150 ℃ Ｒf 値：0.69（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1)
【０１３９】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−１−
（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン カリウムtert. ブトキシドを使用する。反応の長さ：６
時間。 Ｒf 値：0.24（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=19:1) (2) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−９−（４−エトキシカルボ
ニル−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６−ジヒドロ
−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］プリン (1) と同じ操作を使用する。 Ｒf 値：0.84（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) (3) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−１−（４−エトキシカルボ
ニル−ブチル）−２−［（４−エトキシカルボニル−ブ
チル）−オキシ］−９−イソプロピル−１Ｈ−プリン−
６−オン ジメチルホルムアミドを溶媒として使用し、最初に等モ
ル量のカリウムtert.ブトキシド、エチル５−ブロモ−
バレリエート及び８−［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−９−イソプロ
ピル−キサンチンを使用し、得られる混合物を80℃に16
時間加熱し、１当量のエチル５−ブロモ−バレリエート
及び１当量の炭酸カリウムを添加し、その混合物を80℃
で更に５時間攪拌する。 Ｒf 値：0.24（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=19:1)
ピペリジニル）−エチル］−３，９−ジメチル−１−
（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン カリウムtert. ブトキシドを使用する。反応の長さ：６
時間。 Ｒf 値：0.24（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=19:1) (2) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−９−（４−エトキシカルボ
ニル−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６−ジヒドロ
−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］プリン (1) と同じ操作を使用する。 Ｒf 値：0.84（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
7:3) (3) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−１−（４−エトキシカルボ
ニル−ブチル）−２−［（４−エトキシカルボニル−ブ
チル）−オキシ］−９−イソプロピル−１Ｈ−プリン−
６−オン ジメチルホルムアミドを溶媒として使用し、最初に等モ
ル量のカリウムtert.ブトキシド、エチル５−ブロモ−
バレリエート及び８−［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−９−イソプロ
ピル−キサンチンを使用し、得られる混合物を80℃に16
時間加熱し、１当量のエチル５−ブロモ−バレリエート
及び１当量の炭酸カリウムを添加し、その混合物を80℃
で更に５時間攪拌する。 Ｒf 値：0.24（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=19:1)
【０１４０】(4) ８−（４−シアノ−フェニル）−３，
７−ジメチル−１−（４−エトキシカルボニル−ブチ
ル）−キサンチン ジメチルホルムアミドを使用する。 融点：98〜99℃ Ｒf 値：0.83（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1) (5) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−３，７−ジメチル−１−
（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン ジメチルホルムアミド中のカリウムtert. ブトキシドを
使用する。 Ｒf 値：0.36（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=19:1:0.1) (6) ８−［４−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−フェニル］−３，９−ジメチル−１−
（２−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン その処理を、エチルアクリレートを使用してジメチルホ
ルムアミド中で行う。 融点：208 〜210 ℃ Ｒf 値：0.75（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1)
７−ジメチル−１−（４−エトキシカルボニル−ブチ
ル）−キサンチン ジメチルホルムアミドを使用する。 融点：98〜99℃ Ｒf 値：0.83（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1) (5) ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−エチル］−３，７−ジメチル−１−
（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン ジメチルホルムアミド中のカリウムtert. ブトキシドを
使用する。 Ｒf 値：0.36（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=19:1:0.1) (6) ８−［４−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−フェニル］−３，９−ジメチル−１−
（２−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン その処理を、エチルアクリレートを使用してジメチルホ
ルムアミド中で行う。 融点：208 〜210 ℃ Ｒf 値：0.75（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=19:1:0.1)
【０１４１】実施例12 ８−［２−（１−ベンジルオキシカルボニル−４−ピペ
リジニル）−エチル］−１−（４−エトキシカルボニル
−ブチル）−３−メチル−キサンチン a)４−アミノ−５−［［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］カルボニルアミ
ノ］−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ジメチルホルムアミド250 ml中の１−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−（２−エトキシカルボニル−ブチル）−
ピペリジン9.9g、４，５−ジアミノ−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピ
リミジン−２，６−ジオン9.7g及びトリエチルアミン4.
8 mlの溶液を、Ｏ−（１Ｈ−１−ベンゾトリアゾリル）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム−テト
ラフルオロボレート11g と合わせ、周囲温度で2.5 時間
攪拌する。その混合物を蒸発させ、残渣を水300 ml、テ
トラヒドロフラン200 ml及びエーテル200 mlの混合物と
共に攪拌し、有機相を蒸発させる。それをエーテルです
り砕き、生成した固体生成物を濾別し、温かいアセトン
に溶解し、エーテルで沈殿させる。 収量：12g （理論値の62％) 、 融点：114 〜115 ℃ Ｒf 値：0.37（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1、２回展開した後)
リジニル）−エチル］−１−（４−エトキシカルボニル
−ブチル）−３−メチル−キサンチン a)４−アミノ−５−［［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］カルボニルアミ
ノ］−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン ジメチルホルムアミド250 ml中の１−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−（２−エトキシカルボニル−ブチル）−
ピペリジン9.9g、４，５−ジアミノ−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピ
リミジン−２，６−ジオン9.7g及びトリエチルアミン4.
8 mlの溶液を、Ｏ−（１Ｈ−１−ベンゾトリアゾリル）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム−テト
ラフルオロボレート11g と合わせ、周囲温度で2.5 時間
攪拌する。その混合物を蒸発させ、残渣を水300 ml、テ
トラヒドロフラン200 ml及びエーテル200 mlの混合物と
共に攪拌し、有機相を蒸発させる。それをエーテルです
り砕き、生成した固体生成物を濾別し、温かいアセトン
に溶解し、エーテルで沈殿させる。 収量：12g （理論値の62％) 、 融点：114 〜115 ℃ Ｒf 値：0.37（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1、２回展開した後)
【０１４２】(b) ８−［２−（１−ベンジルオキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−１−（４−エ
トキシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチン ４−アミノ−５−［［２−（１−ベンジルオキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル）−エチル］カルボニルアミ
ノ］−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン10g
を275 ℃に15分間加熱する。４−ジメチルアミノ−ピリ
ジン0.1gを添加し、その混合物を275 ℃に更に10分間加
熱する。生成物をシリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／エ
タノール=9:1) によるクロマトグラフィーにより精製す
る。 収量：6.4g（理論値の66％) 、 融点：99〜100 ℃ Ｒf 値：0.68（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1)
ボニル−４−ピペリジニル）−エチル］−１−（４−エ
トキシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチン ４−アミノ−５−［［２−（１−ベンジルオキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル）−エチル］カルボニルアミ
ノ］−１−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−３−
メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６−ジオン10g
を275 ℃に15分間加熱する。４−ジメチルアミノ−ピリ
ジン0.1gを添加し、その混合物を275 ℃に更に10分間加
熱する。生成物をシリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／エ
タノール=9:1) によるクロマトグラフィーにより精製す
る。 収量：6.4g（理論値の66％) 、 融点：99〜100 ℃ Ｒf 値：0.68（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1)
【０１４３】同様にして下記の化合物を得る。 (1) ８−［トランス−４−（ベンジルオキシカルボニル
アミノ−メチル）−シクロヘキシル］−１−（４−エト
キシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチン a)４−アミノ−５−［［トランス−４−（ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−メチル）−シクロヘキシル］−カ
ルボニルアミノ］−１−（４−エトキシカルボニル−ブ
チル）−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６
−ジオン 融点：152 〜154 ℃（149 ℃から焼結） Ｒf 値：0.41（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1) b)８−［トランス−４−（ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−メチル）−シクロヘキシル］−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチン 融点：155 〜156 ℃ Ｒf 値：0.58（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=19:1 、２回展開した後） (2) ８−（４−シアノ−フェニル）−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−９−メチル−キサンチン 混合物を４−ジメチルアミノ−ピリジンの存在下で250
℃に10分間加熱する。 融点：250 ℃より高い Ｒf 値：0.58（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=9:1) (3) ２−（４−シアノ−フェニル）−９−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６−
ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］
プリン 混合物を295 〜300 ℃で15分間加熱する。 融点：140 ℃ Ｒf 値：0.59（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1)
アミノ−メチル）−シクロヘキシル］−１−（４−エト
キシカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチン a)４−アミノ−５−［［トランス−４−（ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−メチル）−シクロヘキシル］−カ
ルボニルアミノ］−１−（４−エトキシカルボニル−ブ
チル）−３−メチル−１Ｈ，３Ｈ−ピリミジン−２，６
−ジオン 融点：152 〜154 ℃（149 ℃から焼結） Ｒf 値：0.41（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=9:1:0.1) b)８−［トランス−４−（ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−メチル）−シクロヘキシル］−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−３−メチル−キサンチン 融点：155 〜156 ℃ Ｒf 値：0.58（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=19:1 、２回展開した後） (2) ８−（４−シアノ−フェニル）−１−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−９−メチル−キサンチン 混合物を４−ジメチルアミノ−ピリジンの存在下で250
℃に10分間加熱する。 融点：250 ℃より高い Ｒf 値：0.58（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
=9:1) (3) ２−（４−シアノ−フェニル）−９−（４−エトキ
シカルボニル−ブチル）−８，10−ジオキソ−５，６−
ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３−ｃｄ］
プリン 混合物を295 〜300 ℃で15分間加熱する。 融点：140 ℃ Ｒf 値：0.59（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／氷酢酸=9:1:0.1)
【０１４４】実施例13 ３，９−ジメチル−１−（４−エトキシカルボニル−ブ
チル）−８−［４−（Ｎ−ヒドロキシ−アミジノ）−フ
ェニル］−キサンチン ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン2
0.5g をメタノール1000ml中に懸濁させ、ヒドロキシル
アミン塩酸塩10g 及びＮ，Ｎ−ジイソプロピル−エチル
アミン17.5mlと合わせる。その混合物を４時間還流さ
せ、蒸発させ、残渣を氷水300 mlですり砕く。固体生成
物を乾燥させ、次いでメタノール35mlで洗浄し、エーテ
ルで洗浄する。 収量：19.7g （理論値の89％) 、 融点：226 〜228 ℃ Ｒf 値：0.39（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=15:1:0.1 、２回展開した後）
チル）−８−［４−（Ｎ−ヒドロキシ−アミジノ）−フ
ェニル］−キサンチン ８−（４−シアノ−フェニル）−３，９−ジメチル−１
−（４−エトキシカルボニル−ブチル）−キサンチン2
0.5g をメタノール1000ml中に懸濁させ、ヒドロキシル
アミン塩酸塩10g 及びＮ，Ｎ−ジイソプロピル−エチル
アミン17.5mlと合わせる。その混合物を４時間還流さ
せ、蒸発させ、残渣を氷水300 mlですり砕く。固体生成
物を乾燥させ、次いでメタノール35mlで洗浄し、エーテ
ルで洗浄する。 収量：19.7g （理論値の89％) 、 融点：226 〜228 ℃ Ｒf 値：0.39（シリカゲル；塩化メチレン／メタノール
／濃アンモニア=15:1:0.1 、２回展開した後）
【０１４５】実施例14 ５−（２−メトキシカルボニル−エテニル）−１−メチ
ル−２−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベン
ゾイミダゾール ２−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−フェニル］−５−（２−メトキシカル
ボニル−エテニル）−１−メチル−ベンゾイミダゾール
1.7gを塩化メチレン10mlに溶解し、トリフルオロ酢酸10
mlと混合し、周囲温度で1.5 時間攪拌する。その混合物
を減圧で蒸発させ、重炭酸ナトリウム溶液で中和し、周
囲温度で２時間攪拌する。沈殿した固体生成物を濾別
し、減圧で100 ℃で乾燥させる。 収量：1.1g（理論値の82％）、 融点：205 ℃から焼結 Ｒf 値：0.52（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
ル−２−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベン
ゾイミダゾール ２−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−フェニル］−５−（２−メトキシカル
ボニル−エテニル）−１−メチル−ベンゾイミダゾール
1.7gを塩化メチレン10mlに溶解し、トリフルオロ酢酸10
mlと混合し、周囲温度で1.5 時間攪拌する。その混合物
を減圧で蒸発させ、重炭酸ナトリウム溶液で中和し、周
囲温度で２時間攪拌する。沈殿した固体生成物を濾別
し、減圧で100 ℃で乾燥させる。 収量：1.1g（理論値の82％）、 融点：205 ℃から焼結 Ｒf 値：0.52（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１４６】実施例15 ２−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボニル−４−
ピペリジニル）−フェニル］−５−（２−メトキシカル
ボニル−エテニル）−１−メチル−ベンゾイミダゾール メチル３−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボニル
−４−ピペリジニル）−ベンゾイルアミノ］−４−メチ
ルアミノ−シンナメート4gをスチーム浴上で氷酢酸250
ml中で２時間加熱する。その混合物を蒸発させ、酢酸エ
チル中に吸収させ、重炭酸ナトリウム溶液で洗浄する。
酢酸エチル相を蒸発させ、残渣をシリカゲル（溶離剤：
酢酸エチル／石油エーテル=6:4) によるカラムクロマト
グラフィーにより精製する。 収量：1.5g（理論値の40％）、 融点：177 〜179 ℃ Ｒf 値：0.55（シリカゲル；酢酸エチル／石油エーテル
=7:3)
ピペリジニル）−フェニル］−５−（２−メトキシカル
ボニル−エテニル）−１−メチル−ベンゾイミダゾール メチル３−［４−（１−tert. ブチルオキシカルボニル
−４−ピペリジニル）−ベンゾイルアミノ］−４−メチ
ルアミノ−シンナメート4gをスチーム浴上で氷酢酸250
ml中で２時間加熱する。その混合物を蒸発させ、酢酸エ
チル中に吸収させ、重炭酸ナトリウム溶液で洗浄する。
酢酸エチル相を蒸発させ、残渣をシリカゲル（溶離剤：
酢酸エチル／石油エーテル=6:4) によるカラムクロマト
グラフィーにより精製する。 収量：1.5g（理論値の40％）、 融点：177 〜179 ℃ Ｒf 値：0.55（シリカゲル；酢酸エチル／石油エーテル
=7:3)
【０１４７】実施例16 ５−（２−メトキシカルボニル−エチル）−１−メチル
−２−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベンゾ
イミダゾール 10％のパラジウム／木炭0.2gの存在下で周囲温度のメタ
ノール15ml中の５−（２−メトキシカルボニル−エテニ
ル）−１−メチル−２−［４−（４−ピペリジニル）−
フェニル］−ベンゾイミダゾール0.7gを４バールの水素
で３時間処理する。触媒を濾別し、濾液を蒸発させる。 収量：0.7g（理論値の100 ％）、 融点：138 〜140 ℃ Ｒf 値：0.56（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−（２−メトキシカルボニル−エチル）−１−メ
チル−２−（４−ピペラジノフェニル）−ベンゾイミダ
ゾール
−２−［４−（４−ピペリジニル）フェニル］−ベンゾ
イミダゾール 10％のパラジウム／木炭0.2gの存在下で周囲温度のメタ
ノール15ml中の５−（２−メトキシカルボニル−エテニ
ル）−１−メチル−２−［４−（４−ピペリジニル）−
フェニル］−ベンゾイミダゾール0.7gを４バールの水素
で３時間処理する。触媒を濾別し、濾液を蒸発させる。 収量：0.7g（理論値の100 ％）、 融点：138 〜140 ℃ Ｒf 値：0.56（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4) 同様にして下記の化合物を得る。 (1) ５−（２−メトキシカルボニル−エチル）−１−メ
チル−２−（４−ピペラジノフェニル）−ベンゾイミダ
ゾール
【０１４８】実施例17 ８−（４−シアノ−フェニル）−２−クロロ−１−（４
−エトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル−ヒポキ
サンチン ８−（４−シアノ−フェニル）−１−（４−エトキシカ
ルボニル−ブチル）−９−メチル−キサンチン4.5gをオ
キシ塩化リン50ml中で４時間還流させる。オキシ塩化リ
ンを減圧で蒸留して除き、残渣を塩化メチレン20mlに吸
収させる。それを水に注ぎ、重炭酸ナトリウムで中和
し、酢酸エチルで抽出し、蒸発後に、シリカゲル（溶離
剤：塩化メチレン／エタノール=100:1〜100:3)によるク
ロマトグラフィーにより精製する。 収量：2.5g（理論値の53％）、 Ｒf 値：0.52（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1)
−エトキシカルボニル−ブチル）−９−メチル−ヒポキ
サンチン ８−（４−シアノ−フェニル）−１−（４−エトキシカ
ルボニル−ブチル）−９−メチル−キサンチン4.5gをオ
キシ塩化リン50ml中で４時間還流させる。オキシ塩化リ
ンを減圧で蒸留して除き、残渣を塩化メチレン20mlに吸
収させる。それを水に注ぎ、重炭酸ナトリウムで中和
し、酢酸エチルで抽出し、蒸発後に、シリカゲル（溶離
剤：塩化メチレン／エタノール=100:1〜100:3)によるク
ロマトグラフィーにより精製する。 収量：2.5g（理論値の53％）、 Ｒf 値：0.52（シリカゲル；酢酸エチル／エタノール=
9:1)
【０１４９】実施例18 ８−（４−アミジノ−フェニル）−１−（４−エトキシ
カルボニル−ブチル）−９−メチル−ヒポキサンチン塩
酸塩 10％のパラジウム／木炭0.1gの存在下でエタノール10ml
とテトラヒドロフラン５mlの混合物中の８−（４−アミ
ジノ−フェニル）−２−クロロ−１−（４−エトキシカ
ルボニル−ブチル）−９−メチル−ヒポキサンチン0.2g
を40℃で２時間にわたって４バールの水素で処理する。
触媒を濾別し、濾液を蒸発させ、残渣を石油エーテルで
すり砕く。 収量：0.13g （理論値の65％）、 Ｒf 値：0.44（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
カルボニル−ブチル）−９−メチル−ヒポキサンチン塩
酸塩 10％のパラジウム／木炭0.1gの存在下でエタノール10ml
とテトラヒドロフラン５mlの混合物中の８−（４−アミ
ジノ−フェニル）−２−クロロ−１−（４−エトキシカ
ルボニル−ブチル）−９−メチル−ヒポキサンチン0.2g
を40℃で２時間にわたって４バールの水素で処理する。
触媒を濾別し、濾液を蒸発させ、残渣を石油エーテルで
すり砕く。 収量：0.13g （理論値の65％）、 Ｒf 値：0.44（逆相プレートRP18；メタノール／５％の
塩化ナトリウム溶液=6:4)
【０１５０】実施例19 １ml当たり活性物質2.5mg を含む乾燥アンプル 組成： 活性物質 2.5mg マンニトール 50.0mg 注射用の水 1.0mlまで添加 調製：活性物質及びマンニトールを水に溶解する。その
溶液をアンプルに移した後、それを凍結乾燥する。使用
の時点で、その溶液に注射用の水を補給する。
溶液をアンプルに移した後、それを凍結乾燥する。使用
の時点で、その溶液に注射用の水を補給する。
【０１５１】実施例20 ２ml当たり活性物質35 mg を含む乾燥アンプル 組成： 活性物質 35.0mg マンニトール 100.0mg 注射用の水 2.0mlまで添加 調製：活性物質及びマンニトールを水に溶解する。その
溶液をアンプルに移した後、それを凍結乾燥する。使用
の時点で、その溶液に注射用の水を補給する。
溶液をアンプルに移した後、それを凍結乾燥する。使用
の時点で、その溶液に注射用の水を補給する。
【０１５２】実施例21 調製：(1) 、(2) 及び(3) を一緒に混合し、(4) の水溶
液でグラニュールにする。(5) を乾燥グラニュールに添
加する。この混合物から、二層の(biplanar)、両面で刻
み、一面にノッチを付けた圧縮錠剤を製造する。錠剤の
直径：９mm。
液でグラニュールにする。(5) を乾燥グラニュールに添
加する。この混合物から、二層の(biplanar)、両面で刻
み、一面にノッチを付けた圧縮錠剤を製造する。錠剤の
直径：９mm。
【０１５３】実施例22 調製：(1) 、(2) 及び(3) を一緒に混合し、(4) の水溶
液でグラニュールにする。(5) を乾燥グラニュールに添
加する。この混合物から、二層の、両面で刻み、一面に
ノッチを付けた圧縮錠剤を製造する。錠剤の直径：12m
m。
液でグラニュールにする。(5) を乾燥グラニュールに添
加する。この混合物から、二層の、両面で刻み、一面に
ノッチを付けた圧縮錠剤を製造する。錠剤の直径：12m
m。
【０１５４】実施例23 調製：(1) を(3) と共にすり砕く。このすり砕いた物質
を(2) と(4) の混合物に添加し、充分に混合する。この
粉末混合物をカプセル充填機中でサイズ３の硬質ゼラチ
ンの細長いカプセルに詰める。
を(2) と(4) の混合物に添加し、充分に混合する。この
粉末混合物をカプセル充填機中でサイズ３の硬質ゼラチ
ンの細長いカプセルに詰める。
【０１５５】実施例24 調製：(1) を(3) と共にすり砕く。このすり砕いた物質
を(2) と(4) の混合物に添加し、充分に混合する。この
粉末混合物をカプセル充填機中でサイズ０の硬質ゼラチ
ンの細長いカプセルに詰める。
を(2) と(4) の混合物に添加し、充分に混合する。この
粉末混合物をカプセル充填機中でサイズ０の硬質ゼラチ
ンの細長いカプセルに詰める。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/495 ＡＢＸ 9454−4Ｃ 31/505 ＡＤＵ 9454−4Ｃ 31/52 ＡＢＪ 9454−4Ｃ 31/535 ＡＣＤ 9454−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 235/14 235/26 Ａ 235/28 Ａ 235/30 Ａ 401/12 ２３５ 403/06 ２３５ 413/06 ２１１ 471/04 １０７ Ｚ 473/04 473/30 487/16 7019−4Ｃ //(Ｃ０７Ｄ 401/06 211:00 235:00） (Ｃ０７Ｄ 401/06 213:00 235:00） (Ｃ０７Ｄ 401/12 211:00 235:00） (Ｃ０７Ｄ 403/06 233:00 235:00） (Ｃ０７Ｄ 403/06 235:00 241:00） (72)発明者 フランク ヒンメルスバッハ ドイツ連邦共和国 デー88441 ミッテル ビベラッハ アホルンヴェーク 16 (72)発明者 ギュンター リンツ ドイツ連邦共和国 デー88441 ミッテル ビベラッハ エルレンヴェーク ８ (72)発明者 トーマス ミューラー ドイツ連邦共和国 デー88400 ビベラッ ハ アルテル ポストプラッツ 17 (72)発明者 ヨハネス ヴァイゼンベルガー ドイツ連邦共和国 デー88400 ビベラッ ハ ハイドゥンヴェーク ５ (72)発明者 ブライアン グート ドイツ連邦共和国 デー88447 ヴァルト ハウゼン アム シュレーゲルベルク 24
Claims (11)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 により表される縮合５員複素環化合物、及びその互変異
性体、これらの混合物を含む立体異性体並びにこれらの
塩。［式中、 Ａはアミノアルキル基、アミジノ基またはグアニジノ基
（その窒素原子の一つの位置にある水素原子はヒドロキ
シ基、アルキル基、アルコキシカルボニル基またはフェ
ニルアルコキシカルボニル基により置換されていてもよ
い）、または必要により炭素骨格中で１個または２個の
アルキル基により置換されていてもよく、また窒素原子
の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は水素原子、アルキル基も
しくはフェニルアルキル基、合計２〜５個の炭素原子を
有するアルコキシカルボニル基、フェニルアルコキシカ
ルボニル基を表す）またはR1-CO-(R2CH)-O-CO-基（式
中、Ｒ1 はアルキル基を表し、かつＲ2 は水素原子また
はアルキル基もしくはフェニル基を表す）により置換さ
れていてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子に
より置換されていてもよいピペリジニル基、またはイミ
ダゾリル基、またはピリジル基（これは、複素環系がベ
ンゾオキサゾール基を表す場合には、２位を介して基Ｂ
に結合し得ない）を表し、 Ｂは直鎖または分枝C1-5アルキレン基、または−アルキ
レン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−アルキレン−
Ｓ−基、−Ｓ−アルキレン−基、−アルキレン−ＮＲ3
−基、−ＮＲ3 −アルキレン−基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基
または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（式中、Ｒ3 は水素原子また
はアルキル基もしくはフェニルアルキル基を表す）、ま
たはシクロヘキシレン基を表し、またはＡが必要により
炭素骨格中で１個または２個のアルキル基により置換さ
れていてもよく、また窒素原子の位置で基Ｒa （式中、
Ｒa は先に定義されたとおりである）により置換されて
いてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子により
置換されていてもよいピペリジニル基を表す場合、また
は−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基または４−
メトキシ−カルボニル−ブチル基を表す場合に、Ｘ4 が
同時にＮ−メチル−イミノ基を表さないことを条件とし
て、Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−
Ｆが２−カルボキシエチルアミノカルボニル基または２
−メトキシカルボニルエチルアミノ基を表し、かつＸ4
が同時に窒素原子を表さない場合、Ｂはまたフェニレン
基（これはフェニル核中でフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子またはアルキル基もしくはアルコキシ基によ
り一置換または二置換されていてもよく、これらの置換
基は同じであってもよく、また異なっていてもよい）を
表してもよく、 基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つはＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、 Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-6アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、ＣＯ−基、ＳＯ−
基、ＳＯ2 −基、ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくはＮＲ 3 −Ｃ
Ｏ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合されたＳＯ2
ＮＲ3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義されたとおりであ
る）を表し、 Ｅは結合または直鎖または分枝C1-5アルキレン基を表
し、かつＦはカルボキシ基、合計２〜７個の炭素原子を
有するアルコキシカルボニル基、フェニルアルコキシカ
ルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基もしく
はシクロアルキルアルキルオキシカルボニル基（夫々、
シクロアルキル部分中に３〜７個の炭素原子を有す
る）、スルホ基、ホスホノ基、Ｏ−アルキル−ホスホノ
基、Ｏ，Ｏ−ジアルキル−ホスホノ基またはテトラゾー
ル−５−イル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基は窒素
原子またはＲb −Ｃ（＜）−基、Ｒc −Ｎ＜基もしくは
カルボニル基を表し、｛式中、 Ｒb は水素原子、フッ素原子、塩素原子もしくは臭素原
子またはアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、フ
ェニルアルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基また
はジアルキルアミノ基（上記の基中の夫々のアルキル部
分は１〜６個の炭素原子を含んでいてもよい）を表し、
かつＲc は水素原子、必要によりヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミ
ノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ
カルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキ
ルアミノカルボニル基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、
モルホリノ基、ピペラジノ基またはＮ−アルキル−ピペ
ラジノ基により置換されていてもよいC1-6アルキル基を
表し、またはＲc はアルキル部分中に１〜５個の炭素原
子を有するフェニルアルキル基（これはフェニル核中で
フッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子またはアルキル
基もしくはアルコキシ基により一置換または二置換され
ていてもよく、これらの置換基は同じであってもよく、
また異なっていてもよい）を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4
の残りの基は夫々窒素原子またはＲb −Ｃ（＜）−基
（式中、Ｒ b は先に定義されたとおりである）もしくは
カルボニル基を表し、また基Ｘ1 〜Ｘ4 の二つ以下の基
はカルボニル基を表してもよく、また基Ｘ1 〜Ｘ4 の三
つ以下の基は環中に位置された窒素原子を含んでいても
よい、 基Ｙ1 またはＹ2 の一つは窒素原子またはメチン基を表
し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 は酸素原子またはＲ
d −Ｎ＜基を表し、（式中、 Ｒd は水素原子、必要によりヒドロキシ基、アルコキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ
基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペ
ラジノ基またはＮ−アルキル−ピペラジノ基により置換
されていてもよいC1-6アルキル基を表し、またはＲd は
アルキル部分中に１〜５個の炭素原子を有するフェニル
アルキル基（これはフェニル核中でフッ素原子、塩素原
子もしくは臭素原子またはアルキル基もしくはアルコキ
シ基により一置換または二置換されていてもよく、これ
らの置換基は同じであってもよく、また異なっていても
よい）を表し、またはＲd はC3-7シクロアルキル基を表
し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −Ｎ＜が同じ炭素原子
に結合されている場合には、ＲdはＲc と一緒になって
直鎖または分枝C2-5アルキレン基を表してもよい） 特にことわらない限り、上記のアルキル部分、アルキレ
ン部分及びアルコキシ部分は夫々１〜３個の炭素原子を
含んでいてもよい］ - 【請求項２】Ａが必要によりヒドロキシ基またはアルコ
キシカルボニル基により置換されていてもよいアミジノ
基、またはアミノアルキル基もしくはベンジルオキシカ
ルボニルアミノアルキル基、または必要により炭素骨格
中でアルキル置換されていてもよく、また必要により窒
素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は水素原子またはア
ルキル基、ベンジル基、アルコキシカルボニル基、ベン
ジルオキシカルボニル基またはR1-CO-CH2-O-CO- 基（式
中、Ｒ1 はアルキル基を表す）を表す）により置換され
ていてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子によ
り置換されていてもよいピペリジニル基、またはイミダ
ゾリル基、またはピリジル基（これは、複素環系がベン
ゾオキサゾール基を表す場合には、２位を介して基Ｂに
結合し得ない）を表し、 Ｂが直鎖または分枝C1-5アルキレン基、または−アルキ
レン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−アルキレン−
Ｓ−基、−Ｓ−アルキレン−基、−アルキレン−ＮＲ3
−基、−ＮＲ3 −アルキレン−基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基
または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（式中、Ｒ3 は水素原子また
はアルキル基を表す）、またはシクロヘキシレン基を表
し、またはＡが必要により炭素骨格中でアルキル置換さ
れていてもよく、また必要により窒素原子の位置で基Ｒ
a （式中、Ｒa は先に定義されたとおりである）により
置換されていてもよく、また４位の＞ＣＨ−単位が窒素
原子により置換されていてもよいピペリジニル基を表す
場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基
または４−メトキシ−カルボニル−ブチル基を表す場合
に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表さないこと
を条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場合、または
−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノカルボニル
基または２−メトキシカルボニルエチルアミノ基を表
し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表さない場合、Ｂがま
たフェニレン基を表してもよく、 基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、 Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-4アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 −ＮＲ3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義された
とおりである）を表し、 Ｅは結合または直鎖または分枝C1-5アルキレン基を表
し、かつＦはカルボキシ基、合計２〜６個の炭素原子を
有するアルコキシカルボニル基または合計６〜８個の炭
素原子を有するシクロアルコキシカルボニル基を表す｝
基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基が窒素原子またはＲb −Ｃ
（＜）−基、Ｒc −Ｎ＜基もしくはカルボニル基を表
し、｛式中、 Ｒb は水素原子、塩素原子もしくは臭素原子またはアル
キル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アル
キルアミノ基もしくはジアルキルアミノ基を表し、かつ
Ｒc は水素原子、必要によりヒドロキシ基、アルコキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ
基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカ
ルボニル基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、ピペラジノ基またはＮ−アルキル−ピペラジノ基に
より置換されていてもよいC1-5アルキル基を表し、また
はＲc はアルキル部分中に１〜５個の炭素原子を有する
フェニルアルキル基（これはフェニル核中でアルコキシ
基により一置換または二置換されていてもよく、これら
の置換基は同じであってもよく、また異なっていてもよ
い）を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素
原子またはＲb −Ｃ（＜）−基（式中、Ｒ b は先に定義
されたとおりである）もしくはカルボニル基を表し、ま
た基Ｘ1 〜Ｘ4 の二つ以下の基がカルボニル基を表して
もよく、また基Ｘ1 〜Ｘ4 の三つ以下の基が環中に位置
された窒素原子を含んでいてもよい、 基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他
の基Ｙ1 またはＹ2 が酸素原子またはＲd −Ｎ＜基を表
し、（式中、 Ｒd は水素原子、必要によりヒドロキシ基、アルコキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ
基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペ
ラジノ基またはＮ−アルキル−ピペラジノ基により置換
されていてもよいC1-5アルキル基、またはアルキル部分
中に１〜５個の炭素原子を有するフェニルアルキル基
（これはフェニル核中でアルコキシ基により一置換また
は二置換されていてもよく、これらの置換基は同じであ
ってもよく、また異なっていてもよい）、またはC3-6シ
クロアルキル基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd −
Ｎ＜が同じ炭素原子に結合されている場合には、Ｒdは
Ｒc と一緒になって直鎖または分枝C2-4アルキレン基を
表してもよい） 特にことわらない限り、上記のアルキル部分、アルキレ
ン部分及びアルコキシ部分は夫々１〜３個の炭素原子を
含んでいてもよい請求項１に記載の一般式Ｉの縮合５員
複素環化合物、及びその互変異性体、その立体異性体並
びにこれらの塩。 - 【請求項３】Ａが必要によりヒドロキシ基または合計２
〜４個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基によ
り置換されていてもよいアミジノ基、またはアミノアル
キル基もしくはベンジルオキシカルボニルアミノアルキ
ル基、または必要により炭素骨格中でメチル置換されて
いてもよく、また必要により窒素原子の位置で基Ｒ
a （式中、Ｒa は水素原子またはメチル基、ベンジル
基、メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル
基またはCH3-CO-CH2-O-CO-基を表す）により置換されて
いてもよく、更に４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子により
置換されていてもよいピペリジニル基を表し、またはＡ
が４−ピリジル基もしくは１−イミダゾリル基を表し、 Ｂが直鎖または分枝C1-4アルキレン基、または−アルキ
レン−Ｏ−基、−Ｏ−アルキレン−基、−アルキレン−
Ｓ−基、−アルキレン−ＮＲ3 −基、−ＮＲ3 −アルキ
レン−基または−ＮＲ3 −ＣＯ−基（そのアルキレン部
分は１個または２個の炭素原子を含んでいてもよく、ま
たアルキレン−Ｓ−基のアルキレン部分及び−ＮＲ3 −
ＣＯ−基の窒素原子は基Ａに結合されていてもよく、か
つＲ3 は水素原子またはメチル基を表す）、または１，
４−シクロヘキシレン基を表し、またはＡが必要により
炭素骨格中でメチル基により置換されていてもよく、ま
た必要により窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は先
に定義されたとおりである）により置換されていてもよ
く、また４位の＞ＣＨ−単位が窒素原子により置換され
ていてもよいピペリジニル基を表す場合、または−Ｄ−
Ｅ−Ｆが４−カルボキシ−ブチル基または４−メトキシ
カルボニル−ブチル基を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−
メチル−イミノ基を表さないことを条件として、Ｘ1 が
カルボニル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カ
ルボキシエチルアミノカルボニル基または２−メトキシ
カルボニルエチルアミノ基を表し、かつＸ4 が同時に窒
素原子を表さない場合、 Ｂがまたフェニレン基を表してもよく、 基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、 Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキレン基、C2-4アルケニレ
ン基、酸素原子もしくは硫黄原子、−ＣＯ−基、−ＳＯ
−基、−ＳＯ2 −基、−ＣＯ−ＮＲ3 −基もしくは−Ｎ
Ｒ3 −ＣＯ−基または窒素原子を介して基Ｅに結合され
た−ＳＯ2 −ＮＲ3 −基（式中、Ｒ3 は先に定義された
とおりである）を表し、 Ｅは結合または直鎖または分枝C1-4アルキレン基を表
し、かつＦはカルボキシ基、合計２〜６個の炭素原子を
有するアルコキシカルボニル基またはシクロヘキシルオ
キシカルボニル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基が窒
素原子またはＲc −Ｎ＜基、Ｒb −Ｃ（＜）−基もしく
はカルボニル基を表し、｛式中、 Ｒb は水素原子もしくは塩素原子またはヒドロキシ基、
メトキシ基、アミノ基、メチルアミノ基もしくはジメチ
ルアミノ基を表し、かつＲc は水素原子、必要によりメ
トキシ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル基または
アミノカルボニル基により置換されていてもよいC1-5ア
ルキル基を表し、またはＲc はアルキル部分中に１〜５
個の炭素原子を有するフェニルアルキル基を表す｝、か
つ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素原子またはＲb −
Ｃ（＜）−基（式中、Ｒ b は先に定義されたとおりであ
る）もしくはカルボニル基を表し、また基Ｘ1 〜Ｘ4 の
二つ以下の基がカルボニル基を表してもよく、また基Ｘ
1 〜Ｘ4 の二つ以下の基が環中に位置された窒素原子を
含んでいてもよい、 基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他
の基Ｙ1 またはＹ2 が酸素原子またはＲd −Ｎ＜基を表
す、（式中、 Ｒd は水素原子、必要によりヒドロキシ基、メトキシ
基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、モ
ルホリノ基、ピペラジノ基またはＮ−メチル−ピペラジ
ノ基により置換されていてもよいC1-5アルキル基、また
はアルキル部分中に１〜５個の炭素原子を有するフェニ
ルアルキル基（これはフェニル核中でメトキシシ基によ
り一置換または二置換されていてもよい）、またはC3-6
シクロアルキル基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd
−Ｎ＜が同じ炭素原子に結合されている場合には、Ｒd
はＲc と一緒になって直鎖または分枝C2-3アルキレン基
を表してもよい） 請求項１に記載の一般式Ｉの縮合５員複素環化合物、及
びその互変異性体、その立体異性体並びにこれらの塩。 - 【請求項４】Ａがアミジノ基、アミノアルキル基または
ベンジルオキシカルボニルアミノアルキル基（そのアル
キル部分は１個または２個の炭素原子を含んでいてもよ
い）、または窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は水
素原子またはベンジル基もしくはベンジルオキシカルボ
ニル基を表す）により置換されたピペリジン−４−イル
基を表し、 Ｂが直鎖または分枝C1-4アルキレン基、またはＮＨ−Ｃ
Ｏ−基（そのＮＨ−ＣＯ−基の窒素原子は基Ａに結合さ
れている）、または１，４−シクロヘキシレン基を表
し、またはＡが窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は
先に定義されたとおりである）により置換されたピペリ
ジン−４−イル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４
−カルボキシ−ブチル基または４−メトキシカルボニル
−ブチル基を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イ
ミノ基を表さないことを条件として、Ｘ1 がカルボニル
基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエ
チルアミノカルボニル基または２−メトキシカルボニル
エチルアミノ基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表
さない場合、 Ｂがまたフェニレン基を表してもよく、 基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、 Ｄは直鎖または分枝C1-4アルキレン基、C2-3アルケニレ
ン基、ＣＯ−基またはＣＯ−ＮＨ−基（ＣＯ−ＮＨ−基
の窒素原子は基Ｅに結合されている）を表し、 Ｅは結合または直鎖または分枝C2-4アルキレン基を表
し、かつＦはカルボキシ基または合計２〜５個の炭素原
子を有するアルコキシカルボニル基を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ
4 の第二の基がＲc −Ｎ＜基またはＲb −Ｃ（＜）−基
を表し、｛式中、 Ｒb は水素原子または塩素原子を表し、かつＲc は水素
原子またはメチル基もしくはエチル基を表す｝、かつ基
Ｘ1 〜Ｘ4 の残りの基が夫々窒素原子またはＨ−Ｃ
（＜）−基もしくはカルボニル基を表し、 基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他
の基Ｙ1 またはＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表す、（式中、 Ｒd は水素原子またはC1-4アルキル基を表し、またはＲ
d はＲc と一緒になって直鎖または分枝C2-3アルキレン
基を表す）請求項１に記載の一般式Ｉの縮合５員複素環
化合物、及びその互変異性体、その立体異性体並びにこ
れらの塩。 - 【請求項５】Ａがアミジノ基またはピペリジン−４−イ
ル基を表し、 Ｂがエチレン基を表し、またはＡがピペリジン−４−イ
ル基を表す場合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが４−カルボキシ
−ブチル基または４−メトキシ−カルボニル−ブチル基
を表す場合に、Ｘ4 が同時にＮ−メチル−イミノ基を表
さないことを条件として、Ｘ1 がカルボニル基を表す場
合、または−Ｄ−Ｅ−Ｆが２−カルボキシエチルアミノ
カルボニル基または２−メトキシカルボニルエチルアミ
ノ基を表し、かつＸ4 が同時に窒素原子を表さない場
合、 Ｂがまたフェニレン基を表してもよく、 基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−Ｅ−Ｄ−Ｃ（＜）−基または
Ｆ−Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基を表し、｛式中、 Ｄは直鎖または分枝C2-4アルキレン基、エテニレン基、
−ＣＯ−基または−ＣＯ−ＮＨ−基（ＣＯ−ＮＨ−基の
窒素原子は基Ｅに結合されている）を表し、Ｅは結合ま
たはエチレン基を表し、かつＦはカルボキシ基または合
計２〜５個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基
を表す｝基Ｘ1 〜Ｘ4 の第二の基がＲc −Ｎ＜基または
Ｒb −Ｃ（＜）−基を表し、｛式中、 Ｒb は水素原子または塩素原子を表し、かつＲc は水素
原子またはメチル基を表す｝、かつ基Ｘ1 〜Ｘ4 の残り
の基が夫々窒素原子またはＨ−Ｃ（＜）−基もしくはカ
ルボニル基を表し、 基Ｙ1 またはＹ2 の一つが窒素原子を表し、かつその他
の基Ｙ1 またはＹ2 がＲd −Ｎ＜基を表す、（式中、 Ｒd はメチル基を表し、またはＲd はＲc と一緒になっ
てｎ−プロピレン基を表す） 請求項１に記載の一般式Ｉの縮合５員複素環化合物、及
びその互変異性体、その立体異性体並びにこれらの塩。 - 【請求項６】(a) ５−［（２−カルボキシ−エチル）−
アミノカルボニル］−１−メチル−２−［２−（４−ピ
ペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾール、(b) ５
−［（２−カルボキシ−エチル）−アミノカルボニル］
−１−メチル−２−［（４−ピペリジニル）−アミノカ
ルボニル］−ベンゾイミダゾール、(c) ５−（４−カル
ボキシ−１−オキソ−ブチル）−１−メチル−２−［２
−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダゾー
ル、(d) １−（４−カルボキシ−ブチル）−３−メチル
−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−キサン
チン、(e) １−（４−カルボキシ−ブチル）−３，９−
ジメチル−８−［２−（４−ピペリジニル）−エチル］
−キサンチン、(f) ２−（４−アミジノ−フェニル）−
９−（４−カルボキシ−ブチル）−８，10−ジオキソ−
５，６−ジヒドロ−４Ｈ，９Ｈ−ピリミド［１，２，３
−ｃｄ］プリン、(g) ５−［（２−メトキシカルボニル
−エチル）−アミノカルボニル］−１−メチル−２−
［２−（４−ピペリジニル）−エチル］−ベンゾイミダ
ゾールである請求項１に記載の一般式Ｉの化合物及びこ
れらの塩。 - 【請求項７】 請求項１〜６の少なくとも一つに記載の
化合物と無機または有機の酸または塩基との生理学上許
される塩。 - 【請求項８】 必要により一種以上の不活性担体及び／
または希釈剤と一緒に、請求項１〜６の少なくとも一つ
に記載の化合物または請求項７に記載の生理学上許され
る塩を含むことを特徴とする医薬組成物。 - 【請求項９】 大小の細胞凝集物が生じる病気または細
胞−基質相互作用が関与する病気を治療または予防する
のに適した医薬組成物を調製するための請求項１〜７の
少なくとも一つに記載の化合物の使用。 - 【請求項１０】 請求項１〜７の少なくとも一つに記載
の化合物を非化学的方法により一種以上の不活性担体及
び／または希釈剤に混入することを特徴とする請求項８
に記載の医薬組成物の調製方法。 - 【請求項１１】a)一般式Ｉの化合物（式中、Ｆがカルボ
キシ基を表す）を調製するために、 一般式 【化２】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は、Ｆが合計２〜７
個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、アルコ
キシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するフェニルアル
コキシカルボニル基、夫々シクロアルキル部分中に３〜
７個の炭素原子を有し、またアルキルオキシ部分中に１
〜３個の炭素原子を有するシクロアルキルオキシカルボ
ニル基もしくはシクロアルキルアルキルオキシカルボニ
ル基、または開裂可能な基により保護されたカルボキシ
ル基、例えば、トリメチルシリルオキシカルボニル基、
メトキシベンジルオキシカルボニル基、２，４−ジメト
キシベンジルオキシカルボニル基もしくはテトラヒドロ
ピラニルオキシカルボニル基であることを条件として、
請求項１〜６に定義されたとおりである）の化合物から
加水分解、水添分解または熱分解により保護基を開裂
し、または b)一般式Ｉの化合物（式中、Ｒa が水素原子を表す）を
調製するために、 一般式 【化３】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は、Ｒa が合計２〜
５個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、アル
コキシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するフェニルア
ルコキシカルボニル基、R1-CO-(R2CH)-O-CO-基（式中、
Ｒ1 及びＲ2 は先に定義されたとおりである）、または
イミノ基の開裂可能な保護基を表すことを条件として、
請求項１〜６に定義されたとおりである）の化合物から
加水分解、水添分解または熱分解により保護基を開裂
し、または c)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｙ1 またはＹ2 の一つが
窒素原子を表し、かつその他の基Ｙ1 またはＹ2 がＲd
−Ｎ＜基を表し、または基Ｒc −Ｎ＜及びＲd−Ｎ＜が
同じ炭素原子に結合されている場合には、Ｒc 及びＲd
はまた一緒になってC2-5ｎ−アルキレン基を表してもよ
い）を調製するために、 必要により反応混合物中で生成されてもよい一般式 【化４】 ［式中、Ｘ1 〜Ｘ4 は請求項１〜６に定義されたとおり
であり、 基Ｚ1 またはＺ2 の一つはＡ−Ｂ−ＣＯ−ＮＲd1−基を
表し、かつその他の基Ｚ1 またはＺ2 はＨＮＲd2−基を
表す、（式中、Ａ及びＢは請求項１〜６に定義されたと
おりであり、 基Ｒd1またはＲd2の一つは水素原子を表し、かつその他
の基Ｒd1またはＲd2は請求項１〜６でＲd に関して示さ
れた意味を有する）］の化合物を環化し、続いて、所望
により、使用された保護基をこうして得られた化合物か
ら開裂し、または d)一般式Ｉの化合物（式中、Ｂが−ＮＲ3 −ＣＯ−基を
表す）を調製するために、 一般式 【化５】 （式中、 Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は請求項１〜６に定義された
とおりであり、かつHal は塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を表す）の化合物を一般式 Ａ’−ＨＮＲ3 (VI) （式中、 Ｒ3 は請求項１〜６に定義されたとおりであり、かつ
Ａ’は必要により炭素骨格中で１個または２個のアルキ
ル基により置換されていてもよく、また窒素原子の位置
で基Ｒa （式中、Ｒa は請求項１〜６に定義されたとお
りであり、但し、Ｒa が水素原子を除いて請求項１〜６
に示された意味を有することを条件とする）により置換
されていてもよいピペリジニル基を表し、またはイミノ
基の開裂可能な保護基を表す）の化合物と反応させ、続
いて、所望により、使用された保護基をこうして得られ
た化合物から開裂し、または e)一般式Ｉの化合物（式中、Ｆが合計２〜７個の炭素原
子を有するアルコキシカルボニル基、アルコキシ部分中
に１〜３個の炭素原子を有するフェニルアルコキシカル
ボニル基、夫々シクロアルキル部分中に３〜７個の炭素
原子を有し、またアルキルオキシ部分中に１〜３個の炭
素原子を有するシクロアルキルオキシカルボニル基もし
くはシクロアルキルアルキルオキシカルボニル基を表
す）を調製するために、 一般式 【化６】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は、Ｆがカルボキシ
基を表し、またはＺ3がヒドロキシ基を表す場合に、Ｆ
がまたエステル化されたカルボキシ基、例えば、合計２
〜５個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基また
はアルコキシ部分中に１〜３個の炭素原子を有するフェ
ニルアルコキシカルボニル基を表してもよいことを条件
として、請求項１〜６に定義されたとおりである）の化
合物を一般式 Ｚ3 −Ｒ4 (VIII) （式中、 Ｒ4 はC1-6アルキル基、アルキル部分中に１〜３個の炭
素原子を有するフェニルアルキル基、夫々シクロアルキ
ル部分中に３〜７個の炭素原子を有し、またアルキル部
分中に１〜３個の炭素原子を有するシクロアルキル基ま
たはシクロアルキルアルキル基を表し、かつＺ3 はヒド
ロキシ基を表し、またはＦがカルボキシ基を表す場合
に、求核性脱離基を表してもよい）の化合物と反応さ
せ、または f)一般式Ｉの化合物（式中、Ａが必要により窒素原子の
位置でC1-3アルキル基により置換されていてもよいアミ
ジノ基を表す）を調製するために、 必要により反応混合物中で生成されてもよい一般式 【化７】 （式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は、ＡがＺ
4 −Ｃ（＝ＮＨ）−基（式中、Ｚ4 はアミノ基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、アラルコキシ基またはアラル
キルチオ基を表す）を表すことを条件として、請求項１
〜６に定義されたとおりである）の化合物を一般式 Ｒ5 −ＮＨ2 (X) （式中、Ｒ5 は水素原子またはC1-3アルキル基を表す）
のアミンまたはその酸付加塩と反応させ、または g)一般式Ｉの化合物（式中、Ａがアミジノ基またはグア
ニジノ基（その窒素原子の一つの位置で、水素原子がC
1-3アルキル基または（C1-3アルコキシ）カルボニル基
により置換されている）、または必要により炭素骨格中
で１個または２個のアルキルにより置換されていてもよ
く、また窒素原子の位置で基Ｒa （式中、Ｒa は水素原
子を除いて請求項１〜６に示された意味を有する）によ
り置換されていてもよいピペリジニル基（そのピペリジ
ニル基中で、４位の＞ＣＨ−単位は更に窒素原子により
置換されていてもよい）を表す）を調製するために、 一般式 【化８】 （式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は、Ａがア
ミジノ基もしくはグアニジノ基または必要により炭素骨
格中で１個または２個のアルキル基により置換されてい
てもよく、また窒素原子の位置で未置換であるピペリジ
ニル基（そのピペリジニル基中で、４位の＞ＣＨ−単位
は更に窒素原子により置換されていてもよい）を表すこ
とを条件として、請求項１〜６に定義されたとおりであ
る）の化合物を一般式 Ｚ5 −Ｒ6 (XII) （式中、 Ｒ6 は合計２〜５個の炭素原子を有するアルコキシカル
ボニル基、夫々アルキル部分またはアルコキシ部分中に
１〜３個の炭素原子を有するアルキル基、フェニルアル
キル基もしくはフェニルアルコキシカルボニル基または
R1-CO-(R2CH)-O-CO-基（式中、Ｒ1 及びＲ2 は請求項１
〜６に定義されたとおりである）を表し、かつＺ5 は求
核性脱離基を表し、またはＲ6 がアルキル基またはフェ
ニルアルキルを表す場合には、Ｚ5 は基Ｒ6 の隣接メチ
レン基の水素原子と一緒になって酸素原子を表してもよ
い）の化合物と反応させ、または h)一般式Ｉの化合物（式中、Ｄがスルフィニル基または
スルホニル基を表す）を調製するために、 一般式 【化９】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｘ1 〜Ｘ4 、Ｙ1 及びＹ2 は、Ｄが硫黄原子ま
たはスルフィニル基を表すことを条件として、請求項１
〜６に定義されたとおりである）の化合物を酸化し、ま
たは i)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の一つがＦ−
Ｅ−Ｄ−Ｎ＜基（式中、Ｄは直鎖または分枝C1-6アルキ
ル基またはC2-6アルケニル基を表す）を表す）を調製す
るために、 一般式 【化１０】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ4 は、基Ｘ1 〜Ｘ4 の
一つがＨ−Ｎ＜基を表すことを条件として、請求項１〜
６に定義されたとおりである）の化合物を一般式 Ｚ6 −Ｄ’−Ｅ−Ｆ (XV) （式中、 Ｅ及びＦは請求項１〜６に定義されたとおりであり、 Ｄ’は直鎖または分枝C1-6アルキル基またはC2-6アルケ
ニル基を表し、かつＺ6 は脱離基を表し、またはＤ’が
基Ｆに直接結合された炭素−炭素二重結合を含む場合に
は、Ｚ6 はまた水素原子を表してもよい）の化合物と反
応させ、または j)一般式Ｉの化合物（式中、ＤがC2-6アルキレン基を表
す）を調製するために、 一般式 【化１１】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ4 は、ＤがC2-6アルケ
ニレン基を表すことを条件として、請求項１〜６に定義
されたとおりである）の化合物を水素化し、または k)一般式Ｉの化合物（式中、Ａがヒドロキシ置換アミジ
ノ基を表す）を調製するために、 一般式 【化１２】 （式中、 Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ4 は請求項１〜６に定義さ
れたとおりである）の化合物を塩基の存在下でヒドロキ
シルアミンまたはその塩と反応させ、または l)一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも
一つがメチン基を表す）を調製するために、 一般式 【化１３】 （式中、 Ａ、Ｂ、Ｙ1 、Ｙ2 及びＸ1 〜Ｘ4 は、基Ｘ1 〜Ｘ4 の
少なくとも一つが塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子
により置換されたメチン基を表すことを条件として、請
求項１〜６に定義されたとおりである）の化合物を脱ハ
ロゲン化し、そして続いて、所望により、こうして得ら
れた一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ 4 の少なくと
も一つがカルボニル基を表す）をハロゲン化により相当
する一般式Ｉの化合物（式中、基Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくと
も一つが塩素原子または臭素原子により置換されたメチ
ン基を表す）に変換し、かつ／または必要により、これ
らの反応中に反応性基を保護するために使用された保護
基を開裂し、かつ／または所望により、こうして得られ
た一般式Ｉの化合物をその立体異性体に分割し、かつ／
またはこうして得られた一般式Ｉの化合物をその塩、特
別には医薬上の使用のために、無機または有機の酸また
は塩基とのその生理学上許される塩に変換することを特
徴とする請求項１〜７に記載の縮合５員複素環化合物の
調製方法。
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