JPH07282999A - 電子蓄積リング - Google Patents
電子蓄積リングInfo
- Publication number
- JPH07282999A JPH07282999A JP7559794A JP7559794A JPH07282999A JP H07282999 A JPH07282999 A JP H07282999A JP 7559794 A JP7559794 A JP 7559794A JP 7559794 A JP7559794 A JP 7559794A JP H07282999 A JPH07282999 A JP H07282999A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- radiation
- duct
- electron
- radiation shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 なるべく電子ビームから至近距離でＳＲ光が
利用でき、かつ偏向電磁石の合理的な設計が可能な電子
蓄積リングを提供すること。 【構成】 光ビームダクト５８の設置領域に対応する外
側ヨーク５４の外周に放射線遮蔽バンド１１を設け、こ
の放射線遮蔽バンドに前記光ビームダクトのビームシャ
ッタ５９を組み込むようにした。 【効果】 ＳＲ光の発生源からＳＲ光が照射されるまで
の距離を短かくすることができ、試料に照射するＳＲ光
の強度を高くすることができる。
利用でき、かつ偏向電磁石の合理的な設計が可能な電子
蓄積リングを提供すること。 【構成】 光ビームダクト５８の設置領域に対応する外
側ヨーク５４の外周に放射線遮蔽バンド１１を設け、こ
の放射線遮蔽バンドに前記光ビームダクトのビームシャ
ッタ５９を組み込むようにした。 【効果】 ＳＲ光の発生源からＳＲ光が照射されるまで
の距離を短かくすることができ、試料に照射するＳＲ光
の強度を高くすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシンクロトロン放射光
（以下、ＳＲ光と呼ぶ）発生装置における電子蓄積リン
グに関し、特にその偏向電磁石装置の改良に関する。
（以下、ＳＲ光と呼ぶ）発生装置における電子蓄積リン
グに関し、特にその偏向電磁石装置の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４はレーストラック型の電子蓄積リン
グを用いたＳＲ光発生装置を示している。この電子蓄積
リングは、入射用加速器２０にて加速された電子又は陽
電子をレーストラック型の軌道に沿って周回させるもの
である。以下、電子の場合を例にとって説明する。この
電子蓄積リングは、レーストラック型の真空容器１を有
している。一対の偏向電磁石装置２１は、この真空容器
１の円弧状部に設けられて、真空容器１内において、電
子ビーム２を一対の円弧状軌道に沿わせるべく偏向させ
る。一対の円弧状軌道の間を連絡する２本の直線軌道を
決める真空容器１の周囲には、入射用加速器２０からの
電子ビーム２を真空容器１内に入射する入射用電磁石２
２と、各々が４極電磁石からなる８つの収束用電磁石２
３とが配置されている。高周波加速空洞２４は、入射用
電磁石２２が設けられた直線軌道とは異なる直線軌道に
設けられて、電子ビーム２を加速する機能を有する。
グを用いたＳＲ光発生装置を示している。この電子蓄積
リングは、入射用加速器２０にて加速された電子又は陽
電子をレーストラック型の軌道に沿って周回させるもの
である。以下、電子の場合を例にとって説明する。この
電子蓄積リングは、レーストラック型の真空容器１を有
している。一対の偏向電磁石装置２１は、この真空容器
１の円弧状部に設けられて、真空容器１内において、電
子ビーム２を一対の円弧状軌道に沿わせるべく偏向させ
る。一対の円弧状軌道の間を連絡する２本の直線軌道を
決める真空容器１の周囲には、入射用加速器２０からの
電子ビーム２を真空容器１内に入射する入射用電磁石２
２と、各々が４極電磁石からなる８つの収束用電磁石２
３とが配置されている。高周波加速空洞２４は、入射用
電磁石２２が設けられた直線軌道とは異なる直線軌道に
設けられて、電子ビーム２を加速する機能を有する。
【０００３】このようにして、電子蓄積リングは、真空
容器１内において、電子ビーム２を、円弧状軌道を含む
所定軌道に沿って、周回させ、蓄積させる。周回してい
る間、偏向電磁石装置２１においては電子ビーム２の運
動の接線方向にＳＲ光３が発生する。このため、偏向電
磁石装置２１にはそれぞれ、ＳＲ光３を取出すための複
数のビームダクトが設けられる。
容器１内において、電子ビーム２を、円弧状軌道を含む
所定軌道に沿って、周回させ、蓄積させる。周回してい
る間、偏向電磁石装置２１においては電子ビーム２の運
動の接線方向にＳＲ光３が発生する。このため、偏向電
磁石装置２１にはそれぞれ、ＳＲ光３を取出すための複
数のビームダクトが設けられる。
【０００４】ところで、このような電子蓄積リングで
は、特に偏向電磁石装置において蓄積された電子が失わ
れる際に放射線を発生するので、作業者の被爆を防ぐた
め放射線遮蔽が必要である。
は、特に偏向電磁石装置において蓄積された電子が失わ
れる際に放射線を発生するので、作業者の被爆を防ぐた
め放射線遮蔽が必要である。
【０００５】電子蓄積リングから発生する放射線は、主
にγ線と中性子線からなるが、絶対量が大きいのはγ線
である。γ線は電子の失われる方向に集中的に発生す
る。この方向はＳＲ光を取り出す方向とほぼ一致する。
にγ線と中性子線からなるが、絶対量が大きいのはγ線
である。γ線は電子の失われる方向に集中的に発生す
る。この方向はＳＲ光を取り出す方向とほぼ一致する。
【０００６】小型の電子蓄積リングでは偏向電磁石装置
の外側ヨークが放射線遮蔽体を兼ねる場合が多いが、Ｓ
Ｒ光を取り出すための貫通穴があけられるので遮蔽性能
が低下するばかりでなく、磁路の断面積が減少するので
磁気抵抗が増えることになる。したがって放射線が最も
強い部分で遮蔽能力が低下し、放射線が弱い（例えばそ
の上下部分）では遮蔽能力が過大になる不合理が生じて
いる。
の外側ヨークが放射線遮蔽体を兼ねる場合が多いが、Ｓ
Ｒ光を取り出すための貫通穴があけられるので遮蔽性能
が低下するばかりでなく、磁路の断面積が減少するので
磁気抵抗が増えることになる。したがって放射線が最も
強い部分で遮蔽能力が低下し、放射線が弱い（例えばそ
の上下部分）では遮蔽能力が過大になる不合理が生じて
いる。
【０００７】また、ＳＲ光を取り出すビームラインには
ＳＲ光を使用しない場合、ＳＲ光を遮断するビームシャ
ッタと呼ばれる装置が取り付けられる。ビームシャッタ
は、ＳＲ光と放射線を遮蔽するためのブロックを真空箱
の中で上下させるものである。ビームシャッタは安全
上、電子蓄積リングに最も近い側に取り付けられるが、
取り付けるスペースの分だけ放射光利用位置が後ろにず
れるので、放射光の強度がその分低下する。またビーム
シャッタは重量物であり、かつ前後には超高真空のダク
トが接続されるので正確な位置合わせのため支持用の架
台を必要とし、またビームシャッタは密集して配置され
るので取付作業は困難である。
ＳＲ光を使用しない場合、ＳＲ光を遮断するビームシャ
ッタと呼ばれる装置が取り付けられる。ビームシャッタ
は、ＳＲ光と放射線を遮蔽するためのブロックを真空箱
の中で上下させるものである。ビームシャッタは安全
上、電子蓄積リングに最も近い側に取り付けられるが、
取り付けるスペースの分だけ放射光利用位置が後ろにず
れるので、放射光の強度がその分低下する。またビーム
シャッタは重量物であり、かつ前後には超高真空のダク
トが接続されるので正確な位置合わせのため支持用の架
台を必要とし、またビームシャッタは密集して配置され
るので取付作業は困難である。
【０００８】以下に、図５，図６を参照して１８０°偏
向電磁石装置について説明する。５１は電磁石のポー
ル、５２は上下ヨーク、５３は内側ヨーク、５４は外側
ヨーク、５５は主コイルである。５６は電子ビームの軌
道で矢印Ｃから矢印Ｃ′の方向に電子が運動する。５７
は真空ダクトでＳＲ光を取り出す光ビームダクト５８が
複数個設けられている。光ビームダクト５８を通すため
外側ヨーク５４は水平面で上下に分割され、貫通穴が設
けられている。光ビームダクト５８の先にはビームシャ
ッタ５９が取り付けられている。
向電磁石装置について説明する。５１は電磁石のポー
ル、５２は上下ヨーク、５３は内側ヨーク、５４は外側
ヨーク、５５は主コイルである。５６は電子ビームの軌
道で矢印Ｃから矢印Ｃ′の方向に電子が運動する。５７
は真空ダクトでＳＲ光を取り出す光ビームダクト５８が
複数個設けられている。光ビームダクト５８を通すため
外側ヨーク５４は水平面で上下に分割され、貫通穴が設
けられている。光ビームダクト５８の先にはビームシャ
ッタ５９が取り付けられている。
【０００９】図７はビームシャッタ５９の断面図で、詳
細な説明は省略するが、真空容器６０内の遮蔽ブロック
６１を駆動装置（エアシリンダ）６２で上下させ、ＳＲ
光の通路Ｃ−Ｃ′を開閉する。
細な説明は省略するが、真空容器６０内の遮蔽ブロック
６１を駆動装置（エアシリンダ）６２で上下させ、ＳＲ
光の通路Ｃ−Ｃ′を開閉する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで、単位面積当
たりの光の強度は、光源からの距離の二乗に反比例する
ので、ＳＲ光の照射される試料はできるだけＳＲ光の発
生源、すなわち電子ビームに近い箇所に置かれるのが好
ましい。ところが、前述した放射線遮蔽のために、図
５、図６に示すように、光ビームダクト５８の設置領域
に対応する外側ヨーク５４の外周には放射線遮蔽バンド
５０が設けられる。更に、その外側にビームシャッタ５
９が設けられるので、ビームシャッタ５９の出口付近に
試料を配置するようにしても光の強度の低下は避けられ
ない。加えて、重量の大きいビームシャッタ５９を支え
るために支持用の架台６３が必要となる。
たりの光の強度は、光源からの距離の二乗に反比例する
ので、ＳＲ光の照射される試料はできるだけＳＲ光の発
生源、すなわち電子ビームに近い箇所に置かれるのが好
ましい。ところが、前述した放射線遮蔽のために、図
５、図６に示すように、光ビームダクト５８の設置領域
に対応する外側ヨーク５４の外周には放射線遮蔽バンド
５０が設けられる。更に、その外側にビームシャッタ５
９が設けられるので、ビームシャッタ５９の出口付近に
試料を配置するようにしても光の強度の低下は避けられ
ない。加えて、重量の大きいビームシャッタ５９を支え
るために支持用の架台６３が必要となる。
【００１１】それ故、本発明の課題は、なるべく電子ビ
ームから至近距離でＳＲ光が利用でき、かつ偏向電磁石
の合理的な設計が可能な電子蓄積リングを提供すること
にある。
ームから至近距離でＳＲ光が利用でき、かつ偏向電磁石
の合理的な設計が可能な電子蓄積リングを提供すること
にある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、円または円弧
状のビーム軌道を有する偏向電磁石装置を備え、該偏向
電磁石装置を構成しているヨークには前記ビーム軌道の
接線方向に放射光取出し用のビームダクトの貫通穴を１
個以上設けて成る電子蓄積リングにおいて、前記ビーム
ダクトの設置領域に対応する前記ヨークの外周に放射線
遮蔽バンドを設け、該放射線遮蔽バンドに前記ビームダ
クトのビームシャッタを組み込むようにしたことを特徴
とする。
状のビーム軌道を有する偏向電磁石装置を備え、該偏向
電磁石装置を構成しているヨークには前記ビーム軌道の
接線方向に放射光取出し用のビームダクトの貫通穴を１
個以上設けて成る電子蓄積リングにおいて、前記ビーム
ダクトの設置領域に対応する前記ヨークの外周に放射線
遮蔽バンドを設け、該放射線遮蔽バンドに前記ビームダ
クトのビームシャッタを組み込むようにしたことを特徴
とする。
【００１３】なお、放射線遮蔽バンドは、磁性材料と放
射線遮蔽材料とから成ることが好ましい。
射線遮蔽材料とから成ることが好ましい。
【００１４】
【実施例】図１〜図３を参照して本発明の実施例につい
て説明する。なお、図５，図６と同じ部分には同一番号
を付し、説明は省略する。図１，図２において、本実施
例では光ビームダクト５８の設置領域に対応する箇所に
放射線遮蔽バンド１１を設けるが、ここにビームシャッ
タ５９を隙間無く組み込むようにした点に特徴を有す
る。これは放射線遮蔽バンド１１の上下分割領域にビー
ムシャッタ５９設置のための隙間の無い空間を形成する
ことで精度の高い設置が実現される。
て説明する。なお、図５，図６と同じ部分には同一番号
を付し、説明は省略する。図１，図２において、本実施
例では光ビームダクト５８の設置領域に対応する箇所に
放射線遮蔽バンド１１を設けるが、ここにビームシャッ
タ５９を隙間無く組み込むようにした点に特徴を有す
る。これは放射線遮蔽バンド１１の上下分割領域にビー
ムシャッタ５９設置のための隙間の無い空間を形成する
ことで精度の高い設置が実現される。
【００１５】この放射線遮蔽バンド１１は、外側ヨーク
５４に設けられた光ビームダクト５８のための貫通孔に
よる磁気特性の低下を補い、あわせて光ビームダクト５
８の設置領域からの放射線の遮蔽効果を向上させるため
に、磁性材料（一般に電磁軟鉄）と放射線遮蔽材料（例
えば鉛）とを組み合わせて使用するのが好ましいが、鉄
系の材料だけでも良い。また、放射線遮蔽バンド１１を
水平面で上下２つに分割し、必要に応じて図３に示すよ
うに、垂直方向にも分割したブロックで構成してボルト
で組付けることにより、製造、取付けが容易となる。
５４に設けられた光ビームダクト５８のための貫通孔に
よる磁気特性の低下を補い、あわせて光ビームダクト５
８の設置領域からの放射線の遮蔽効果を向上させるため
に、磁性材料（一般に電磁軟鉄）と放射線遮蔽材料（例
えば鉛）とを組み合わせて使用するのが好ましいが、鉄
系の材料だけでも良い。また、放射線遮蔽バンド１１を
水平面で上下２つに分割し、必要に応じて図３に示すよ
うに、垂直方向にも分割したブロックで構成してボルト
で組付けることにより、製造、取付けが容易となる。
【００１６】なお、上記説明はレーストラック型の電子
蓄積リングに適用する場合であるが、本発明の適用範囲
はレーストラック型の電子蓄積リングに限定されるもの
ではない。また、コイルも常電導型、超電導型のいずれ
でも良い。
蓄積リングに適用する場合であるが、本発明の適用範囲
はレーストラック型の電子蓄積リングに限定されるもの
ではない。また、コイルも常電導型、超電導型のいずれ
でも良い。
【００１７】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明では光
ビームダクトの設置領域に対応する箇所に設けられる放
射線遮蔽バンドにビームシャッタを組み込むようにした
ことにより、次のような効果が得られる。
ビームダクトの設置領域に対応する箇所に設けられる放
射線遮蔽バンドにビームシャッタを組み込むようにした
ことにより、次のような効果が得られる。
【００１８】光ビームダクトの設置による外側ヨーク
の断面積の減少分を、放射線遮蔽バンドで補うことがで
きるので、合理的な磁路形成が可能となる。
の断面積の減少分を、放射線遮蔽バンドで補うことがで
きるので、合理的な磁路形成が可能となる。
【００１９】光ビームダクトの設置による外側ヨーク
の貫通穴に起因した放射線遮蔽性能の低下を放射線遮蔽
バンドで補うことができる。
の貫通穴に起因した放射線遮蔽性能の低下を放射線遮蔽
バンドで補うことができる。
【００２０】放射線遮蔽バンドを磁性材料と放射線遮
蔽材料との組み合わせで構成することにより性能向上、
コスト低減を満足することができる。
蔽材料との組み合わせで構成することにより性能向上、
コスト低減を満足することができる。
【００２１】ビームシャッタを放射線遮蔽バンドに組
み込んだことにより、ＳＲ光の発生源からＳＲ光が照射
されるまでの距離を短かくすることができ、試料に照射
するＳＲ光の強度を高くすることができる。
み込んだことにより、ＳＲ光の発生源からＳＲ光が照射
されるまでの距離を短かくすることができ、試料に照射
するＳＲ光の強度を高くすることができる。
【００２２】ビームシャッタを放射線遮蔽バンドに組
み込んだことにより、ビームシャッタの支持架台を省略
することができ、取付け精度の向上を図ることができ
る。
み込んだことにより、ビームシャッタの支持架台を省略
することができ、取付け精度の向上を図ることができ
る。
【００２３】ビームシャッタの周囲が放射線遮蔽バン
ドで覆われるので、遮蔽の重複が避けられ、光ビームダ
クトを通しての放射線の漏洩を減少できる。
ドで覆われるので、遮蔽の重複が避けられ、光ビームダ
クトを通しての放射線の漏洩を減少できる。
【図１】本発明の電子蓄積リングにおける偏向電磁石装
置を、光ビームダクトが見えるような横断面で示した図
である。
置を、光ビームダクトが見えるような横断面で示した図
である。
【図２】本発明における偏向電磁石装置を図１の線Ａ−
Ａ′に対応する切断線に沿って示した縦断面図である。
Ａ′に対応する切断線に沿って示した縦断面図である。
【図３】本発明における偏向電磁石装置における放射線
遮蔽バンドの構成例を、図１の線Ａ−Ａ″に対応する領
域について示した縦断面図である。
遮蔽バンドの構成例を、図１の線Ａ−Ａ″に対応する領
域について示した縦断面図である。
【図４】本発明が適用されるレーストラック型の電子蓄
積リングの概略構成を示した図である。
積リングの概略構成を示した図である。
【図５】従来の偏向電磁石装置の横断面図である。
【図６】従来の偏向電磁石装置を図５の線Ｂ−Ｂ′に対
応する領域で切断した縦断面図である。
応する領域で切断した縦断面図である。
【図７】ビームシャッタの一例を示した縦断面図であ
る。
る。
１１，５０ 放射線遮蔽バンド ５１ ポール ５２ 上下ヨーク ５３ 内側ヨーク ５４ 外側ヨーク ５５ 主コイル ５６ 電子ビームの軌道 ５７ 真空ダクト ５８ 光ビームダクト ５９ ビームシャッタ
Claims (2)
- 【請求項１】 円または円弧状のビーム軌道を有する偏
向電磁石装置を備え、該偏向電磁石装置を構成している
ヨークには前記ビーム軌道の接線方向に放射光取出し用
のビームダクトの貫通穴を１個以上設けて成る電子蓄積
リングにおいて、前記ビームダクトの設置領域に対応す
る前記ヨークの外周に放射線遮蔽バンドを設け、該放射
線遮蔽バンドに前記ビームダクトのビームシャッタを組
み込むようにしたことを特徴とする電子蓄積リング。 - 【請求項２】 請求項１記載の電子蓄積リングにおい
て、前記放射線遮蔽バンドは、磁性材料と放射線遮蔽材
料とから成ることを特徴とする電子蓄積リング。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7559794A JPH07282999A (ja) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | 電子蓄積リング |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7559794A JPH07282999A (ja) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | 電子蓄積リング |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07282999A true JPH07282999A (ja) | 1995-10-27 |
Family
ID=13580779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7559794A Withdrawn JPH07282999A (ja) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | 電子蓄積リング |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07282999A (ja) |
-
1994
- 1994-04-14 JP JP7559794A patent/JPH07282999A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4425506A (en) | Stepped gap achromatic bending magnet | |
| US4710722A (en) | Apparatus generating a magnetic field for a particle accelerator | |
| JPH0834130B2 (ja) | シンクロトロン放射光発生装置 | |
| JPS62259400A (ja) | 加速器用真空チエンバ | |
| JPH11126576A (ja) | イオン注入装置 | |
| EP1662539A2 (en) | Irradiation system with ion beam/charged particle beam | |
| JPH07265297A (ja) | Ｘ線ｃｔ装置 | |
| EP0041753B1 (en) | Deflection system for charged-particle beam | |
| US3921019A (en) | Self-shielding type cyclotron | |
| JPH1116525A (ja) | Ｘ線コンピュータトモグラフ装置 | |
| JP2018513361A (ja) | 放射線防護囲い内の標的ホルダー支持体及び照射ビーム偏向装置を含む照射システム | |
| JPH07282999A (ja) | 電子蓄積リング | |
| US3681599A (en) | Sector-type charged particle energy analyzer | |
| JP2556112B2 (ja) | 荷電粒子装置 | |
| JP4051318B2 (ja) | 電子ビーム冷却装置 | |
| Johnstone et al. | Shielding the muon collider interaction region | |
| Abliz et al. | Clearing Magnet Design for APS-U | |
| JPH07270598A (ja) | 陽電子発生装置 | |
| JPH0950899A (ja) | 電子蓄積リング | |
| JPH01307198A (ja) | セプタムマグネツト | |
| KR20200115287A (ko) | Ri제조장치용 자기실드 | |
| JPH02195699A (ja) | 荷電粒子加速装置 | |
| Von Holtey et al. | A mini beam pipe at the DELPHI interaction region | |
| JP2556879B2 (ja) | 放射光発生装置の設置方法 | |
| JPS62296400A (ja) | 磁気共振型加速器の入射装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010703 |