JP2556879B2 - 放射光発生装置の設置方法 - Google Patents

放射光発生装置の設置方法

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JP2556879B2 JP63074495A JP7449588A JP2556879B2 JP 2556879 B2 JP2556879 B2 JP 2556879B2 JP 63074495 A JP63074495 A JP 63074495A JP 7449588 A JP7449588 A JP 7449588A JP 2556879 B2 JP2556879 B2 JP 2556879B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、放射光発生装置(以下、SOR装置とい
う)に関し、さらに詳しくいうと、インフレクタ,デフ
レクタ,RF空洞などの各コンポーネントが床面上に設置
されているSOR装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図は、例えばハーマン・ウイニクとS.ドニアチ
(HERMAN WINICK and S.DONIACH)編“シンクロトロン
ラジエーシヨン リサーチ(Synchrodron Radiation
Research)",プレナム プレス(Plenum Rress)刊、
(1980)に示された従来のSOR装置の一部を示し、図に
おいて、偏向電磁石(3)、4極電磁石(4)、真空ポ
ンプ(12)等が床面(16)上に設置されている。(10
1)はビーム用チエンバ、(102)はSOR光用チエンバで
ある。図から明らかなように、各コンポーネントは床面
(16)上に設置されている。
第4図はSOR装置の全体構成を示す原理図であり、ラ
イナツク(1)にシンクロトロン(30)のインフレクタ
(2)が対置され、偏向電磁石(3)、4極電磁石
(4)、デフレクタ(5)、ビーム輸送系の偏向電磁石
(6)等が配置されている。SORリング(40)は、SORイ
ンフレクタ(7)、SOR偏向電磁石(8)、SOR4極電磁
石(9)等からなっている。また、一点鎖線(10)はビ
ームを表わし、一点鎖線(11)は、SOR光を表わしてい
る。
以上の構成により、ライナツク(1)から出射された
低エネルギーのビーム(通常電子ビーム)(10)はシン
クロトロン(30)で加速された後SORリング(40)に入
射され、そこに蓄積されて放射光(11)を発生する。
ビーム(10)の加速、SORリング(40)への入射を行
つているときは、ビーム(10)がいろいろな場所に当た
り、放射線が出る。特に、ビーム(10)の入射、出射の
機器、すなわちインフレクタ(2),(7)やデフレク
タ(5)において放射線の発生が大きい。従つて、通常
はこれらの機器を鉛、コンクリート、パラフインなどで
囲つて放射線の遮蔽を行つている。
第5図はデフレクタ(5)を示し、真空ポンプ(1
2)、デフレクタの架台(13)、デフレクタの上下移動
装置(14)、デフレクタの水平方向移動装置(15)、シ
ンクロトロン(30)中のビーム用チエンバ(101)、SOR
リング(40)へ入射されるビーム用チエンバ(102)等
からなり、床面(16)上に置かれている。
第6図はデフレクタ(5)に放射線遮蔽を施した状態
を、ビーム進行方向から見た図で、放射線遮蔽材(18)
が架台(17)に支持されている。デフレクタ(5)には
外方に突出した移動装置(14),(15)が存在するため
に、門形の遮断材(18)の大きさが、デフレクタ(5)
本体の大きさに比べてかなり大となる。また、各コンポ
ーネントが床面(16)上に設置されているため、デフレ
クタ(5)の高さが比較的高く、放射線遮蔽材(18)の
高さもこれに対応して高くなる。放射線遮蔽材(18)に
は主として鉛が使われるので、その重量は非常に重い。
従つて、床面(16)上の高い位置に重量物を設置するの
は耐振上不安定であり、架台(17)も大形で強固なもの
にしなければならないことになる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のSOR装置は以上のように設置されていたので、
放射線遮蔽材が大きく、かつ、これを床面上の比較的高
い位置に設置しなければならず、放射線遮蔽材の架台も
大形で強固にしなければならないなどの問題があつた。
この発明は上記のような課題を解決するためになされ
たもので、放射線遮蔽材の設置位置を低くできるととも
に、その大きさを小さくできる放射光発生装置の設置方
法を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る放射光発生装置の設置方法は、環状に
構成されたビーム用チエンバと、このビーム用チエンバ
の所定位置に配設されて該ビーム用チエンバ内にビーム
を入射させるインフレクタと、ビーム用チエンバの所定
位置に配設されてビームを偏向あるいは集束させて該ビ
ーム用チエンバ内を進行させる複数の電磁石と、ビーム
用チエンバの所定位置に配設されて該ビーム用チエンバ
内を進行するビームを加速するRF空洞と、ビーム用チエ
ンバの所定位置に配設されて該ビーム用チエンバ内から
ビームを取り出すデフレクタ、インフレクタ、RF空洞お
よびデフレクタがそれぞれ設置される架台と、架台のそ
れぞれに設置されたビーム用チエンバ内を真空排気する
真空ポンプとを備えた放射光発生装置の設置方法におい
て、真空ポンプを下方に向けて架台にそれぞれ設置し、
架台が据え付けられる床面の各位置に凹所を形成し、真
空ポンプを凹所内に落とし込んで、インフレクタ、RF空
洞およびデフレクタの設置高さを低くするようにしたも
のである。
〔作 用〕
この発明においては、インフレクタ、RF空洞およびデ
フレクタが設置される架台に下方に向けて取り付けられ
ている真空ポンプは、床面に形成された凹所に落とし込
まれる。そこで、架台の高さが低くなり、他のコンポー
ネントの設置高さを制約していたインフレクタ、RF空洞
およびデフレクタの設置高さを低くできる。従って、各
コンポーネントの高さが低くなり、放射線遮蔽材を低く
設置でき耐振上安定になる。また、放射線遮蔽材で囲う
範囲が小さくなり、放射線遮蔽材の量が少なくなる。さ
らに、放射線遮蔽材を支持する架台も小さくなる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を第1図,第2図について
説明する。第1図において、床面(16)に凹所(20)が
設けられており、デフレクタ(5)の下部に取付けた真
空ポンプ(12)が凹所(20)に入れられ、デフレクタ
(5)の床面(16)からの高さが低くなつている。デフ
レクタ(5)の上下方向移動装置(14)や水平方向移動
装置(15)はデフレクタ(5)の下部に設置されてい
る。このデフレクタ(5)に放射線シールドを施したと
ころをビーム進向方向から見た図が第2図である。第6
図と比較すると明らかなように、放射線遮蔽材(18)の
高さが低くなり、安定になつている。また、デフレクタ
(5)の上下方向移動装置(14)や水平方向移動装置
(15)がデフレクタ(5)の下部に設置されたため、放
射線遮蔽材(18)の量が少なく軽くなる。さらに、これ
らに対応して放射線遮蔽材(18)の架台(17)の高さが
低くなりその構造物も細いものでもよくなる。
以上はデフレクタ(5)を例にとつて説明したが、イ
ンフレクタ(7)やフアストキツカやRF空洞などの主な
コンポーネント総てについて同じことが言える。なお、
RF空洞の場合は、放射線遮蔽材(18)で囲むことはあま
りないが、RF空洞の高さが高くなるとそれに対応してデ
フレクタやインフレクタなどの他のコンポーネントの高
さも高くなるので、RF空洞の高さを低くすることは他の
機器の高さを低くすることと等価である。これは、シン
クロトロン(30)やSORリング(40)内では、ビームは
通常同一平面上を回転するように設計されるからであ
る。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、真空ポンプを下方
に向けて架台にそれぞれ設置し、架台が据え付けられる
床面の各位置に凹所を形成し、真空ポンプを凹所内に落
とし込んで、インフレクタ、RF空洞およびデフレクタの
設置高さを低くするようにしたので、放射線遮蔽材の高
さが低くなり、安定になるとともに放射線遮蔽材の量が
少なくなり、放射線遮蔽材の架台も背が低く細い構造物
で足りるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の斜視図、第2図は第1図
のものに放射線遮蔽を設置した状態を示す正面図、第3
図は従来のSOR装置の一部斜視図、第4図は従来のSOR装
置の概略平面図、第5図は同じく一部斜視図、第6図は
第5図のものに放射線遮蔽を設置した状態を示す正面図
である。 (2),(7)……インフレクタ、(5)……デフレク
タ、(12)……真空ポンプ(付属機器)、(16)……床
面、(17)……架台、(18)……放射線遮蔽材、(20)
……凹所。 なお、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】環状に構成されたビーム用チエンバと、こ
    のビーム用チエンバの所定位置に配設されて該ビーム用
    チエンバ内にビームを入射させるインフレクタと、前記
    ビーム用チエンバの所定位置に配設されてビームを偏向
    あるいは集束させて該ビーム用チエンバ内を進行させる
    複数の電磁石と、前記ビーム用チエンバの所定位置に配
    設されて該ビーム用チエンバ内を進行するビームを加速
    するRF空洞と、前記ビーム用チエンバの所定位置に配設
    されて該ビーム用チエンバ内からビームを取り出すデフ
    レクタ、前記インフレクタ、前記RF空洞および前記デフ
    レクタがそれぞれ設置される架台と、前記架台のそれぞ
    れに設置されて前記ビーム用チエンバ内を真空排気する
    真空ポンプとを備えた放射光発生装置の設置方法におい
    て、 前記真空ポンプを下方に向けて前記架台にそれぞれ設置
    し、前記架台が据え付けられる床面の各位置に凹所を形
    成し、前記真空ポンプを前記凹所内に落とし込んで、前
    記インフレクタ、前記RF空洞および前記デフレクタの設
    置高さを低くするようにした放射光発生装置の設置方
    法。
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