JPH07282975A - 有機el素子及びその製造方法 - Google Patents
有機el素子及びその製造方法Info
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- JPH07282975A JPH07282975A JP6075863A JP7586394A JPH07282975A JP H07282975 A JPH07282975 A JP H07282975A JP 6075863 A JP6075863 A JP 6075863A JP 7586394 A JP7586394 A JP 7586394A JP H07282975 A JPH07282975 A JP H07282975A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大気中のガスや水分等の悪影響から発光強度
の低下といった発光輝度特性の特性劣化を改善した有機
EL素子及びその製造方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 透明性を有するガラス基板1の上に設けられ
た陽電極2と、陽電極2の上に設けられた有機物質ホー
ル輸送層3と、有機物質ホール輸送層3の上に設けられ
た有機物質発光層4と、有機物質発光層4の上に設けら
れた陰電極5と、その陰電極5を覆うように封止層6を
備え、陽電極2の周辺側の部分と封止層6を覆うように
防湿性を有する熱可塑性高分子膜8を施した有機EL素
子、またデイップにて防湿膜を形成する方法。
の低下といった発光輝度特性の特性劣化を改善した有機
EL素子及びその製造方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 透明性を有するガラス基板1の上に設けられ
た陽電極2と、陽電極2の上に設けられた有機物質ホー
ル輸送層3と、有機物質ホール輸送層3の上に設けられ
た有機物質発光層4と、有機物質発光層4の上に設けら
れた陰電極5と、その陰電極5を覆うように封止層6を
備え、陽電極2の周辺側の部分と封止層6を覆うように
防湿性を有する熱可塑性高分子膜8を施した有機EL素
子、またデイップにて防湿膜を形成する方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示用ディスプレイ
のディスプレイ表示、光通信の光源等に用いられる有機
EL素子及びその製造方法に関するものである。
のディスプレイ表示、光通信の光源等に用いられる有機
EL素子及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子(以下E
L素子という)とは、固体性物質の電界発光現象を利用
した発光デバイスである。
L素子という)とは、固体性物質の電界発光現象を利用
した発光デバイスである。
【0003】現在、無機系材料を発光体として用いた無
機EL素子が実用化され液晶ディスプレイや、フラット
ディスプレイ等に応用されている。しかし無機EL素子
は素子を発光させるために高電圧(〜200V)が必要
であること、また大型になると鮮明な発光が得られに
く、さらにカラー化が複雑になる等の欠点があった。
機EL素子が実用化され液晶ディスプレイや、フラット
ディスプレイ等に応用されている。しかし無機EL素子
は素子を発光させるために高電圧(〜200V)が必要
であること、また大型になると鮮明な発光が得られに
く、さらにカラー化が複雑になる等の欠点があった。
【0004】一方、有機系材料を用いたEL素子に関す
る研究も多く行われている。特に有機EL素子は陰極/
電子注入輸送層/発光層/正孔注入輸送層/陽極、陽極
/発光層/陰極等の構成のものが開発されている。これ
らは低電圧を印加するだけで発光し高輝度高効率の特性
が得られ、大型化さらに多色表示が可能であるなど優れ
た特性を有しており各所で発光材料、電子注入輸送層、
電極材料等の研究が盛んに行われている。しかしこれら
の課題は特性の経時劣化が著しい事であった。その劣化
要因として有機EL素子は有機化合物のホール輸送層や
発光層の構成層の厚みが数μmレベルの薄膜厚みである
ことから大気中のガスや水分が発光強度の劣化をもたら
す事が知られている。その対策として封止膜を、さらに
は耐湿性を有する光硬化性樹脂層を形成させる事が特開
平5−182759にて知られている。これによれば、
有機EL素子の耐湿性を目的に、ガラス基板上に透明電
極および背面電極によって挟持された有機物EL層を積
層した後、これら素子を覆うようにSiO2膜を成膜
し、その上部に耐湿性を有する光硬化性樹脂を用い紫外
線の照射加熱によって防湿層を形成することであった。
その従来例の断面構造のものが図3に示されている。つ
まり、図3における構造のものでは、透明性を有するガ
ラス基板1の上に、陽電極2、有機物質ホール輸送層
3、有機物質発光層4、陰電極5、を順次形成した後、
これらの素子を覆うようにSiO2を用い封止層6を形
成し、この封止層6の上に光硬化性樹脂層7を施こした
ものであった。
る研究も多く行われている。特に有機EL素子は陰極/
電子注入輸送層/発光層/正孔注入輸送層/陽極、陽極
/発光層/陰極等の構成のものが開発されている。これ
らは低電圧を印加するだけで発光し高輝度高効率の特性
が得られ、大型化さらに多色表示が可能であるなど優れ
た特性を有しており各所で発光材料、電子注入輸送層、
電極材料等の研究が盛んに行われている。しかしこれら
の課題は特性の経時劣化が著しい事であった。その劣化
要因として有機EL素子は有機化合物のホール輸送層や
発光層の構成層の厚みが数μmレベルの薄膜厚みである
ことから大気中のガスや水分が発光強度の劣化をもたら
す事が知られている。その対策として封止膜を、さらに
は耐湿性を有する光硬化性樹脂層を形成させる事が特開
平5−182759にて知られている。これによれば、
有機EL素子の耐湿性を目的に、ガラス基板上に透明電
極および背面電極によって挟持された有機物EL層を積
層した後、これら素子を覆うようにSiO2膜を成膜
し、その上部に耐湿性を有する光硬化性樹脂を用い紫外
線の照射加熱によって防湿層を形成することであった。
その従来例の断面構造のものが図3に示されている。つ
まり、図3における構造のものでは、透明性を有するガ
ラス基板1の上に、陽電極2、有機物質ホール輸送層
3、有機物質発光層4、陰電極5、を順次形成した後、
これらの素子を覆うようにSiO2を用い封止層6を形
成し、この封止層6の上に光硬化性樹脂層7を施こした
ものであった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、図3に示
した構造のものでは、封止層の形成はSiO2材料を用
いスパッタ法にて封止膜を形成するため小さなピンホー
ルが多数有り完全に大気中のガスや水分を防止するには
数mm程度の厚みが必要で生産性に劣る。さらに光硬化
性樹脂層を形成する場合、紫外線を照射し樹脂硬化の過
程において熱が発生し有機材料が変質し特性劣化の要因
と成ることが少なくなかった。そこで本発明者らは上記
の問題点を考慮し解決すべく鋭意研究をかさねたもの
で、有機材料に悪影響を与えず防湿効果が優れ製造時の
歩留向上、生産性コスト削減を大幅に改善することが出
来る有機EL素子及びその製造方法を提供することを目
的とする。
した構造のものでは、封止層の形成はSiO2材料を用
いスパッタ法にて封止膜を形成するため小さなピンホー
ルが多数有り完全に大気中のガスや水分を防止するには
数mm程度の厚みが必要で生産性に劣る。さらに光硬化
性樹脂層を形成する場合、紫外線を照射し樹脂硬化の過
程において熱が発生し有機材料が変質し特性劣化の要因
と成ることが少なくなかった。そこで本発明者らは上記
の問題点を考慮し解決すべく鋭意研究をかさねたもの
で、有機材料に悪影響を与えず防湿効果が優れ製造時の
歩留向上、生産性コスト削減を大幅に改善することが出
来る有機EL素子及びその製造方法を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の有機EL素子
は、上記目標を達成するために、透明性を有する基板
と、前記基板の上に設けられた陽電極と、前記陽電極の
上に設けられた有機物質発光層と、前記有機物質発光層
の上に設けられた陰電極と、その陰電極を覆う封止層を
備え、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性
を有する熱可塑性高分子膜を施こした事を特徴としてい
る。
は、上記目標を達成するために、透明性を有する基板
と、前記基板の上に設けられた陽電極と、前記陽電極の
上に設けられた有機物質発光層と、前記有機物質発光層
の上に設けられた陰電極と、その陰電極を覆う封止層を
備え、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性
を有する熱可塑性高分子膜を施こした事を特徴としてい
る。
【0007】また透明性を有する基板と、前記基板の上
に設けられた陽電極と、前記陽電極の上に設けられた有
機物質ホール輸送層と、前記有機物質ホール輸送層の上
に設けられた有機物質発光層と、前記有機物質発光層の
上に設けられた陰電極と、その陰電極を覆うように封止
層を備え、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防
湿性を有する熱可塑性高分子膜を施こした事を特徴とす
る有機EL素子。そしてこの熱可塑性高分子膜が、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデンの
中から一種類以上選ばれたものである事を特徴としてい
る。
に設けられた陽電極と、前記陽電極の上に設けられた有
機物質ホール輸送層と、前記有機物質ホール輸送層の上
に設けられた有機物質発光層と、前記有機物質発光層の
上に設けられた陰電極と、その陰電極を覆うように封止
層を備え、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防
湿性を有する熱可塑性高分子膜を施こした事を特徴とす
る有機EL素子。そしてこの熱可塑性高分子膜が、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデンの
中から一種類以上選ばれたものである事を特徴としてい
る。
【0008】また本発明の有機EL素子の製造方法は、
透明性を有する基板の上に陽電極を形成し、前記陽電極
の上に有機物質発光層を形成し、前記有機物質発光層の
上に陰電極を形成し、前記陽電極、有機物質発光層、陰
電極の周辺側の部分をそれぞれ覆う封止層を形成し、前
記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性を有する
熱可塑性高分子膜をデイップにより形成する。そしてこ
の熱可塑性高分子膜が、ポリカーボネート、ポリプロピ
レン、プリ塩化ビニリデンの中から一種類以上選ばれた
もので1μm以上の膜厚に成るように形成する事を特徴
としている。
透明性を有する基板の上に陽電極を形成し、前記陽電極
の上に有機物質発光層を形成し、前記有機物質発光層の
上に陰電極を形成し、前記陽電極、有機物質発光層、陰
電極の周辺側の部分をそれぞれ覆う封止層を形成し、前
記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性を有する
熱可塑性高分子膜をデイップにより形成する。そしてこ
の熱可塑性高分子膜が、ポリカーボネート、ポリプロピ
レン、プリ塩化ビニリデンの中から一種類以上選ばれた
もので1μm以上の膜厚に成るように形成する事を特徴
としている。
【0009】また透明性を有する基板の上に陽電極を形
成し、前記陽電極の上に有機物質ホール輸送層を形成
し、前記有機物質ホール輸送層の上に有機物質発光層を
形成し、前記有機物質発光層の上に陰電極を形成し、前
記陽電極、有機物質ホール輸送層、有機物質発光層、陰
電極の周辺側の部分をそれぞれ覆うように封止層を形成
し、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性を
有する熱可塑性高分子膜をデイップにより形成する。そ
してこの熱可塑性高分子膜が、ポリカーボネート、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニリデンの中から一種類以上選
ばれたもので1μm以上の膜厚に成るように形成する事
を特徴としている。
成し、前記陽電極の上に有機物質ホール輸送層を形成
し、前記有機物質ホール輸送層の上に有機物質発光層を
形成し、前記有機物質発光層の上に陰電極を形成し、前
記陽電極、有機物質ホール輸送層、有機物質発光層、陰
電極の周辺側の部分をそれぞれ覆うように封止層を形成
し、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性を
有する熱可塑性高分子膜をデイップにより形成する。そ
してこの熱可塑性高分子膜が、ポリカーボネート、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニリデンの中から一種類以上選
ばれたもので1μm以上の膜厚に成るように形成する事
を特徴としている。
【0010】
【作用】本発明の有機EL素子では防湿性を有する熱可
塑性高分子膜を施こしているから、大気中のガスや水分
を防止する事ができる。さらに熱可塑性高分子膜の形成
方法もデイップで簡単に成膜する事ができる。
塑性高分子膜を施こしているから、大気中のガスや水分
を防止する事ができる。さらに熱可塑性高分子膜の形成
方法もデイップで簡単に成膜する事ができる。
【0011】したがって従来のように、防湿性樹脂の硬
化時の加熱過程が不要となるため、有機材料の変質も無
く、有機EL素子に損傷を与えることもない。
化時の加熱過程が不要となるため、有機材料の変質も無
く、有機EL素子に損傷を与えることもない。
【0012】
(実施例1)以下に本発明の具体的実施例について、図
面を参照しながら詳細に説明する。尚、本発明は実施例
に限定されるものではない、図1は本発明の一実施例の
有機EL素子の代表的な構造を示す断面図である。
面を参照しながら詳細に説明する。尚、本発明は実施例
に限定されるものではない、図1は本発明の一実施例の
有機EL素子の代表的な構造を示す断面図である。
【0013】図1に於いて、1は透明性を有するガラス
基板、2はガラス基板1の上に設けられたITO(In
O2・SnO2合成膜)の透明電極から成る陽電極、3は
陽電極2の上に設けられた、トリアゾール誘導体の化合
物から成る有機物質ホール輸送層、4は有機物質ホール
輸送層3の上に設けられたベンゾチアゾール系化合物か
ら成る有機物質発光層、5は有機物質発光層4の上に設
けられた仕事関数の小さな、MgAg合金金属より成る
陰電極、6は陽電極2、有機物質ホール輸送層3、有機
物質発光層4、陰電極5の上に、各構成層の酸化防止や
耐薬品性の向上を目的に施こされた封止層であってSi
O膜より成る。8は陽電極2、の周辺側の部分と、封止
層6を覆う防湿性を有する熱可塑性高分子膜であってポ
リカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等よ
り成る。
基板、2はガラス基板1の上に設けられたITO(In
O2・SnO2合成膜)の透明電極から成る陽電極、3は
陽電極2の上に設けられた、トリアゾール誘導体の化合
物から成る有機物質ホール輸送層、4は有機物質ホール
輸送層3の上に設けられたベンゾチアゾール系化合物か
ら成る有機物質発光層、5は有機物質発光層4の上に設
けられた仕事関数の小さな、MgAg合金金属より成る
陰電極、6は陽電極2、有機物質ホール輸送層3、有機
物質発光層4、陰電極5の上に、各構成層の酸化防止や
耐薬品性の向上を目的に施こされた封止層であってSi
O膜より成る。8は陽電極2、の周辺側の部分と、封止
層6を覆う防湿性を有する熱可塑性高分子膜であってポ
リカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等よ
り成る。
【0014】また図1の実施例では透明性を有するガラ
ス基板1を用いたが透明性の有る樹脂等の基板でも良
い。また陽電極2としてITOを用いたがSnO2・S
b合成膜、ZnO2・Al合成膜等の透明電極であれば
同様の効果は得られる。また有機物質ホール輸送層3お
よび有機物質発光層4のようなホール輸送層/発光層の
2層型構造に付いて述べたがホール輸送層/発光層/電
子輸送層の3層型構造等であっても良い、すなわち発光
層が有機物質より成るものであれば効果が得られる。ま
た有機物質ホール輸送層3としてトリアゾール誘導体を
用いたが従来から慣用されているホール輸送材料、発光
材料のものの中から選択して用いることができる。
ス基板1を用いたが透明性の有る樹脂等の基板でも良
い。また陽電極2としてITOを用いたがSnO2・S
b合成膜、ZnO2・Al合成膜等の透明電極であれば
同様の効果は得られる。また有機物質ホール輸送層3お
よび有機物質発光層4のようなホール輸送層/発光層の
2層型構造に付いて述べたがホール輸送層/発光層/電
子輸送層の3層型構造等であっても良い、すなわち発光
層が有機物質より成るものであれば効果が得られる。ま
た有機物質ホール輸送層3としてトリアゾール誘導体を
用いたが従来から慣用されているホール輸送材料、発光
材料のものの中から選択して用いることができる。
【0015】また実施例1は陽電極2の周辺側の部分
と、封止層6を覆うように熱可塑性高分子膜8を形成す
るが透明性を有するガラス基板1の周辺側からでも効果
が得られる。本発明の熱可塑性高分子膜8は大気中のガ
ス、水分等の外部からの悪影響を防止するもので膜の厚
みは厚いほど効果はあるが製造時の歩留、生産性、価格
等を考慮した場合5μmから30μm前後が最適で1μ
m以下では効果が乏しくなる。また熱可塑性高分子膜を
形成する過程において高分子材料の溶液を用いるので、
小さなピンホールのある封止層の内部に浸透し密着性を
高め防湿性も良くなる。尚、厚みの測定はEL素子を注
型用樹脂でモールドし、その後、試料を切断し最少厚み
を顕微鏡にて測定した。また本発明の実施例1は単品の
EL素子について述べたが複数連品さらには大型品にお
いても効果は得られる。
と、封止層6を覆うように熱可塑性高分子膜8を形成す
るが透明性を有するガラス基板1の周辺側からでも効果
が得られる。本発明の熱可塑性高分子膜8は大気中のガ
ス、水分等の外部からの悪影響を防止するもので膜の厚
みは厚いほど効果はあるが製造時の歩留、生産性、価格
等を考慮した場合5μmから30μm前後が最適で1μ
m以下では効果が乏しくなる。また熱可塑性高分子膜を
形成する過程において高分子材料の溶液を用いるので、
小さなピンホールのある封止層の内部に浸透し密着性を
高め防湿性も良くなる。尚、厚みの測定はEL素子を注
型用樹脂でモールドし、その後、試料を切断し最少厚み
を顕微鏡にて測定した。また本発明の実施例1は単品の
EL素子について述べたが複数連品さらには大型品にお
いても効果は得られる。
【0016】次に本発明の製造方法について図1を参照
しながら詳細に説明する。透明性を有するガラス基板1
として市販のITO(InO2・SnO2合成膜)付き透
明ガラス基板1(日本板硝子製、P11OE−H−P
X、寸法44mmX12mmX1.5mm)を用いガラ
ス基板1上に陽極パターン電極を設けるためITO面を
王水によりエッチングし、陽電極2を形成した。次に洗
剤(ユーアイ化成、ホワイト7−L)で1時間超音波洗
浄、続いてイオン交換水で1時間超音波洗浄、続いてア
セトンで30分超音波洗浄、続いてエタノールで1時間
超音波洗浄、続いて沸騰エタノール中に5分間浸漬後、
自然乾燥を行った。
しながら詳細に説明する。透明性を有するガラス基板1
として市販のITO(InO2・SnO2合成膜)付き透
明ガラス基板1(日本板硝子製、P11OE−H−P
X、寸法44mmX12mmX1.5mm)を用いガラ
ス基板1上に陽極パターン電極を設けるためITO面を
王水によりエッチングし、陽電極2を形成した。次に洗
剤(ユーアイ化成、ホワイト7−L)で1時間超音波洗
浄、続いてイオン交換水で1時間超音波洗浄、続いてア
セトンで30分超音波洗浄、続いてエタノールで1時間
超音波洗浄、続いて沸騰エタノール中に5分間浸漬後、
自然乾燥を行った。
【0017】次に洗浄済みガラス基板1を抵抗加熱式真
空蒸着装置内にセットし、チャンバー内を1X106T
orr以下の真空度まで減圧した後、有機化合物のN,
N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニ
ル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミンを蒸
着源とし蒸着速度3A/毎秒のスピードで約500Aの
厚みに蒸着し有機物質ホール輸送層3を形成した。次に
ホール輸送層3の上に有機化合物のトリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウムを蒸着源とし蒸着速度2A
/毎秒のスピードで約500Aの厚みのトリスアルミニ
ウム有機物質発光層4を形成した。続いて有機物質発光
層4の上にMgおよびAg金属を蒸着源としMgとAg
の成分比率は10対1とし蒸着速度5A/毎秒のスピー
ドで抵抗加熱真空蒸着により共蒸着を行い約2500A
の厚みのMgAg合金膜を形成し陰電極5とした。続い
て陽電極2、有機物質ホール輸送層3、有機物質発光層
4、陰電極5の周辺側の部分を覆うようにSiOを蒸着
源とし蒸着速度5A/毎秒のスピードで約5000Aの
厚みの封止層6を形成した。
空蒸着装置内にセットし、チャンバー内を1X106T
orr以下の真空度まで減圧した後、有機化合物のN,
N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニ
ル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミンを蒸
着源とし蒸着速度3A/毎秒のスピードで約500Aの
厚みに蒸着し有機物質ホール輸送層3を形成した。次に
ホール輸送層3の上に有機化合物のトリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウムを蒸着源とし蒸着速度2A
/毎秒のスピードで約500Aの厚みのトリスアルミニ
ウム有機物質発光層4を形成した。続いて有機物質発光
層4の上にMgおよびAg金属を蒸着源としMgとAg
の成分比率は10対1とし蒸着速度5A/毎秒のスピー
ドで抵抗加熱真空蒸着により共蒸着を行い約2500A
の厚みのMgAg合金膜を形成し陰電極5とした。続い
て陽電極2、有機物質ホール輸送層3、有機物質発光層
4、陰電極5の周辺側の部分を覆うようにSiOを蒸着
源とし蒸着速度5A/毎秒のスピードで約5000Aの
厚みの封止層6を形成した。
【0018】次にこの素子を抵抗加熱式真空蒸着装置の
チャンバー内より取り出し、防湿性を有する熱可塑性高
分子材料として、ポリカーボネート15重量部を四塩化
炭素100重量部に溶かした溶液にデイップし15cm
/毎秒のスピードで引き上げ、その後、自然乾燥で四塩
化炭素を蒸発させ熱可塑性高分子膜8を形成した。この
ときのポリカーボネート膜の厚みは約20μmであっ
た。尚、防湿性を有する熱可塑性高分子膜8の形成法と
して注型、塗布、スプレー、等でも良いがピンホールが
無く膜の厚みも熱可塑性高分子溶液の濃度と引き上げ速
度で制御が可能で密着性が良く均質性に富み有機EL素
子に損傷を与えず生産性に優れ最も簡単で安定な方法は
デイップでの形成であった。こうして得られた有機EL
素子にあって、ITOの陽電極2とMgAg合金の陰電
極5の間にケンウッド製直流電圧計を用い電圧10Vを
印加したところ、各試料とも緑色の発光が得られた。
尚、発光輝度の測定として東京光学製輝度計を用い測定
を行った。この素子を大気中に放置し発光輝度特性の経
時変化を調べた。
チャンバー内より取り出し、防湿性を有する熱可塑性高
分子材料として、ポリカーボネート15重量部を四塩化
炭素100重量部に溶かした溶液にデイップし15cm
/毎秒のスピードで引き上げ、その後、自然乾燥で四塩
化炭素を蒸発させ熱可塑性高分子膜8を形成した。この
ときのポリカーボネート膜の厚みは約20μmであっ
た。尚、防湿性を有する熱可塑性高分子膜8の形成法と
して注型、塗布、スプレー、等でも良いがピンホールが
無く膜の厚みも熱可塑性高分子溶液の濃度と引き上げ速
度で制御が可能で密着性が良く均質性に富み有機EL素
子に損傷を与えず生産性に優れ最も簡単で安定な方法は
デイップでの形成であった。こうして得られた有機EL
素子にあって、ITOの陽電極2とMgAg合金の陰電
極5の間にケンウッド製直流電圧計を用い電圧10Vを
印加したところ、各試料とも緑色の発光が得られた。
尚、発光輝度の測定として東京光学製輝度計を用い測定
を行った。この素子を大気中に放置し発光輝度特性の経
時変化を調べた。
【0019】その結果を図2に示す。図2は本発明の一
実施例の放置試験における発光輝度特性の経時変化を示
す特性図である。図において縦軸は発光輝度特性値,横
軸は大気中における放置日数である。(a)は膜厚20
μmの場合の特性で発光面の初期発光輝度は1260c
d/m2で100日後の減衰率は3.5%と非常に安定
している。
実施例の放置試験における発光輝度特性の経時変化を示
す特性図である。図において縦軸は発光輝度特性値,横
軸は大気中における放置日数である。(a)は膜厚20
μmの場合の特性で発光面の初期発光輝度は1260c
d/m2で100日後の減衰率は3.5%と非常に安定
している。
【0020】次に熱可塑性高分子膜8の膜厚の効果を調
べる為、ITOの陽電極2から封止層6の形成までは前
記と同様な手順で行い、熱可塑性高分子膜8の形成はデ
イップの引き上げスピードを5〜20cm/毎秒に変化
させ膜厚み約0.8μm、1μm、5μm、30μmの
試料を作製し発光輝度特性の経時変化を調べた。
べる為、ITOの陽電極2から封止層6の形成までは前
記と同様な手順で行い、熱可塑性高分子膜8の形成はデ
イップの引き上げスピードを5〜20cm/毎秒に変化
させ膜厚み約0.8μm、1μm、5μm、30μmの
試料を作製し発光輝度特性の経時変化を調べた。
【0021】その結果を図2の(b)から(e)に示
す。(b)は膜厚30μmの場合の特性で発光面の初期
発光輝度は1210cd/m2で100日後の減衰率も
4.8%と非常に安定している。(c)は膜厚5μmの
場合の特性で発光面の初期発光輝度は1230cd/m
2で100日後の減衰率はわずか5.2%と少なく安定
している。(d)は膜厚1μmの場合の特性で発光面の
初期発光輝度は1150cd/m2で100日後の減衰
率は9.2%と少しづつ大きくなっている。(e)は膜
厚0.8μmの場合の特性で発光面の初期発光輝度は1
100cd/m2で初期の防湿性効果は少し認められる
が30日付近から特性劣化が始まっている、これは大気
中のガスや水分の影響を完全に遮閉できないことがわか
った。これら結果より熱可塑性高分子膜8の厚みは約
1.0μm以上あることが望ましい。
す。(b)は膜厚30μmの場合の特性で発光面の初期
発光輝度は1210cd/m2で100日後の減衰率も
4.8%と非常に安定している。(c)は膜厚5μmの
場合の特性で発光面の初期発光輝度は1230cd/m
2で100日後の減衰率はわずか5.2%と少なく安定
している。(d)は膜厚1μmの場合の特性で発光面の
初期発光輝度は1150cd/m2で100日後の減衰
率は9.2%と少しづつ大きくなっている。(e)は膜
厚0.8μmの場合の特性で発光面の初期発光輝度は1
100cd/m2で初期の防湿性効果は少し認められる
が30日付近から特性劣化が始まっている、これは大気
中のガスや水分の影響を完全に遮閉できないことがわか
った。これら結果より熱可塑性高分子膜8の厚みは約
1.0μm以上あることが望ましい。
【0022】(f)は本発明の防湿性処理を施していな
い比較例の試料で大気中に放置すると発光輝度の減衰率
が著しく末発光部も一面に広がりさらに陰電極5と有機
物質発光層4の界面剥離が起きた。このことは大気中の
ガスや水分の影響に起因するものと考えられる。
い比較例の試料で大気中に放置すると発光輝度の減衰率
が著しく末発光部も一面に広がりさらに陰電極5と有機
物質発光層4の界面剥離が起きた。このことは大気中の
ガスや水分の影響に起因するものと考えられる。
【0023】(実施例2)ITOの陽電極2から封止層
6の形成までは実施例1と同様な製造方法で作製した素
子を用い防湿性を有する熱可塑性高分子材料としてポリ
プロピレン5重量部を四塩化炭素100重量部に溶かし
た溶液にデイップし5cm/毎秒のスピードで引き上
げ、その後、自然乾燥で四塩化炭素を蒸発させ熱可塑性
高分子膜8を形成した。このときのポリプロピレンの最
少膜厚は約2μmであった。こうして得られた有機EL
素子にあって、陽電極2と陰電極5の間に直流電圧10
Vを印加したところ、緑色の発光が得られ発光面の初期
発光輝度は1200cd/m2であった。この素子を大
気中に放置し発光輝度特性の経時変化を調べた。その結
果を図2の(g)に示す。(g)より100日後の発光
輝度の減衰率はわずか7%でほぼ初期輝度特性値を確保
できた。
6の形成までは実施例1と同様な製造方法で作製した素
子を用い防湿性を有する熱可塑性高分子材料としてポリ
プロピレン5重量部を四塩化炭素100重量部に溶かし
た溶液にデイップし5cm/毎秒のスピードで引き上
げ、その後、自然乾燥で四塩化炭素を蒸発させ熱可塑性
高分子膜8を形成した。このときのポリプロピレンの最
少膜厚は約2μmであった。こうして得られた有機EL
素子にあって、陽電極2と陰電極5の間に直流電圧10
Vを印加したところ、緑色の発光が得られ発光面の初期
発光輝度は1200cd/m2であった。この素子を大
気中に放置し発光輝度特性の経時変化を調べた。その結
果を図2の(g)に示す。(g)より100日後の発光
輝度の減衰率はわずか7%でほぼ初期輝度特性値を確保
できた。
【0024】(実施例3)ITOの陽電極2から封止層
6の形成までは実施例1と同様な製造方法で作製した素
子を用い防湿性を有する、熱可塑性高分子材料としてポ
リカーボネート10重量部、ポリ塩化ビニリデン5重量
部を四塩化炭素100重量部に溶かした溶液にデイップ
し10cm/毎秒のスピードで引き上げ、その後、自然
乾燥で四塩化炭素を蒸発させ熱可塑性高分子膜8を形成
した。このときの最少膜厚は約25μmであった。こう
して得られた有機EL素子にあって、陽電極2と陰電極
5の間に直流電圧10Vを印加したところ、緑色の発光
が得られ発光面の初期発光輝度は1050cd/m2で
あった。この素子を大気中に放置し発光輝度特性の経時
変化を調べた。その結果を図2の(h)に示す。(h)
より100日後の発光輝度の減衰率は7.5%と十分使
用できる特性であった。
6の形成までは実施例1と同様な製造方法で作製した素
子を用い防湿性を有する、熱可塑性高分子材料としてポ
リカーボネート10重量部、ポリ塩化ビニリデン5重量
部を四塩化炭素100重量部に溶かした溶液にデイップ
し10cm/毎秒のスピードで引き上げ、その後、自然
乾燥で四塩化炭素を蒸発させ熱可塑性高分子膜8を形成
した。このときの最少膜厚は約25μmであった。こう
して得られた有機EL素子にあって、陽電極2と陰電極
5の間に直流電圧10Vを印加したところ、緑色の発光
が得られ発光面の初期発光輝度は1050cd/m2で
あった。この素子を大気中に放置し発光輝度特性の経時
変化を調べた。その結果を図2の(h)に示す。(h)
より100日後の発光輝度の減衰率は7.5%と十分使
用できる特性であった。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
透明性を有する基板と、前記基板の上に設けられた陽電
極と、前記陽電極の上に設けられた有機物質発光層と、
前記有機物質発光層の上に設けられた陰電極と、その陰
電極を覆うように封止層を備え、前記陽電極の周辺側の
部分と封止層を覆う防湿性を有する熱可塑性高分子膜を
施こしたことによって、大気中のガスや水分の悪影響を
防止する事ができ、発光輝度特性の経時劣化を大幅に改
善することが可能になった。さらに熱可塑性高分子膜の
形成方法としてデイップは作業が簡単で安定性に優れ大
型化も可能で製造時の歩留向上、製造コスト削減を大幅
に改善する事ができる。
透明性を有する基板と、前記基板の上に設けられた陽電
極と、前記陽電極の上に設けられた有機物質発光層と、
前記有機物質発光層の上に設けられた陰電極と、その陰
電極を覆うように封止層を備え、前記陽電極の周辺側の
部分と封止層を覆う防湿性を有する熱可塑性高分子膜を
施こしたことによって、大気中のガスや水分の悪影響を
防止する事ができ、発光輝度特性の経時劣化を大幅に改
善することが可能になった。さらに熱可塑性高分子膜の
形成方法としてデイップは作業が簡単で安定性に優れ大
型化も可能で製造時の歩留向上、製造コスト削減を大幅
に改善する事ができる。
【図1】本発明の一実施例の有機EL素子の代表的な構
造を示す断面図
造を示す断面図
【図2】本発明の一実施例の放置試験における発光輝度
特性の経時変化を示す特性図
特性の経時変化を示す特性図
【図3】従来例の有機EL素子の断面図
1 ガラス基板 2 陽電極 3 有機物質ホール輸送層 4 有機物質発光層 5 陰電極 6 封止層 8 熱可塑性高分子膜
Claims (6)
- 【請求項1】透明性を有する基板と、前記基板の上に設
けられた陽電極と、前記陽電極の上に設けられた有機物
質発光層と、前記有機物質発光層の上に設けられた陰電
極と、その陰電極を覆う封止層を備え、前記陽電極の周
辺側の部分と封止層を覆う防湿性を有する熱可塑性高分
子膜を施こした事を特徴とする有機EL素子。 - 【請求項2】透明性を有する基板と、前記基板の上に設
けられた陽電極と、前記陽電極の上に設けられた有機物
質ホール輸送層と、前記有機物質ホール輸送層の上に設
けられた有機物質発光層と、前記有機物質発光層の上に
設けられた陰電極と、その陰電極を覆う封止層を備え、
前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性を有す
る熱可塑性高分子膜を施こした事を特徴とする有機EL
素子。 - 【請求項3】熱可塑性高分子膜が、ポリカーボネート、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデンの中から一種類以
上選ばれたものである事を特徴とする請求項1又は2記
載の有機EL素子。 - 【請求項4】透明性を有する基板の上に陽電極を形成
し、前記陽電極の上に有機物質発光層を形成し、前記有
機物質発光層の上に陰電極を形成し、前記陽電極、有機
物質発光層、陰電極の周辺側の部分をそれぞれ覆う封止
層を形成し、前記陽電極の周辺側の部分と封止層を覆う
防湿性を有する熱可塑性高分子膜をデイップにより形成
する事を特徴とした有機EL素子の製造方法。 - 【請求項5】透明性を有する基板の上に陽電極を形成
し、前記陽電極の上に有機物質ホール輸送層を形成し、
前記有機物質ホール輸送層の上に有機物質発光層を形成
し、前記有機物質発光層の上に陰電極を形成し、前記陽
電極、有機物質ホール輸送層、有機物質発光層、陰電極
の周辺側の部分をそれぞれ覆う封止層を形成し、前記陽
電極の周辺側の部分と封止層を覆う防湿性を有する熱可
塑性高分子膜をデイップにより形成する事を特徴とした
有機EL素子の製造方法。 - 【請求項6】熱可塑性高分子膜が、デイップにより1μ
m以上の膜厚に成るように形成する事を特徴とした請求
項4又は5記載の有機EL素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6075863A JPH07282975A (ja) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | 有機el素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6075863A JPH07282975A (ja) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | 有機el素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07282975A true JPH07282975A (ja) | 1995-10-27 |
Family
ID=13588523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6075863A Pending JPH07282975A (ja) | 1994-04-14 | 1994-04-14 | 有機el素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07282975A (ja) |
Cited By (7)
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---|---|---|---|---|
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US6359606B1 (en) | 1997-08-29 | 2002-03-19 | Seiko Epson Corporation | Active matrix display |
US6617052B2 (en) | 2000-03-21 | 2003-09-09 | Seiko Epson Corporation | Organic EL element and method of manufacturing the same |
US6803126B2 (en) | 2002-03-15 | 2004-10-12 | Fujitsu Limited | Organic EL element and organic EL display |
US6867539B1 (en) | 2000-07-12 | 2005-03-15 | 3M Innovative Properties Company | Encapsulated organic electronic devices and method for making same |
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JP2011511403A (ja) * | 2008-01-30 | 2011-04-07 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電子構成素子を作製する方法および電子構成素子 |
-
1994
- 1994-04-14 JP JP6075863A patent/JPH07282975A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011511403A (ja) * | 2008-01-30 | 2011-04-07 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電子構成素子を作製する方法および電子構成素子 |
US8633585B2 (en) | 2008-01-30 | 2014-01-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Device comprising an encapsulation unit |
US8658442B2 (en) | 2008-01-30 | 2014-02-25 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing an electronic component and electronic component |
US8916397B2 (en) | 2008-01-30 | 2014-12-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing an electronic component and electronic component |
US9647186B2 (en) | 2008-01-30 | 2017-05-09 | Osram Oled Gmbh | Method for producing an electronic component and electronic component |
US10026625B2 (en) | 2008-01-30 | 2018-07-17 | Osram Oled Gmbh | Device comprising an encapsulation unit |
US10297469B2 (en) | 2008-01-30 | 2019-05-21 | Osram Oled Gmbh | Method for producing an electronic component and electronic component |
JP2011044441A (ja) * | 2010-12-01 | 2011-03-03 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
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