JPH07270699A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPH07270699A JPH07270699A JP8237394A JP8237394A JPH07270699A JP H07270699 A JPH07270699 A JP H07270699A JP 8237394 A JP8237394 A JP 8237394A JP 8237394 A JP8237394 A JP 8237394A JP H07270699 A JPH07270699 A JP H07270699A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被走査面全域に渡って略均一なるスポット径
で光走査することができる光走査装置を得ること。 【構成】 光源手段１からの光変調した光ビームを偏向
手段３に入射させ、該偏向手段で偏向反射した光ビーム
を結像手段４により被走査面５上に導光し光走査する光
走査装置において、該被走査面上を主走査方向に光走査
する光ビームのスポット径の大きさを制御手段６により
制御したこと。
で光走査することができる光走査装置を得ること。 【構成】 光源手段１からの光変調した光ビームを偏向
手段３に入射させ、該偏向手段で偏向反射した光ビーム
を結像手段４により被走査面５上に導光し光走査する光
走査装置において、該被走査面上を主走査方向に光走査
する光ビームのスポット径の大きさを制御手段６により
制御したこと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光走査装置に関し、特に
光源手段からの光変調した光ビームを例えばｓｉｎ波状
に往復動（正弦振動）する光偏向器で偏向反射させｓｉ
ｎ-1θレンズ（結像手段）を介して感光体や静電記録体
等の像担持体である被走査面を光走査することにより画
像形成するようにした、例えば電子写真プロセスを有す
るレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の装置に好適な
光走査装置に関するものである。
光源手段からの光変調した光ビームを例えばｓｉｎ波状
に往復動（正弦振動）する光偏向器で偏向反射させｓｉ
ｎ-1θレンズ（結像手段）を介して感光体や静電記録体
等の像担持体である被走査面を光走査することにより画
像形成するようにした、例えば電子写真プロセスを有す
るレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の装置に好適な
光走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタ（ＬＢ
Ｐ）等の光走査装置においては像担持体面上を画像信号
に応じて光変調された光ビームで光走査することにより
画像情報の書き込み等を行なっている。
Ｐ）等の光走査装置においては像担持体面上を画像信号
に応じて光変調された光ビームで光走査することにより
画像情報の書き込み等を行なっている。
【０００３】図８は従来の光走査装置の要部概略図であ
る。
る。
【０００４】同図において半導体レーザから成る光源手
段８１から出射された光ビームＬは図中矢印Ａ方向に往
復動する１枚の振動ミラー８２を有する光偏向器（ガル
バノミラー）８３の鏡面（偏向面）８２ａに入射する。
振動ミラー８２は該振動ミラー８２を含む光偏向器８３
の可動部が持つ固有振動数でｓｉｎ波状に往復振動して
いる。そして振動ミラー８２の往復振動によって光ビー
ムＬは鏡面８２ａで左右方向に偏向反射され、結像手段
としてのｓｉｎ-1θレンズ８４を通過した後、被走査面
８５上にスポット状に結像している。
段８１から出射された光ビームＬは図中矢印Ａ方向に往
復動する１枚の振動ミラー８２を有する光偏向器（ガル
バノミラー）８３の鏡面（偏向面）８２ａに入射する。
振動ミラー８２は該振動ミラー８２を含む光偏向器８３
の可動部が持つ固有振動数でｓｉｎ波状に往復振動して
いる。そして振動ミラー８２の往復振動によって光ビー
ムＬは鏡面８２ａで左右方向に偏向反射され、結像手段
としてのｓｉｎ-1θレンズ８４を通過した後、被走査面
８５上にスポット状に結像している。
【０００５】ここでｓｉｎ-1θレンズ８４はｓｉｎ波状
に往復動する鏡面８２ａで偏向反射された各偏向ビーム
ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを被走査面８５上で等速運動するよう
に変換すると共に、該偏向ビームに基づく画像情報を被
走査面８５上に結像させている。
に往復動する鏡面８２ａで偏向反射された各偏向ビーム
ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを被走査面８５上で等速運動するよう
に変換すると共に、該偏向ビームに基づく画像情報を被
走査面８５上に結像させている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の光
走査装置においては被走査面８５上を光走査する光ビー
ムのスポット径の大きさが被走査面８５の中心部の走査
位置Ａ点（光軸上の点）と該被走査面８５の両端部の走
査位置Ｂ，Ｃ点とで異なり、該両端部での走査位置Ｂ
点、Ｃ点のスポット径の方が走査位置Ａ点のスポット径
に比べて約１．５倍も大きくなるという問題点があっ
た。
走査装置においては被走査面８５上を光走査する光ビー
ムのスポット径の大きさが被走査面８５の中心部の走査
位置Ａ点（光軸上の点）と該被走査面８５の両端部の走
査位置Ｂ，Ｃ点とで異なり、該両端部での走査位置Ｂ
点、Ｃ点のスポット径の方が走査位置Ａ点のスポット径
に比べて約１．５倍も大きくなるという問題点があっ
た。
【０００７】即ち、光ビームのスポットの光量分布（光
強度分布）は図９（Ａ）に示すように被走査面８５上の
走査位置Ａ点においては実線９１で示すように先鋭なる
分布となっているが、両端部での走査位置Ｂ，Ｃ点では
点線９２で示すようにあまり先鋭ではなく丸みのある主
走査方向に広がった分布となっている。
強度分布）は図９（Ａ）に示すように被走査面８５上の
走査位置Ａ点においては実線９１で示すように先鋭なる
分布となっているが、両端部での走査位置Ｂ，Ｃ点では
点線９２で示すようにあまり先鋭ではなく丸みのある主
走査方向に広がった分布となっている。
【０００８】その為、例えばビーム中心の値Ｉの１／ｅ
2 の光強度レベルＳでスポット径を測定した場合、図９
（Ｂ）に示すように走査位置Ａ点におけるスポット径は
実線で示す径９３となるが、両端部における走査位置Ｂ
点、Ｃ点でのスポット径は点線で示す径９４の大きさに
なり、これは走査位置Ａ点におけるスポット径に比べて
約１．５倍も大きくなってしまうという現象（問題点）
があった。
2 の光強度レベルＳでスポット径を測定した場合、図９
（Ｂ）に示すように走査位置Ａ点におけるスポット径は
実線で示す径９３となるが、両端部における走査位置Ｂ
点、Ｃ点でのスポット径は点線で示す径９４の大きさに
なり、これは走査位置Ａ点におけるスポット径に比べて
約１．５倍も大きくなってしまうという現象（問題点）
があった。
【０００９】図１０にこのときの各走査位置における光
ビームのスポット径の変化を示す。同図において曲線１
０１が各走査位置における光ビームのスポット径の変化
を示しており、両端部の走査位置Ｂ点，Ｃ点に向かうに
つれてスポット径が順次大きくなっている。
ビームのスポット径の変化を示す。同図において曲線１
０１が各走査位置における光ビームのスポット径の変化
を示しており、両端部の走査位置Ｂ点，Ｃ点に向かうに
つれてスポット径が順次大きくなっている。
【００１０】この結果、例えば図８に示した光走査装置
をレーザービームプリンタに使用した場合、プリントさ
れた用紙上のラインが該用紙の中央部に比べ両端部の方
が太くなってしまい、高品位な出力画像が得られなく実
用上障害となるという問題点があった。
をレーザービームプリンタに使用した場合、プリントさ
れた用紙上のラインが該用紙の中央部に比べ両端部の方
が太くなってしまい、高品位な出力画像が得られなく実
用上障害となるという問題点があった。
【００１１】本発明は被走査面上を光走査する光ビーム
のスポット径が、該被走査面全域に渡って略均一となる
ように、例えば光強度制御手段（制御手段）により光源
手段から出射する光ビームの光強度を主走査方向に同期
させて制御したり、あるいは光偏向器と被走査面との間
の光路中に設けた入射角依存性を有する光量制御手段
（制御手段）により光ビームの主走査方向の通過光量を
制御することにより、高品位な画像が容易に得られる光
走査装置の提供を目的とする。
のスポット径が、該被走査面全域に渡って略均一となる
ように、例えば光強度制御手段（制御手段）により光源
手段から出射する光ビームの光強度を主走査方向に同期
させて制御したり、あるいは光偏向器と被走査面との間
の光路中に設けた入射角依存性を有する光量制御手段
（制御手段）により光ビームの主走査方向の通過光量を
制御することにより、高品位な画像が容易に得られる光
走査装置の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、 （１）光源手段からの光変調した光ビームを偏向手段に
入射させ、該偏向手段で偏向反射した光ビームを結像手
段により被走査面上に導光し光走査する光走査装置にお
いて、該被走査面上を主走査方向に光走査する光ビーム
のスポット径の大きさを制御手段により制御したことを
特徴としている。
入射させ、該偏向手段で偏向反射した光ビームを結像手
段により被走査面上に導光し光走査する光走査装置にお
いて、該被走査面上を主走査方向に光走査する光ビーム
のスポット径の大きさを制御手段により制御したことを
特徴としている。
【００１３】特に前記制御手段は前記被走査面上での光
ビームのスポット径が該被走査面全域に渡って略均一と
なるように前記光源手段から出射する光ビームの光強度
を主走査方向に同期させて制御していることを特徴とし
ている。
ビームのスポット径が該被走査面全域に渡って略均一と
なるように前記光源手段から出射する光ビームの光強度
を主走査方向に同期させて制御していることを特徴とし
ている。
【００１４】又、前記制御手段は前記光偏向器と前記被
走査面との間の光路中に配され、該被走査面上での光ビ
ームのスポット径が該被走査面全域に渡って略均一とな
るように前記光ビームの主走査方向の通過光量を制御し
ていることや、該制御手段は該制御手段に入射する光ビ
ームの入射角が大きくなるにつれ透過率又は反射率が低
下する入射角依存性を有していることを特徴としてい
る。
走査面との間の光路中に配され、該被走査面上での光ビ
ームのスポット径が該被走査面全域に渡って略均一とな
るように前記光ビームの主走査方向の通過光量を制御し
ていることや、該制御手段は該制御手段に入射する光ビ
ームの入射角が大きくなるにつれ透過率又は反射率が低
下する入射角依存性を有していることを特徴としてい
る。
【００１５】（２）光源手段からの光変調した光ビーム
をｓｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏
向器で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより
被走査面上に導光し光走査する光走査装置において、該
被走査面上を光走査する光ビームのスポット径が該被走
査面全域に渡って略均一となるように該光源手段から出
射する光ビームの光強度を光強度制御手段により主走査
方向に同期させて制御したことを特徴としている。
をｓｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏
向器で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより
被走査面上に導光し光走査する光走査装置において、該
被走査面上を光走査する光ビームのスポット径が該被走
査面全域に渡って略均一となるように該光源手段から出
射する光ビームの光強度を光強度制御手段により主走査
方向に同期させて制御したことを特徴としている。
【００１６】（３）光源手段からの光変調した光ビーム
をｓｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏
向器で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより
被走査面上に導光し光走査する光走査装置において、該
被走査面上を光走査する光ビームのスポット径を、その
現像後のトナー像のスポット径が該被走査面全域に渡っ
て略均一となるように該光源手段から出射する光ビーム
の光強度を光強度制御手段により主走査方向に同期させ
て制御したことを特徴としている。
をｓｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏
向器で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより
被走査面上に導光し光走査する光走査装置において、該
被走査面上を光走査する光ビームのスポット径を、その
現像後のトナー像のスポット径が該被走査面全域に渡っ
て略均一となるように該光源手段から出射する光ビーム
の光強度を光強度制御手段により主走査方向に同期させ
て制御したことを特徴としている。
【００１７】（４）光源手段からの光変調した光ビーム
をｓｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏
向器で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより
被走査面上に導光し光走査する光走査装置において、該
被走査面上を光走査する光ビームのスポット径が該被走
査面全域に渡って略均一となるように該光偏向器と該被
走査面との間の光路中に設けた光量制御手段により該光
ビームの主走査方向の通過光量を制御したことを特徴と
している。
をｓｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏
向器で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより
被走査面上に導光し光走査する光走査装置において、該
被走査面上を光走査する光ビームのスポット径が該被走
査面全域に渡って略均一となるように該光偏向器と該被
走査面との間の光路中に設けた光量制御手段により該光
ビームの主走査方向の通過光量を制御したことを特徴と
している。
【００１８】特に前記光量制御手段は該光量制御手段に
入射する光ビームの入射角が大きくなるにつれ透過率又
は反射率が低下する入射角依存性を有していることを特
徴としている。
入射する光ビームの入射角が大きくなるにつれ透過率又
は反射率が低下する入射角依存性を有していることを特
徴としている。
【００１９】
【実施例】図１は本発明の実施例１の主走査方向の要部
断面図である。
断面図である。
【００２０】同図において１は光源手段であり、例えば
半導体レーザ等より成っている。本実施例においては後
述するように被走査面５上における主走査方向の光ビー
ムのスポット径の大きさが該被走査面５全域に渡って略
均一となるように光強度制御手段（制御手段）６により
光源手段１から出射する光ビームの光強度を主走査方向
に同期させて変化させている。
半導体レーザ等より成っている。本実施例においては後
述するように被走査面５上における主走査方向の光ビー
ムのスポット径の大きさが該被走査面５全域に渡って略
均一となるように光強度制御手段（制御手段）６により
光源手段１から出射する光ビームの光強度を主走査方向
に同期させて変化させている。
【００２１】３は偏向手段としての光偏向器（ガルバノ
ミラー）であり、１枚の振動ミラー２を有しており、該
振動ミラー２は該振動ミラー２を含む光偏向器３の可動
部が持つ固有振動数でｓｉｎ波状に往復振動（正弦振
動）している。
ミラー）であり、１枚の振動ミラー２を有しており、該
振動ミラー２は該振動ミラー２を含む光偏向器３の可動
部が持つ固有振動数でｓｉｎ波状に往復振動（正弦振
動）している。
【００２２】４は結像手段としてのｓｉｎ-1θレンズで
あり、振動ミラー２によって左右方向に偏向反射された
偏向ビームを被走査面５上に結像させており、又偏向反
射された偏向ビームを被走査面５上で等速運動するよう
に変換している。
あり、振動ミラー２によって左右方向に偏向反射された
偏向ビームを被走査面５上に結像させており、又偏向反
射された偏向ビームを被走査面５上で等速運動するよう
に変換している。
【００２３】被走査面５は例えば複写機やＬＢＰ等では
感光体ドラム面に相当している。
感光体ドラム面に相当している。
【００２４】本実施例においては光源手段１から光変調
された光ビームＬを光偏向器３で偏向反射させｓｉｎ-1
θレンズ４により被走査面５上にスポット状に集束させ
該被走査面５上を光走査している。これにより画像記録
を行なっている。
された光ビームＬを光偏向器３で偏向反射させｓｉｎ-1
θレンズ４により被走査面５上にスポット状に集束させ
該被走査面５上を光走査している。これにより画像記録
を行なっている。
【００２５】次に本実施例の光学的作用について図２、
図３、図４を用いて説明する。
図３、図４を用いて説明する。
【００２６】図２（Ａ），（Ｂ）は本実施例の被走査面
５上における光ビームのスポットの光強度分布とスポッ
ト径を示した説明図、図３は本実施例の被走査面５上に
おける走査位置に対する光ビームのスポットの光強度の
ピーク値の変化を示した説明図、図４は本実施例の被走
査面５上における走査位置に対するスポット径の変化を
示した説明図である。
５上における光ビームのスポットの光強度分布とスポッ
ト径を示した説明図、図３は本実施例の被走査面５上に
おける走査位置に対する光ビームのスポットの光強度の
ピーク値の変化を示した説明図、図４は本実施例の被走
査面５上における走査位置に対するスポット径の変化を
示した説明図である。
【００２７】本実施例では被走査面５上における光ビー
ムのスポット径の大きさが該被走査面全域に渡って略均
一となるように光源手段１から出射する光ビームの光強
度を光強度制御手段６により主走査方向に同期させて制
御し、例えば図３に示す実線３１の如く該被走査面５上
における光ビームの光強度のピーク値を光軸上の走査位
置Ａ点では大きく、両端部の走査位置Ｂ点、Ｃ点では小
さくなるように変化させている。
ムのスポット径の大きさが該被走査面全域に渡って略均
一となるように光源手段１から出射する光ビームの光強
度を光強度制御手段６により主走査方向に同期させて制
御し、例えば図３に示す実線３１の如く該被走査面５上
における光ビームの光強度のピーク値を光軸上の走査位
置Ａ点では大きく、両端部の走査位置Ｂ点、Ｃ点では小
さくなるように変化させている。
【００２８】即ち、本実施例では走査位置Ａ点における
光強度のピーク値と走査位置Ｂ点及びＣ点におけるピー
ク値との比を適切に設定することにより図２（Ａ）に示
すように被走査面５上における光ビームのスポット径の
光強度分布が光強度レベルＳ（例えば光強度１／ｅ2 ）
において、走査位置Ａ点における光強度分布１１と走査
位置Ｂ点、Ｃ点における光強度分布１２とで、そのビー
ム幅（スポット径）が等しくなるようにしている。
光強度のピーク値と走査位置Ｂ点及びＣ点におけるピー
ク値との比を適切に設定することにより図２（Ａ）に示
すように被走査面５上における光ビームのスポット径の
光強度分布が光強度レベルＳ（例えば光強度１／ｅ2 ）
において、走査位置Ａ点における光強度分布１１と走査
位置Ｂ点、Ｃ点における光強度分布１２とで、そのビー
ム幅（スポット径）が等しくなるようにしている。
【００２９】これにより図２（Ｂ）に示すように、それ
ぞれの走査位置Ａ点、Ｂ点、Ｃ点における光ビームのス
ポット径１３，１４の大きさが同じになり、その結果図
４の実線４１で示すようにスポット径の大きさを被走査
面５の端部の走査位置Ｂ点から光軸上の走査位置Ａ点を
経て他の端部の走査位置Ｃ点に至る全域に渡って略均一
にしている。
ぞれの走査位置Ａ点、Ｂ点、Ｃ点における光ビームのス
ポット径１３，１４の大きさが同じになり、その結果図
４の実線４１で示すようにスポット径の大きさを被走査
面５の端部の走査位置Ｂ点から光軸上の走査位置Ａ点を
経て他の端部の走査位置Ｃ点に至る全域に渡って略均一
にしている。
【００３０】実際、レーザービームプリンタ（ＬＢＰ）
等の光走査装置においては、このようにして感光体ドラ
ム面（被走査面）上に形成された画像を周知の電子写真
プロセスにより現像し、該感光体面上にトナー像として
顕在化されるが、そのときのトナー像のスポット径は必
ずしも図２に示したスポット径の大きさとは同じになら
ない。
等の光走査装置においては、このようにして感光体ドラ
ム面（被走査面）上に形成された画像を周知の電子写真
プロセスにより現像し、該感光体面上にトナー像として
顕在化されるが、そのときのトナー像のスポット径は必
ずしも図２に示したスポット径の大きさとは同じになら
ない。
【００３１】例えばトナー像のスポット径は図４に示す
点線４２の如く、例え光ビームのスポット径（実線４
１）が被走査面５上における各走査位置Ａ，Ｂ，Ｃ点で
同一であっても、各走査位置Ａ，Ｂ，Ｃ点で同一になら
ないことがある。
点線４２の如く、例え光ビームのスポット径（実線４
１）が被走査面５上における各走査位置Ａ，Ｂ，Ｃ点で
同一であっても、各走査位置Ａ，Ｂ，Ｃ点で同一になら
ないことがある。
【００３２】そこで本実施例においては、このような場
合にはトナー像のスポット径が図４に示す一点鎖線４３
のように被走査面５上における各走査位置Ａ，Ｂ，Ｃ点
で同一となるように光強度のピーク値を図３に示す２点
鎖線３２となるように光源手段１から出射する光ビーム
の光強度を光強度調節手段６により主走査方向に同期さ
せて変化させている。
合にはトナー像のスポット径が図４に示す一点鎖線４３
のように被走査面５上における各走査位置Ａ，Ｂ，Ｃ点
で同一となるように光強度のピーク値を図３に示す２点
鎖線３２となるように光源手段１から出射する光ビーム
の光強度を光強度調節手段６により主走査方向に同期さ
せて変化させている。
【００３３】この光強度のピーク値を図３で示す曲線と
なるように変化させる為には光源手段１から出射する光
ビームの光強度を、例えば走査位置Ｂ点及びＣ点におけ
る光強度を走査位置Ａ点の光強度より減少させ、あるい
は走査位置Ａ点の光強度を走査位置Ｂ点及びＣ点の光強
度より上昇させれば良い。即ち走査位置Ａ点と走査位置
Ｂ点、Ｃ点との光ビームの光強度を相対的に変化させれ
ば良い。
なるように変化させる為には光源手段１から出射する光
ビームの光強度を、例えば走査位置Ｂ点及びＣ点におけ
る光強度を走査位置Ａ点の光強度より減少させ、あるい
は走査位置Ａ点の光強度を走査位置Ｂ点及びＣ点の光強
度より上昇させれば良い。即ち走査位置Ａ点と走査位置
Ｂ点、Ｃ点との光ビームの光強度を相対的に変化させれ
ば良い。
【００３４】そしてこのときの光強度のピーク値の比は
（Ａ点）：（Ｂ・Ｃ点）＝１．５：１となるように設定
することが最も望ましい。これによりトナー像のスポッ
ト径を被走査面全域に渡って略均一にすることができ、
高品位な画像を得ることができる。
（Ａ点）：（Ｂ・Ｃ点）＝１．５：１となるように設定
することが最も望ましい。これによりトナー像のスポッ
ト径を被走査面全域に渡って略均一にすることができ、
高品位な画像を得ることができる。
【００３５】図５（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は各々本発明
の実施例２の走査位置に対する光強度のピーク値の変化
を示した説明図である。
の実施例２の走査位置に対する光強度のピーク値の変化
を示した説明図である。
【００３６】本実施例において前述の実施例１と異なる
点は走査位置に対する光ビームの光強度のピーク値の変
化を円弧状の曲線ではなく、ある任意の走査範囲毎に直
線的に変化させたことである。その他の構成及び光学的
作用は前述の実施例１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
点は走査位置に対する光ビームの光強度のピーク値の変
化を円弧状の曲線ではなく、ある任意の走査範囲毎に直
線的に変化させたことである。その他の構成及び光学的
作用は前述の実施例１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
【００３７】即ち、同図（Ａ）は光強度のピーク値が光
軸を中心（走査位置Ａ点）とした台形形状５１で変化す
るように光源手段から出射する光ビームの光強度を主走
査方向に同期させて変化させている。
軸を中心（走査位置Ａ点）とした台形形状５１で変化す
るように光源手段から出射する光ビームの光強度を主走
査方向に同期させて変化させている。
【００３８】同図（Ｂ）は光強度のピーク値が光軸を中
心とした階段形状５２で変化するように光源手段から出
射する光ビームの主走査方向の光強度を主走査方向に同
期させて変化させている。
心とした階段形状５２で変化するように光源手段から出
射する光ビームの主走査方向の光強度を主走査方向に同
期させて変化させている。
【００３９】同図（Ｃ）は光強度のピーク値が光軸を中
心とした山型形状５３で変化するように光源手段から出
射する光ビームの主走査方向の光強度を主走査方向に同
期させて変化させている。
心とした山型形状５３で変化するように光源手段から出
射する光ビームの主走査方向の光強度を主走査方向に同
期させて変化させている。
【００４０】尚、図５（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に示した
３つの実施例は用紙上のトナー像が前記図３に示した円
弧状の曲線３１，３２でなくとも実用上問題がなければ
その制御が容易なので実施しやすいという利点がある。
３つの実施例は用紙上のトナー像が前記図３に示した円
弧状の曲線３１，３２でなくとも実用上問題がなければ
その制御が容易なので実施しやすいという利点がある。
【００４１】図６（Ａ），（Ｂ）は本発明の実施例３の
主走査方向の要部断面図とフィルター６１の透過率特性
を示した説明図である。同図において図１に示した要素
と同一要素には同符番を付している。
主走査方向の要部断面図とフィルター６１の透過率特性
を示した説明図である。同図において図１に示した要素
と同一要素には同符番を付している。
【００４２】本実施例において前述の実施例１と異なる
点は主走査方向に通過光量を制御するフィルターを光偏
向器とｓｉｎ-1θレンズとの間の光路中に設け、該フィ
ルターの透過率特性によって被走査面上を光走査する光
ビームのスポット径を該被走査面全域に渡って略均一と
なるように制御したことである。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施例１と略同様である。
点は主走査方向に通過光量を制御するフィルターを光偏
向器とｓｉｎ-1θレンズとの間の光路中に設け、該フィ
ルターの透過率特性によって被走査面上を光走査する光
ビームのスポット径を該被走査面全域に渡って略均一と
なるように制御したことである。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施例１と略同様である。
【００４３】即ち、同図において６１は光量制御手段
（制御手段）としての入射角依存性を有するフィルター
であり、光偏向器３とｓｉｎ-1θレンズ４との間の光路
中に設けている。このフィルター６１は該フィルター６
１に入射する光ビームの入射角度により透過率特性が異
なり、例えば図６（Ｂ）に示すように入射角が小さい光
軸上近傍の光ビームＬＡに対しては透過率が高く、光軸
から周辺に向かい入射角が大きくなる光ビームＬＢ，Ｌ
Ｃに対しては透過率が低い特性を有している。
（制御手段）としての入射角依存性を有するフィルター
であり、光偏向器３とｓｉｎ-1θレンズ４との間の光路
中に設けている。このフィルター６１は該フィルター６
１に入射する光ビームの入射角度により透過率特性が異
なり、例えば図６（Ｂ）に示すように入射角が小さい光
軸上近傍の光ビームＬＡに対しては透過率が高く、光軸
から周辺に向かい入射角が大きくなる光ビームＬＢ，Ｌ
Ｃに対しては透過率が低い特性を有している。
【００４４】このようにフィルター７１の透過率特性は
図６（Ｂ）に示す如く光軸を中心とした山型の曲線６２
のように変化し、この結果被走査面５上における光ビー
ムのスポット径の変化は前記図４に示す実線４１の如く
被走査面全域に渡って略均一になる。これにより前述の
実施例１と同様な効果を得ている。
図６（Ｂ）に示す如く光軸を中心とした山型の曲線６２
のように変化し、この結果被走査面５上における光ビー
ムのスポット径の変化は前記図４に示す実線４１の如く
被走査面全域に渡って略均一になる。これにより前述の
実施例１と同様な効果を得ている。
【００４５】尚、本実施例ではフィルター６１を光偏向
器３とｓｉｎ-1θレンズ４との間の光路中に設けたが、
この配置位置に限らず例えばｓｉｎ-1θレンズ４と被走
査面５との間の光路中に設けても良い。
器３とｓｉｎ-1θレンズ４との間の光路中に設けたが、
この配置位置に限らず例えばｓｉｎ-1θレンズ４と被走
査面５との間の光路中に設けても良い。
【００４６】又、フィルター６１の代わりにｓｉｎ-1θ
レンズ４のレンズ面に光ビームの入射角により、その透
過率が変化する特性を持つ薄膜をコーティングしても前
述の実施例３と同様な効果を得ることができる。
レンズ４のレンズ面に光ビームの入射角により、その透
過率が変化する特性を持つ薄膜をコーティングしても前
述の実施例３と同様な効果を得ることができる。
【００４７】更にフィルター６１の代わりに入射角度に
よって反射率が図７（Ｂ）に示す曲線７２のように変化
する反射率特性を有した反射ミラー（光量制御手段）７
１を図７（Ａ）に示すように光偏向器３と被走査面５と
の間の光路中に配置し、該反射ミラー７１を介した光ビ
ームで被走査面５上を光走査しても、本発明は前述の実
施例３と同様に適用することができる。
よって反射率が図７（Ｂ）に示す曲線７２のように変化
する反射率特性を有した反射ミラー（光量制御手段）７
１を図７（Ａ）に示すように光偏向器３と被走査面５と
の間の光路中に配置し、該反射ミラー７１を介した光ビ
ームで被走査面５上を光走査しても、本発明は前述の実
施例３と同様に適用することができる。
【００４８】このように本実施例においては光ビームの
主走査方向の通過光量を制御できる光学部材なら何を用
いても適用することができる。
主走査方向の通過光量を制御できる光学部材なら何を用
いても適用することができる。
【００４９】尚、各実施例においては１枚の振動ミラー
を往復動させて光ビームを偏向走査させる光走査装置に
ついて説明してきたが、偏向手段として複数の偏向面を
有する回転多面鏡を用いた光走査装置においても本発明
は前述の実施例と同様に適用することができる。
を往復動させて光ビームを偏向走査させる光走査装置に
ついて説明してきたが、偏向手段として複数の偏向面を
有する回転多面鏡を用いた光走査装置においても本発明
は前述の実施例と同様に適用することができる。
【００５０】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く被走査面上を
光走査する光ビームのスポット径が、該被走査面全域に
渡って略均一となるように、例えば光強度制御手段（制
御手段）により光源手段から出射する光ビームの光強度
を主走査方向に同期させて制御したり、あるいは光偏向
器と被走査面との間の光路中に設けた入射角依存性を有
する光量制御手段（制御手段）により光ビームの主走査
方向の通過光量を制御することにより、高品位な画像を
容易に得ることができる光走査装置を達成することがで
きる。
光走査する光ビームのスポット径が、該被走査面全域に
渡って略均一となるように、例えば光強度制御手段（制
御手段）により光源手段から出射する光ビームの光強度
を主走査方向に同期させて制御したり、あるいは光偏向
器と被走査面との間の光路中に設けた入射角依存性を有
する光量制御手段（制御手段）により光ビームの主走査
方向の通過光量を制御することにより、高品位な画像を
容易に得ることができる光走査装置を達成することがで
きる。
【図１】 本発明の実施例１の主走査方向の要部断面図
【図２】 本発明の実施例１の被走査面上における光強
度の分布図と光ビームのスポット径を示した説明図
度の分布図と光ビームのスポット径を示した説明図
【図３】 本発明の実施例１の光強度のピーク値の変化
を示した説明図
を示した説明図
【図４】 本発明の実施例１の光ビームのスポット径の
変化を示した説明図
変化を示した説明図
【図５】 本発明の実施例２の光ビームのスポット径の
変化を示した説明図
変化を示した説明図
【図６】 本発明の実施例３の主走査方向の要部断面図
とフィルターの透過率特性を示した説明図
とフィルターの透過率特性を示した説明図
【図７】 本発明の実施例３の他の実施例の主走査方向
の要部断面図と反射ミラーの反射率特性を示した説明図
の要部断面図と反射ミラーの反射率特性を示した説明図
【図８】 従来の光走査装置の主走査方向の要部断面図
【図９】 従来の光走査装置の被走査面上における光強
度の分布図と光ビームのスポット径を示した説明図
度の分布図と光ビームのスポット径を示した説明図
【図１０】 従来の光走査装置における光ビームのスポ
ット径の変化を示した説明図
ット径の変化を示した説明図
１ 光源手段 ２ 振動ミラー ３ 光偏向器 ４ ｓｉｎ-1θレンズ ５ 被走査面 ６ 光強度制御手段 ６１ 光量制御手段（フィルター） ７１ 光量制御手段（反射ミラー）
Claims (8)
- 【請求項１】 光源手段からの光変調した光ビームを偏
向手段に入射させ、該偏向手段で偏向反射した光ビーム
を結像手段により被走査面上に導光し光走査する光走査
装置において、 該被走査面上を主走査方向に光走査する光ビームのスポ
ット径の大きさを制御手段により制御したことを特徴と
する光走査装置。 - 【請求項２】 前記制御手段は前記被走査面上での光ビ
ームのスポット径が該被走査面全域に渡って略均一とな
るように前記光源手段から出射する光ビームの光強度を
主走査方向に同期させて制御していることを特徴とする
請求項１の光走査装置。 - 【請求項３】 前記制御手段は前記光偏向器と前記被走
査面との間の光路中に配され、該被走査面上での光ビー
ムのスポット径が該被走査面全域に渡って略均一となる
ように前記光ビームの主走査方向の通過光量を制御して
いることを特徴とする請求項１の光走査装置。 - 【請求項４】 前記制御手段は該制御手段に入射する光
ビームの入射角が大きくなるにつれ透過率又は反射率が
低下する入射角依存性を有していることを特徴とする請
求項３の光走査装置。 - 【請求項５】 光源手段からの光変調した光ビームをｓ
ｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏向器
で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより被走
査面上に導光し光走査する光走査装置において、 該被走査面上を光走査する光ビームのスポット径が該被
走査面全域に渡って略均一となるように該光源手段から
出射する光ビームの光強度を光強度制御手段により主走
査方向に同期させて制御したことを特徴とする光走査装
置。 - 【請求項６】 光源手段からの光変調した光ビームをｓ
ｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏向器
で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより被走
査面上に導光し光走査する光走査装置において、 該被走査面上を光走査する光ビームのスポット径を、そ
の現像後のトナー像のスポット径が該被走査面全域に渡
って略均一となるように該光源手段から出射する光ビー
ムの光強度を光強度制御手段により主走査方向に同期さ
せて制御したことを特徴とする光走査装置。 - 【請求項７】 光源手段からの光変調した光ビームをｓ
ｉｎ波状に往復動する光偏向器に入射させ、該光偏向器
で偏向反射した光ビームをｓｉｎ-1θレンズにより被走
査面上に導光し光走査する光走査装置において、 該被走査面上を光走査する光ビームのスポット径が該被
走査面全域に渡って略均一となるように該光偏向器と該
被走査面との間の光路中に設けた光量制御手段により該
光ビームの主走査方向の通過光量を制御したことを特徴
とする光走査装置。 - 【請求項８】 前記光量制御手段は該光量制御手段に入
射する光ビームの入射角が大きくなるにつれ透過率又は
反射率が低下する入射角依存性を有していることを特徴
とする請求項７の光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8237394A JPH07270699A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8237394A JPH07270699A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07270699A true JPH07270699A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=13772790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8237394A Pending JPH07270699A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07270699A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002308229A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-23 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 容器の殺菌方法及び殺菌装置 |
| JP2004284348A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法および装置 |
| JP2007199555A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Seiko Epson Corp | 光走査装置、該装置の制御方法及び該装置を用いた画像形成装置 |
| JP2017083515A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置およびこれを備える画像形成装置 |
| JP2017083511A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置およびこれを備える画像形成装置 |
| JP2017083514A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置およびこれを備える画像形成装置 |
| JP2017083516A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置、画像形成装置 |
| JP2017083513A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置およびこれを備える画像形成装置 |
| JP2017083512A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 光走査装置およびこれを備える画像形成装置 |
-
1994
- 1994-03-29 JP JP8237394A patent/JPH07270699A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4715018B2 (ja) * | 2001-04-17 | 2011-07-06 | 株式会社Ｉｈｉ | 容器の殺菌方法及び殺菌装置 |
| JP2004284348A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法および装置 |
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| US9917971B2 (en) | 2015-10-23 | 2018-03-13 | Kyocera Document Solutions Inc. | Laser scanning device and image forming apparatus including the same |
| US9955031B2 (en) | 2015-10-23 | 2018-04-24 | Kyocera Document Solutions Inc. | Laser scanning device and image forming apparatus including the same |
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