JPH07263350A - 半導体製造方法 - Google Patents
半導体製造方法Info
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- JPH07263350A JPH07263350A JP4950994A JP4950994A JPH07263350A JP H07263350 A JPH07263350 A JP H07263350A JP 4950994 A JP4950994 A JP 4950994A JP 4950994 A JP4950994 A JP 4950994A JP H07263350 A JPH07263350 A JP H07263350A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 マスフローコントローラの性能低下時にも、
ガス流量の規定値に対する流量誤差を自動的に校正し
て、ガス流量が起因するプロセストラブルを未然に防止
する。 【構成】 マスフローコントローラ１によりプロセスガ
ス流量を制御する半導体製造方法において、製造処理前
に、マスフローコントローラ１の出力流量を測定器３に
より測定し、測定器３の測定結果に基づき、マスフロー
コントローラ１の流量を校正器５により規定値に対して
所定誤差範囲内に校正し、測定器３及び校正器５による
所定回数の校正の結果、所定の誤差範囲に収まらない場
合には警報器７により警告を出力するように構成する。
ガス流量の規定値に対する流量誤差を自動的に校正し
て、ガス流量が起因するプロセストラブルを未然に防止
する。 【構成】 マスフローコントローラ１によりプロセスガ
ス流量を制御する半導体製造方法において、製造処理前
に、マスフローコントローラ１の出力流量を測定器３に
より測定し、測定器３の測定結果に基づき、マスフロー
コントローラ１の流量を校正器５により規定値に対して
所定誤差範囲内に校正し、測定器３及び校正器５による
所定回数の校正の結果、所定の誤差範囲に収まらない場
合には警報器７により警告を出力するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マスフローコントロー
ラ（以下、ＭＦＣと略記する）を用いてプロセスガス流
量を制御する半導体製造方法に関し、特に、ＭＦＣの性
能低下時にも、ガス流量の規定値に対する流量誤差を自
動的に校正して、ガス流量が起因するトラブルを未然に
防止しうる半導体製造方法に関する。
ラ（以下、ＭＦＣと略記する）を用いてプロセスガス流
量を制御する半導体製造方法に関し、特に、ＭＦＣの性
能低下時にも、ガス流量の規定値に対する流量誤差を自
動的に校正して、ガス流量が起因するトラブルを未然に
防止しうる半導体製造方法に関する。
【０００２】多くのプロセスガスを使用する半導体製造
方法において、ガス流量の正確さは、非常に重要度が高
く、規定値に対して所定の誤差範囲を超えた場合には、
即座にプロセストラブルにつながる。そのため、歩留り
向上が求められる近年の半導体プロセスにおいては、ガ
ス流量が起因するトラブルを未然に防止する必要があ
る。
方法において、ガス流量の正確さは、非常に重要度が高
く、規定値に対して所定の誤差範囲を超えた場合には、
即座にプロセストラブルにつながる。そのため、歩留り
向上が求められる近年の半導体プロセスにおいては、ガ
ス流量が起因するトラブルを未然に防止する必要があ
る。
【０００３】
【従来の技術】従来の半導体製造方法においては、プロ
セスガス流量の制御はＭＦＣによって行われ、ガス流量
の規定値に対する誤差については、そのＭＦＣの性能の
みに依存していた。
セスガス流量の制御はＭＦＣによって行われ、ガス流量
の規定値に対する誤差については、そのＭＦＣの性能の
みに依存していた。
【０００４】ところが、デポの付着や、長期使用による
ＭＦＣの性能低下が起きれば、ガス流量が規定値の誤差
範囲を越え、プロセストラブルを引き起こす原因となっ
ていた。
ＭＦＣの性能低下が起きれば、ガス流量が規定値の誤差
範囲を越え、プロセストラブルを引き起こす原因となっ
ていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、ＭＦＣの性能
が低下した場合にも、ガス流量を規定値の所定誤差範囲
内に収めるには、定期的にＭＦＣの点検及び校正を行う
しか方法がなく、突発的なＭＦＣの故障が起きた場合等
では、プロセストラブルが発見されて初めて、ガス流量
の異常が分かるといった問題を生じていた。
が低下した場合にも、ガス流量を規定値の所定誤差範囲
内に収めるには、定期的にＭＦＣの点検及び校正を行う
しか方法がなく、突発的なＭＦＣの故障が起きた場合等
では、プロセストラブルが発見されて初めて、ガス流量
の異常が分かるといった問題を生じていた。
【０００６】本発明は、上記問題点を解決するもので、
その目的は、ＭＦＣの性能低下時にも、ガス流量の規定
値に対する流量誤差を自動的に校正して、ガス流量が起
因するプロセストラブルを未然に防止する半導体製造方
法を提供することである。
その目的は、ＭＦＣの性能低下時にも、ガス流量の規定
値に対する流量誤差を自動的に校正して、ガス流量が起
因するプロセストラブルを未然に防止する半導体製造方
法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の第１の特徴の半導体製造方法は、図１に示
す如く、マスフローコントローラ１によりプロセスガス
流量を制御する半導体製造方法において、製造処理前
に、前記マスフローコントローラ１の出力流量を測定器
３により測定し、前記測定器３の測定結果に基づき、前
記マスフローコントローラ１の流量を校正器５により規
定値に対して所定誤差範囲内に校正するように構成す
る。
に、本発明の第１の特徴の半導体製造方法は、図１に示
す如く、マスフローコントローラ１によりプロセスガス
流量を制御する半導体製造方法において、製造処理前
に、前記マスフローコントローラ１の出力流量を測定器
３により測定し、前記測定器３の測定結果に基づき、前
記マスフローコントローラ１の流量を校正器５により規
定値に対して所定誤差範囲内に校正するように構成す
る。
【０００８】また、本発明の第２の特徴の半導体製造方
法は、請求項１に記載の半導体製造方法において、前記
測定器３は、不活性ガスを使用して測定する。更に、本
発明の第３の特徴の半導体製造方法は、請求項１または
２に記載の半導体製造方法において、前記測定器３及び
前記校正器５による所定回数の校正の結果、所定の誤差
範囲に収まらない場合には警報器７により警告を出力す
るように構成する。
法は、請求項１に記載の半導体製造方法において、前記
測定器３は、不活性ガスを使用して測定する。更に、本
発明の第３の特徴の半導体製造方法は、請求項１または
２に記載の半導体製造方法において、前記測定器３及び
前記校正器５による所定回数の校正の結果、所定の誤差
範囲に収まらない場合には警報器７により警告を出力す
るように構成する。
【０００９】
【作用】本発明の第１の特徴の半導体製造方法では、図
１に示す如く、製造処理前に、マスフローコントローラ
１の出力流量を測定器３により測定し、該測定結果に基
づき、校正器５によって自動的にまたは半手動的に、マ
スフローコントローラ１の流量を規定値に対して所定誤
差範囲内に校正するようにしている。
１に示す如く、製造処理前に、マスフローコントローラ
１の出力流量を測定器３により測定し、該測定結果に基
づき、校正器５によって自動的にまたは半手動的に、マ
スフローコントローラ１の流量を規定値に対して所定誤
差範囲内に校正するようにしている。
【００１０】また、本発明の第２の特徴の半導体製造方
法では、測定器３によるマスフローコントローラ１の出
力流量の測定に際しては、不活性ガスを使用することと
し、測定器３自体のデポ付着による誤差の発生を防いで
いる。
法では、測定器３によるマスフローコントローラ１の出
力流量の測定に際しては、不活性ガスを使用することと
し、測定器３自体のデポ付着による誤差の発生を防いで
いる。
【００１１】更に、本発明の第３の特徴の半導体製造方
法では、測定器３及び校正器５による校正を所定回数行
っても、所定の誤差範囲に収まらない場合には、警報器
７により警告を出力することとし、その場合には、該マ
スフローコントローラ１を交換等する。
法では、測定器３及び校正器５による校正を所定回数行
っても、所定の誤差範囲に収まらない場合には、警報器
７により警告を出力することとし、その場合には、該マ
スフローコントローラ１を交換等する。
【００１２】これにより、マスフローコントローラ１の
性能低下時にも、ガス流量の規定値に対する流量誤差を
自動的に校正して、ガス流量が起因するプロセストラブ
ルを未然に防止することができる。
性能低下時にも、ガス流量の規定値に対する流量誤差を
自動的に校正して、ガス流量が起因するプロセストラブ
ルを未然に防止することができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明に係る好適な実施例を図面に基
づいて説明する。図１に本発明の実施に使用される半導
体製造装置の例を示す。
づいて説明する。図１に本発明の実施に使用される半導
体製造装置の例を示す。
【００１４】同図は真空装置のガスラインの構成図であ
り、この半導体製造方法は、プロセスガス流量を制御す
るマスフローコントローラ（以下、ＭＦＣと略記する）
１と、製造処理前に、ＭＦＣ１の出力流量を測定する測
定器３と、測定器３の測定結果に基づきＭＦＣ１の流量
を規定値に対して所定誤差範囲内に校正する校正器５
と、測定器３及び校正器５による所定回数の校正の結
果、所定の誤差範囲に収まらない場合には警告を出力す
る警報器７とを具備している。また図中、Ａ１〜Ａ５は
エアオペレートバルブを表す。
り、この半導体製造方法は、プロセスガス流量を制御す
るマスフローコントローラ（以下、ＭＦＣと略記する）
１と、製造処理前に、ＭＦＣ１の出力流量を測定する測
定器３と、測定器３の測定結果に基づきＭＦＣ１の流量
を規定値に対して所定誤差範囲内に校正する校正器５
と、測定器３及び校正器５による所定回数の校正の結
果、所定の誤差範囲に収まらない場合には警告を出力す
る警報器７とを具備している。また図中、Ａ１〜Ａ５は
エアオペレートバルブを表す。
【００１５】本実施例は、Ｃｌ2 ガスを用いたプロセス
を想定しており、また、測定器３によるＭＦＣ１の出力
流量の測定に際しては、Ｃｌ2 ガスをそのまま流したの
では、測定器３自体にデポ付着が発生し誤差を生じる可
能性があるので、不活性ガスとしてＮ2 ガスを使用し
て、測定器３自体のデポ付着による誤差の発生を防いで
いる。
を想定しており、また、測定器３によるＭＦＣ１の出力
流量の測定に際しては、Ｃｌ2 ガスをそのまま流したの
では、測定器３自体にデポ付着が発生し誤差を生じる可
能性があるので、不活性ガスとしてＮ2 ガスを使用し
て、測定器３自体のデポ付着による誤差の発生を防いで
いる。
【００１６】本実施例では、予め規定誤差と校正回数Ｋ
を設定し、測定流量ｘが規定誤差範囲内であれば正常と
みなして製造処理を開始する。逆に、測定流量ｘが規定
誤差範囲外であれば、校正器５によりＭＦＣ１のガス流
量を自動的または半手動的に校正する。但し、校正回数
が設定値Ｋを越えても、測定流量ｘが規定誤差範囲内に
入らない場合は、流量異常とみなして警報器７によりア
ラームを表示する。
を設定し、測定流量ｘが規定誤差範囲内であれば正常と
みなして製造処理を開始する。逆に、測定流量ｘが規定
誤差範囲外であれば、校正器５によりＭＦＣ１のガス流
量を自動的または半手動的に校正する。但し、校正回数
が設定値Ｋを越えても、測定流量ｘが規定誤差範囲内に
入らない場合は、流量異常とみなして警報器７によりア
ラームを表示する。
【００１７】次に、図２に示すフローチャートを参照し
て、本実施例の校正処理手順を詳細に説明する。先ずス
テップＳ１で、エアオペレートバルブＡ２，Ａ４，及び
Ａ５を“開”とし、ステップＳ２では、校正回数の計数
カウンタｋを零にリセットしておく。
て、本実施例の校正処理手順を詳細に説明する。先ずス
テップＳ１で、エアオペレートバルブＡ２，Ａ４，及び
Ａ５を“開”とし、ステップＳ２では、校正回数の計数
カウンタｋを零にリセットしておく。
【００１８】次にステップＳ３で、ＭＦＣ１を動作させ
て、ＭＦＣ１によって流量制御されたＮ2 ガスを測定器
３に供給し、ステップＳ４で測定器３による測定を行
う。ステップＳ５では、ＭＦＣ１のガス流量の測定値ｘ
が規定誤差範囲内（ここでは、５［％］以内）であるか
否かを判断し、規定誤差範囲内であれば“正常”である
旨の表示を行って、製造処理を開始する。即ち、エアオ
ペレートバルブＡ２，Ａ４，及びＡ５を“閉”とし、エ
アオペレートバルブＡ１及びＡ３を“開”として、Ｃｌ
2 ガスによる製造処理を開始する。
て、ＭＦＣ１によって流量制御されたＮ2 ガスを測定器
３に供給し、ステップＳ４で測定器３による測定を行
う。ステップＳ５では、ＭＦＣ１のガス流量の測定値ｘ
が規定誤差範囲内（ここでは、５［％］以内）であるか
否かを判断し、規定誤差範囲内であれば“正常”である
旨の表示を行って、製造処理を開始する。即ち、エアオ
ペレートバルブＡ２，Ａ４，及びＡ５を“閉”とし、エ
アオペレートバルブＡ１及びＡ３を“開”として、Ｃｌ
2 ガスによる製造処理を開始する。
【００１９】また、測定流量ｘが規定誤差範囲外であれ
ばステップＳ６に進む。ステップＳ６では、校正回数の
計数カウンタｋをインクリメントして、ステップＳ７で
設定された校正回数Ｋ（＝２）に至ったか否かを判断す
る。設定校正回数に至っていない場合には、ステップＳ
８に進み、校正器５によりＭＦＣ１のガス流量を自動的
または半手動的に校正する。
ばステップＳ６に進む。ステップＳ６では、校正回数の
計数カウンタｋをインクリメントして、ステップＳ７で
設定された校正回数Ｋ（＝２）に至ったか否かを判断す
る。設定校正回数に至っていない場合には、ステップＳ
８に進み、校正器５によりＭＦＣ１のガス流量を自動的
または半手動的に校正する。
【００２０】その後、ステップＳ３に戻り、ステップＳ
３以降の処理を繰り返す。ステップＳ７で設定値Ｋに至
ったと判断され、設定された回数校正しても測定流量ｘ
が規定誤差範囲内に入らない場合には、流量異常とみな
して警報器７によりアラームを表示して校正操作を終了
する。行うべき半導体製造処理は、該アラームが解除さ
れない限り行うことはできない。
３以降の処理を繰り返す。ステップＳ７で設定値Ｋに至
ったと判断され、設定された回数校正しても測定流量ｘ
が規定誤差範囲内に入らない場合には、流量異常とみな
して警報器７によりアラームを表示して校正操作を終了
する。行うべき半導体製造処理は、該アラームが解除さ
れない限り行うことはできない。
【００２１】尚、以上の校正操作は常時行うわけにはい
かないので、所定の製品処理数による単位毎に、または
任意にオペレータの判断で行うようにする。
かないので、所定の製品処理数による単位毎に、または
任意にオペレータの判断で行うようにする。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
製造処理前に、マスフローコントローラの出力流量を測
定器により、例えば不活性ガスを使用して測定し、該測
定結果に基づき校正器によって自動的にまたは半手動的
にマスフローコントローラの流量を規定値に対して所定
誤差範囲内に校正することとし、また、所定回数校正を
行っても所定の誤差範囲に収まらない場合には、警報器
７により警告を出力することとしたので、マスフローコ
ントローラの性能低下時にも、ガス流量の規定値に対す
る流量誤差を自動的に校正して、ガス流量が起因するプ
ロセストラブルを未然に防止し、歩留りを向上し得る。
製造処理前に、マスフローコントローラの出力流量を測
定器により、例えば不活性ガスを使用して測定し、該測
定結果に基づき校正器によって自動的にまたは半手動的
にマスフローコントローラの流量を規定値に対して所定
誤差範囲内に校正することとし、また、所定回数校正を
行っても所定の誤差範囲に収まらない場合には、警報器
７により警告を出力することとしたので、マスフローコ
ントローラの性能低下時にも、ガス流量の規定値に対す
る流量誤差を自動的に校正して、ガス流量が起因するプ
ロセストラブルを未然に防止し、歩留りを向上し得る。
【図１】本発明の半導体製造方法の構成図である。
【図２】本発明における校正処理手順を説明するフロー
チャートである。
チャートである。
１…マスフローコントローラ（ＭＦＣ） ３…測定器 ５…校正器 ７…警報器 Ａ１〜Ａ５…エアオペレートバルブ ｋ…校正回数の計数カウンタ ｘ…ＭＦＣ流量測定値
Claims (3)
- 【請求項１】 マスフローコントローラ（１）によりプ
ロセスガス流量を制御する半導体製造方法において、 製造処理前に、前記マスフローコントローラ（１）の出
力流量を測定し、 前記出力流量の測定結果に基づき、前記マスフローコン
トローラ（１）の流量を規定値に対して所定誤差範囲内
に校正することを特徴とする半導体製造方法。 - 【請求項２】 前記出力流量の測定結果は、不活性ガス
を使用して行うことを特徴とする請求項１に記載の半導
体製造方法。 - 【請求項３】 前記出力流量の測定結果及び前記出力流
量の所定回数の校正の結果に基づいて判断し、所定の誤
差範囲に収まらない場合には警告を出力することを特徴
とする請求項１または２に記載の半導体製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4950994A JPH07263350A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | 半導体製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4950994A JPH07263350A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | 半導体製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07263350A true JPH07263350A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=12833110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4950994A Withdrawn JPH07263350A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | 半導体製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07263350A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100401163B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2003-10-17 | 이명의 | 자동 캘리브레이션 알고리즘을 이용한 하이브리드질량유량제어방법 및 장치 |
| WO2005123236A1 (ja) * | 2004-06-22 | 2005-12-29 | Tokyo Electron Limited | 基板処理装置 |
| JP2007243015A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| JP2008089575A (ja) * | 2006-08-14 | 2008-04-17 | Applied Materials Inc | ガスフロー測定方法及び装置 |
| US7510884B2 (en) | 2003-07-16 | 2009-03-31 | Tokyo Electron Limited | Semiconductor production system and semiconductor production process |
| JP2013530516A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-07-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ツインチャンバ処理システム |
| JP2022505797A (ja) * | 2018-10-26 | 2022-01-14 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 先進ゼロ指向診断を有する質量流量制御器 |
| KR20230160826A (ko) | 2021-03-24 | 2023-11-24 | 가부시키가이샤 프로테리아루 | 파라미터의 초깃값을 결정하는 방법 및 시스템 그리고 질량 유량 제어 장치를 조정하는 방법 및 시스템 |
-
1994
- 1994-03-18 JP JP4950994A patent/JPH07263350A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100401163B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2003-10-17 | 이명의 | 자동 캘리브레이션 알고리즘을 이용한 하이브리드질량유량제어방법 및 장치 |
| US7510884B2 (en) | 2003-07-16 | 2009-03-31 | Tokyo Electron Limited | Semiconductor production system and semiconductor production process |
| WO2005123236A1 (ja) * | 2004-06-22 | 2005-12-29 | Tokyo Electron Limited | 基板処理装置 |
| JP2007243015A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
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| JP2013530516A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-07-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ツインチャンバ処理システム |
| JP2022505797A (ja) * | 2018-10-26 | 2022-01-14 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 先進ゼロ指向診断を有する質量流量制御器 |
| KR20230160826A (ko) | 2021-03-24 | 2023-11-24 | 가부시키가이샤 프로테리아루 | 파라미터의 초깃값을 결정하는 방법 및 시스템 그리고 질량 유량 제어 장치를 조정하는 방법 및 시스템 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010605 |