JPH07258277A - スズ（ｉｖ）テトラアルコキシドからハロゲンを除去する方法 - Google Patents
スズ（ｉｖ）テトラアルコキシドからハロゲンを除去する方法Info
- Publication number
- JPH07258277A JPH07258277A JP7984094A JP7984094A JPH07258277A JP H07258277 A JPH07258277 A JP H07258277A JP 7984094 A JP7984094 A JP 7984094A JP 7984094 A JP7984094 A JP 7984094A JP H07258277 A JPH07258277 A JP H07258277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tin
- tetraalkoxide
- halogen
- butoxide
- tert
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【構成】少量のハロゲンを含有するスズ（IV）テトラア
ルコキシドに金属アルコキシドを添加して蒸留するスズ
（IV）テトラアルコキシドからハロゲン（フッ素、塩
素、沃素）を除去する方法 【効果】ハロゲンの含有率が低いススズ（IV）テトラア
ルコキシドが得られ、高純度酸化スズ（ＳｎＯ2 ）の原
料として有用である。
ルコキシドに金属アルコキシドを添加して蒸留するスズ
（IV）テトラアルコキシドからハロゲン（フッ素、塩
素、沃素）を除去する方法 【効果】ハロゲンの含有率が低いススズ（IV）テトラア
ルコキシドが得られ、高純度酸化スズ（ＳｎＯ2 ）の原
料として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲンの含有率が低
い高純度のスズ（IV）テトラアルコキシドを提供する。
い高純度のスズ（IV）テトラアルコキシドを提供する。
【０００２】
【従来の技術】酸化スズは、透明で導電性のある機能性
材料として、セラミックスセンサー、透明導電膜、熱線
反射膜などに広く用途が見いだされている。このような
用途に用いられる酸化スズは高純度でなければならず、
しかも目的にあった成形が容易でなければならない。そ
こで金属有機化合物であるスズ（IV）テトラアルコキシ
ドが、この酸化スズの原料として用いられている。従
来、スズ（IV）テトラアルコキシドは、無水ハロゲン化
スズに適当な脱ハロゲン剤（ナトリウムアルコキシド、
アンモニア、アミン）とともにアルコールを反応させて
合成されており、これを塩素の場合で示すと次のように
なる。 (1) SnCl4 ＋ 4RONa → Sn(OR)4 ＋ 4NaCl (2) SnCl4 ＋ 4ROH ＋ 4NH3 → Sn(OR)4 ＋ 4NH4Cl (3) SnCl4 ＋ 4ROH ＋ 4RnNH3-n → Sn(OR)4 ＋ 4RnNH4
-n Cl(n = 1〜3) (1) 又は(2) の合成法でメトキシドやエトキシドが合成
されるが、これらの低級アルコキシドは何分子かが会合
したオリゴマー状態で存在するために再結晶や蒸留が困
難である。そしてこれらの粗製のスズアルコキシドに
は、未反応のハロゲンイオンや過剰のナトリウムイオン
が含まれており、高純度のもの得るのは困難である。
材料として、セラミックスセンサー、透明導電膜、熱線
反射膜などに広く用途が見いだされている。このような
用途に用いられる酸化スズは高純度でなければならず、
しかも目的にあった成形が容易でなければならない。そ
こで金属有機化合物であるスズ（IV）テトラアルコキシ
ドが、この酸化スズの原料として用いられている。従
来、スズ（IV）テトラアルコキシドは、無水ハロゲン化
スズに適当な脱ハロゲン剤（ナトリウムアルコキシド、
アンモニア、アミン）とともにアルコールを反応させて
合成されており、これを塩素の場合で示すと次のように
なる。 (1) SnCl4 ＋ 4RONa → Sn(OR)4 ＋ 4NaCl (2) SnCl4 ＋ 4ROH ＋ 4NH3 → Sn(OR)4 ＋ 4NH4Cl (3) SnCl4 ＋ 4ROH ＋ 4RnNH3-n → Sn(OR)4 ＋ 4RnNH4
-n Cl(n = 1〜3) (1) 又は(2) の合成法でメトキシドやエトキシドが合成
されるが、これらの低級アルコキシドは何分子かが会合
したオリゴマー状態で存在するために再結晶や蒸留が困
難である。そしてこれらの粗製のスズアルコキシドに
は、未反応のハロゲンイオンや過剰のナトリウムイオン
が含まれており、高純度のもの得るのは困難である。
【０００3 】一方、Ｃ4 以上の炭素鎖を持つアルコキシ
ド、例えばスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドのように
かさ高い基を持つアルコキシドはモノメリックで存在す
るので蒸留による精製が可能であり、さらにアルコール
交換でその他のアルコキシドにも変換できるので、一般
的なスズ（IV）テトラアルコキシド合成の前駆体として
重要である。このようなアルコキシドは一般に(1)又は
(2)の方法では合成できず、(3)のようなアミンを脱ハロ
ゲン剤として用いる方法で合成される（例えばアメリカ
特許公報第 3946056号）。しかしながら、アミンの塩基
性がアルコキシドの様には高くなく、置換しきれない塩
素等のハロゲンが製品の中に残ってしまうため、生成物
中にハロゲンが混在する。このハロゲンを蒸留によって
除こうとする場合、除かれるハロゲンには限界があり、
１〜０．１％程度のハロゲンが蒸留後のスズ（IV）テト
ラアルコキシドに残留する。又、アミンを過剰に用いて
も顕著な効果はない。このような小量の残留ハロゲンを
除く対策としては、リチウムアミド（Can. J. Chem., 3
9, 1386(1961)）やナトリウムアミド（ヨーロッパ特許
公報第252543号）を用いて脱ハロゲンする方法やアニオ
ン交換樹脂を用いる方法（特公昭62-258389）が知られ
ている。これらの方法は金属アミドのような危険な物質
を用いたり、イオン交換装置を設けなければならないな
ど操作上や設備に関する問題があり、優れた工業的方法
とは言い難い。
ド、例えばスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドのように
かさ高い基を持つアルコキシドはモノメリックで存在す
るので蒸留による精製が可能であり、さらにアルコール
交換でその他のアルコキシドにも変換できるので、一般
的なスズ（IV）テトラアルコキシド合成の前駆体として
重要である。このようなアルコキシドは一般に(1)又は
(2)の方法では合成できず、(3)のようなアミンを脱ハロ
ゲン剤として用いる方法で合成される（例えばアメリカ
特許公報第 3946056号）。しかしながら、アミンの塩基
性がアルコキシドの様には高くなく、置換しきれない塩
素等のハロゲンが製品の中に残ってしまうため、生成物
中にハロゲンが混在する。このハロゲンを蒸留によって
除こうとする場合、除かれるハロゲンには限界があり、
１〜０．１％程度のハロゲンが蒸留後のスズ（IV）テト
ラアルコキシドに残留する。又、アミンを過剰に用いて
も顕著な効果はない。このような小量の残留ハロゲンを
除く対策としては、リチウムアミド（Can. J. Chem., 3
9, 1386(1961)）やナトリウムアミド（ヨーロッパ特許
公報第252543号）を用いて脱ハロゲンする方法やアニオ
ン交換樹脂を用いる方法（特公昭62-258389）が知られ
ている。これらの方法は金属アミドのような危険な物質
を用いたり、イオン交換装置を設けなければならないな
ど操作上や設備に関する問題があり、優れた工業的方法
とは言い難い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、未反応のハ
ロゲンが残留している粗製のスズ（IV）テトラアルコキ
シドに金属アルコキシドを添加して蒸留するという簡単
な方法で、残留ハロゲンを希望により２０ｐｐｍ程度或
いはそれ以下に低減させたスズ（IV）テトラアルコキシ
ドを得る方法である。
ロゲンが残留している粗製のスズ（IV）テトラアルコキ
シドに金属アルコキシドを添加して蒸留するという簡単
な方法で、残留ハロゲンを希望により２０ｐｐｍ程度或
いはそれ以下に低減させたスズ（IV）テトラアルコキシ
ドを得る方法である。
【０００５】
発明の構成 本発明は、少量のハロゲンを含有するスズ（IV）テトラ
アルコキシドに金属アルコキシドを添加して蒸留するこ
とを特徴とするスズ（IV）テトラアルコキシドからハロ
ゲンを除去する方法である。 詳細な説明 イ．製造原料 少量のハロゲンを含有するスズ（IV）テトラアルコキシ
ドとは、塩素の場合通常塩素を0.01重量％乃至１０重量
％含有するものであり、他のハロゲン（フッ素、沃素）
の場合はそれに相当するモル比でハロゲンが含有するも
のである。またこれは公知の方法で得られるものであ
る。例えば、既に述べたように、四塩化スズにアミンを
脱塩素剤として用いる方法で合成される（例えばアメリ
カ特許公報第3946056号）ものが代表的である。また本
発明で用いるスズ（IV）テトラアルコキシドはこのよう
な公知の方法で得られたものを蒸留などで精製したもの
でもよいし、そのような精製操作をまったくしないもの
でも良い。スズ（IV）テトラアルコキシドとしては、蒸
留可能なものに限られるが、その他の制限はない。具体
例を列挙するとつぎの通りである。 スズ（IV）テトラ-n-ブトキシド スズ（IV）テトラ-iso-ブトキシド スズ（IV）テトラ-sec-ブトキシド スズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド スズ（IV）テトラ-n-アミロキシド スズ（IV）テトラ-iso-アミロキシド スズ（IV）テトラ-sec-アミロキシド スズ（IV）テトラ-tert-アミロキシド スズ（IV）テトラ-3-アミロキシド スズ（IV）テトラヘキソキシド スズ（IV）テトラヘプトキシド スズ（IV）テトラオクトキシド 添加する金属アルコキシドは、金属の種類に特に制限は
無いが、塩基性の強いアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属のアルコキシドが望ましい。又、アルコールの種
類に特に制限はないが、精製しようとするスズ（IV）テ
トラアルコキシドの持つアルコキシド基に相当するアル
コールと同一である事が望ましい。更に、スズ（IV）テ
トラアルコキシドの蒸留時に揮発しないものか、分別蒸
留で分離されるものに限られる。
アルコキシドに金属アルコキシドを添加して蒸留するこ
とを特徴とするスズ（IV）テトラアルコキシドからハロ
ゲンを除去する方法である。 詳細な説明 イ．製造原料 少量のハロゲンを含有するスズ（IV）テトラアルコキシ
ドとは、塩素の場合通常塩素を0.01重量％乃至１０重量
％含有するものであり、他のハロゲン（フッ素、沃素）
の場合はそれに相当するモル比でハロゲンが含有するも
のである。またこれは公知の方法で得られるものであ
る。例えば、既に述べたように、四塩化スズにアミンを
脱塩素剤として用いる方法で合成される（例えばアメリ
カ特許公報第3946056号）ものが代表的である。また本
発明で用いるスズ（IV）テトラアルコキシドはこのよう
な公知の方法で得られたものを蒸留などで精製したもの
でもよいし、そのような精製操作をまったくしないもの
でも良い。スズ（IV）テトラアルコキシドとしては、蒸
留可能なものに限られるが、その他の制限はない。具体
例を列挙するとつぎの通りである。 スズ（IV）テトラ-n-ブトキシド スズ（IV）テトラ-iso-ブトキシド スズ（IV）テトラ-sec-ブトキシド スズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド スズ（IV）テトラ-n-アミロキシド スズ（IV）テトラ-iso-アミロキシド スズ（IV）テトラ-sec-アミロキシド スズ（IV）テトラ-tert-アミロキシド スズ（IV）テトラ-3-アミロキシド スズ（IV）テトラヘキソキシド スズ（IV）テトラヘプトキシド スズ（IV）テトラオクトキシド 添加する金属アルコキシドは、金属の種類に特に制限は
無いが、塩基性の強いアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属のアルコキシドが望ましい。又、アルコールの種
類に特に制限はないが、精製しようとするスズ（IV）テ
トラアルコキシドの持つアルコキシド基に相当するアル
コールと同一である事が望ましい。更に、スズ（IV）テ
トラアルコキシドの蒸留時に揮発しないものか、分別蒸
留で分離されるものに限られる。
【０００６】具体的には、次のものが列挙できる。 ナトリウム n-ブトキシド カリウム n-ブトキシド リチウム n-ブトキシド ナトリウム iso-ブトキシド カリウム iso-ブトキシド リチウム iso-ブトキシド ナトリウム sec-ブトキシド カリウム sec-ブトキシド リチウム sec-ブトキシド ナトリウム tert-ブトキシド カリウム tert-ブトキシド リチウム tert-ブトキシド ナトリウム n-アミロキシド カリウム n-アミロキシド リチウム n-アミロキシド ナトリウム iso-アミロキシド カリウム iso-アミロキシド リチウム iso-アミロキシド ナトリウム sec-アミロキシド カリウムム sec-アミロキシド リチウム sec-アミロキシド ナトリウム tert-アミロキシド カリウム tert-アミロキシド リチウム tert-アミロキシド ナトリウム 3-アミロキシド カリウム 3-アミロキシド リチウム 3-アミロキシド ナトリウムヘキソキシド カリウムヘキソキシド リチウムヘキソキシド ナトリウムヘプトキシド カリウムヘプトキシド リチウムヘプトキシド ナトリウムオクトキシド カリウムオクトキシド リチウムオクトキシド 金属アルコキシドの添加量に特に制限はないが、粗製の
スズ（IV）テトラアルコキシドに対して１０〜２０モル
％が好ましい。 蒸留後のスズ（IV）テトラアルコキシ
ドに含まれる塩素含有量は金属アルコキシドの添加量に
より、所望により減少させることができ、塩素含有量が
３０００〜３００ｐｐｍのものはスズ（IV）テトラアル
コキシドに対して１〜１０モル％の金属アルコキシドの
添加により、３００〜１０ｐｐｍのものはスズ（IV) テ
トラアルコキシドに対して１０〜２０モル％の金属アル
コキシドの添加により作る事が出来る。特に、２０ｐｐ
ｍ以下とする場合は、１４モル％〜３５モル％の金属ア
ルコキシドを添加することが望ましい。
スズ（IV）テトラアルコキシドに対して１０〜２０モル
％が好ましい。 蒸留後のスズ（IV）テトラアルコキシ
ドに含まれる塩素含有量は金属アルコキシドの添加量に
より、所望により減少させることができ、塩素含有量が
３０００〜３００ｐｐｍのものはスズ（IV）テトラアル
コキシドに対して１〜１０モル％の金属アルコキシドの
添加により、３００〜１０ｐｐｍのものはスズ（IV) テ
トラアルコキシドに対して１０〜２０モル％の金属アル
コキシドの添加により作る事が出来る。特に、２０ｐｐ
ｍ以下とする場合は、１４モル％〜３５モル％の金属ア
ルコキシドを添加することが望ましい。
【０００７】ロ．溶媒 添加する金属アルコキシドは、適当なアルコールの適量
に溶かしたものを用いても良いし、そのまま直接加えて
も良い。溶媒を使用すると製造過程において滴下で加え
る事が可能であり、具体的には、次のものが使用でき
る。 n-ブチルアルコール iso-ブチルアルコール sec-ブチルアルコール tert-ブチルアルコール n-アミルアルコール iso-アミルアルコール sec-アミルアルコール tert-アミルアルコール 3-アミルアルコール ヘキサノール ヘプタノール オクタノール ハ．温度 スズ（IV）テトラアルコキシドが蒸留されるに適当な温
度であり、通常０〜２５０Cが採用される。 ニ．圧力 スズ（IV）テトラアルコキシドが蒸留されるに適当な圧
力であり、通常スズ（IV）テトラアルコキシドの種類に
よるが、０．０１mmHg〜７６０mmHgが採用される。 ホ．反応時間 特に制限はないが、通常蒸留に要する時間で充分であ
る。
に溶かしたものを用いても良いし、そのまま直接加えて
も良い。溶媒を使用すると製造過程において滴下で加え
る事が可能であり、具体的には、次のものが使用でき
る。 n-ブチルアルコール iso-ブチルアルコール sec-ブチルアルコール tert-ブチルアルコール n-アミルアルコール iso-アミルアルコール sec-アミルアルコール tert-アミルアルコール 3-アミルアルコール ヘキサノール ヘプタノール オクタノール ハ．温度 スズ（IV）テトラアルコキシドが蒸留されるに適当な温
度であり、通常０〜２５０Cが採用される。 ニ．圧力 スズ（IV）テトラアルコキシドが蒸留されるに適当な圧
力であり、通常スズ（IV）テトラアルコキシドの種類に
よるが、０．０１mmHg〜７６０mmHgが採用される。 ホ．反応時間 特に制限はないが、通常蒸留に要する時間で充分であ
る。
【０００８】本発明の方法のように、少量含まれるハロ
ゲンを取り除く方法として、金属アルコキシドを添加し
て蒸留する方法は全く知られていない。一般に上述の
(1)の方法のように四塩化スズに金属アルコキシドを直
接反応させて得た製品は過剰の金属イオンによって汚染
されており、またこのような直接反応でスズ（IV）テト
ラ-tert-ブトキシドのような蒸留可能なアルコキシドを
得ようとすると製品そのものが得られない（参考例３参
照）。また、ここでいうハロゲンとは塩素に代表される
が、同様にフッ素、沃素も含まれる。
ゲンを取り除く方法として、金属アルコキシドを添加し
て蒸留する方法は全く知られていない。一般に上述の
(1)の方法のように四塩化スズに金属アルコキシドを直
接反応させて得た製品は過剰の金属イオンによって汚染
されており、またこのような直接反応でスズ（IV）テト
ラ-tert-ブトキシドのような蒸留可能なアルコキシドを
得ようとすると製品そのものが得られない（参考例３参
照）。また、ここでいうハロゲンとは塩素に代表される
が、同様にフッ素、沃素も含まれる。
【０００９】
実施例１ スズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドの製造 窒素雰囲気下、四塩化スズ（２６ｇ、１００ｍｍｏｌ）
とヘキサン（６０ｍｌ）の混合物を氷水で１℃まで冷や
した。これにジエチルアミン（３５ｇ、４８０ｍｍｏ
ｌ）を攪拌下滴下し、室温に戻した後更に４５分攪拌し
た。次いでtert-ブチルアルコール(36g:480mmol) を室
温で攪拌下滴下し、更に１時間加熱還流した。生じた沈
澱を濾別し、濾液から溶媒を留去して、粗体のスズ（I
V）テトラ-tert-ブトキシド（３５ｇ）を得た。この粗
体のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドは塩素含有量８
６００ｐｐｍであった。この粗製のスズ（IV）テトラ-t
ert-ブトキシド（３５ｇ、約 86 mmol）にカリウムtert
-ブトキシド（1.3 ｇ、１２ｍｍｏｌ）を含むtert-ブタ
ノール（１０ｍｌ）溶液を加え、一時間室温で攪拌し
た。次いで室温、減圧下（０．４ｍｍＨｇ）で４０分間
揮発成分を除去した後、減圧蒸留を行った。その結果、
本留（０．１３ｍｍＨｇ、５４〜５６℃）として無色透
明の液体であるスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド（24
g、粗製体からの収率69%）が得られ、塩素含有量は２
０ｐｐｍだった。
とヘキサン（６０ｍｌ）の混合物を氷水で１℃まで冷や
した。これにジエチルアミン（３５ｇ、４８０ｍｍｏ
ｌ）を攪拌下滴下し、室温に戻した後更に４５分攪拌し
た。次いでtert-ブチルアルコール(36g:480mmol) を室
温で攪拌下滴下し、更に１時間加熱還流した。生じた沈
澱を濾別し、濾液から溶媒を留去して、粗体のスズ（I
V）テトラ-tert-ブトキシド（３５ｇ）を得た。この粗
体のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドは塩素含有量８
６００ｐｐｍであった。この粗製のスズ（IV）テトラ-t
ert-ブトキシド（３５ｇ、約 86 mmol）にカリウムtert
-ブトキシド（1.3 ｇ、１２ｍｍｏｌ）を含むtert-ブタ
ノール（１０ｍｌ）溶液を加え、一時間室温で攪拌し
た。次いで室温、減圧下（０．４ｍｍＨｇ）で４０分間
揮発成分を除去した後、減圧蒸留を行った。その結果、
本留（０．１３ｍｍＨｇ、５４〜５６℃）として無色透
明の液体であるスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド（24
g、粗製体からの収率69%）が得られ、塩素含有量は２
０ｐｐｍだった。
【００１０】実施例２〜７ 粗製のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド（粗製体）の
添加量及び添加する金属アルコキシドの種類（Ｋ：カリ
ウム tert-ブトキシド、Ｎａ：ナトリウムtert-ブトキ
シド、Ｌｉ：リチウム tert-ブトキシド）と添加量を変
化させて実施例１と同様に行った結果をまとめて表１に
示す。尚、何れの実施例（１〜７）においても蒸留後の
スズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド中のＮａ、Ｌｉ及び
Ｋの含有量は０．１５ｐｐｍ以下であった。
添加量及び添加する金属アルコキシドの種類（Ｋ：カリ
ウム tert-ブトキシド、Ｎａ：ナトリウムtert-ブトキ
シド、Ｌｉ：リチウム tert-ブトキシド）と添加量を変
化させて実施例１と同様に行った結果をまとめて表１に
示す。尚、何れの実施例（１〜７）においても蒸留後の
スズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド中のＮａ、Ｌｉ及び
Ｋの含有量は０．１５ｐｐｍ以下であった。
【００１１】
【００１２】実施例８ スズ（IV）テトラ-tert-
アミロキシドの製造 窒素雰囲気下、四塩化スズ（１３ｇ、 ５０ｍｍｏｌ）
とヘキサン（８０ｍｌ）の混合物を氷水で１℃まで冷や
した。これにジエチルアミン（１８ｇ、２４０ｍｍｏ
ｌ）を攪拌下滴下し、室温に戻した後更に４５分攪拌し
た。次いでtert-ブチルアルコール（２１ｇ：２４０ｍ
ｍｏｌ）を室温で攪拌下滴下し、更に１時間加熱還流し
た。生じた沈澱を濾別し、濾液から溶媒を留去して、粗
体のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド（１６ｇ）を得
た。この粗体のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドは塩
素含有量２２９７ｐｐｍであった。この粗製のスズ（I
V）テトラ-tert-アミロキシド（１６ｇ、約 35 mmol）
にカリウムtert-アミロキシド（0.6 g, 4.7 mmol）のte
rt-アミルアルコール（ 4．８ｍｌ）溶液を加え、一時
間室温で攪拌した。次いで室温、減圧下で（０．２ｍｍ
Ｈｇ）で３５分間揮発成分を除去した後、減圧蒸留を行
った。その結果、本留（０．１５ｍｍＨｇ、９０℃）と
して無色透明の液体であるスズ（IV）テトラ-tert-アミ
ロキシド（11 g、粗製体からの収率69%）が得られ、塩
素含有量は１４ｐｐｍだった。
アミロキシドの製造 窒素雰囲気下、四塩化スズ（１３ｇ、 ５０ｍｍｏｌ）
とヘキサン（８０ｍｌ）の混合物を氷水で１℃まで冷や
した。これにジエチルアミン（１８ｇ、２４０ｍｍｏ
ｌ）を攪拌下滴下し、室温に戻した後更に４５分攪拌し
た。次いでtert-ブチルアルコール（２１ｇ：２４０ｍ
ｍｏｌ）を室温で攪拌下滴下し、更に１時間加熱還流し
た。生じた沈澱を濾別し、濾液から溶媒を留去して、粗
体のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシド（１６ｇ）を得
た。この粗体のスズ（IV）テトラ-tert-ブトキシドは塩
素含有量２２９７ｐｐｍであった。この粗製のスズ（I
V）テトラ-tert-アミロキシド（１６ｇ、約 35 mmol）
にカリウムtert-アミロキシド（0.6 g, 4.7 mmol）のte
rt-アミルアルコール（ 4．８ｍｌ）溶液を加え、一時
間室温で攪拌した。次いで室温、減圧下で（０．２ｍｍ
Ｈｇ）で３５分間揮発成分を除去した後、減圧蒸留を行
った。その結果、本留（０．１５ｍｍＨｇ、９０℃）と
して無色透明の液体であるスズ（IV）テトラ-tert-アミ
ロキシド（11 g、粗製体からの収率69%）が得られ、塩
素含有量は１４ｐｐｍだった。
【００１３】実施例９〜１０ 粗製のスズ（IV）テトラ
-tert-アミロキシド（粗製体）の添加量及び添加する金
属アルコキシドの種類（Ｋ：カリウム tert-アミロキシ
ド、Ｎａ：ナトリウム tert-アミロキシド）と添加量を
変化させて実施例８と同様に行った結果をまとめて表２
に示す。尚、何れの実施例（８〜１０）においても蒸留
後のスズ（IV）テトラ-tert-アミロキシド中のＮａ、Ｌ
ｉ及びＫの含有量は０．１５ｐｐｍ以下であった。
-tert-アミロキシド（粗製体）の添加量及び添加する金
属アルコキシドの種類（Ｋ：カリウム tert-アミロキシ
ド、Ｎａ：ナトリウム tert-アミロキシド）と添加量を
変化させて実施例８と同様に行った結果をまとめて表２
に示す。尚、何れの実施例（８〜１０）においても蒸留
後のスズ（IV）テトラ-tert-アミロキシド中のＮａ、Ｌ
ｉ及びＫの含有量は０．１５ｐｐｍ以下であった。
【００１４】
【００１５】参考例３ 従来からエトキシドなどの製造法として知られている四
塩化スズと金属アルコキシドを反応させる方法と本発明
がまったく異なる事を確認するために次の実験を行っ
た。窒素雰囲気下、四塩化スズ（２６ｇ、１００ｍｍｏ
ｌ）のヘキサン（１６０ｍｌ）溶液に、カリウム tert-
ブトキシド（５４ｇ、４８０ｍｍｏｌ）のtert-ブタノ
ール溶液を、２〜６℃の温度で、３．５時間かけて滴下
した。室温でさらに１時間攪拌した後、生じた白色沈澱
をろ別し、ろ液から溶媒を減圧下で留去した。得られた
オイル状の残査を減圧蒸留しようとしたが、留出分は得
られなかった。従ってこの方法でスズ（IV）テトラ-ter
t-ブトキシドは得られない事がわかった。
塩化スズと金属アルコキシドを反応させる方法と本発明
がまったく異なる事を確認するために次の実験を行っ
た。窒素雰囲気下、四塩化スズ（２６ｇ、１００ｍｍｏ
ｌ）のヘキサン（１６０ｍｌ）溶液に、カリウム tert-
ブトキシド（５４ｇ、４８０ｍｍｏｌ）のtert-ブタノ
ール溶液を、２〜６℃の温度で、３．５時間かけて滴下
した。室温でさらに１時間攪拌した後、生じた白色沈澱
をろ別し、ろ液から溶媒を減圧下で留去した。得られた
オイル状の残査を減圧蒸留しようとしたが、留出分は得
られなかった。従ってこの方法でスズ（IV）テトラ-ter
t-ブトキシドは得られない事がわかった。
【００１６】
【発明の効果】本発明の方法においては蒸留により、塩
素含有量が１００００ｐｐｍ以下所望により２０ｐｐｍ
以下のスズ（IV）テトラアルコキシドを製造することが
できる。
素含有量が１００００ｐｐｍ以下所望により２０ｐｐｍ
以下のスズ（IV）テトラアルコキシドを製造することが
できる。
Claims (4)
- 【請求項１】少量のハロゲンを含有するスズ（IV）テト
ラアルコキシドに金属アルコキシドを添加して蒸留する
ことを特徴とするスズ（IV）テトラアルコキシドからハ
ロゲンを除去する方法 - 【請求項２】四塩化スズとアルコールとの反応におい
て、アミンを脱ハロゲン剤として製造した、少量のハロ
ゲンを含有するスズ（IV）テトラアルコキシドを使用す
る請求項１記載の方法 - 【請求項３】スズ（IV）テトラアルコキシドが、スズ
（IV）テトラブトキシド、スズ（IV）テトラアミロキシ
ド、スズ（IV）テトラヘキソキシド、スズ（IV）テトラ
ヘプトキシド、スズ（IV）テトラオクトキシドから選ば
れたものである請求項１又は請求項２記載の方法 - 【請求項４】ハロゲンがフッ素、塩素、又は沃素である
請求項１、請求項２又は請求項３記載の方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7984094A JPH07258277A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | スズ（ｉｖ）テトラアルコキシドからハロゲンを除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7984094A JPH07258277A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | スズ（ｉｖ）テトラアルコキシドからハロゲンを除去する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07258277A true JPH07258277A (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=13701409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7984094A Pending JPH07258277A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | スズ（ｉｖ）テトラアルコキシドからハロゲンを除去する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07258277A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004359636A (ja) * | 2003-06-06 | 2004-12-24 | Hokko Chem Ind Co Ltd | 金属アルコキシドの精製方法 |
| JP2016530225A (ja) * | 2013-06-25 | 2016-09-29 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | インジウムアルコキシド化合物を製造するための方法、当該方法に従って製造可能なインジウムアルコキシド化合物及び当該化合物の使用 |
| CN116574126A (zh) * | 2023-07-07 | 2023-08-11 | 研峰科技(北京)有限公司 | 一种高纯度叔丁醇锡的合成方法 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP7984094A patent/JPH07258277A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004359636A (ja) * | 2003-06-06 | 2004-12-24 | Hokko Chem Ind Co Ltd | 金属アルコキシドの精製方法 |
| JP2016530225A (ja) * | 2013-06-25 | 2016-09-29 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | インジウムアルコキシド化合物を製造するための方法、当該方法に従って製造可能なインジウムアルコキシド化合物及び当該化合物の使用 |
| CN116574126A (zh) * | 2023-07-07 | 2023-08-11 | 研峰科技(北京)有限公司 | 一种高纯度叔丁醇锡的合成方法 |
| CN116574126B (zh) * | 2023-07-07 | 2023-09-22 | 研峰科技(北京)有限公司 | 一种高纯度叔丁醇锡的合成方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0601479B1 (de) | Verfahren zur Entfernung von wasserstoffhaltigen Silanen aus Methylchlorsilanen | |
| EP0650973A1 (de) | Racemische Metallocenkomplexe und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| JPH07258277A (ja) | スズ（ｉｖ）テトラアルコキシドからハロゲンを除去する方法 | |
| JPH06329663A (ja) | グリセロールカーボネートの製造方法 | |
| US6426425B2 (en) | Process for purifying gallium alkoxide | |
| EP0277642B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Oximosilanen | |
| DE69310363T2 (de) | Verfahren zur herstellung von trialkylverbindungen von metallen der gruppe 3a | |
| JP2561482B2 (ja) | トリアルキル砒素化合物の製造方法 | |
| US6060617A (en) | Contaminant free organometallic amide compositions and processes for making same | |
| EP0307897A1 (en) | Trifluorobenzene compounds and process for producing the same | |
| EP0355909A2 (en) | Preparation of dimethylzinc | |
| JP3082027B2 (ja) | ニオブアルコキシドおよびタンタルアルコキシドの 精製方法 | |
| EP0854135B1 (en) | Process for preparing 2-cyanobiphenyl compound | |
| EP0742221A2 (en) | Process for preparing trimethylaluminum | |
| RU2083582C1 (ru) | Способ получения бис-ареновых производных ванадия из оксихлорида ванадия | |
| US3657300A (en) | Preparation of dihydrocarbyl aluminum halides and dihydrocarbyl aluminum alkoxides | |
| Athar et al. | Synthesis and physico‐chemical studies of double alkoxides and their allied compounds | |
| JP5139621B2 (ja) | 金属アルコキシドの精製方法 | |
| JPH0648993A (ja) | ジアルキルカーボネートの製造法 | |
| JP2864985B2 (ja) | トリ（第２級アルキル）シラン化合物の製造方法 | |
| JPWO2007007638A1 (ja) | トリヒドロカルビルボランの製造方法 | |
| US4739086A (en) | Production of organic vanadates | |
| JP2967397B2 (ja) | アルコキシアルシンの精製法 | |
| JP3915872B2 (ja) | テトラキス（トリメチルシリル）シラン及びトリス（トリメチルシリル）シランの製造方法 | |
| JPS61205289A (ja) | スズアルコキシドの製造方法 |