JPH07255697A - 磁気共鳴イメージングの撮影方法及びその装置 - Google Patents
磁気共鳴イメージングの撮影方法及びその装置Info
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- JPH07255697A JPH07255697A JP6048328A JP4832894A JPH07255697A JP H07255697 A JPH07255697 A JP H07255697A JP 6048328 A JP6048328 A JP 6048328A JP 4832894 A JP4832894 A JP 4832894A JP H07255697 A JPH07255697 A JP H07255697A
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- magnetic field
- magnetic resonance
- imaging
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Abstract
(57)【要約】
【目的】縦緩和時間（Ｔ１）強調像を、高速かつ高Ｓ／
Ｎで撮影するＭＲＩ撮影方法及び装置を提供する。 【構成】スライス傾斜磁場２０１と磁化励起用高周波磁
場パルス２０２を印加し、磁化の位相に位相エンコード
方向の位置情報を付加する位相エンコード傾斜磁場２０
３を印加する。磁気共鳴信号はリードアウト方向の位置
情報を付加するリードアウト傾斜磁場パルス２０５を印
加しながら計測される。最後に、位相エンコード傾斜磁
場パルス２０３と同じ大きさで反対の符号をもつリフェ
ーズ用パルス２０５を印加する。 【効果】撮影パラメータに応じて最適な高周波磁場印加
位相を選ぶことができ、従来よりも純粋なＴ１強調像を
高いＳ／Ｎで撮影できる。
Ｎで撮影するＭＲＩ撮影方法及び装置を提供する。 【構成】スライス傾斜磁場２０１と磁化励起用高周波磁
場パルス２０２を印加し、磁化の位相に位相エンコード
方向の位置情報を付加する位相エンコード傾斜磁場２０
３を印加する。磁気共鳴信号はリードアウト方向の位置
情報を付加するリードアウト傾斜磁場パルス２０５を印
加しながら計測される。最後に、位相エンコード傾斜磁
場パルス２０３と同じ大きさで反対の符号をもつリフェ
ーズ用パルス２０５を印加する。 【効果】撮影パラメータに応じて最適な高周波磁場印加
位相を選ぶことができ、従来よりも純粋なＴ１強調像を
高いＳ／Ｎで撮影できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気共鳴イメージング
（以下ＭＲＩ）装置の撮影方法およびその装置に関す
る。
（以下ＭＲＩ）装置の撮影方法およびその装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＭＲＩ装置は磁気共鳴現象を利用した断
層像撮影装置である。一般的な撮影原理の概略は以下の
とおりである。静磁場中に検査対象を置き、高周波磁場
パルスを印加して水素原子などの磁化を励起した後、位
相エンコード傾斜磁場とリードアウト傾斜磁場を印加し
て各磁化に位置情報を与えながら、磁気共鳴信号を計測
する。励起から信号計測までの時間差を一般にエコー時
間（ＴＥ）と呼ぶ。また、励起前の磁化は静磁場の方向
を向いており、励起によって傾く。励起の強度は、磁化
の傾く角度（フリップ角、ＦＡ）で表される。通常の計
測ではＦＡ＝９０度がよく用いられる。一つ目の信号が
計測された後、励起された磁化がある程度あるいは完全
に回復するまでの待ち時間を挟んで、再び、高周波磁場
パルスを印加して計測を繰り返す。この繰り返しの時間
間隔を一般に繰り返し時間（ＴＲ）と呼ぶ。繰り返しご
とに位相エンコード傾斜磁場の印加量を変化させ、１画
像分の信号を計測する。繰り返し回数は２５６×２５６
ピクセルの画像の場合、一般に２５６回である。最後
に、全計測信号をフーリエ変換により画像再構成し、断
層像を得る。
層像撮影装置である。一般的な撮影原理の概略は以下の
とおりである。静磁場中に検査対象を置き、高周波磁場
パルスを印加して水素原子などの磁化を励起した後、位
相エンコード傾斜磁場とリードアウト傾斜磁場を印加し
て各磁化に位置情報を与えながら、磁気共鳴信号を計測
する。励起から信号計測までの時間差を一般にエコー時
間（ＴＥ）と呼ぶ。また、励起前の磁化は静磁場の方向
を向いており、励起によって傾く。励起の強度は、磁化
の傾く角度（フリップ角、ＦＡ）で表される。通常の計
測ではＦＡ＝９０度がよく用いられる。一つ目の信号が
計測された後、励起された磁化がある程度あるいは完全
に回復するまでの待ち時間を挟んで、再び、高周波磁場
パルスを印加して計測を繰り返す。この繰り返しの時間
間隔を一般に繰り返し時間（ＴＲ）と呼ぶ。繰り返しご
とに位相エンコード傾斜磁場の印加量を変化させ、１画
像分の信号を計測する。繰り返し回数は２５６×２５６
ピクセルの画像の場合、一般に２５６回である。最後
に、全計測信号をフーリエ変換により画像再構成し、断
層像を得る。
【０００３】ＭＲＩで画像化できる代表的な物理量に
は、励起した原子の密度分布の他に、縦緩和時間Ｔ１と
横緩和時間Ｔ２がある。Ｔ１とは、励起された縦磁化が
時間と共に指数関数的に励起前の状態に回復していく際
の時定数であり、Ｔ２とは、磁化の励起後、横磁化が時
間と共に指数関数的に減衰していく際の時定数である。
これらは、生体組織によって異なる値を持つ。一般的
に、Ｔ１はＴ２よりも長く、Ｔ１は数百ｍｓから数千ｍ
ｓ、Ｔ２は数十ｍｓから数百ｍｓである。
は、励起した原子の密度分布の他に、縦緩和時間Ｔ１と
横緩和時間Ｔ２がある。Ｔ１とは、励起された縦磁化が
時間と共に指数関数的に励起前の状態に回復していく際
の時定数であり、Ｔ２とは、磁化の励起後、横磁化が時
間と共に指数関数的に減衰していく際の時定数である。
これらは、生体組織によって異なる値を持つ。一般的
に、Ｔ１はＴ２よりも長く、Ｔ１は数百ｍｓから数千ｍ
ｓ、Ｔ２は数十ｍｓから数百ｍｓである。
【０００４】実際に計測される画像はＴ１強調像，Ｔ２
強調像と呼ばれ、密度像とそれぞれの緩和時間の影響を
受けた像が合成された画像である。Ｔ１強調像は、ＴＲ
とＴＥを短くして計測するのが一般的である。ＴＲを短
くすることによってＴ１を強調し、ＴＥを短くすること
によってＴ２の影響を少なくする。通常、ＴＲは数百ｍ
ｓとされる。一方、Ｔ２強調像は、これとは逆に、ＴＲ
とＴＥを長くして計測する。
強調像と呼ばれ、密度像とそれぞれの緩和時間の影響を
受けた像が合成された画像である。Ｔ１強調像は、ＴＲ
とＴＥを短くして計測するのが一般的である。ＴＲを短
くすることによってＴ１を強調し、ＴＥを短くすること
によってＴ２の影響を少なくする。通常、ＴＲは数百ｍ
ｓとされる。一方、Ｔ２強調像は、これとは逆に、ＴＲ
とＴＥを長くして計測する。
【０００５】Ｔ１強調像を高速に撮影する方法の一つに
ＴＲを数ｍｓから数十ｍｓ程度に短くする方法がある。
その一つであるＦＬＡＳＨ法は、ＴＲを短くすることに
よるＳ／Ｎの劣化を、小フリップ角にすることで磁化の
回復を早めることによって改善している。一方、より良
いＳ／Ｎを得るための方法として、印加した位相エンコ
ード傾斜磁場パルスを打ち消すための反転パルスを信号
計測後に印加し、高周波磁場パルスの印加位相をΨ×ｎ
（ｎ＋１）／２とする方法がある。ここで、ｎは高周波
磁場パルスの印加回数、Ψは１１７度あるいは１２３度
の位相角である。この方法によると、任意のＴＲ，ＴＥ
において画像コントラストがＦＬＡＳＨとほぼ同じにな
る。この方法の詳細については、マグネティック リゾ
ナンスイン メディシン(Magnetic Resonance in Medic
ine，vol.21，pp.251−263，1991）に記載されている。
ＴＲを数ｍｓから数十ｍｓ程度に短くする方法がある。
その一つであるＦＬＡＳＨ法は、ＴＲを短くすることに
よるＳ／Ｎの劣化を、小フリップ角にすることで磁化の
回復を早めることによって改善している。一方、より良
いＳ／Ｎを得るための方法として、印加した位相エンコ
ード傾斜磁場パルスを打ち消すための反転パルスを信号
計測後に印加し、高周波磁場パルスの印加位相をΨ×ｎ
（ｎ＋１）／２とする方法がある。ここで、ｎは高周波
磁場パルスの印加回数、Ψは１１７度あるいは１２３度
の位相角である。この方法によると、任意のＴＲ，ＴＥ
において画像コントラストがＦＬＡＳＨとほぼ同じにな
る。この方法の詳細については、マグネティック リゾ
ナンスイン メディシン(Magnetic Resonance in Medic
ine，vol.21，pp.251−263，1991）に記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】以上の従来法では、Ｔ
１強調像を高速に撮影することを目的としているが、実
際にはＴＥを無限に小さくすることが不可能であるた
め、Ｔ２の影響が含まれてしまう。
１強調像を高速に撮影することを目的としているが、実
際にはＴＥを無限に小さくすることが不可能であるた
め、Ｔ２の影響が含まれてしまう。
【０００７】本発明の目的は、純粋なＴ１強調像を高速
かつ高Ｓ／Ｎで撮影する手法を提供することにある。
かつ高Ｓ／Ｎで撮影する手法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題は、ＴＲ，Ｔ
Ｅ，フリップ角などの撮影パラメータや検査対象の性質
に応じて高周波磁場の印加位相を変化させる撮影方法に
よって解決される。
Ｅ，フリップ角などの撮影パラメータや検査対象の性質
に応じて高周波磁場の印加位相を変化させる撮影方法に
よって解決される。
【０００９】
【作用】画像のＴ１，Ｔ２の強調度は、ＴＲ，ＴＥ，フ
リップ角などの撮影パラメータと高周波磁場の印加位相
によって変化する。従って、撮影パラメータに応じて最
適な高周波磁場の印加位相を用いれば、純粋なＴ１強調
像を撮影することが可能になる。
リップ角などの撮影パラメータと高周波磁場の印加位相
によって変化する。従って、撮影パラメータに応じて最
適な高周波磁場の印加位相を用いれば、純粋なＴ１強調
像を撮影することが可能になる。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の磁気共鳴を用いた検査装置
（以下、単に検査装置という）のブロック図である。図
１において、１０１は静磁場Ｈ０を発生する磁石、１０
２は対象物体、１０３は高周波磁場の発生と対象物体１
０２から生じる信号の検出のためのコイル、１０４，１
０５，１０６はそれぞれＸ方向，Ｙ方向およびＺ方向の
傾斜磁場を発生させるための傾斜磁場発生コイルであ
る。１０７は各傾斜磁場発生コイル１０４，１０５，１
０６に電流を供給するためのコイル駆動装置である。１
０８は計測されたデータの演算を行うための計算機、１
０９は計算機108での演算結果を表示するためのＣＲＴ
ディスプレイである。
（以下、単に検査装置という）のブロック図である。図
１において、１０１は静磁場Ｈ０を発生する磁石、１０
２は対象物体、１０３は高周波磁場の発生と対象物体１
０２から生じる信号の検出のためのコイル、１０４，１
０５，１０６はそれぞれＸ方向，Ｙ方向およびＺ方向の
傾斜磁場を発生させるための傾斜磁場発生コイルであ
る。１０７は各傾斜磁場発生コイル１０４，１０５，１
０６に電流を供給するためのコイル駆動装置である。１
０８は計測されたデータの演算を行うための計算機、１
０９は計算機108での演算結果を表示するためのＣＲＴ
ディスプレイである。
【００１１】次に本検査装置の動作の概要を説明する。
対象物体１０２の核スピンを励振する高周波磁場Ｈ１
は、シンセサイザ１１０により発生させた高周波を変調
装置１１１で波形整形，電力増幅し、コイル１０３に電
流を供給することにより発生させる。コイル駆動装置１
０７から電流を供給された傾斜磁場発生コイル１０４，
１０５，１０６は傾斜磁場を発生し、対象物体１０２か
らの信号を変調する。変調信号はコイル１０３により受
信され、増幅機１１２で増幅、検波装置１１３で検波さ
れた後、計算機１０８に入力される。計算機１０８は演
算後、演算結果をＣＲＴディスプレイ１０９で表現す
る。なお、計算機１０８は予めプログラムされたタイミ
ング，強度で各装置が動作するように制御を行う。プロ
グラムの内、特に高周波磁場，傾斜磁場，信号受信のタ
イミングや強度を記述したものはパルスシーケンスと呼
ばれている。
対象物体１０２の核スピンを励振する高周波磁場Ｈ１
は、シンセサイザ１１０により発生させた高周波を変調
装置１１１で波形整形，電力増幅し、コイル１０３に電
流を供給することにより発生させる。コイル駆動装置１
０７から電流を供給された傾斜磁場発生コイル１０４，
１０５，１０６は傾斜磁場を発生し、対象物体１０２か
らの信号を変調する。変調信号はコイル１０３により受
信され、増幅機１１２で増幅、検波装置１１３で検波さ
れた後、計算機１０８に入力される。計算機１０８は演
算後、演算結果をＣＲＴディスプレイ１０９で表現す
る。なお、計算機１０８は予めプログラムされたタイミ
ング，強度で各装置が動作するように制御を行う。プロ
グラムの内、特に高周波磁場，傾斜磁場，信号受信のタ
イミングや強度を記述したものはパルスシーケンスと呼
ばれている。
【００１２】次に図２に本発明の実施例のパルスシーケ
ンスの典型的な例を示す。スライス傾斜磁場２０１の印
加とともに磁化励起用高周波磁場（ＲＦ）パルス２０２
を印加し、対象物体内のあるスライス内に磁気共鳴現象
を誘起する。磁化の位相に位相エンコード方向の位置情
報を付加するための位相エンコード傾斜磁場２０３を印
加する。この位相エンコード傾斜磁場の強度はプログラ
ムに従って変更されながら複数回測定が繰り返される。
磁気共鳴信号は、リードアウト方向の位置情報を付加す
るためのリードアウト傾斜磁場パルス２０４を印加しな
がら計測される。最後に、位相エンコード傾斜磁場パル
ス２０３と同じ大きさで反対の符号をもつリフェーズ用
パルス２０５を印加する。第ｎ回目の高周波磁場パルス
の印加位相は、あらかじめ計算機１０８のプログラムあ
るいはパルスシーケンス内に用意されているテーブルを
参照して決定される一定の位相角ΨによってΨ×ｎ（ｎ
＋１）／２となるようにする。なお、図２のパルスシー
ケンスは一例であり、ＴＲ内に印加される傾斜磁場の時
間積分値がＴＲごとに変化しなければ、パルスの数，形
状，大きさは問わない。
ンスの典型的な例を示す。スライス傾斜磁場２０１の印
加とともに磁化励起用高周波磁場（ＲＦ）パルス２０２
を印加し、対象物体内のあるスライス内に磁気共鳴現象
を誘起する。磁化の位相に位相エンコード方向の位置情
報を付加するための位相エンコード傾斜磁場２０３を印
加する。この位相エンコード傾斜磁場の強度はプログラ
ムに従って変更されながら複数回測定が繰り返される。
磁気共鳴信号は、リードアウト方向の位置情報を付加す
るためのリードアウト傾斜磁場パルス２０４を印加しな
がら計測される。最後に、位相エンコード傾斜磁場パル
ス２０３と同じ大きさで反対の符号をもつリフェーズ用
パルス２０５を印加する。第ｎ回目の高周波磁場パルス
の印加位相は、あらかじめ計算機１０８のプログラムあ
るいはパルスシーケンス内に用意されているテーブルを
参照して決定される一定の位相角ΨによってΨ×ｎ（ｎ
＋１）／２となるようにする。なお、図２のパルスシー
ケンスは一例であり、ＴＲ内に印加される傾斜磁場の時
間積分値がＴＲごとに変化しなければ、パルスの数，形
状，大きさは問わない。
【００１３】ΨのテーブルはＴＲ，ＴＥ，ＦＡに対する
３次元の配列Ψ(ＴＲ，ＴＥ，ＦＡ)として実現し、各要
素は、ＴＲ，ＴＥ，ＦＡに対してＴ２依存性の小さい画
像コントラストが得られるΨの値にする。
３次元の配列Ψ(ＴＲ，ＴＥ，ＦＡ)として実現し、各要
素は、ＴＲ，ＴＥ，ＦＡに対してＴ２依存性の小さい画
像コントラストが得られるΨの値にする。
【００１４】Ｔ２依存性の評価は、実機による測定や計
算機による数値シミュレーションなどによって行うこと
ができる。ここでは、数値シミュレーションを用いた場
合の評価法の一例を説明する。まず、画像評価に用いる
モデルを用意する。これは、２５６×２５６のビットマ
ップ内に１２５×１２５の磁化密度が均一の正方形を配
置したものである。正方形の内部は５×５の格子に区切
られ、その縦横をそれぞれＴ１（ｉ）＝２００×ｉ，Ｔ
２（ｊ）＝２００×ｊ（ｉ，ｊ＝１，２，３，４，５）
（単位：ｍｓ）、として、各格子が異なるＴ１，Ｔ２で
埋められている。
算機による数値シミュレーションなどによって行うこと
ができる。ここでは、数値シミュレーションを用いた場
合の評価法の一例を説明する。まず、画像評価に用いる
モデルを用意する。これは、２５６×２５６のビットマ
ップ内に１２５×１２５の磁化密度が均一の正方形を配
置したものである。正方形の内部は５×５の格子に区切
られ、その縦横をそれぞれＴ１（ｉ）＝２００×ｉ，Ｔ
２（ｊ）＝２００×ｊ（ｉ，ｊ＝１，２，３，４，５）
（単位：ｍｓ）、として、各格子が異なるＴ１，Ｔ２で
埋められている。
【００１５】このモデルに対して、評価したいパルスシ
ーケンスのΨを０度から１８０度まで１度ずつ変化させ
てシミュレーションを行い、画像を求める。シミュレー
タとしては、例えば、日本磁気共鳴医学会大会講演抄録
集、ｐ.１３８ 、１９９３に記載のものを用いることが
できる。得られた画像の各格子内の平均強度をｓ（ｉ，
ｊ）とし、Ｔ２（３）の各格子内の平均強度ｓ（ｉ，
３）を基準に数１によってεを計算し、画像コントラス
トのＴ２依存性とする。Ｔ２の違いによる強度変化が大
きいほどεも大きくなる。実機によってＴ２依存性を評
価する場合は、同様に緩和時間を変化させたモデルを作
成し、撮影した画像に対して同様の評価を行えば良い。
なお、以上の評価法は、これに限るものではないことは
明らかである。
ーケンスのΨを０度から１８０度まで１度ずつ変化させ
てシミュレーションを行い、画像を求める。シミュレー
タとしては、例えば、日本磁気共鳴医学会大会講演抄録
集、ｐ.１３８ 、１９９３に記載のものを用いることが
できる。得られた画像の各格子内の平均強度をｓ（ｉ，
ｊ）とし、Ｔ２（３）の各格子内の平均強度ｓ（ｉ，
３）を基準に数１によってεを計算し、画像コントラス
トのＴ２依存性とする。Ｔ２の違いによる強度変化が大
きいほどεも大きくなる。実機によってＴ２依存性を評
価する場合は、同様に緩和時間を変化させたモデルを作
成し、撮影した画像に対して同様の評価を行えば良い。
なお、以上の評価法は、これに限るものではないことは
明らかである。
【００１６】
【数１】
【００１７】以上の方法により求めたΨによって、より
純粋なＴ１強調像を撮影することができる。例えば、Ｔ
Ｒ＝５０ｍｓ，ＴＥ＝２５ｍｓ，ＦＡ＝９０度の場合、
Ψと画像コントラストのＴ２依存性の関係は図３に示す
とおりになる。画像コントラストのＴ２依存性はΨによ
って大きく変化することがわかる。この依存性はＴＲ，
ＴＥ，ＦＡによっても変化する。
純粋なＴ１強調像を撮影することができる。例えば、Ｔ
Ｒ＝５０ｍｓ，ＴＥ＝２５ｍｓ，ＦＡ＝９０度の場合、
Ψと画像コントラストのＴ２依存性の関係は図３に示す
とおりになる。画像コントラストのＴ２依存性はΨによ
って大きく変化することがわかる。この依存性はＴＲ，
ＴＥ，ＦＡによっても変化する。
【００１８】図３の場合について、最も小さいＴ２依存
性を示すΨは１５４度である。従って、Ψ（ＴＲ＝５０
ｍｓ，ＴＥ＝２５ｍｓ，ＦＡ＝９０度）＝１５４度とす
る。あるいは、これに近いＴ２依存性を示すΨ（例えば
１１２度など）としても良い。なお、ここでは、３次元
の場合について説明したが、例えば、ＴＥの変化に対し
てＴ２の依存性の変化が小さい場合には、ＴＲ，ＦＡだ
けにするなど、Ψのテーブルを２次元の配列としても良
い。また、Ｔ２依存性がＴＲ，ＴＥ，ＦＡのうちの一つ
だけに依存する場合は、１次元の配列にした方が良い。
性を示すΨは１５４度である。従って、Ψ（ＴＲ＝５０
ｍｓ，ＴＥ＝２５ｍｓ，ＦＡ＝９０度）＝１５４度とす
る。あるいは、これに近いＴ２依存性を示すΨ（例えば
１１２度など）としても良い。なお、ここでは、３次元
の場合について説明したが、例えば、ＴＥの変化に対し
てＴ２の依存性の変化が小さい場合には、ＴＲ，ＦＡだ
けにするなど、Ψのテーブルを２次元の配列としても良
い。また、Ｔ２依存性がＴＲ，ＴＥ，ＦＡのうちの一つ
だけに依存する場合は、１次元の配列にした方が良い。
【００１９】図４に従来法のＦＬＡＳＨと同じコントラ
ストを与えるΨ＝１１７度とした場合、図５に最もＴ２
依存性の小さい画像コントラストを与えるΨ＝１５４度
の場合の画像コントラストを示す。両図の高さ方向は画
像の強度を表しており、強度の変化率が大きいほどコン
トラストが強いということになる。図４では、Ｔ２が小
さくなるに連れて強度が減少しているのに対して、図５
では、ほとんど変化がない。Ψ＝１５４度とすること
で、よりＴ２依存性の小さいＴ１強調像が撮影できるこ
とがわかる。
ストを与えるΨ＝１１７度とした場合、図５に最もＴ２
依存性の小さい画像コントラストを与えるΨ＝１５４度
の場合の画像コントラストを示す。両図の高さ方向は画
像の強度を表しており、強度の変化率が大きいほどコン
トラストが強いということになる。図４では、Ｔ２が小
さくなるに連れて強度が減少しているのに対して、図５
では、ほとんど変化がない。Ψ＝１５４度とすること
で、よりＴ２依存性の小さいＴ１強調像が撮影できるこ
とがわかる。
【００２０】なお、ＴＲ，ＴＥ，ＦＡ，Ψのうち、Ψを
コントラスト調整のパラメータに選んだのは、ＴＲが撮
影時間に、ＦＡが画像のＳ／Ｎに関係し、また、ＴＥは
パルスシーケンス内の各パルスの配置に制約を受けやす
いのに対して、Ψは画像のコントラストだけに影響する
からである。
コントラスト調整のパラメータに選んだのは、ＴＲが撮
影時間に、ＦＡが画像のＳ／Ｎに関係し、また、ＴＥは
パルスシーケンス内の各パルスの配置に制約を受けやす
いのに対して、Ψは画像のコントラストだけに影響する
からである。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、撮影パラメータに応じ
て最適な高周波磁場印加位相を選ぶことができ、従来よ
りも純粋なＴ１強調像を高いＳ／Ｎで撮影できるＭＲＩ
撮影方法及び撮影装置を実現することができる。
て最適な高周波磁場印加位相を選ぶことができ、従来よ
りも純粋なＴ１強調像を高いＳ／Ｎで撮影できるＭＲＩ
撮影方法及び撮影装置を実現することができる。
【図１】本発明を実施する際に用いられる装置構成の一
例を示すブロック図。
例を示すブロック図。
【図２】本発明の実施例のパルスシーケンスを示すタイ
ミングチャート。
ミングチャート。
【図３】ＴＲ＝５０ｍｓ，ＴＥ＝２５ｍｓ，ＦＡ＝９０
度の場合のΨとＴ２依存性の関係を示す特性図。
度の場合のΨとＴ２依存性の関係を示す特性図。
【図４】従来法による画像（Ψ＝１１７度）のコントラ
ストを示す説明図。
ストを示す説明図。
【図５】本発明による画像（Ψ＝１５４度）のコントラ
ストを示す説明図。
ストを示す説明図。
２０１…スライス傾斜磁場パルス、２０２…高周波磁場
パルス、２０３…位相エンコード傾斜磁場パルス、２０
４…リードアウト傾斜磁場パルス、２０５…リフェーズ
用傾斜磁場パルス。
パルス、２０３…位相エンコード傾斜磁場パルス、２０
４…リードアウト傾斜磁場パルス、２０５…リフェーズ
用傾斜磁場パルス。
Claims (6)
- 【請求項１】静磁場中の検査対象に対し、磁化励起用の
高周波磁場と、磁化に位置情報を与えるための第一及び
第二の傾斜磁場とを印加し、前記第一の傾斜磁場の印加
のもとで磁気共鳴信号を計測する信号収集シーケンス
を、前記第二の傾斜磁場の印加量を変化させながら複数
回繰り返すことによって画像信号を収集する磁気共鳴イ
メージングの撮影方法において、撮影パラメータに応じ
て前記高周波磁場の印加位相の変化方法を変えることを
特徴とする磁気共鳴イメージングの撮影方法。 - 【請求項２】請求項１において、前記撮影パラメータ
は、前記高周波磁場のフリップ角である磁気共鳴イメー
ジングの撮影方法。 - 【請求項３】請求項１において、前記撮影パラメータ
は、前記信号収集シーケンスの繰り返し時間である磁気
共鳴イメージングの撮影方法。 - 【請求項４】請求項１において、前記撮影パラメータ
は、前記信号収集シーケンスのエコー時間である磁気共
鳴イメージングの撮影方法。 - 【請求項５】請求項１，２，３または４において、前記
高周波磁場の印加位相の変化方法は、前記高周波磁場の
印加回数ｎとある一定の位相角Ψによって印加位相がΨ
×ｎ（ｎ＋１）／２となるようにする磁気共鳴イメージ
ングの撮影方法。 - 【請求項６】請求項１，２，３，４または５において、
静磁場，傾斜磁場，高周波磁場の各磁場発生手段と、検
査対象からの磁気共鳴信号を検出する手段と、前記磁気
共鳴信号の検出手段の検出信号の演算を行う計算機，前
記計算機による演算結果の出力手段を有する磁気共鳴イ
メージング装置において、撮影パラメータに応じて前記
高周波磁場の印加位相を決定する手段を有する磁気共鳴
イメージング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6048328A JPH07255697A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | 磁気共鳴イメージングの撮影方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6048328A JPH07255697A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | 磁気共鳴イメージングの撮影方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07255697A true JPH07255697A (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=12800358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6048328A Pending JPH07255697A (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | 磁気共鳴イメージングの撮影方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07255697A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007181744A (ja) * | 2007-04-12 | 2007-07-19 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Ｍｒｉ装置 |
-
1994
- 1994-03-18 JP JP6048328A patent/JPH07255697A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007181744A (ja) * | 2007-04-12 | 2007-07-19 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Ｍｒｉ装置 |
| JP4585539B2 (ja) * | 2007-04-12 | 2010-11-24 | ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー | Ｍｒｉ装置 |
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