JPH07244073A - 電気接触用微細接触子及びその製造方法 - Google Patents
電気接触用微細接触子及びその製造方法Info
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- JPH07244073A JPH07244073A JP3670294A JP3670294A JPH07244073A JP H07244073 A JPH07244073 A JP H07244073A JP 3670294 A JP3670294 A JP 3670294A JP 3670294 A JP3670294 A JP 3670294A JP H07244073 A JPH07244073 A JP H07244073A
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- Japan
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- shape
- alloy wire
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 太さ５０μｍ、ピッチ１００μｍの接触子配
列を可能とする。 【構成】 絶縁性保持体２１に貫通穴２２が配列形成さ
れ、貫通穴２２の内面に金膜２３がメッキされ、貫通穴
２２内にＮｉＴｉ形状記憶合金線を折返して互いに接触
することなく、撚り合せた接触子２４が収容される。そ
の折返し部１１ｃの幅は形状記憶状態で貫通穴２２の径
より大であり、形状不定状態で貫通穴２２に挿入し、形
状回復させて、折返し部１１ｃが弾性変形して貫通穴２
２の内面に強く接触して固定される。
列を可能とする。 【構成】 絶縁性保持体２１に貫通穴２２が配列形成さ
れ、貫通穴２２の内面に金膜２３がメッキされ、貫通穴
２２内にＮｉＴｉ形状記憶合金線を折返して互いに接触
することなく、撚り合せた接触子２４が収容される。そ
の折返し部１１ｃの幅は形状記憶状態で貫通穴２２の径
より大であり、形状不定状態で貫通穴２２に挿入し、形
状回復させて、折返し部１１ｃが弾性変形して貫通穴２
２の内面に強く接触して固定される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は高密度半導体集積回
路、アクティブ液晶パネルなどの集積回路の検査などの
ためにその微細な電極や高密度電極に電気的に接触さ
せ、電気信号を受信したり、送信したりするために用い
られる電気接触用微細接触子に関する。
路、アクティブ液晶パネルなどの集積回路の検査などの
ためにその微細な電極や高密度電極に電気的に接触さ
せ、電気信号を受信したり、送信したりするために用い
られる電気接触用微細接触子に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣ素子内部の配線端子（バンプ）への
電気的接触のために、従来においてはタングステンピン
や、いわゆるポゴピンが使用されていた。ポゴピンは金
属チューブ内にコイルばねが収容され、そのチューブの
一端面から前記コイルばねに連結されたピンが出入自在
に取付けられ、そのピンの先端をバンプに弾性的に接触
させ、前記コイルばねを通じて電気的に導出するもので
ある。
電気的接触のために、従来においてはタングステンピン
や、いわゆるポゴピンが使用されていた。ポゴピンは金
属チューブ内にコイルばねが収容され、そのチューブの
一端面から前記コイルばねに連結されたピンが出入自在
に取付けられ、そのピンの先端をバンプに弾性的に接触
させ、前記コイルばねを通じて電気的に導出するもので
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】タングステンピンは硬
いため、バンプとの良好な接触を得られるように弾性接
触させるためには、長さを長くする必要があり、その先
端の位置精度が悪く、高密度配列は困難であった。一方
ポゴピンは現在の所、最小のものでも太さが１５０μ
ｍ、長さが１２ｍｍもあり、太過ぎ、かつ長過ぎ、しか
も高価格であり、また高密度でピン配列を作ることはで
きない。
いため、バンプとの良好な接触を得られるように弾性接
触させるためには、長さを長くする必要があり、その先
端の位置精度が悪く、高密度配列は困難であった。一方
ポゴピンは現在の所、最小のものでも太さが１５０μ
ｍ、長さが１２ｍｍもあり、太過ぎ、かつ長過ぎ、しか
も高価格であり、また高密度でピン配列を作ることはで
きない。
【０００４】しかし高密度集積回路に用いる微細接触子
として、（１）接触子の太さが３０〜１５０μｍ、
（２）接触子圧着力が３〜１０ｇ、（３）接触子先端の
変位（上下のストローク長）が０．３〜１．０ｍｍ、
（４）接触子先端の接触抵抗が１００〜６００ｍΩ以
下、（５）接触子自体の抵抗が４００ｍΩ以下、（６）
オン／オフ耐久性が１０万回以上、（７）接触子の固
定、配列が容易であること、（８）接触子の交換が簡単
であること、（９）低価格、大量生産し易いことなどが
要求されるようになった。
として、（１）接触子の太さが３０〜１５０μｍ、
（２）接触子圧着力が３〜１０ｇ、（３）接触子先端の
変位（上下のストローク長）が０．３〜１．０ｍｍ、
（４）接触子先端の接触抵抗が１００〜６００ｍΩ以
下、（５）接触子自体の抵抗が４００ｍΩ以下、（６）
オン／オフ耐久性が１０万回以上、（７）接触子の固
定、配列が容易であること、（８）接触子の交換が簡単
であること、（９）低価格、大量生産し易いことなどが
要求されるようになった。
【０００５】この発明の目的は前記要求を満すような電
気接触用微細接触子を提供することにある。
気接触用微細接触子を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の接触子は、形
状記憶合金線からなり、かつ形状記憶状態にある。この
形状記憶合金線はばね状とされ、コイルばねのみなら
ず、２本の線が互いに接触することなく撚り合わされて
ばね状とされる。更にこの形状記憶合金線は絶縁材の保
持体の穴に少くとも一端を突出させて、直接収容固定さ
れている。
状記憶合金線からなり、かつ形状記憶状態にある。この
形状記憶合金線はばね状とされ、コイルばねのみなら
ず、２本の線が互いに接触することなく撚り合わされて
ばね状とされる。更にこの形状記憶合金線は絶縁材の保
持体の穴に少くとも一端を突出させて、直接収容固定さ
れている。
【０００７】またこの保持体を板状とし、複数の貫通穴
が配列形成され、その各貫通穴にそれぞれ形状記憶合金
線が直接収容固定されている。
が配列形成され、その各貫通穴にそれぞれ形状記憶合金
線が直接収容固定されている。
【０００８】
【実施例】図１Ａにこの発明の実施例を示す。市販の太
さｄが５０μｍのＮｉＴｉ（略５０％：５０％）の形状
記憶合金線１１が直径Ｄが３００μｍ、ピッチＰが１０
０μｍのコイル状に巻かれている。５００℃で真空下の
形状記憶熱処理の後、化学研磨により表面酸化物層を取
り除いて、先端部にＡｕ膜の電解メッキがなされてい
る。形状記憶合金線１１は形状記憶状態（高温、オース
テナイト相）にあって超弾性の性質があり、通常の金属
の２０倍の弾性変形があり、接触子の先端の軸心に沿う
変位（ストローク）が０．３〜１．０ｍｍのものが得ら
れる。
さｄが５０μｍのＮｉＴｉ（略５０％：５０％）の形状
記憶合金線１１が直径Ｄが３００μｍ、ピッチＰが１０
０μｍのコイル状に巻かれている。５００℃で真空下の
形状記憶熱処理の後、化学研磨により表面酸化物層を取
り除いて、先端部にＡｕ膜の電解メッキがなされてい
る。形状記憶合金線１１は形状記憶状態（高温、オース
テナイト相）にあって超弾性の性質があり、通常の金属
の２０倍の弾性変形があり、接触子の先端の軸心に沿う
変位（ストローク）が０．３〜１．０ｍｍのものが得ら
れる。
【０００９】図１Ｂにこの発明の他の実施例を示す。市
販の太さｄが２５μｍのＮｉＴｉ（略５０％：５０％）
の形状記憶合金線１１が折り返されて、２本線１１ａ，
１１ｂとされ、これら２本線１１ａ，１１ｂが互いに接
触することなく、撚り合わされ、その撚り合せピッチＰ
は２５０μｍ、全体の太さＤが５０μｍ、全長Ｌを４．
００ｍｍとされ、２本線１１ａ，１１ｂの遊端を接触先
端１２ａ，１２ｂとされている。表面にＡｕメッキがさ
れている。なお形状記憶合金線１１の折り返し部１１ｃ
の幅Ｄ1 は全体の太さＤより大きく、この例では１１０
μｍとされている。この接触子は接触することなく撚り
合せてスプリングとされているのでペアヘリックススプ
リングと呼ぶ。
販の太さｄが２５μｍのＮｉＴｉ（略５０％：５０％）
の形状記憶合金線１１が折り返されて、２本線１１ａ，
１１ｂとされ、これら２本線１１ａ，１１ｂが互いに接
触することなく、撚り合わされ、その撚り合せピッチＰ
は２５０μｍ、全体の太さＤが５０μｍ、全長Ｌを４．
００ｍｍとされ、２本線１１ａ，１１ｂの遊端を接触先
端１２ａ，１２ｂとされている。表面にＡｕメッキがさ
れている。なお形状記憶合金線１１の折り返し部１１ｃ
の幅Ｄ1 は全体の太さＤより大きく、この例では１１０
μｍとされている。この接触子は接触することなく撚り
合せてスプリングとされているのでペアヘリックススプ
リングと呼ぶ。
【００１０】このようなペアヘリックススプリングを作
るには例えば太さが３０μｍの形状記憶合金線を折り返
して折りその２本の線を互いに接触させて撚り合せ、そ
の後、ＨＦ系のエッチング液により化学研磨処理した太
さを約２５μｍと細くして、両２本線間に隙間を作り、
その後、表面にＡｕメッキを厚さ２μｍ程度とする。こ
の場合、前記化学研磨により、ＮｉＴｉ記憶合金線のＴ
ｉが先に溶けて、表面がＮｉ原子で覆われた状態とな
り、Ａｕメッキ膜の密着性が良いものとなっている。
るには例えば太さが３０μｍの形状記憶合金線を折り返
して折りその２本の線を互いに接触させて撚り合せ、そ
の後、ＨＦ系のエッチング液により化学研磨処理した太
さを約２５μｍと細くして、両２本線間に隙間を作り、
その後、表面にＡｕメッキを厚さ２μｍ程度とする。こ
の場合、前記化学研磨により、ＮｉＴｉ記憶合金線のＴ
ｉが先に溶けて、表面がＮｉ原子で覆われた状態とな
り、Ａｕメッキ膜の密着性が良いものとなっている。
【００１１】図１Ａに示した電気接触用微細接触子で前
記数値例のものについて、圧着力とストローク（変位）
との関係の実験結果を図２Ａに示す。接触子の先端が電
極に接触した位置を原点とし、ストローク（接触子の圧
縮長）を示している。この図から９００μｍのストロー
クで２．５ｇの圧着力が得られ、電極との良好な電気的
接触が可能であることが理解される。
記数値例のものについて、圧着力とストローク（変位）
との関係の実験結果を図２Ａに示す。接触子の先端が電
極に接触した位置を原点とし、ストローク（接触子の圧
縮長）を示している。この図から９００μｍのストロー
クで２．５ｇの圧着力が得られ、電極との良好な電気的
接触が可能であることが理解される。
【００１２】また図１Ｂに示した接触子で、前記数値例
のものについて同様に圧着力とストローク（変位）との
関係の実験結果を図２Ｂに示す。形状記憶合金の形状回
復温度Ａｆが２０℃の場合であり、曲線１３が周囲温度
が３０℃の時の特性、曲線１４が周囲温度が４０℃の時
の特性であり、圧着力は温度に依存して変化する。しか
しストロークが２００μｍで３．５ｇ程度の圧着力が得
られ、比較的大きなストロークで、良好に電気的接触す
るに十分な圧着力が得られることが理解される。
のものについて同様に圧着力とストローク（変位）との
関係の実験結果を図２Ｂに示す。形状記憶合金の形状回
復温度Ａｆが２０℃の場合であり、曲線１３が周囲温度
が３０℃の時の特性、曲線１４が周囲温度が４０℃の時
の特性であり、圧着力は温度に依存して変化する。しか
しストロークが２００μｍで３．５ｇ程度の圧着力が得
られ、比較的大きなストロークで、良好に電気的接触す
るに十分な圧着力が得られることが理解される。
【００１３】図１Ａに示した接触子で前記数値例のもの
における、Ａｕ箔（電極代り）との接触抵抗測定値を図
２Ｃに示す。曲線１５は周囲温度が４０℃の時の特性、
曲線１６は周囲温度が２０℃の時の特性であり、形状回
復温度が２０℃のものであり、２０℃の周囲温度では、
形状回復が完全でないため、接触抵抗が十分小さくなる
ためには１００μｍ程度以上の押し込みが必要である
が、周囲温度が４０℃であれば、押し込み量が６０μｍ
以上になると接触抵抗が１００ｍΩ以下となり十分小さ
くなることが理解される。
における、Ａｕ箔（電極代り）との接触抵抗測定値を図
２Ｃに示す。曲線１５は周囲温度が４０℃の時の特性、
曲線１６は周囲温度が２０℃の時の特性であり、形状回
復温度が２０℃のものであり、２０℃の周囲温度では、
形状回復が完全でないため、接触抵抗が十分小さくなる
ためには１００μｍ程度以上の押し込みが必要である
が、周囲温度が４０℃であれば、押し込み量が６０μｍ
以上になると接触抵抗が１００ｍΩ以下となり十分小さ
くなることが理解される。
【００１４】接触抵抗を低くするためには、接触子の前
端部に厚さ数μｍ程度のＡｕ膜をメッキするとよく、ま
たＡｕ膜により耐久性も強くなる。厚さ２μのＡｕ膜で
低い接触抵抗が得られ、しかも接触の繰返し（ＯＮ，Ｏ
ＦＦ）を数万回行っても問題がないことを確認した。次
に前記接触子を絶縁保持体に保持した実施例を図３に示
す。図３Ａに示すようセラミックやガラスのような絶縁
性の板状保持体２１に直径Ｄ2 が６０μｍの貫通穴２２
が間隔Ｐ2 が１００μｍで２次元に配列形成されてい
る。保持体２１の厚さＷは１ｍｍであり、各貫通穴２２
の内周面に図３Ｂに示すように、厚さが５μｍのＡｕ膜
２３がメッキにより形成されている。なおこのＡｕ膜２
３が形成された状態で貫通穴２２の内径Ｄ2 が６０μｍ
とされている。従って保持体２１自体の貫通穴の径は７
０μｍである。
端部に厚さ数μｍ程度のＡｕ膜をメッキするとよく、ま
たＡｕ膜により耐久性も強くなる。厚さ２μのＡｕ膜で
低い接触抵抗が得られ、しかも接触の繰返し（ＯＮ，Ｏ
ＦＦ）を数万回行っても問題がないことを確認した。次
に前記接触子を絶縁保持体に保持した実施例を図３に示
す。図３Ａに示すようセラミックやガラスのような絶縁
性の板状保持体２１に直径Ｄ2 が６０μｍの貫通穴２２
が間隔Ｐ2 が１００μｍで２次元に配列形成されてい
る。保持体２１の厚さＷは１ｍｍであり、各貫通穴２２
の内周面に図３Ｂに示すように、厚さが５μｍのＡｕ膜
２３がメッキにより形成されている。なおこのＡｕ膜２
３が形成された状態で貫通穴２２の内径Ｄ2 が６０μｍ
とされている。従って保持体２１自体の貫通穴の径は７
０μｍである。
【００１５】各貫通穴２２内に図１Ｂに示した接触子２
４が収容固定されている。接触子２４の接触先端１２
ａ，１２ｂは保持体２１から突出されている。接触子２
４は図１Ｂについて説明した数値例において長さＬだけ
を短かくしたものである。接触子２４を２０℃以下の低
温にして形状不定状態（低温相、マルテンサイト相）と
して、ヤング率が１／３程度小さくなり、材料が軟かい
状態として貫通穴２２内に挿通し、その後、温度を上げ
て形状回復状態とする。この時、前記例では、折り返し
部１１ｃの幅Ｄ1 が１１０μｍであり、この幅に形状回
復するように作用するが、貫通穴２２の内径Ｄ2 は６０
μｍであるため、形状回復した折り返し部１１ｃは図３
Ｂに示すように弾性変形し、貫通穴２２の内面に強く弾
性的に接触し、接触子２４が貫通穴２２内に固定され
る。
４が収容固定されている。接触子２４の接触先端１２
ａ，１２ｂは保持体２１から突出されている。接触子２
４は図１Ｂについて説明した数値例において長さＬだけ
を短かくしたものである。接触子２４を２０℃以下の低
温にして形状不定状態（低温相、マルテンサイト相）と
して、ヤング率が１／３程度小さくなり、材料が軟かい
状態として貫通穴２２内に挿通し、その後、温度を上げ
て形状回復状態とする。この時、前記例では、折り返し
部１１ｃの幅Ｄ1 が１１０μｍであり、この幅に形状回
復するように作用するが、貫通穴２２の内径Ｄ2 は６０
μｍであるため、形状回復した折り返し部１１ｃは図３
Ｂに示すように弾性変形し、貫通穴２２の内面に強く弾
性的に接触し、接触子２４が貫通穴２２内に固定され
る。
【００１６】各接触子２４を外部と接続するため、保持
体２１の両面にそれぞれ、例えばＡｕプリント配線（厚
さ１０μｍ程）２５，２６が複数（貫通穴２２の数の半
分）本なされ、各接触子２４は配線２５，２６の何れか
の１本に、折り返し部１１ｃ、内面のＡｕ膜２３をそれ
ぞれ介して接続される。接触子２４の折り返し部１１ｃ
以外はＡｕ膜２３との接触がゆるく、各部が長手方向に
移動し易く、接触先端１２ａ，１２ｂを被接触電極に十
分弾性力で接触できるようにされる。
体２１の両面にそれぞれ、例えばＡｕプリント配線（厚
さ１０μｍ程）２５，２６が複数（貫通穴２２の数の半
分）本なされ、各接触子２４は配線２５，２６の何れか
の１本に、折り返し部１１ｃ、内面のＡｕ膜２３をそれ
ぞれ介して接続される。接触子２４の折り返し部１１ｃ
以外はＡｕ膜２３との接触がゆるく、各部が長手方向に
移動し易く、接触先端１２ａ，１２ｂを被接触電極に十
分弾性力で接触できるようにされる。
【００１７】保持体２１の厚さＷを大に、例えば３．５
ｍｍ程度にするには、例えば図４Ａに示すように、各厚
さが１ｍｍの感光性ガラス板２１ａ，２１ｂ，２１ｃと
厚さが０．５ｍｍの感光性ガラス板２１ｄにそれぞれフ
ォトエッチングにより貫通穴を同一大きさ、同一配置で
形成し、その一枚のガラス板２１ａにプリント配線２
５，２６がなされ、これらガラス板２１ａ，２１ｂ，２
１ｃ，２１ｄがその貫通穴が連通するように合せて重ね
合せ、接着剤で互いに接着して保持体２１とする。この
ようにすることにより、小さい貫通穴２２でも長いもの
を比較的容易に作ることができる。この例では接触子２
４は０．５ｍｍだけ保持体２１から突出される。
ｍｍ程度にするには、例えば図４Ａに示すように、各厚
さが１ｍｍの感光性ガラス板２１ａ，２１ｂ，２１ｃと
厚さが０．５ｍｍの感光性ガラス板２１ｄにそれぞれフ
ォトエッチングにより貫通穴を同一大きさ、同一配置で
形成し、その一枚のガラス板２１ａにプリント配線２
５，２６がなされ、これらガラス板２１ａ，２１ｂ，２
１ｃ，２１ｄがその貫通穴が連通するように合せて重ね
合せ、接着剤で互いに接着して保持体２１とする。この
ようにすることにより、小さい貫通穴２２でも長いもの
を比較的容易に作ることができる。この例では接触子２
４は０．５ｍｍだけ保持体２１から突出される。
【００１８】図１Ａに示した接触子を保持体２１に保持
させるには例えば図４Ｂに示すように、保持体２１に貫
通穴２７が形成され、その貫通穴２７の一端内は小孔２
８を残されて受け部２９で塞さがれ、この貫通穴２７に
図１Ａに示した接触子３１が収容され、そのピン状接触
端部１１ｄが小孔２８から突出され、コイル状部の一端
が受け部２９で受けられ、他端は図３Ｂに示した場合と
同様に折り返し部１１ｅとされて形状記憶の回復により
貫通穴２７に固定されるか、押え板３２を保持板２１に
対接させ固定して接触子３１を固定すると共に押え板３
２のプリント配線を通じて外部と接続可能とされる。
させるには例えば図４Ｂに示すように、保持体２１に貫
通穴２７が形成され、その貫通穴２７の一端内は小孔２
８を残されて受け部２９で塞さがれ、この貫通穴２７に
図１Ａに示した接触子３１が収容され、そのピン状接触
端部１１ｄが小孔２８から突出され、コイル状部の一端
が受け部２９で受けられ、他端は図３Ｂに示した場合と
同様に折り返し部１１ｅとされて形状記憶の回復により
貫通穴２７に固定されるか、押え板３２を保持板２１に
対接させ固定して接触子３１を固定すると共に押え板３
２のプリント配線を通じて外部と接続可能とされる。
【００１９】なお図１Ａ，Ｂに示した各接触子は、多数
本を保持体と保持される場合に限らず、１本乃至数本を
保持体に前述と同様な手法により直接保持させて用いて
もよい。
本を保持体と保持される場合に限らず、１本乃至数本を
保持体に前述と同様な手法により直接保持させて用いて
もよい。
【００２０】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば形
状記憶合金線の形状記憶状態で構成されているため、太
さが２０μｍ〜１５０μｍ程度の極めて細いものでも比
較的容易に、かつ安価に作ることができ、しかも超弾性
の性質があるため、長さが比較的短かくても、大きな圧
縮（ストローク）が得られ、かつ大きな圧着力も得ら
れ、良好な電気的接触が得られる。
状記憶合金線の形状記憶状態で構成されているため、太
さが２０μｍ〜１５０μｍ程度の極めて細いものでも比
較的容易に、かつ安価に作ることができ、しかも超弾性
の性質があるため、長さが比較的短かくても、大きな圧
縮（ストローク）が得られ、かつ大きな圧着力も得ら
れ、良好な電気的接触が得られる。
【００２１】また保持体に直接保持されるため、安価に
作ることができ、しかも配列ピッチを１００μｍ程にす
ることも容易であり、電極が数千本の高密度多数微細接
触子配列のものの作製も可能となる。更に形状記憶合金
であるため、形状不定状態とすることにより保持体への
組込みを容易に行うことができ、かつ形状回復機能によ
り、簡単に保持体に固定することができる。
作ることができ、しかも配列ピッチを１００μｍ程にす
ることも容易であり、電極が数千本の高密度多数微細接
触子配列のものの作製も可能となる。更に形状記憶合金
であるため、形状不定状態とすることにより保持体への
組込みを容易に行うことができ、かつ形状回復機能によ
り、簡単に保持体に固定することができる。
【００２２】ペアヘリックススプリング接触子の場合で
形状記憶合金としてＮｉＴｉを用い、撚り合せた後、Ｈ
Ｆ系エッチング液で化学研磨することにより、線間に隙
間を作り、しかもその際にＮｉの原子で表面が覆われ、
その後、Ａｕ膜を密着性よくメッキでき、耐蝕性、電気
的接触性を高めることができる。
形状記憶合金としてＮｉＴｉを用い、撚り合せた後、Ｈ
Ｆ系エッチング液で化学研磨することにより、線間に隙
間を作り、しかもその際にＮｉの原子で表面が覆われ、
その後、Ａｕ膜を密着性よくメッキでき、耐蝕性、電気
的接触性を高めることができる。
【図１】この発明による接触子の実施例を示す斜視図。
【図２】Ａ，Ｂは圧着力−圧縮変位（ストローク）の関
係の実験値を示す図、Ｃは接触抵抗−圧縮変位の関係の
実験値を示す図である。
係の実験値を示す図、Ｃは接触抵抗−圧縮変位の関係の
実験値を示す図である。
【図３】Ａは複数の接触子を保持させた実施例を示す斜
視図、Ｂはその一部の拡大断面図である。
視図、Ｂはその一部の拡大断面図である。
【図４】Ａは保持体を厚くした図３Ａの実施例の断面
図、Ｂはコイルスプリング状接触子を保持体に保持させ
た例を示す断面図である。
図、Ｂはコイルスプリング状接触子を保持体に保持させ
た例を示す断面図である。
Claims (7)
- 【請求項１】 形状記憶合金線からなり、形状記憶状態
にあることを特徴とする電気接触用微細接触子。 - 【請求項２】 上記形状記憶合金線は２本の線が互いに
接触することなく撚り合わされたものであることを特徴
とする請求項１記載の電気接触用微細接触子。 - 【請求項３】 絶縁材の保持体の穴に一端を突出させて
上記形状記憶合金線が直接収容固定されていることを特
徴とする請求項１又は２記載の電気接触用微細接触子。 - 【請求項４】 上記保持体は板状をしており、複数の貫
通穴が配列形成され、その各貫通穴にそれぞれ上記形状
記憶合金線が直接収容固定されていることを特徴とする
請求項３記載の電気接触用微細接触子。 - 【請求項５】 形状記憶合金線を折り返し、その２本線
を互いに撚り合せ、その撚り合せ線を化学研磨して、両
２本線間に隙間を形成することを特徴とする電気接触用
微細接触子の製造方法。 - 【請求項６】 上記形状記憶合金線はＮｉＴｉ合金であ
り、上記化学研磨はＨＦ系エッチング液により、上記化
学研磨の後、合金線上にＡｕ膜を形成することを特徴と
する請求項５記載の電気接触用微細接触子。 - 【請求項７】 形状記憶合金線を折り返した２本線が互
いに接触することなく撚り合わされ、上記折り返し部の
太さが他の撚り合せ部の太さより大とされた接触子を形
状不定状態にて、絶縁材の保持体に形成され、上記折り
返し部より小さく、上記撚り合せ部より大きい径の穴内
に挿入し、その後上記形状記憶合金線を形状回復させ、
上記折り返し部が上記穴の内面に弾性変形して接触して
上記接触子を固定することを特徴とする電気接触微細接
触子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3670294A JPH07244073A (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 電気接触用微細接触子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3670294A JPH07244073A (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 電気接触用微細接触子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07244073A true JPH07244073A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12477108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3670294A Withdrawn JPH07244073A (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 電気接触用微細接触子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07244073A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010050613A1 (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-06 | Ibiden Co., Ltd. | Device, method and probe for inspecting substrate |
| JP2021169931A (ja) * | 2020-04-14 | 2021-10-28 | 株式会社昭和真空 | プローブユニット |
-
1994
- 1994-03-08 JP JP3670294A patent/JPH07244073A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010050613A1 (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-06 | Ibiden Co., Ltd. | Device, method and probe for inspecting substrate |
| JP2012506992A (ja) * | 2008-10-28 | 2012-03-22 | イビデン株式会社 | 検査用治具、検査方法、及び、それに用いる検査用プローブ |
| JP2021169931A (ja) * | 2020-04-14 | 2021-10-28 | 株式会社昭和真空 | プローブユニット |
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