JPH07240301A - 抵抗及びこのトリミング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 短いトリミング時間で精度の高いトリミング
が可能な方法を提供する。 【構成】 円筒状絶縁基体２の外周面の抵抗体膜３をト
リミングして一対の電極４、５の抵抗値を所望抵抗値に
する際に、所望抵抗値よりも低い抵抗を用意し、これを
回転すると共に軸方向に移動しつつ刃又はサンドブラス
トでトリミングを進める。所望抵抗値よりも幾らか低い
値になったら抵抗の回転速度を下げて所望抵抗値までト
リミングを進める。回転速度を下げるとトリミング溝２
４の傾きが変化し、トリミング溝２４の長さの変化に対
する抵抗値の変化が小さくなり、量産時のバラツキが少
なくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属皮膜、酸化金属皮
膜、炭素皮膜等の抵抗体膜を備えた抵抗及びこのトリミ
ング方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の典型的な皮膜抵抗器（以下、抵抗
と言う）は、アルミナ等の円筒型絶縁基体と、この表面
にスパッタ、蒸着、無電解メッキ、塗布等によって形成
された抵抗体膜と、この両端に設けられた一対の電極
と、絶縁被覆体とから成る。この種の抵抗の値を目標値
にするためには、カッター式トリミング機等によって抵
抗体膜に螺旋状にトリミング溝を形成する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、抵抗の量産
性を高めるために単位トリミング量（長さ）に対する抵
抗値の変化分を大きくすると、抵抗値のバラツキが大き
くなり、許容誤差の小さい抵抗を高い歩留りで作製する
ことができなかった。

【０００４】そこで、本発明の目的は許容誤差の小さい
抵抗を比較的短時間のトリミングによって得ることがで
きるトリミング方法及び抵抗を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、円筒状又は円柱状の絶縁基体と、前記絶縁
基体の外周面を被覆するように形成された抵抗体膜と、
前記絶縁基体の両端部において前記抵抗体膜に接続され
た一対の電極とから成り、前記一対の電極間の抵抗値が
所望抵抗値よりも低い値を有している抵抗をトリミング
する方法において、前記抵抗体膜の一部を除去して前記
所定抵抗値を得るためのトリミングを行うためのトリミ
ング手段と前記抵抗との間に前記抵抗の軸を中心にした
相対的回転運動を生じさせると共に前記トリミング手段
と前記抵抗との間に前記抵抗の軸方向の相対的移動を生
じさせて前記所望抵抗値を得るためのトリミングを進
め、前記所望抵抗値よりも低く且つ近い値になった時か
ら後は前記回転運動の速度をそれまでよりも低い値にし
てトリミングを続け、前記所望抵抗値が実質的に得られ
た時に前記トリミング手段によるトリミングを終了させ
ることを特徴とするトリミング方法に係わるものであ
る。また、請求項２に示すように、所望抵抗値に近づい
た時に抵抗の回転を停止させ、軸方向の移動のみを続け
て高精度のトリミングを行うことができる。また、請求
項３に示すように、抵抗の軸を中心にした回転の速度を
時間の経過と共に低下させてトリミングすることができ
る。また、請求項４に示すように、抵抗の軸方向の相対
的移動速度を時間の経過と共に高めてトリミングを進め
ることができる。また、請求項５、６に示すように、第
１のシート抵抗値の第１の部分とこれよりも小さい第２
のシート抵抗値の第２の部分とを備えた抵抗体膜を設
け、第２の部分でトリミングを終了させることができ
る。なお、各請求項における所望抵抗値に近い値は、好
ましくは所望抵抗値の８０％以上の値、より好ましくは
９０％以上の値、更に好ましくは９５％以上の値であ
る。

【０００６】

【発明の作用及び効果】各請求項の発明によれば、所望
抵抗値に近い値になるまでは単位トリミング量（長さ）
に対する抵抗値の変化分が大きく、所要時間が短い。近
い値になった後は、単位トリミング量（長さ）に対する
抵抗値の変化分が小さくなるので、抵抗値を許容誤差内
に正確に収めることができる。従って、比較的短時間で
高精度の抵抗を作ることができる。

【０００７】

【第１の実施例】次に、図１〜図５を参照して本発明の
第１の実施例に係わる皮膜抵抗のトリミング方法を説明
する。皮膜抵抗１は図２に示すように円筒状アルミナ磁
器から成る耐熱性絶縁基体２の外周面にＮｉ−Ｐから成
る抵抗体膜３を円筒状に形成し、この両端部に金属キャ
ップから成る第１及び第２の電極４、５を電気的及び機
械的に結合したものから成る。なお、抵抗体膜３はトリ
ミング後に破線で示すように絶縁物６で被覆される。こ
の抵抗１は第１及び第２の電極４、５間の抵抗値が所望
抵抗値（目標抵抗値）Ｒ0 よりも低くなるように予め形
成されている。

【０００８】図１は抵抗１の抵抗体膜３に螺旋状にトリ
ミング溝を形成することによって所望抵抗値を得るため
のカッター式トリミング装置を示すブロック図である。
円筒型抵抗１の第１及び第２の電極４、５の端面には支
軸７、８が固定され、抵抗１は支軸７、８と共に回転自
在に支持体９に支持されている。軸８には回転用モータ
１０が結合され、このモータ１０の回転によって抵抗１
が回転する。抵抗１をこの軸方向に移動するために送り
モータ１１が設けられ、ここに結合されたリードスクリ
ュー１２が支持体９に螺合している。支持体９は回り止
め部材（図示せず）によって回り止めされている。送り
モータ１１によってリードスクリュー１２が回転する
と、支持体９、抵抗体膜３及び回転用モータ１０が軸方
向に移動する。回転用モータ１０には速度制御回路１３
が接続され、送りモータ１１にも速度制御回路１４が接
続されている。なお、支軸７、８は支持体９を軸受けと
して回転する。図１では原理的に示されているが、バネ
作用を有して一対の電極４、５を挟持するように構成さ
れている。勿論、支軸７、８を電極４、５に仮固定する
構成又は保持部材によって電極４、５を保持する構成等
にすることができる。要するに、抵抗１を何らかの方法
で回転する回転手段と、抵抗１をこの軸方向に送る移動
手段とを設ければよい。

【０００９】抵抗体膜３にトリミング溝を形成するため
のトリミング手段として刃１５が設けられ、これが制御
バルブ１６を介してエアー源１７で制御されている。バ
ルブ１６はフィードバック制御装置１８によって制御さ
れ、これが開いた時に刃１５が抵抗体膜３を削り取る。
トリミング制御を実行するために一対のプローブ１９、
２０が一対の電極４、５に接触し、抵抗値測定器２１に
接続されている。抵抗値測定器２１は抵抗１の一対の電
極４、５間の抵抗値を刻々と測定し、測定抵抗値を示す
データを回転及び送り制御回路１３、１４とフィードバ
ック制御装置１８に送る。なお、支軸７、８を導体と
し、これをプローブ１９、２０の代りに使用することが
できる。

【００１０】図１の装置でトリミングを行う時には、図
２に原理的に示すように、矢印２２で示すように円筒型
抵抗１をこの軸を中心に回転しつつ矢印２３に示すよう
に円筒型抵抗１に軸方向の送りを与えながら刃１５によ
って螺旋状のトリミング溝２４を形成する。この実施例
では送りモータ１１による送り速度はトリミング期間中
一定に保ち、回転用モータ１０による抵抗１の回転速度
は図４に示すようにｔ0 〜ｔ1 区間とｔ1 〜ｔ2 区間で
異なる値にする。即ち、図４のｔ0 〜ｔ1 区間では第１
の回転速度Ｎ1 で抵抗１を回転してトリミング溝２４を
形成すると、図３のＰ0 位置からＰ1 位置までの１回転
以上の範囲に等ピッチＷ1 でトリミング溝２４が形成さ
れる。図１の抵抗値測定器２１によって所望抵抗値Ｒ0
に近い値Ｒ1 に達した時点ｔ1 で制御回路１３は回転速
度をＮ2 に低下させるようにモータ１０を制御する。こ
れにより、トリミング溝２４のパターンがＰ1 〜Ｐ2 区
間に示すように変化し、ピッチがＷ1 よりも広いＷ2 に
なる。図４のｔ2 時点で抵抗１が実質的に所望抵抗値Ｒ
0 になったらトリミングを完了させる。ｔ1 時点で回転
速度を下げると、トリミング溝２４のピッチがＷ2 で示
すように大きくなるので、図５に示すように単位リミン
グ量に対する抵抗値の変化分がＲ1 〜Ｒ0 の区間で小さ
くなる。この結果、量産時において所望抵抗値に対する
抵抗値のバラツキが小さくなり、高精度の抵抗を高い歩
留りで得ることができる。

【００１１】

【第２の実施例】次に、図６及び図７を参照して第２の
実施例のトリミング方法を説明する。但し、図６及び図
７において、図１〜図５と共通する部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。第２の実施例においても
図１のトリミング装置を使用してトリミングする。抵抗
１は図２と同様に形成されており、図６のＰ1 位置まで
のトリミング溝２４の形成は第１の実施例と同一の方法
で形成する。図７のｔ0 〜ｔ1 で回転速度Ｎ1 で抵抗１
を回転し、モータ１１で一定の送りを与えてトリミング
し、ｔ1 時点で図６のＰ1 位置までトリミング溝２４を
形成して所望抵抗値Ｒ0 に近い値Ｒ1 になったらモータ
１０による抵抗１の回転を停止し、送りモータ１１によ
る矢印２３に示す方向の送りのみによってトリミングを
続ける。これにより、Ｐ2 までトリミングして所望抵抗
値Ｒ0 又は許容範囲の抵抗値が抵抗値測定器２１から得
られたらトリミングを完了させる。図６のＰ1 〜Ｐ2 区
間に示すように矢印２３に平行に延びるようにトリミン
グ溝２４を形成しても抵抗値が幾らか変化し、所望抵抗
値を得ることができる。この時のトリミング量と抵抗値
の関係は図５と同様な傾向になるので、抵抗値のバラツ
キの少ない状態で抵抗を量産することができる。

【００１２】

【第３の実施例】次に、図８〜図９を参照して第３の実
施例のトリミング方法を説明する。但し、図８〜図９に
おいて図１〜図５と共通する部分には同一の符号を付し
てその説明を省略する。この実施例においても図１のト
リミング装置を使用してトリミングする。モータ１０に
よる抵抗１の回転速度は図８に示すように時間の経過と
共に徐々に低下させる。一方、送りモータ１１による抵
抗１の矢印２３に示す方向への送りは一定に保つ。これ
により、トリミング溝２４は図９に示すようにピッチが
徐々に増大するように形成される。図８のｔ1 時点で所
望抵抗値Ｒ0 に近い値Ｒ1 になった後は回転速度が図４
と同様に低いので単位トリミング量に対する抵抗値の変
化分が小さくなり、量産時における抵抗値のバラツキが
小さくなる。

【００１３】

【第４の実施例】第４の実施例のトリミング方法では、
図１と同一のトリミング装置を使用してモータ１１によ
る抵抗１の軸方向移動速度（送り速度）を図１０に示す
ように時間の経過と共に増大させている。一方、モータ
１０による抵抗１の回転速度は一定に保つ。これによ
り、図９のトリミング溝２４と同様なトリミング溝を形
成することができ、第３の実施例と同様な効果が得られ
る。

【００１４】

【第５の実施例】第５の実施例のトリミング方法では図
１と同一のトリミング装置を使用してモータ１１による
抵抗１の軸方向移動速度（送り速度）を図１１に示すよ
うにｔ1時点でＳ1 からこれよりも高いＳ2 に切り換え
る。即ち、第１の実施例において回転速度をＮ1 からＮ
2 に切り換えた代りに、所望抵抗値Ｒ0 に近い値Ｒ1 に
なったら送り速度を早める。これにより、抵抗１の軸方
向に対するトリミング溝２４の傾斜角度が急になり、第
１の実施例と同様な効果を得ることができる。

【００１５】

【第６の実施例】次に、図１２〜図１４を参照して本発
明の第６の実施例の抵抗３１を説明する。図１２の抵抗
１ａはアルミナ磁器から成る円筒型絶縁基体２の外周面
上にスパッタでＮｉ−Ｐ皮膜から成る第１の抵抗体膜３
ａを形成し、この中央部分を除いた両側の表面上にＡｇ
−Ｐｄ抵抗体ペーストを塗布して焼付けて第２の抵抗体
膜３ｂを形成し、この第２の抵抗体膜３ｂに金属キャッ
プから成る第１及び第２の電極４、５を半田（図示せ
ず）で結合したものである。第２の抵抗体膜３ｂのシー
ト抵抗は第１の抵抗体膜３ａのシート抵抗よりも小さな
値を有する。また、絶縁基体２の外周面における第１の
抵抗体膜３ａのみの第１の領域Ａは比較的高い第１のシ
ート抵抗を有し、第１及び第２の抵抗体膜３ａ、３ｂが
積層された複合領域からなる第２の領域Ｂ1 、Ｂ2 は第
１のシート抵抗よりも低い第２のシート抵抗を有する。

【００１６】トリミング溝２４を形成する前の第１及び
第２の電極４、５間の抵抗値は所望抵抗値Ｒ0 よりも低
く設定されている。トリミングは図１と同一のトリミン
グ装置で行う。この際、抵抗１ａを第１の実施例と同様
に矢印２３に示すように軸方向に一定の速度で送り、且
つ矢印２３で示すように軸を中心に一定速度で回転しつ
つトリミングを進める。トリミング溝２４の形成開始点
は第１の領域Ａとし、所望抵抗値Ｒ0 よりも少し低い値
Ｒ1 に達した時に第２の領域Ｂに至るように進める。な
お、トリミング溝２４は、第１の領域Ａにおいては第１
の抵抗体膜３ａを削り取り、第２の領域Ｂにおいては第
１及び第２の抵抗体膜３ａ、３ｂの両方を削り取るよう
に形成する。

【００１７】図１３に示すように螺旋状に形成されたト
リミング溝２４のトリミング開始位置Ｐ0 と第２の領域
Ｂ1 のトリミング開始位置Ｐ1 と第２の領域Ｂ1 でのト
リミング終了位置Ｐ2 と抵抗値の関係は図１４に示す通
りである。図１４の横軸のトリミング量はトリミング溝
２４の長さを示す。これから明らかなように、第１の領
域Ａでの単位トリミング量（単位長さ）に対する抵抗値
の変化分は比較的大きく、第２の領域Ｂでの単位トリミ
ング量（単位長さ）に対する抵抗値の変化分は第１の領
域Ａのそれよりも小さい。このため、量産時における抵
抗値のバラツキを小さくすることができ、抵抗値の許容
範囲の狭い高精度抵抗を高い歩留りで得ることができ
る。また、第１の領域Ａでの単位トリミング量に対する
抵抗値変化が大きいので、トリミングの高速性を確保す
ることができる。

【００１８】なお、第６の実施例では抵抗１ａの回転速
度を一定に保ってトリミングを進めたが、第１、第２、
及び第３の実施例に示すように抵抗１ａの回転速度に変
化を与えてトリミングを行うようにしてもよい。このよ
うにすれば、回転速度の低下に基づくトリミング量に対
する抵抗値の変化分の減少作用と第２の領域Ｂによるト
リミング量に対する抵抗値の変化分の減少作用との両方
が得られ、トリミング量に対する抵抗値の変化分が極め
て小さくなり、バラツキの少ないトリミングが可能にな
る。また、図１２の抵抗１ａのトリミングにおいて、第
４及び第５の実施例と同様に矢印２３に示す方向の移動
速度を所望抵抗値Ｒ0 に近い値Ｒ1 になった時即ちＰ1
位置又はこの近傍になった時にそれまでよりも高めてト
リミング溝２４の傾きを急にしてもよい。

【００１９】

【第７の実施例】次に、図１５及び図１６を参照して第
７の実施例の抵抗１ｂ及びこのトリミング方法を説明す
る。但し、図１５及び図１６において図１２及び図１３
と共通する部分には同一の符号を付してその説明を省略
する。この実施例では円筒型絶縁基体２の外周面中央に
Ａｇ−Ｐｄから成る第２の抵抗体膜３ｂが形成され、こ
の上面を含む絶縁基体２の外周面全体にＮｉ−Ｐから成
る第１の抵抗体膜３ａが形成されている。第２の抵抗体
膜３ｂのシート抵抗及び抵抗率は第１の抵抗体膜３ａの
それよりも低い。第１の抵抗体膜３ａから成る第１の領
域Ａのシート抵抗及び平均的抵抗率は第１及び第２の抵
抗体膜３ａ、３ｂの積層領域から成る第２の領域Ｂのそ
れよりも高い。第１及び第２の電極４、５は第１の抵抗
体膜３ａに半田で接続されている。

【００２０】トリミング方法は第６の実施例と同様であ
って、第１の領域ＡのＰ0 位置からトリミングを開始
し、所望抵抗値Ｒ0 近い値Ｒ1 になった時に第１及び第
２の領域Ａ、Ｂの境界位置Ｐ1 に至るようになし、第２
の領域Ｂ内の位置Ｐ2 でトリミングを終了させる。これ
により、第６の実施例と同一の作用効果を得ることがで
きる。なお、図１５の抵抗１ｂにおいても第２〜第４の
実施例の方法でトリミングを行うことができる。

【００２１】

【第８の実施例】次に、図１７を参照して第８の実施例
のトリミング方法を説明する。但し、図１７においてこ
の実施例では図１２〜図１６と共通する部分には同一の
符号を付してその説明を省略する。図１７では図１の装
置でトリミングする際に、所望抵抗値Ｒ0 が得られるま
では抵抗１ｂの矢印２３で示す軸方向の移動を停止し、
矢印２２で示す方向の回転のみを与えてトリミングを進
め、所望抵抗値Ｒ0 よりも少し低い値Ｒ1 まで至ったら
回転は維持して矢印２３で示す軸方向の移動を開始す
る。これにより、トリミング量（長さ）に対する抵抗値
の変化分（変化率）が小さくなり、高精度なトリミング
が可能になる。なお、図１７においてＰ1aは矢印２３で
示す軸方向移動を開始した時の位置を示し、Ｐ1bは第２
の領域Ｂに入る位置を示し、Ｐ2 は所望抵抗値になった
位置を示す。Ｐ1b〜Ｐ2 区間はトリミング量に対する抵
抗値の変化分が最も小さい部分であり、量産時における
抵抗値のバラツキを第６及び第７の実施例と同様の作用
効果を得ることができる。

【変形例】本発明は上述の実施例に限定されるものでな
く、例えば次の変形が可能なものである。 （１） 図１２に示す抵抗１ａにおいても図１７の第８
の実施例と同一のトリミング方法を採用することができ
る。 （２） 第１〜第８の実施例の基体２を円柱状にするこ
とができる。 （３） 第６〜第８の実施例の抵抗１ａ、１ｂの基体２
を角柱状、又は楕円状又は平板状等にすることができ
る。基体２を表面が平坦な絶縁性基板とする場合には、
この上に抵抗体膜３ａ、３ｂと第１及び第２の電極４、
５を設けた抵抗を用意し、抵抗体膜を除去するための刃
又はサンドブラストのノズル等のトリミング手段と抵抗
との間にＸ軸方向とＹ軸方向との相対的運動を生じさせ
る駆動手段を設ける。即ち、図１７を例にとれば、矢印
２３の方向の送りを与える機構をＸ軸駆動装置とし、矢
印２２の回転の代りにＹ軸方向に移動するものをＹ軸駆
動装置とする。そして、トリミングの開始から所望抵抗
値Ｒ0 に近い値Ｒ1 になるまではＹ軸方向に抵抗又はト
リミング手段を移動し、矢印２３で示すＸ軸方向の抵抗
又はトリミング手段の相対的移動は停止させるか又は低
速とする。これにより、トリミング量に対する抵抗値の
変化分は大きくなり、高速でトリミングを進めることが
できる。所望抵抗値Ｒ0に近い値Ｒ1 に達したら、Ｘ軸
方向の相対的移動速度を早める。これにより、図１７の
Ｐ1a〜ｐ2 区間と同様にＹ軸に対して傾いたトリミング
溝が形成され、トリミング量に対する抵抗値変化分が低
下し、各実施例と同様に量産時における抵抗値のバラツ
キが小さくなる。なお、Ｐ1a〜Ｐ2 区間ではＹ軸方向の
移動を停止し、トリミング溝をＸ軸方向（一対の電極を
結ぶ方向）に形成してもよい。このように形成しても抵
抗値の変化が生じる。 （４） 図１２及び図１５では第１及び第２の領域Ａ、
Ｂを左右対称に配置しているが、それぞれを１つのみ設
けて左右非対称にすることもできる。 （５） 抵抗体膜３、３ａ、３ｂを削り取ったトリミン
グ溝２４を抵抗１、１ａ、１ｂに対して１周以下の範囲
に形成することもできる。この場合でも第１及び第２の
電極４、５間のトリミング溝２４の配置の変化によって
抵抗値が変化する。 （６） トリミングを刃で抵抗体膜３、３ａ、３ｂを削
り取る代りに、サンドブラスト、レーザビーム等で除去
してもよい。また、トリミング溝２４を形成する代り
に、これに相当する部分をレーザビームによる加熱等で
絶縁化してもよい。 （７） 抵抗体膜３、３ａ、３ｂとしてＮｉ−Ｐ、Ａｇ
−Ｐｄの代りに、Ｔａ系抵抗材料、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｓｉ系
抵抗材料、ＲｕＯ2 等を使用することができる。即ち、
種々の金属皮膜抵抗、酸化金属皮膜抵抗、炭素皮膜抵抗
とすることができる。また、抵抗体膜３、３ａ、３ｂは
蒸着、スパッタ、メッキ、塗布、印刷等の種々の方法で
形成することができる。 （８） 円筒状絶縁基体２の中空部の壁面にも抵抗体膜
を設けること又は中空部に抵抗体を充填することもでき
る。この場合には一対の電極４、５によって内側と外側
の抵抗体が並列接続された状態になり、抵抗値の小さい
ものを提供することができる。 （９） 電極４、５はキャップとせずに、導体層として
もよい。また、図１２の構成の場合にはＡｇ−Ｐｄから
成る第２の抵抗体膜３ｂの一部を電極として使用しても
よい。 （１０） 図１２及び図１５において第１及び第２の抵
抗体膜３ａ、３ｂの上下関係を逆にすることができる。 （１１） 絶縁物６の被覆を形成した後に、この上から
トリミングすることもできる。 （１２） 抵抗１、１ａ、１ｂを回転及び直線運動させ
る代りに、トリミング用の刃１５又はサンドブラストの
ノズル等のトリミング手段を回転及び直線運動又はＹ軸
及びＸ軸運動させてもよい。また、抵抗を回転（又はＹ
軸）又は直線（又はＸ軸）運動させ、刃１５等のトリミ
ング手段を直線（又はＸ軸）又は回転（Ｙ軸）運動させ
てもよい。即ち、抵抗とトリミング手段との両方の運動
によって所定パターンのトリミングを行うことができ
る。。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施例のトリミング装置を原理的に示す
ブロック図である。

【図２】第１の実施例の抵抗を示す断面図である。

【図３】図２の抵抗を抵抗体膜及び電極の厚さを省いて
示す斜視図である。

【図４】第１の実施例のトリミングの時間と回転速度と
の関係を示す図である。

【図５】第１の実施例のトリミング量（長さ）と抵抗値
との関係を示す図である。

【図６】第２の実施例の抵抗を抵抗体膜及び電極の厚さ
を省いて示す斜視図である。

【図７】第２の実施例のトリミング時間と回転速度との
関係を示す図である。

【図８】第３の実施例におけるトリミング時間と回転速
度との関係を示す図である。

【図９】第３の実施例の抵抗を抵抗体膜及び電極の厚み
を省いて示す斜視図である。

【図１０】第４の実施例のトリミング時間と抵抗の軸方
向移動速度との関係を示す図である。

【図１１】第５の実施例のトリミング時間と抵抗の軸方
向移動速度との関係を示す図である。

【図１２】第６の実施例の抵抗の断面図である。

【図１３】第６の実施例の抵抗を抵抗体膜及び電極の厚
さを省いて示す斜視図である。

【図１４】第６の実施例のトリミング量（長さ）と抵抗
値との関係を示す図である。

【図１５】第７の実施例の抵抗を示す断面図である。

【図１６】第７の実施例の抵抗を抵抗体膜及び電極の厚
さを省いて示す斜視図である。

【図１７】第８の実施例の抵抗を示す平面図である。

【符号の説明】

１ 抵抗 ２ 絶縁基体 ３ 抵抗体膜 ４、５ 電極 ２４ トリミング溝

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円筒状又は円柱状の絶縁基体と、前記絶
   縁基体の外周面を被覆するように形成された抵抗体膜
   と、前記絶縁基体の両端部において前記抵抗体膜に接続
   された一対の電極とから成り、前記一対の電極間の抵抗
   値が所望抵抗値よりも低い値を有している抵抗をトリミ
   ングする方法において、 前記抵抗体膜の一部を除去して前記所定抵抗値を得るた
   めのトリミングを行うためのトリミング手段と前記抵抗
   との間に前記抵抗の軸を中心にした相対的回転運動を生
   じさせると共に前記トリミング手段と前記抵抗との間に
   前記抵抗の軸方向の相対的移動を生じさせて前記所望抵
   抗値を得るためのトリミングを進め、前記所望抵抗値よ
   りも低く且つ近い値になった時から後は前記回転運動の
   速度をそれまでよりも低い値にしてトリミングを続け、
   前記所望抵抗値が実質的に得られた時に前記トリミング
   手段によるトリミングを終了させることを特徴とするト
   リミング方法。
2. 【請求項２】 円筒状又は円柱状の絶縁基体と、前記絶
   縁基体の外周面を被覆するように形成された抵抗体膜
   と、前記絶縁基体の両端部において前記抵抗体膜に接続
   された一対の電極とから成り、前記一対の電極間の抵抗
   値が所望抵抗値よりも低い値を有している抵抗をトリミ
   ングする方法において、 前記抵抗体膜の一部を除去して前記所定抵抗値を得るた
   めのトリミングを行うためのトリミング手段と前記抵抗
   との間に前記抵抗の軸を中心にした相対的回転運動を生
   じさせると共に前記トリミング手段と前記抵抗との間に
   前記抵抗の軸方向の相対的移動を生じさせて前記所望抵
   抗値を得るためのトリミングを進め、前記所望抵抗値よ
   りも低く且つ近い値になった時に前記回転運動を停止さ
   せ、その後は前記軸方向の相対的移動のみでトリミング
   を続け、前記所望抵抗値が実質的に得られた時にトリミ
   ングを終了させることを特徴とするトリミング方法。
3. 【請求項３】 円筒状又は円柱状の絶縁基体と、前記絶
   縁基体の外周面を被覆するように形成された抵抗体膜
   と、前記絶縁基体の両端部において前記抵抗体膜に接続
   された一対の電極とから成り、前記一対の電極間の抵抗
   値が所望抵抗値よりも低い値を有している抵抗をトリミ
   ングする方法において、 前記抵抗体膜の一部を除去して前記所定抵抗値を得るた
   めのトリミングを行うためのトリミング手段と前記抵抗
   との間に前記抵抗の軸を中心にした相対的回転運動を生
   じさせると共に前記トリミング手段と前記抵抗との間に
   前記抵抗の軸方向の相対的移動を生じさせて前記所望抵
   抗値を得るためのトリミングを進め、この際前記回転の
   速度を時間の経過と共に低下させ、所望抵抗値が得られ
   た時にトリミングを終了させることを特徴とするトリミ
   ング方法。
4. 【請求項４】 円筒状又は円柱状の絶縁基体と、前記絶
   縁基体の外周面を被覆するように形成された抵抗体膜
   と、前記絶縁基体の両端部において前記抵抗体膜に接続
   された一対の電極とから成り、前記一対の電極間の抵抗
   値が所望抵抗値よりも低い値を有している抵抗をトリミ
   ングする方法において、 前記抵抗体膜の一部を除去して前記所定抵抗値を得るた
   めのトリミングを行うためのトリミング手段と前記抵抗
   との間に前記抵抗の軸を中心にした相対的回転運動を生
   じさせると共に前記トリミング手段と前記抵抗との間に
   前記抵抗の軸方向の相対的移動を生じさせて前記所望抵
   抗値を得るためのトリミングを進め、この際前記相対的
   移動速度を時間の経過と共に速め、前記所望抵抗値が実
   質的に得られた時にトリミングを終了させることを特徴
   とするトリミング方法。
5. 【請求項５】 所望抵抗値よりも低い抵抗値を有してい
   る抵抗体膜の一部を除去すさせることによって抵抗値を
   調整するトリミング方法において、 第１のシート抵抗値の第１の部分と前記第１のシート抵
   抗値よりも小さい第２のシート抵抗値の第２の部分とを
   備えた抵抗体膜を有する抵抗を用意し、 前記第１の部分からトリミングを開始して前記第２の部
   分でトリミングを終了させることを特徴とするトリミン
   グ方法。
6. 【請求項６】 所望抵抗値よりも低い抵抗値を有してい
   る抵抗体膜の一部を除去又は絶縁化させることによって
   抵抗値を調整するための抵抗であって、前記抵抗体膜が
   第１のシート抵抗値の第１の部分と前記第１のシート抵
   抗値よりも低い第２のシート抵抗値の第２の部分とを有
   していることを特徴とする抵抗。