JPH07238483A - 線条体用ガイド - Google Patents
線条体用ガイドInfo
- Publication number
- JPH07238483A JPH07238483A JP6051147A JP5114794A JPH07238483A JP H07238483 A JPH07238483 A JP H07238483A JP 6051147 A JP6051147 A JP 6051147A JP 5114794 A JP5114794 A JP 5114794A JP H07238483 A JPH07238483 A JP H07238483A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- guide
- diamond
- cemented carbide
- film
- guide portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D07—ROPES; CABLES OTHER THAN ELECTRIC
- D07B—ROPES OR CABLES IN GENERAL
- D07B7/00—Details of, or auxiliary devices incorporated in, rope- or cable-making machines; Auxiliary apparatus associated with such machines
- D07B7/02—Machine details; Auxiliary devices
- D07B7/021—Guiding means for filaments, strands, ropes or cables
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D07—ROPES; CABLES OTHER THAN ELECTRIC
- D07B—ROPES OR CABLES IN GENERAL
- D07B2401/00—Aspects related to the problem to be solved or advantage
- D07B2401/40—Aspects related to the problem to be solved or advantage related to rope making machines
- D07B2401/401—Reducing wear
Landscapes
- Ropes Or Cables (AREA)
- Wire Processing (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 撚り線機等に用いられる線条体用ガイドの耐
摩耗性、接触抵抗を改善すると共に、線条体用ガイドの
製造コストを低減する。 【構成】 超硬合金またはセラミックスよりなるガイド
基体１，３の、ガイド部位11に選択的に気相合成法によ
りダイヤモンド及びまたはダイヤモンド状炭素膜２を形
成し、該膜の表面を研磨仕上げする。
摩耗性、接触抵抗を改善すると共に、線条体用ガイドの
製造コストを低減する。 【構成】 超硬合金またはセラミックスよりなるガイド
基体１，３の、ガイド部位11に選択的に気相合成法によ
りダイヤモンド及びまたはダイヤモンド状炭素膜２を形
成し、該膜の表面を研磨仕上げする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば導電線製造用の撚
り線機、集合機等の各所に使用される線条体用ガイドに
関するものである。
り線機、集合機等の各所に使用される線条体用ガイドに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】此の種ガイドとしては、バンチャー形撚
り線機におけるフライヤーポリシャーや、集合形撚り線
機における目板、撚り口のガイドリング等があり、従来
一般にはセラミックス製或は超硬合金製のものが用いら
れていた。
り線機におけるフライヤーポリシャーや、集合形撚り線
機における目板、撚り口のガイドリング等があり、従来
一般にはセラミックス製或は超硬合金製のものが用いら
れていた。
【０００３】また、本発明者等は先きに実願平4-61531
号により、超硬合金製リングまたはセラミックス製リン
グに、ＣＶＤダイヤモンド膜を被覆して、ガイドリング
の耐用寿命を向上させることを提案した。
号により、超硬合金製リングまたはセラミックス製リン
グに、ＣＶＤダイヤモンド膜を被覆して、ガイドリング
の耐用寿命を向上させることを提案した。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記提案のＣＶＤダイ
ヤモンド被覆を行ったものは、確かに耐用寿命の向上が
見られるが、リングのガイド部位即ちリング内面中央部
の最小内径部まで、充分にダイヤモンド膜を生成するに
は非常に成膜時間を要し、生産性が低くコスト高となる
欠点がある。
ヤモンド被覆を行ったものは、確かに耐用寿命の向上が
見られるが、リングのガイド部位即ちリング内面中央部
の最小内径部まで、充分にダイヤモンド膜を生成するに
は非常に成膜時間を要し、生産性が低くコスト高となる
欠点がある。
【０００５】また成膜したダイヤモンド被覆面と、銅線
等ガイドされる線条体との接触には、以外と摩擦が大き
く、線条体の傷の発生や断線を引き起こすことがある等
の問題があり、従来よりの課題がなお残されている。
等ガイドされる線条体との接触には、以外と摩擦が大き
く、線条体の傷の発生や断線を引き起こすことがある等
の問題があり、従来よりの課題がなお残されている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は叙上の課題を解
決しようとするもので、その第１の特徴とするところ
は、ダイヤモンド膜を形成する領域を、リング状に限ら
ないガイド基体のうち、ガイド部位に当る部分のみとし
て、ダイヤモンド成膜の効率を向上せしめたことであ
る。
決しようとするもので、その第１の特徴とするところ
は、ダイヤモンド膜を形成する領域を、リング状に限ら
ないガイド基体のうち、ガイド部位に当る部分のみとし
て、ダイヤモンド成膜の効率を向上せしめたことであ
る。
【０００７】本発明の他の特徴とするところの１つは、
ガイド基体の形状を、ガイド部位に当る凸曲面部を基体
の上方、または下方に偏らして、部分的な乃至少くとも
必要な部分におよぶダイヤモンドの成膜を行い易くした
ことである。
ガイド基体の形状を、ガイド部位に当る凸曲面部を基体
の上方、または下方に偏らして、部分的な乃至少くとも
必要な部分におよぶダイヤモンドの成膜を行い易くした
ことである。
【０００８】本発明の他の特徴の１つは、超硬合金基上
へのダイヤモンドの成膜が、密着性よく容易に行えるた
め、超硬合金表面層の硬質相粒子間の間隔を原基材のそ
れより狹小で、結合金属相の含有量も少なくしたことで
ある。
へのダイヤモンドの成膜が、密着性よく容易に行えるた
め、超硬合金表面層の硬質相粒子間の間隔を原基材のそ
れより狹小で、結合金属相の含有量も少なくしたことで
ある。
【０００９】本発明の更に別の特徴の１つは、少くとも
ガイド部位上のダイヤモンド膜の表面を研磨仕上げして
0.1μｍRa以下として、線条体との接触抵抗を著しく減
じたことである。
ガイド部位上のダイヤモンド膜の表面を研磨仕上げして
0.1μｍRa以下として、線条体との接触抵抗を著しく減
じたことである。
【００１０】本発明の別の特徴の１つは、通過する線条
体に対して、ガイドのガイド部位が有効に当たるよう、
線条体の進行方向に対して、ガイドの軸方向を傾斜して
設置することである。以下図示する実施例により本発明
の内容を詳述する。
体に対して、ガイドのガイド部位が有効に当たるよう、
線条体の進行方向に対して、ガイドの軸方向を傾斜して
設置することである。以下図示する実施例により本発明
の内容を詳述する。
【００１１】
（実施例１）図１（Ａ）は外径11mm、最小内径 5.8mm、
高さ４mmのリング状超硬合金基体１で、最小内径部はリ
ング軸方向上面側に偏よって形成され、この凸曲面部分
が線条体に接触してガイドの役目を果たすガイド部位11
となっている。このガイド部位11には、後述する前処理
を施して、気相合成法によりダイヤモンド及びまたはダ
イヤモンド状炭素膜２が形成されている。
高さ４mmのリング状超硬合金基体１で、最小内径部はリ
ング軸方向上面側に偏よって形成され、この凸曲面部分
が線条体に接触してガイドの役目を果たすガイド部位11
となっている。このガイド部位11には、後述する前処理
を施して、気相合成法によりダイヤモンド及びまたはダ
イヤモンド状炭素膜２が形成されている。
【００１２】図３（Ａ）は、比較例で外径11mm、最小内
径 5.8mm、高さ４mmのリング状超硬合金基体１で、ガイ
ド部位11を形成する最小内径部はリング軸方向中央に設
けられている。このガイド内面上記実施例１と同一条件
でダイヤモンドを成膜した。その成膜に要する時間を比
較すると次の通りであった。
径 5.8mm、高さ４mmのリング状超硬合金基体１で、ガイ
ド部位11を形成する最小内径部はリング軸方向中央に設
けられている。このガイド内面上記実施例１と同一条件
でダイヤモンドを成膜した。その成膜に要する時間を比
較すると次の通りであった。
【００１３】実施例１におけるガイド部位11の部分にお
けるダイヤモンド膜の厚みが、10μｍに達する成膜時間
は、比較例のそれが10μｍに達する時までの１／３〜１
／２である。これは実施例１においては、成膜領域が狹
く、しかも成膜の進み易い開口近辺に選択されている結
果と考えられる。
けるダイヤモンド膜の厚みが、10μｍに達する成膜時間
は、比較例のそれが10μｍに達する時までの１／３〜１
／２である。これは実施例１においては、成膜領域が狹
く、しかも成膜の進み易い開口近辺に選択されている結
果と考えられる。
【００１４】（実施例２）図１（Ｂ）は、外径11mm、最
小内径 5.8mm、高さ８mmの筒状セラミックス（Si3N4 ）
基体３の、上側開口部に近い片側のガイド部位11のみ
に、気相合成法により厚さ15μｍのダイヤモンド及びま
たはダイヤモンド状炭素膜２を形成した。ダイヤモンド
の成膜時間が、筒状内面全体に施すのに比し、１／３程
度以下に減縮されたことは云うまでもない。
小内径 5.8mm、高さ８mmの筒状セラミックス（Si3N4 ）
基体３の、上側開口部に近い片側のガイド部位11のみ
に、気相合成法により厚さ15μｍのダイヤモンド及びま
たはダイヤモンド状炭素膜２を形成した。ダイヤモンド
の成膜時間が、筒状内面全体に施すのに比し、１／３程
度以下に減縮されたことは云うまでもない。
【００１５】実施例１及び２で成膜されたダイヤモンド
及びダイヤモンド状膜２の表面を、＃800 ダイヤモンド
インターナルで研磨仕上げし、夫々0.04μｍRa、0.08μ
ｍRaとした。この表面粗さは少くとも 0.1μｍRa以下が
必要である。なお、成膜されたままの表面粗さは、特別
意識的に平滑になるよう成膜条件を設定しない限り、0.
5 μｍRa程度であり、この粗さではガイドした線条体表
面に擦り傷を生じ易く、実用に供し難い。
及びダイヤモンド状膜２の表面を、＃800 ダイヤモンド
インターナルで研磨仕上げし、夫々0.04μｍRa、0.08μ
ｍRaとした。この表面粗さは少くとも 0.1μｍRa以下が
必要である。なお、成膜されたままの表面粗さは、特別
意識的に平滑になるよう成膜条件を設定しない限り、0.
5 μｍRa程度であり、この粗さではガイドした線条体表
面に擦り傷を生じ易く、実用に供し難い。
【００１６】実施例１，２によるガイド及び比較のた
め、同一形状の従来の超硬合金、セラミックス（Si3N
4 ）製リングガイドについて、実用テストを行った。
め、同一形状の従来の超硬合金、セラミックス（Si3N
4 ）製リングガイドについて、実用テストを行った。
【００１７】テストはバンチャー形撚り線機のフライヤ
ーポリシャーとして夫々上記ガイドを装着し、φ0.25mm
×19本（撚り線径1.28mm）の銅撚り線の製造における、
耐用寿命になるまでの撚り線機の稼働時間とガイド部位
の摩耗による傷の深さによって行った。
ーポリシャーとして夫々上記ガイドを装着し、φ0.25mm
×19本（撚り線径1.28mm）の銅撚り線の製造における、
耐用寿命になるまでの撚り線機の稼働時間とガイド部位
の摩耗による傷の深さによって行った。
【００１８】その結果を図４に示す。図によって判るよ
うに、超硬合金とセラミックス製のガイドを用いたもの
は、稼働時間が30時間弱でガイド部位に 0.3〜 0.4mmの
深さの傷がついて寿命がつきる。
うに、超硬合金とセラミックス製のガイドを用いたもの
は、稼働時間が30時間弱でガイド部位に 0.3〜 0.4mmの
深さの傷がついて寿命がつきる。
【００１９】それに対し、ＣＶＤダイヤモンド膜を研磨
仕上げした実施例１，２のものは、稼働時間が 200時間
を超えても、殆ど傷は生ぜず引き続いて使用できる状態
であった。
仕上げした実施例１，２のものは、稼働時間が 200時間
を超えても、殆ど傷は生ぜず引き続いて使用できる状態
であった。
【００２０】テストに当り、実施例２のガイドは図２
（Ａ）に示すように、線条体４の進行方向に対し、ガイ
ド乃至ガイド部位の軸方向を傾斜して装着し、ダイヤモ
ンド膜との接触が確保できるようにして行った。
（Ａ）に示すように、線条体４の進行方向に対し、ガイ
ド乃至ガイド部位の軸方向を傾斜して装着し、ダイヤモ
ンド膜との接触が確保できるようにして行った。
【００２１】以上の説明においては、リング状のガイド
について示したが、通過する線条体の振れが少なく、リ
ング状にしなくてもガイド可能なものについては、図１
（Ｂ）に斜視図で示すように、リングを２つ割にした形
等の開放形のものにすれば、ダイヤモンド膜の成膜は遥
かにしやすくなるので、本発明の実施に当ってはこのよ
うな形としても勿論差し支えない。
について示したが、通過する線条体の振れが少なく、リ
ング状にしなくてもガイド可能なものについては、図１
（Ｂ）に斜視図で示すように、リングを２つ割にした形
等の開放形のものにすれば、ダイヤモンド膜の成膜は遥
かにしやすくなるので、本発明の実施に当ってはこのよ
うな形としても勿論差し支えない。
【００２２】また、実施例では、ガイドにおけるダイヤ
モンド膜を形成する領域が、偏よった部位のみ、またガ
イド内の１部のみのものについて示したが、必要によっ
ては全体にわたっても、また上、下開口部の２ヶ所にわ
たっても差し支えない。更にダイヤモンドの膜厚は、ガ
イド内で必須のガイド部位において、必要最小限厚さあ
れば、他の部分は、成膜の進行により、それより厚くて
も、また薄いか無くても勿論差し支えない。
モンド膜を形成する領域が、偏よった部位のみ、またガ
イド内の１部のみのものについて示したが、必要によっ
ては全体にわたっても、また上、下開口部の２ヶ所にわ
たっても差し支えない。更にダイヤモンドの膜厚は、ガ
イド内で必須のガイド部位において、必要最小限厚さあ
れば、他の部分は、成膜の進行により、それより厚くて
も、また薄いか無くても勿論差し支えない。
【００２３】次に前記した超硬合金基体の前処理と気相
合成法によるダイヤモンド成膜の実施例を示す。使用し
た基体は実施例１の寸法形状で、合金材質は市販の WC-
Co５％超硬合金である。
合成法によるダイヤモンド成膜の実施例を示す。使用し
た基体は実施例１の寸法形状で、合金材質は市販の WC-
Co５％超硬合金である。
【００２４】基体を熱フィラメントＣＶＤ装置に装入
し、H2-1％CH4 雰囲気中、100Torr 、900℃で30分熱処
理して、基体表面に結合相金属を主体とする析出物を生
成する。熱処理後同様の装置、雰囲気、圧力、温度で基
体に15時間成膜し、ガイド部位11に11μｍのダイヤモン
ド膜を形成した。
し、H2-1％CH4 雰囲気中、100Torr 、900℃で30分熱処
理して、基体表面に結合相金属を主体とする析出物を生
成する。熱処理後同様の装置、雰囲気、圧力、温度で基
体に15時間成膜し、ガイド部位11に11μｍのダイヤモン
ド膜を形成した。
【００２５】形成膜の基体との付着力は強く、インター
ナルによるガイド孔の研磨仕上げを充分に行なうことが
でき、表面粗さを0.04μｍRa少くとも 0.1μｍRa以下に
形成することに何の困難もなかった。
ナルによるガイド孔の研磨仕上げを充分に行なうことが
でき、表面粗さを0.04μｍRa少くとも 0.1μｍRa以下に
形成することに何の困難もなかった。
【００２６】なお、上記熱処理により、成膜する基体の
表面層は、硬質相粒子間の間隔が原基体のそれより狹小
で、結合相金属の含有量が少ない部分のあることを２次
電子像により確認した。
表面層は、硬質相粒子間の間隔が原基体のそれより狹小
で、結合相金属の含有量が少ない部分のあることを２次
電子像により確認した。
【００２７】
【発明の効果】本発明においては、線条体ガイドのガイ
ド部位が、耐摩耗性の高いダイヤモンド及びまたはダイ
ヤモンド状炭素の被覆膜で形成され、更にその膜表面は
0.1μｍRa以下に研磨仕上げされて、接触抵抗が著しく
減じられているので、ガイドの耐用寿命が向上され、作
業性も高められる。
ド部位が、耐摩耗性の高いダイヤモンド及びまたはダイ
ヤモンド状炭素の被覆膜で形成され、更にその膜表面は
0.1μｍRa以下に研磨仕上げされて、接触抵抗が著しく
減じられているので、ガイドの耐用寿命が向上され、作
業性も高められる。
【００２８】また、上記被覆膜の形成に当っては、形成
領域、形成すべき基体の形状、基体の表面層組織が選定
されて、成膜が容易、確実で、ガイド製作コストも低減
され、工業生産に適する。
領域、形成すべき基体の形状、基体の表面層組織が選定
されて、成膜が容易、確実で、ガイド製作コストも低減
され、工業生産に適する。
【図１】（Ａ），（Ｂ）は夫々本発明実施例の縦断面図
である。
である。
【図２】（Ａ）は実施例におけるガイドの装着状態の説
明図、（Ｂ）は別の実施例の斜視図である。
明図、（Ｂ）は別の実施例の斜視図である。
【図３】（Ａ）は従来の提案例を示す縦断面図である。
【図４】実施例，比較例の実用テスト結果を示す図表で
ある。
ある。
１ 超硬合金基体 ２ ダイヤモンド及びまたはダイヤモンド状炭素膜 ３ セラミックス基体 ４ 線条体 11 線条体ガイドのガイド部位
Claims (6)
- 【請求項１】 超硬合金またはセラミックスよりなるガ
イド基体の、ガイド部位にのみ気相合成法によるダイヤ
モンド及びまたはダイヤモンド状炭素膜を設けてなるこ
とを特徴とする線条体用ガイド。 - 【請求項２】 超硬合金またはセラミックスよりなるガ
イド基体のガイド部位が、該基体の上部または下部に偏
よって設けられ、少くとも該部位には気相合成法による
ダイヤモンド及びまたはダイヤモンド状炭素膜を設けて
なることを特徴とする線条体用ガイド。 - 【請求項３】 超硬合金ガイド基体の少くともガイド部
位に気相合成法によりダイヤモンド及びまたはダイヤモ
ンド状炭素膜を形成した該基体表面層は、硬質相粒子間
の間隔が原基体のそれより狹小で、結合相金属の含有量
が少ない部分を有することを特徴とする線条体用ガイ
ド。 - 【請求項４】 少くともガイド部位上のダイヤモンド及
びまたはダイヤモンド状炭素膜の表面は、 0.1μｍRa以
下に研磨仕上げされてなることを特徴とする線条体用ガ
イド。 - 【請求項５】 超硬合金またはセラミックスよりなるガ
イド基体はリング状であり、ガイド部位はリング内の凸
曲面により形成されてなることを特徴とする請求項１，
２，３または４記載の線条体用ガイド。 - 【請求項６】 通過する線条体の進行方向に対し、線条
体用ガイドの軸方向を傾斜して設置することを特徴とす
る請求項１，２，３，４または５記載の線条体用ガイ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6051147A JPH07238483A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 線条体用ガイド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6051147A JPH07238483A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 線条体用ガイド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07238483A true JPH07238483A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=12878717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6051147A Pending JPH07238483A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 線条体用ガイド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07238483A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002173882A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-21 | Kanai Hiroaki | 撚線機 |
| KR100467739B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2005-01-24 | 대우종합기계 주식회사 | 유리섬유용 가이드 슈 및 그 제조방법 |
| JP2007239169A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-09-20 | Aiki Riotech:Kk | 圧縮流体処理ノズル |
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| JPS62238035A (ja) * | 1986-04-08 | 1987-10-19 | Hitachi Metals Ltd | 銅および銅合金用撚り線ダイス |
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| JPH04214869A (ja) * | 1990-01-16 | 1992-08-05 | General Electric Co <Ge> | Ｃｖｄダイヤモンドで被覆された環状製品およびそれの製造方法 |
-
1994
- 1994-02-23 JP JP6051147A patent/JPH07238483A/ja active Pending
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