JPH07227563A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH07227563A JPH07227563A JP4174194A JP4174194A JPH07227563A JP H07227563 A JPH07227563 A JP H07227563A JP 4174194 A JP4174194 A JP 4174194A JP 4174194 A JP4174194 A JP 4174194A JP H07227563 A JPH07227563 A JP H07227563A
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- coating
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- edge surface
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スジや塗布ムラを発生することなく均一な塗
布膜を支持体上に形成可能な塗布装置を提供する。 【構成】 塗布装置を構成する押出し塗布ヘッドのバッ
クエッジ面を、各平面の境界部における頂角が１７５°
以上１８０°未満の範囲であり支持体の搬送方向に沿っ
て連続した３以上の平面で構成し、かつ、バックエッジ
面の表面粗さＲａを０．２μｍ以下とする。
布膜を支持体上に形成可能な塗布装置を提供する。 【構成】 塗布装置を構成する押出し塗布ヘッドのバッ
クエッジ面を、各平面の境界部における頂角が１７５°
以上１８０°未満の範囲であり支持体の搬送方向に沿っ
て連続した３以上の平面で構成し、かつ、バックエッジ
面の表面粗さＲａを０．２μｍ以下とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布装置に係り、特に塗
布液を支持体に均一に塗布することが可能な塗布装置に
関する。
布液を支持体に均一に塗布することが可能な塗布装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、支持体上に塗布液を塗布する方法
として、ロールコート法、グラビアコート法、スライド
ビードコート法、ドクターコート法等の種々の方法が用
いられているが、生産性や操作性が高く塗布膜の厚さ制
御性に優れることから、近年、押出し塗布法が注目され
ている。
として、ロールコート法、グラビアコート法、スライド
ビードコート法、ドクターコート法等の種々の方法が用
いられているが、生産性や操作性が高く塗布膜の厚さ制
御性に優れることから、近年、押出し塗布法が注目され
ている。
【０００３】押出し塗布法は、サポートロール等の搬送
手段の間において、支持体に対して所定の張力がかかる
ように押出し塗布ヘッドのフロントエッジ面（支持体搬
送方向上流側）とバックエッジ面（支持体搬送方向下流
側）を押し付け、スリット部から押し出される塗布液の
押出し量の変化に応じてバックエッジ面と支持体との間
隔を変化させることで、所定の膜厚となるように制御し
て塗布を行うものである。
手段の間において、支持体に対して所定の張力がかかる
ように押出し塗布ヘッドのフロントエッジ面（支持体搬
送方向上流側）とバックエッジ面（支持体搬送方向下流
側）を押し付け、スリット部から押し出される塗布液の
押出し量の変化に応じてバックエッジ面と支持体との間
隔を変化させることで、所定の膜厚となるように制御し
て塗布を行うものである。
【０００４】このような押し出し塗布に用いる塗布装置
として、支持体上に均一な塗布を行うために、押出し塗
布ヘッドのバックエッジ面（スリットの支持体搬送方向
下流側）の断面形状を三角状とし、バックエッジ面に２
平面を形成した塗布装置がある（特開昭５７−８４７７
１号公報）。しかし、特開昭５７−８４７７１号公報に
開示された塗布装置は、バックエッジ面の断面に頂点が
存在しているので、塗布時に汚れや異物が頂点を越えて
流出し難く、押出し塗布ヘッドのスリット部出口に蓄積
した汚れや異物等により、スジ、塗布ムラが発生し易い
という問題があった。そして、最近の塗布速度の高速化
（例えば、塗布速度３００ｍ／分）や、塗布の薄層化
（例えば塗膜厚１０ｃｃ／ｍ2 ）の要請より、スリット
部出口に異物が蓄積せず流動性の良好な湾曲したバック
エッジ面を備えた押出し塗布ヘッドが主流となってい
る。
として、支持体上に均一な塗布を行うために、押出し塗
布ヘッドのバックエッジ面（スリットの支持体搬送方向
下流側）の断面形状を三角状とし、バックエッジ面に２
平面を形成した塗布装置がある（特開昭５７−８４７７
１号公報）。しかし、特開昭５７−８４７７１号公報に
開示された塗布装置は、バックエッジ面の断面に頂点が
存在しているので、塗布時に汚れや異物が頂点を越えて
流出し難く、押出し塗布ヘッドのスリット部出口に蓄積
した汚れや異物等により、スジ、塗布ムラが発生し易い
という問題があった。そして、最近の塗布速度の高速化
（例えば、塗布速度３００ｍ／分）や、塗布の薄層化
（例えば塗膜厚１０ｃｃ／ｍ2 ）の要請より、スリット
部出口に異物が蓄積せず流動性の良好な湾曲したバック
エッジ面を備えた押出し塗布ヘッドが主流となってい
る。
【０００５】このようにバックエッジ面に湾曲部をもつ
押出し塗布ヘッドとしては、フロントエッジ面のスリッ
ト側端部においてフロントエッジ面に引いた接線とバッ
クエッジ面の下流側端部においてバックエッジ面に引い
た接線とのなす角度θ1 、および、フロントエッジ面の
スリット側端部においてフロントエッジ面に引いた接線
とフロントエッジ面のスリット側端部からバックエッジ
面に引いた接線とのなす角度θ2 との関係を規定（θ1
＜θ2 ＜１８０°）した塗布装置（特開平２−２６５６
７２号公報）、バックエッジ面を湾曲面部分と平面部分
とで構成し、フロントエッジ面のスリット側端部におい
てフロントエッジ面に引いた接線と平面部分の延長線と
のなす角度θ1 、および、フロントエッジ面のスリット
側端部においてフロントエッジ面に引いた接線とフロン
トエッジ面のスリット側端部からバックエッジ面に引い
た接線とのなす角度θ2 との関係を規定（θ1 ＜θ2 ＜
１８０°）した塗布装置（特開平２−２６２５６６号公
報）が開示されている。
押出し塗布ヘッドとしては、フロントエッジ面のスリッ
ト側端部においてフロントエッジ面に引いた接線とバッ
クエッジ面の下流側端部においてバックエッジ面に引い
た接線とのなす角度θ1 、および、フロントエッジ面の
スリット側端部においてフロントエッジ面に引いた接線
とフロントエッジ面のスリット側端部からバックエッジ
面に引いた接線とのなす角度θ2 との関係を規定（θ1
＜θ2 ＜１８０°）した塗布装置（特開平２−２６５６
７２号公報）、バックエッジ面を湾曲面部分と平面部分
とで構成し、フロントエッジ面のスリット側端部におい
てフロントエッジ面に引いた接線と平面部分の延長線と
のなす角度θ1 、および、フロントエッジ面のスリット
側端部においてフロントエッジ面に引いた接線とフロン
トエッジ面のスリット側端部からバックエッジ面に引い
た接線とのなす角度θ2 との関係を規定（θ1 ＜θ2 ＜
１８０°）した塗布装置（特開平２−２６２５６６号公
報）が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
２−２６５６７２号公報や特開平２−２６２５６６号公
報に開示された塗布装置では、押出し塗布ヘッドの湾曲
したバックエッジ面を作製する際の湾曲面研磨が平面研
磨よりも困難であるため、所望の湾曲形状を備え、かつ
良好な表面粗さを有するバックエッジ面を作製すること
が困難であるという問題があった。
２−２６５６７２号公報や特開平２−２６２５６６号公
報に開示された塗布装置では、押出し塗布ヘッドの湾曲
したバックエッジ面を作製する際の湾曲面研磨が平面研
磨よりも困難であるため、所望の湾曲形状を備え、かつ
良好な表面粗さを有するバックエッジ面を作製すること
が困難であるという問題があった。
【０００７】バックエッジ面の表面粗さについては、薄
膜塗布時に異物付着によるスジ、塗布ムラという塗布面
特性に影響を与えることが既に知られている（特開平２
−２０７８６５号公報）。同公報によれば、表面粗さ
（中心線平均粗さ）Ｒａが５μｍ以下の場合、良好な塗
布面特性が得られるとされ、さらに、表面粗さＲａが
０．１μｍ以下の表面粗さを得ることは加工精度上困難
であることが開示されている。
膜塗布時に異物付着によるスジ、塗布ムラという塗布面
特性に影響を与えることが既に知られている（特開平２
−２０７８６５号公報）。同公報によれば、表面粗さ
（中心線平均粗さ）Ｒａが５μｍ以下の場合、良好な塗
布面特性が得られるとされ、さらに、表面粗さＲａが
０．１μｍ以下の表面粗さを得ることは加工精度上困難
であることが開示されている。
【０００８】しかしながら、上述の高速化、薄層化の要
請から、表面粗さＲａが０．１μｍ以下の表面粗さを有
するバックエッジ面を備えた押出し塗布ヘッドが要望さ
れている。また、特開平２−２０７８６５号公報に開示
された表面粗さの測定方法は、一方向に測定するため、
表面粗さＲａが０．１μｍ以下のレベルになると測定精
度の信頼性にやや欠けるという問題があった。
請から、表面粗さＲａが０．１μｍ以下の表面粗さを有
するバックエッジ面を備えた押出し塗布ヘッドが要望さ
れている。また、特開平２−２０７８６５号公報に開示
された表面粗さの測定方法は、一方向に測定するため、
表面粗さＲａが０．１μｍ以下のレベルになると測定精
度の信頼性にやや欠けるという問題があった。
【０００９】本発明は、上述のような実情に鑑みてなさ
れたものであり、スジや塗布ムラを発生することなく均
一な塗布膜を支持体上に形成可能な塗布装置を提供する
ことを目的とする。
れたものであり、スジや塗布ムラを発生することなく均
一な塗布膜を支持体上に形成可能な塗布装置を提供する
ことを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明はスリット部から塗布液を連続的に押
し出して支持体表面に塗布液を塗布する押出し塗布ヘッ
ドを備えた塗布装置において、前記塗布ヘッドのバック
エッジ面は前記支持体の搬送方向に沿って連続した３以
上の平面で構成され、各平面の境界部における頂角は１
７５°以上１８０°未満の範囲であり、かつ、前記バッ
クエッジ面の表面粗さＲａは０．２μｍ以下であるよう
な構成とした。
るために、本発明はスリット部から塗布液を連続的に押
し出して支持体表面に塗布液を塗布する押出し塗布ヘッ
ドを備えた塗布装置において、前記塗布ヘッドのバック
エッジ面は前記支持体の搬送方向に沿って連続した３以
上の平面で構成され、各平面の境界部における頂角は１
７５°以上１８０°未満の範囲であり、かつ、前記バッ
クエッジ面の表面粗さＲａは０．２μｍ以下であるよう
な構成とした。
【００１１】スリット部から塗布液を連続的に押し出し
て支持体表面に塗布液を塗布する押出し塗布ヘッドのバ
ックエッジ面を上記スリット部出口に異物が蓄積しない
湾曲形状とした場合、バックエッジ面の表面粗さＲａを
０．２μｍ以下とすることは加工精度上困難であり、塗
布面のスジや塗布ムラを引き起こすことになっていた。
しかし、上述のような本発明では、スリット部から押し
出され支持体に塗布される塗布液の流動性が良好とな
り、スリット部出口に異物が蓄積せず、スジや塗布ムラ
を発生することなく支持体に均一な塗布膜を形成するこ
とが可能である。
て支持体表面に塗布液を塗布する押出し塗布ヘッドのバ
ックエッジ面を上記スリット部出口に異物が蓄積しない
湾曲形状とした場合、バックエッジ面の表面粗さＲａを
０．２μｍ以下とすることは加工精度上困難であり、塗
布面のスジや塗布ムラを引き起こすことになっていた。
しかし、上述のような本発明では、スリット部から押し
出され支持体に塗布される塗布液の流動性が良好とな
り、スリット部出口に異物が蓄積せず、スジや塗布ムラ
を発生することなく支持体に均一な塗布膜を形成するこ
とが可能である。
【００１２】以下、本発明の具体的構成について説明す
る。
る。
【００１３】図１は本発明の押出し塗布ヘッドの断面図
であり、図２は図１に示され押出し塗布ヘッドのバック
エッジの部分拡大断面図である。図１および図２におい
て、押出し塗布ヘッド１はフロントエッジ２、バックエ
ッジ４、フロントエッジ２とバックエッジ４との間に形
成されているスリット部８、ポケット部９を備えてい
る。そして、スリット部８から連続的に押し出された塗
布液は支持体１１に塗布される。
であり、図２は図１に示され押出し塗布ヘッドのバック
エッジの部分拡大断面図である。図１および図２におい
て、押出し塗布ヘッド１はフロントエッジ２、バックエ
ッジ４、フロントエッジ２とバックエッジ４との間に形
成されているスリット部８、ポケット部９を備えてい
る。そして、スリット部８から連続的に押し出された塗
布液は支持体１１に塗布される。
【００１４】本発明では、この押出し塗布ヘッド１のバ
ックエッジ４の上端面であるバックエッジ面５が支持体
の搬送方向に沿って連続した３以上の平面（図示例で
は、平面５ａ，５ｂ，５ｃの３平面）で構成され、各平
面の境界部における頂角θn （ｎは２以上の整数、図示
例では平面５ａと平面５ｂとのなす頂角θ1 、平面５ｂ
と平面５ｃとのなす頂角θ2 ）が１７５°以上１８０°
未満の範囲であり、かつ、バックエッジ面５の表面粗さ
Ｒａが０．２μｍ以下であることを特徴としている。
ックエッジ４の上端面であるバックエッジ面５が支持体
の搬送方向に沿って連続した３以上の平面（図示例で
は、平面５ａ，５ｂ，５ｃの３平面）で構成され、各平
面の境界部における頂角θn （ｎは２以上の整数、図示
例では平面５ａと平面５ｂとのなす頂角θ1 、平面５ｂ
と平面５ｃとのなす頂角θ2 ）が１７５°以上１８０°
未満の範囲であり、かつ、バックエッジ面５の表面粗さ
Ｒａが０．２μｍ以下であることを特徴としている。
【００１５】上記のバックエッジ面５を構成する各平面
５ａ，５ｂ，５ｃの境界部における頂角θ1 および頂角
θ2 は、上述のように１７５°≦θ1 ，θ2 ＜１８０
°、好ましくは１７８°≦θ1 ，θ2 ＜１８０°の範囲
内で設定することができる。頂角θ1 ，θ2 が１７５°
未満であると、スリット部８から押し出される塗布液の
流動性が悪く、３平面５ａ，５ｂ，５ｃからなるバック
エッジ面５のドクターエッジとしての効果が得られず、
支持体１１への塗布においてスジ、塗布ムラが発生す
る。
５ａ，５ｂ，５ｃの境界部における頂角θ1 および頂角
θ2 は、上述のように１７５°≦θ1 ，θ2 ＜１８０
°、好ましくは１７８°≦θ1 ，θ2 ＜１８０°の範囲
内で設定することができる。頂角θ1 ，θ2 が１７５°
未満であると、スリット部８から押し出される塗布液の
流動性が悪く、３平面５ａ，５ｂ，５ｃからなるバック
エッジ面５のドクターエッジとしての効果が得られず、
支持体１１への塗布においてスジ、塗布ムラが発生す
る。
【００１６】バックエッジ面５の表面粗さＲａは中心線
平均粗さ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）であり、この表面粗さ
Ｒａは上記のように０．２μｍ以下、好ましくは０．０
５μｍ以下である。バックエッジ面５の表面粗さＲａが
０．２μｍを超えると、支持体１１に形成した塗布面に
細かいスジが発生する。
平均粗さ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）であり、この表面粗さ
Ｒａは上記のように０．２μｍ以下、好ましくは０．０
５μｍ以下である。バックエッジ面５の表面粗さＲａが
０．２μｍを超えると、支持体１１に形成した塗布面に
細かいスジが発生する。
【００１７】ここで、表面粗さＲａの測定方法について
説明する。
説明する。
【００１８】まず、３平面５ａ，５ｂ，５ｃをバックエ
ッジ面５に作製する過程を図３に示した。図３におい
て、バックエッジ４を→→→の順序で各々平面
研磨することにより、３平面５ａ，５ｂ，５ｃからなる
バックエッジ面５を作製することができる。そして、上
記の平面研磨のうち、の平面研磨が完了した時点で表
面粗さＲａを測定する。これにより、充分な測定長が得
られる。また、１箇所の測定点において、研磨目に対し
て４５°で交差させて×印を描くように２回走査させる
ので、信頼性の高い測定が可能である。このような測定
を、押出し塗布ヘッド１の幅方向（支持体１１の搬送方
向に直角の方向）の５箇所で行い、得られた計１０デー
タの平均値を表面粗さＲａとする。具体的な測定機種と
しては、サーフテスト３０１Ａ（ミツトヨ（株）製）を
使用することができ、測定長０．８ｍｍ、カットオフ値
０．８の条件で測定を行うことができる。
ッジ面５に作製する過程を図３に示した。図３におい
て、バックエッジ４を→→→の順序で各々平面
研磨することにより、３平面５ａ，５ｂ，５ｃからなる
バックエッジ面５を作製することができる。そして、上
記の平面研磨のうち、の平面研磨が完了した時点で表
面粗さＲａを測定する。これにより、充分な測定長が得
られる。また、１箇所の測定点において、研磨目に対し
て４５°で交差させて×印を描くように２回走査させる
ので、信頼性の高い測定が可能である。このような測定
を、押出し塗布ヘッド１の幅方向（支持体１１の搬送方
向に直角の方向）の５箇所で行い、得られた計１０デー
タの平均値を表面粗さＲａとする。具体的な測定機種と
しては、サーフテスト３０１Ａ（ミツトヨ（株）製）を
使用することができ、測定長０．８ｍｍ、カットオフ値
０．８の条件で測定を行うことができる。
【００１９】上述のようなバックエッジ４の長さ（支持
体搬送方向の長さ）Ｌは、０．５〜５．０ｍｍ程度、好
ましくは０．８〜３．０ｍｍ程度とすることができる。
バックエッジ４の長さが０．５ｍｍ未満、あるいは５．
０ｍｍを超えると、３平面５ａ，５ｂ，５ｃからなるバ
ックエッジ面５のドクターエッジとしての効果が充分で
はなく、塗布面にスジ、塗布ムラが発生する。また、バ
ックエッジ面５を構成する各平面５ａ，５ｂ，５ｃの長
さＬa ，Ｌb ，Ｌc は、各々０．１〜２．０ｍｍ、好ま
しくは０．２〜１．０ｍｍの範囲とすることができる。
１平面の長さが０．１ｍｍ未満であると、加工製造上困
難となり、２．０ｍｍを超えると塗布面にスジ、塗布ム
ラが発生し易くなり好ましくない。ここで、バックエッ
ジ４の長さＬは、スリット部８の塗布液流出方向を基準
線とし、バックエッジ４の両端点において上記基準線に
平行な線を引き、その平行線の距離をエッジの長さとし
ている。
体搬送方向の長さ）Ｌは、０．５〜５．０ｍｍ程度、好
ましくは０．８〜３．０ｍｍ程度とすることができる。
バックエッジ４の長さが０．５ｍｍ未満、あるいは５．
０ｍｍを超えると、３平面５ａ，５ｂ，５ｃからなるバ
ックエッジ面５のドクターエッジとしての効果が充分で
はなく、塗布面にスジ、塗布ムラが発生する。また、バ
ックエッジ面５を構成する各平面５ａ，５ｂ，５ｃの長
さＬa ，Ｌb ，Ｌc は、各々０．１〜２．０ｍｍ、好ま
しくは０．２〜１．０ｍｍの範囲とすることができる。
１平面の長さが０．１ｍｍ未満であると、加工製造上困
難となり、２．０ｍｍを超えると塗布面にスジ、塗布ム
ラが発生し易くなり好ましくない。ここで、バックエッ
ジ４の長さＬは、スリット部８の塗布液流出方向を基準
線とし、バックエッジ４の両端点において上記基準線に
平行な線を引き、その平行線の距離をエッジの長さとし
ている。
【００２０】スリット部８は、その開口幅ｗが０．０５
〜０．６ｍｍ程度であり、押出し塗布ヘッド１の幅方向
（支持体搬送方向に対し直角方向）に沿って形成されて
いる流路である。また、スリット部８の流路長ｌは、例
えば、塗布液の組成および物性、塗布液の供給量等に基
づいて設定することができる。さらに、フロントエッジ
面３とバックエッジ面５との間に形成されるスリット部
８の出口の幅は、開口幅ｗと同等に設定されるのが一般
的であるが、場合によっては出口幅を広くする等、開口
幅ｗと等しくなくてもよい。
〜０．６ｍｍ程度であり、押出し塗布ヘッド１の幅方向
（支持体搬送方向に対し直角方向）に沿って形成されて
いる流路である。また、スリット部８の流路長ｌは、例
えば、塗布液の組成および物性、塗布液の供給量等に基
づいて設定することができる。さらに、フロントエッジ
面３とバックエッジ面５との間に形成されるスリット部
８の出口の幅は、開口幅ｗと同等に設定されるのが一般
的であるが、場合によっては出口幅を広くする等、開口
幅ｗと等しくなくてもよい。
【００２１】このような押出し塗布ヘッド１は、従来の
押出し塗布ヘッドと同様の材料、例えば、ステンレス
鋼、超硬合金材料等を用いて作成することができる。
押出し塗布ヘッドと同様の材料、例えば、ステンレス
鋼、超硬合金材料等を用いて作成することができる。
【００２２】上記の押出し塗布ヘッド１では、図示され
ていない塗布液供給手段から塗布液がポケット部９に供
給される。ポケット部９への塗布液の供給は、ポケット
部９の一方の端部からの供給、ポケット部９の両端部か
らの供給、あるいは、ポケット部９の中間部からの供給
等、いずれの供給方法であってもよい。このポケット部
９に供給された塗布液は、スリット部８を経由してスリ
ット部８の出口から押出され、バックエッジ面５と搬送
されている支持体１１との間隙部分に連続的に供給され
る。そして、塗布液の供給量、押出し塗布ヘッド１に対
する支持体１１の張力、ラップ角等により、支持体１１
とバックエッジ面５との間隙が設定され、塗布液が支持
体１１上に塗着される。この時、バックエッジ面５はド
クターエッジの役割をなし、かつ、バックエッジ面５の
形状および表面粗さＲａが上述のような設定となってい
るため、塗布液の流動性が極めて良好であり、スリット
部出口における異物蓄積が発生せず、スジや塗布ムラを
生じることなく支持体１１に均一な塗布膜を形成するこ
とが可能である。
ていない塗布液供給手段から塗布液がポケット部９に供
給される。ポケット部９への塗布液の供給は、ポケット
部９の一方の端部からの供給、ポケット部９の両端部か
らの供給、あるいは、ポケット部９の中間部からの供給
等、いずれの供給方法であってもよい。このポケット部
９に供給された塗布液は、スリット部８を経由してスリ
ット部８の出口から押出され、バックエッジ面５と搬送
されている支持体１１との間隙部分に連続的に供給され
る。そして、塗布液の供給量、押出し塗布ヘッド１に対
する支持体１１の張力、ラップ角等により、支持体１１
とバックエッジ面５との間隙が設定され、塗布液が支持
体１１上に塗着される。この時、バックエッジ面５はド
クターエッジの役割をなし、かつ、バックエッジ面５の
形状および表面粗さＲａが上述のような設定となってい
るため、塗布液の流動性が極めて良好であり、スリット
部出口における異物蓄積が発生せず、スジや塗布ムラを
生じることなく支持体１１に均一な塗布膜を形成するこ
とが可能である。
【００２３】また、本発明の塗布装置においては、押出
し塗布ヘッドを上述のような構造とする他に、図４に示
されるような多層（図示例では２層）同時塗布用の押出
し塗布ヘッドとすることができる。図４に示される押出
し塗布ヘッド１は、フロントエッジ２、バックエッジ４
との間にセンターエッジ６を備え、２つのスリット部
８、８´、２つのポケット部９、９´を備えている。こ
のような多層同時塗布用の押出し塗布ヘッド１の場合に
おいても、バックエッジ４の上端面であるバックエッジ
面５は、上述の１層塗布用の押出し塗布ヘッドのバック
エッジ面５と同様の構成である。
し塗布ヘッドを上述のような構造とする他に、図４に示
されるような多層（図示例では２層）同時塗布用の押出
し塗布ヘッドとすることができる。図４に示される押出
し塗布ヘッド１は、フロントエッジ２、バックエッジ４
との間にセンターエッジ６を備え、２つのスリット部
８、８´、２つのポケット部９、９´を備えている。こ
のような多層同時塗布用の押出し塗布ヘッド１の場合に
おいても、バックエッジ４の上端面であるバックエッジ
面５は、上述の１層塗布用の押出し塗布ヘッドのバック
エッジ面５と同様の構成である。
【００２４】本発明の塗布装置に使用することのできる
支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等のプラスチックフィルム、紙や金属箔等からなる長尺
の可撓性支持体等を挙げることができ、特に制限はな
い。また、支持体は、予め種々の処理層が形成されたも
のであってもよい。
支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等のプラスチックフィルム、紙や金属箔等からなる長尺
の可撓性支持体等を挙げることができ、特に制限はな
い。また、支持体は、予め種々の処理層が形成されたも
のであってもよい。
【００２５】本発明の塗布装置に使用することのできる
塗布液は、押出し塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液
であれば特に制限はない。押出し塗布法は、塗布膜の厚
さ制御性に優れており、従来より安定した塗布膜厚さが
要求されるような用途において用いられている。このよ
うな用途の一つとして、磁気記録媒体の磁気記録層やバ
ックコート層の形成があり、磁性粉、バインダおよび溶
媒を含有する磁性塗布液、あるいは、バックコート用塗
布液は、本発明に使用することのできる塗布液の一つで
ある。
塗布液は、押出し塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液
であれば特に制限はない。押出し塗布法は、塗布膜の厚
さ制御性に優れており、従来より安定した塗布膜厚さが
要求されるような用途において用いられている。このよ
うな用途の一つとして、磁気記録媒体の磁気記録層やバ
ックコート層の形成があり、磁性粉、バインダおよび溶
媒を含有する磁性塗布液、あるいは、バックコート用塗
布液は、本発明に使用することのできる塗布液の一つで
ある。
【００２６】ここで、磁性塗布液の例を挙げると、磁性
粉としては、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物
微粉末、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合
金微粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、磁性塗布液には、必要に応じて無機微粒子、潤滑
剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記のような磁
性塗布液を用いて形成される磁気記録層は、乾燥膜厚が
０．１〜６μｍ程度であり、この磁気記録層の３０〜９
２重量％を磁性粉が占めるような構成が好ましい。ま
た、近年行われているように塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した
塗布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成について
も必要に応じて選択することができる。また、バックコ
ート用塗布液の例を挙げると、顔料としてはカーボンブ
ラック、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＣａＯ、ＳｉＯ
2 、Ｃｒ2 Ｏ3 、α−Ａｌ2 Ｏ3、ＳｉＣ、ＣａＣＯ
3 、ＢａＳＯ4 、ＺｎＯ、ＭｇＯ、窒化ホウ素、ＴｉＣ
等の非磁性無機粉末等いずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、バックコート用塗布液には、必要に応じて無機微
粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記
のようなバックコート用塗布液を用いて形成されるバッ
クコート層は、乾燥膜厚が０．１〜１．０μｍ程度であ
り、このバックコート層の３０〜８０重量％を顔料が占
めるような構成が好ましい。
粉としては、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物
微粉末、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合
金微粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、磁性塗布液には、必要に応じて無機微粒子、潤滑
剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記のような磁
性塗布液を用いて形成される磁気記録層は、乾燥膜厚が
０．１〜６μｍ程度であり、この磁気記録層の３０〜９
２重量％を磁性粉が占めるような構成が好ましい。ま
た、近年行われているように塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した
塗布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成について
も必要に応じて選択することができる。また、バックコ
ート用塗布液の例を挙げると、顔料としてはカーボンブ
ラック、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＣａＯ、ＳｉＯ
2 、Ｃｒ2 Ｏ3 、α−Ａｌ2 Ｏ3、ＳｉＣ、ＣａＣＯ
3 、ＢａＳＯ4 、ＺｎＯ、ＭｇＯ、窒化ホウ素、ＴｉＣ
等の非磁性無機粉末等いずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、バックコート用塗布液には、必要に応じて無機微
粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記
のようなバックコート用塗布液を用いて形成されるバッ
クコート層は、乾燥膜厚が０．１〜１．０μｍ程度であ
り、このバックコート層の３０〜８０重量％を顔料が占
めるような構成が好ましい。
【００２７】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明する。
明する。
【００２８】支持体として幅１０００ｍｍ、厚さ１５μ
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
また、下記の組成の磁性塗布液を準備した。 （磁性塗布液の組成） Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 …１００重量部 （Ｈｃ＝７５０Oe、比表面積(BET) ＝４３ｍ2 ／ｇ） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 … １０重量部 ポリエステルポリウレタン樹脂 … １０重量部 カーボンブラック … ５重量部 アルミナ粉末 … ５重量部 ステアリン酸 … ２重量部 ステアリン酸ブチル … １重量部 メチルエチルケトン …１００重量部 トルエン …１００重量部 シクロヘキサノン … ８０重量部 ポリイソシアネート … ４重量部実施例１〜４、比較例１〜５ 下記の表１に示されるように、バックエッジ面を構成す
る３平面の境界部における頂角θ1 、θ2 を種々変更
し、バックエッジ面の表面粗さＲａ、バックエッジ長を
所定値に設定した図１に示される押出し塗布ヘッド１を
用い、上記の磁性塗布液を支持体１１に塗布し、乾燥し
て磁気記録層（厚み３μｍ）を形成した。その後、カレ
ンダー処理を行い、１２．６５ｍｍ幅にスリットして磁
気記録媒体（ビデオテープ）とした。尚、表面粗さＲａ
の測定方法、塗布条件は下記に示されるものとした。 （表面粗さＲａの測定方法） 測定機 ： サーフテスト３０１Ａ（ミツトヨ（株）
製） 測定長 ： 図３のの平面研磨が完了した時点で
０．８ｍｍ測定 カットオフ値 ： ０．８ 測定点 ： 幅方向５点、各点で研磨目に対して４５
°交差で２回走査 （塗布条件） 支持体の搬送速度 ： ３００ｍ／分比較例６〜９ バックエッジ面を２平面から構成されるものとし、下記
の表１に示されるように各平面の境界部における頂角θ
1 を種々変更し、バックエッジ面の表面粗さＲａ、バッ
クエッジ長を所定値に設定した押出し塗布ヘッドを使用
した他は、上記の実施例１〜４と同様にして磁気記録媒
体を作成した。実施例５〜８、比較例１０ 下記の表１に示されるように、バックエッジ面の表面粗
さＲａを種々変更し、バックエッジ面を構成する３平面
の境界部における頂角θ1 、θ2 、バックエッジ長を所
定値に設定した図１に示される押出し塗布ヘッド１を使
用した他は、上記の実施例１〜４と同様にして磁気記録
媒体を作成した。実施例９〜１４、比較例１１〜１２ 下記の表１に示されるように、バックエッジ面の表面粗
さＲａおよびバックエッジ長を種々変更し、バックエッ
ジ面を構成する３平面の境界部における頂角θ1 、θ2
を所定値に設定した図１に示される押出し塗布ヘッド１
を使用した他は、上記の実施例１〜４と同様にして磁気
記録媒体を作成した。実施例１５ バックエッジ面を５平面から構成されるものとし、バッ
クエッジ面を構成する５平面の境界部における頂角θ
1 、θ2 、θ3 、θ4 、バックエッジ面の表面粗さＲａ
およびバックエッジ長を下記の表１に示されるように設
定した押出し塗布ヘッドを使用した他は、上記の実施例
１〜４と同様にして磁気記録媒体を作成した。
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
また、下記の組成の磁性塗布液を準備した。 （磁性塗布液の組成） Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 …１００重量部 （Ｈｃ＝７５０Oe、比表面積(BET) ＝４３ｍ2 ／ｇ） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 … １０重量部 ポリエステルポリウレタン樹脂 … １０重量部 カーボンブラック … ５重量部 アルミナ粉末 … ５重量部 ステアリン酸 … ２重量部 ステアリン酸ブチル … １重量部 メチルエチルケトン …１００重量部 トルエン …１００重量部 シクロヘキサノン … ８０重量部 ポリイソシアネート … ４重量部実施例１〜４、比較例１〜５ 下記の表１に示されるように、バックエッジ面を構成す
る３平面の境界部における頂角θ1 、θ2 を種々変更
し、バックエッジ面の表面粗さＲａ、バックエッジ長を
所定値に設定した図１に示される押出し塗布ヘッド１を
用い、上記の磁性塗布液を支持体１１に塗布し、乾燥し
て磁気記録層（厚み３μｍ）を形成した。その後、カレ
ンダー処理を行い、１２．６５ｍｍ幅にスリットして磁
気記録媒体（ビデオテープ）とした。尚、表面粗さＲａ
の測定方法、塗布条件は下記に示されるものとした。 （表面粗さＲａの測定方法） 測定機 ： サーフテスト３０１Ａ（ミツトヨ（株）
製） 測定長 ： 図３のの平面研磨が完了した時点で
０．８ｍｍ測定 カットオフ値 ： ０．８ 測定点 ： 幅方向５点、各点で研磨目に対して４５
°交差で２回走査 （塗布条件） 支持体の搬送速度 ： ３００ｍ／分比較例６〜９ バックエッジ面を２平面から構成されるものとし、下記
の表１に示されるように各平面の境界部における頂角θ
1 を種々変更し、バックエッジ面の表面粗さＲａ、バッ
クエッジ長を所定値に設定した押出し塗布ヘッドを使用
した他は、上記の実施例１〜４と同様にして磁気記録媒
体を作成した。実施例５〜８、比較例１０ 下記の表１に示されるように、バックエッジ面の表面粗
さＲａを種々変更し、バックエッジ面を構成する３平面
の境界部における頂角θ1 、θ2 、バックエッジ長を所
定値に設定した図１に示される押出し塗布ヘッド１を使
用した他は、上記の実施例１〜４と同様にして磁気記録
媒体を作成した。実施例９〜１４、比較例１１〜１２ 下記の表１に示されるように、バックエッジ面の表面粗
さＲａおよびバックエッジ長を種々変更し、バックエッ
ジ面を構成する３平面の境界部における頂角θ1 、θ2
を所定値に設定した図１に示される押出し塗布ヘッド１
を使用した他は、上記の実施例１〜４と同様にして磁気
記録媒体を作成した。実施例１５ バックエッジ面を５平面から構成されるものとし、バッ
クエッジ面を構成する５平面の境界部における頂角θ
1 、θ2 、θ3 、θ4 、バックエッジ面の表面粗さＲａ
およびバックエッジ長を下記の表１に示されるように設
定した押出し塗布ヘッドを使用した他は、上記の実施例
１〜４と同様にして磁気記録媒体を作成した。
【００２９】上記のように作成した磁気記録媒体の磁気
記録層の塗布面特性を下記の評価基準にしたがって評価
し、その結果を下記の表１に示した。
記録層の塗布面特性を下記の評価基準にしたがって評価
し、その結果を下記の表１に示した。
【００３０】（塗布面特性の評価基準） ◎ … １０００ｍｍ幅×１００００ｍ長において塗布
スジおよび塗布ムラがなく良好 ○ … １０００ｍｍ幅×１００００ｍ長において塗布
スジが２本以下、かつ、塗布ムラが目立たない × … １０００ｍｍ幅×１００００ｍ長において塗布
スジが３本以上、塗布ムラが著しい
スジおよび塗布ムラがなく良好 ○ … １０００ｍｍ幅×１００００ｍ長において塗布
スジが２本以下、かつ、塗布ムラが目立たない × … １０００ｍｍ幅×１００００ｍ長において塗布
スジが３本以上、塗布ムラが著しい
【００３１】
【表１】 実施例１〜４と比較例１〜５の塗布面特性を対比する
と、バックエッジ面を構成する３平面のなす頂角の大き
さにより塗布液流動性が変化し、バックエッジ面による
良好なドクターエッジ効果は、本発明の頂角範囲におい
て得られることが確認された。
と、バックエッジ面を構成する３平面のなす頂角の大き
さにより塗布液流動性が変化し、バックエッジ面による
良好なドクターエッジ効果は、本発明の頂角範囲におい
て得られることが確認された。
【００３２】実施例１〜４と比較例６〜９の塗布面特性
を対比すると、バックエッジ面が２平面から構成される
押出し塗布ヘッドのおける塗布液の流動性が、本発明の
押出し塗布ヘッド（３平面構成）に比べて劣っているこ
とが明らかとなった。
を対比すると、バックエッジ面が２平面から構成される
押出し塗布ヘッドのおける塗布液の流動性が、本発明の
押出し塗布ヘッド（３平面構成）に比べて劣っているこ
とが明らかとなった。
【００３３】実施例５〜８と比較例１０の塗布面特性を
対比すると、バックエッジ面の表面粗さＲａを０．２μ
ｍ以下とすることにより塗布液流動性が良好となり、バ
ックエッジ面による良好なドクターエッジ効果が得られ
ることが確認された。尚、本発明では、バックエッジ面
形成は図３に示されるように平面研磨により行うことが
でき、湾曲研磨に比べて表面粗さＲａをより小さいもの
とすることが容易であった。
対比すると、バックエッジ面の表面粗さＲａを０．２μ
ｍ以下とすることにより塗布液流動性が良好となり、バ
ックエッジ面による良好なドクターエッジ効果が得られ
ることが確認された。尚、本発明では、バックエッジ面
形成は図３に示されるように平面研磨により行うことが
でき、湾曲研磨に比べて表面粗さＲａをより小さいもの
とすることが容易であった。
【００３４】実施例９〜１４と比較例１１〜１２の塗布
面特性を対比すると、バックエッジ長を０．５〜５．０
ｍｍの範囲、好ましくは０．８〜３．０ｍｍの範囲とす
ることにより、良好な塗布面特性が得られることが確認
された。
面特性を対比すると、バックエッジ長を０．５〜５．０
ｍｍの範囲、好ましくは０．８〜３．０ｍｍの範囲とす
ることにより、良好な塗布面特性が得られることが確認
された。
【００３５】実施例４と実施例１５の塗布面特性を対比
すると、バックエッジ面が３平面で構成された場合と５
平面で構成された場合では塗布面特性に大きな違いは認
められず、両者とも良好な結果であり、バックエッジ面
の構成面数は３平面で充分であることが確認された。
すると、バックエッジ面が３平面で構成された場合と５
平面で構成された場合では塗布面特性に大きな違いは認
められず、両者とも良好な結果であり、バックエッジ面
の構成面数は３平面で充分であることが確認された。
【００３６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば押
出し塗布ヘッドのドクターエッジの役割を果たすバック
エッジ面が、各平面の境界部における頂角が１７５°以
上１８０°未満の範囲であり支持体の搬送方向に沿って
連続した３以上の平面で構成されており、バックエッジ
面形成を平面研磨により行うことができるため、バック
エッジ面の表面粗さＲａを０．２μｍ以下の良好な状態
にすることが容易であり、このため、スリット部から押
し出され支持体に塗布される塗布液の流動性が良好であ
り、また、スリット部出口に異物が蓄積せず、スジや塗
布ムラを発生することなく支持体に均一な塗布膜を形成
することが可能である。
出し塗布ヘッドのドクターエッジの役割を果たすバック
エッジ面が、各平面の境界部における頂角が１７５°以
上１８０°未満の範囲であり支持体の搬送方向に沿って
連続した３以上の平面で構成されており、バックエッジ
面形成を平面研磨により行うことができるため、バック
エッジ面の表面粗さＲａを０．２μｍ以下の良好な状態
にすることが容易であり、このため、スリット部から押
し出され支持体に塗布される塗布液の流動性が良好であ
り、また、スリット部出口に異物が蓄積せず、スジや塗
布ムラを発生することなく支持体に均一な塗布膜を形成
することが可能である。
【図１】本発明の塗布装置を構成する押出し塗布ヘッド
の一例を示す断面図である。
の一例を示す断面図である。
【図２】図１に示される押出し塗布ヘッドのバックエッ
ジの部分拡大断面図である。
ジの部分拡大断面図である。
【図３】本発明の塗布装置を構成する押出し塗布ヘッド
のバックエッジ面の作成方法を説明するための図であ
る。
のバックエッジ面の作成方法を説明するための図であ
る。
【図４】本発明の塗布装置を構成する押出し塗布ヘッド
の他の例を示す断面図である。
の他の例を示す断面図である。
１…押出し塗布ヘッド ２…フロントエッジ ３…フロントエッジ面 ４…バックエッジ ５…バックエッジ面 ５ａ，５ｂ，５ｃ…バックエッジ面を構成する平面 ６…センターエッジ ７…センターエッジ面 ８，８´…スリット部 ９，９´…ポケット部 １１…支持体 Ｌ…バックエッジの長さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 畠山 明 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 大澤 義比佐 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 スリット部から塗布液を連続的に押し出
して支持体表面に塗布液を塗布する押出し塗布ヘッドを
備えた塗布装置において、前記塗布ヘッドのバックエッ
ジ面は前記支持体の搬送方向に沿って連続した３以上の
平面で構成され、各平面の境界部における頂角は１７５
°以上１８０°未満の範囲であり、かつ、前記バックエ
ッジ面の表面粗さＲａは０．２μｍ以下であることを特
徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 前記頂角は、１７８°以上１８０°未満
の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装
置。 - 【請求項３】 前記バックエッジ面の表面粗さＲａは
０．０５μｍ以下であることを特徴とする請求項１また
は請求項２に記載の塗布装置。 - 【請求項４】 前記バックエッジの長さは０．５〜５．
０ｍｍの範囲にあることを特徴とする請求項１乃至請求
項３のいずれかに記載の塗布装置。 - 【請求項５】 前記バックエッジの長さは０．８〜３．
０ｍｍの範囲にあることを特徴とする請求項４に記載の
塗布装置。 - 【請求項６】 前記押出し塗布ヘッドは前記スリットを
２以上備え、前記バックエッジ面の支持体搬送方向上流
側に１以上のセンターエッジ面を有することを特徴とす
る請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04174194A JP3609850B2 (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04174194A JP3609850B2 (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07227563A true JPH07227563A (ja) | 1995-08-29 |
| JP3609850B2 JP3609850B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=12616858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04174194A Expired - Fee Related JP3609850B2 (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3609850B2 (ja) |
-
1994
- 1994-02-17 JP JP04174194A patent/JP3609850B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3609850B2 (ja) | 2005-01-12 |
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