JPH0722470A - Tab tape with bump and junction using it - Google Patents

Tab tape with bump and junction using it

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JPH0722470A
JPH0722470A JP14741893A JP14741893A JPH0722470A JP H0722470 A JPH0722470 A JP H0722470A JP 14741893 A JP14741893 A JP 14741893A JP 14741893 A JP14741893 A JP 14741893A JP H0722470 A JPH0722470 A JP H0722470A
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JP
Japan
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bumps
tab tape
metal
bonding
joining
Prior art date
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Pending
Application number
JP14741893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Yamazaki
英男 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
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Publication of JPH0722470A publication Critical patent/JPH0722470A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

PURPOSE: To provide a tab tape with bumps and bonding method using the same, so that the bumps of inner leads do not peel off at a reflow bonding of outer leads. CONSTITUTION: This TAB tape has metal wirings 11 on a dielectric film base 10, vias 12 communicating with the wirings 11 from the opposite base surface to the surface having the wires 11, and inner lead bonding bumps 13 and outer lead bonding terminals at part of the metal wirings 11. The m.p. of the bump 13 is higher than that of a metal 14 for bonding the outer lead-bonding terminals.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はバンプ付きTABテープ
及びそれを用いた接合方法に関する。詳しくは誘電体フ
ィルムよりなる基材の上に設けられた金属配線に、基材
を貫通して設けられたビアホールを通して接続したバン
プ付きTABテープ及びそれを用いた接合方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TAB tape with bumps and a joining method using the TAB tape. More specifically, it relates to a bumped TAB tape in which metal wiring provided on a base material made of a dielectric film is connected through a via hole provided through the base material, and a bonding method using the TAB tape.

【0002】近年ICチップの高集積化により高密度接
続が可能なTAB(Tape Automaited
Bonding)方式による半導体装置の組立が注目さ
れている。このTAB方式はポリイミド又はポリエステ
ル等のフィルムに銅箔をはりつけ、それをホトリソグラ
フィ技術によりエッチングして金属配線を形成し、その
金属配線を利用してICチップをプリント配線板または
パッケージに電気的に接続できるようにしたものであ
る。
In recent years, TAB (Tape Automated) capable of high-density connection due to high integration of IC chips
Bonding) has attracted attention assembling semiconductor devices. In this TAB method, a copper foil is adhered to a film such as polyimide or polyester, which is etched by photolithography to form a metal wiring, and the metal wiring is used to electrically connect an IC chip to a printed wiring board or package. It is designed to be connectable.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来のTABテープの1例を図4に示
す。同図において、1はパーフォレーション2を有する
フィルム状の基材であり、その表面に金属配線3が設け
られている。この金属配線の一端はICチップの電極に
接続するためのインナーリード3aとなり、他端はプリ
ント配線板またはパッケージの端子に接続するためのア
ウターリード3bとなっている。
2. Description of the Related Art One example of a conventional TAB tape is shown in FIG. In the figure, 1 is a film-shaped base material having a perforation 2, and a metal wiring 3 is provided on the surface thereof. One end of this metal wiring serves as an inner lead 3a for connecting to an electrode of the IC chip, and the other end serves as an outer lead 3b for connecting to a terminal of a printed wiring board or a package.

【0004】そして同図(b)に示すように、インナー
リード3aにはバンプ4が設けられ、アウターリード3
bにはプリント配線板またはパッケージの端子にリフロ
ー接続するための接合用金属5が設けられている。なお
図4における6はICチップ搭載用の窓、7はアウター
リード接続用の窓である。
Then, as shown in FIG. 1B, bumps 4 are provided on the inner leads 3a, and the outer leads 3 are formed.
A metal 5 for joining for reflow connection to the terminals of the printed wiring board or the package is provided on b. In FIG. 4, 6 is a window for mounting an IC chip, and 7 is a window for connecting outer leads.

【0005】またTABテープの他の例として、狭ピッ
チでもショートの恐れがないことを目的として、図5の
如く、基材1に金属配線3が設けられた面と反対側の基
材面から金属配線3に通ずるビアホール8を設け、該ビ
アホール8内にバンプ4を設けたものもある。
As another example of the TAB tape, as shown in FIG. 5, from the surface of the base material 1 opposite to the surface on which the metal wiring 3 is provided, for the purpose of preventing the possibility of short-circuiting even at a narrow pitch. There is also one in which a via hole 8 communicating with the metal wiring 3 is provided and the bump 4 is provided in the via hole 8.

【0006】上記したTABテープは下記のような利点
を有するため半導体装置組立に多用されている。 a:ICチップの最終組込み前に、事前にICチップの
性能検査をすることが可能である。 b:ICチップの、基板等への接続の自由度が向上す
る。(液晶パネル等の裏側へTABテープを折り曲げて
搭載可能) c:高密度実装が可能となる。 d:基板等への接続方法として、リフロー法の使用が容
易となる。
The above-mentioned TAB tape has been widely used for assembling semiconductor devices because it has the following advantages. a: It is possible to perform a performance test of the IC chip in advance before the final assembling of the IC chip. b: The degree of freedom in connecting the IC chip to the substrate or the like is improved. (A TAB tape can be bent and mounted on the back side of a liquid crystal panel, etc.) c: High-density mounting is possible. d: The reflow method can be easily used as a method of connecting to a substrate or the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記従来のTABテー
プでは、インナーリード接合用のバンプとアウターリー
ド接合用端子の接合用金属とは、一般に同一の金属、例
えば半田が汎用されているため、以下のような問題があ
る。 a:インナーリード接合用のバンプとアウターリード接
合用端子の接合用金属とは融点が等しいため、アウター
リード接続中に、さきに接合しているインナーリードの
接合部分が剥れる恐れがあった。 b:特に、短時間で、TABテープ全体が均一に加熱さ
れるリフロー法においては、インナーリードの接合部分
が剥れる恐れがあった。
In the above-mentioned conventional TAB tape, since the bumps for the inner lead bonding and the bonding metal for the terminals for the outer lead bonding are generally the same metal, for example, solder is generally used, There is such a problem. a: Since the bumps for joining the inner leads and the joining metal of the terminals for joining the outer leads have the same melting point, the joined portion of the inner leads previously joined may be peeled off during the outer lead connection. b: In particular, in the reflow method in which the entire TAB tape is uniformly heated in a short time, there is a risk of peeling off the joint portion of the inner lead.

【0008】そこで、この問題を解決するため、インナ
ーリード接合用のバンプとアウターリード接合用端子の
接合用金属とを異種金属にしたバンプ付きTABテープ
が一部実施されている。しかし、異種金属を用いるため
には、インナーリードのバンプとアウターリードの接合
用金属を別々な金属でメッキする必要があり、一方をメ
ッキするときは他方をマスキングするなど複雑なプロセ
スを経る必要が生じ、コストが高くなるとともにメッキ
液等による汚染問題を生じ、ICチップの動作不良の原
因となっていた。
Therefore, in order to solve this problem, a TAB tape with bumps has been partially implemented in which the bumps for joining inner leads and the joining metal of the terminals for joining outer leads are different metals. However, in order to use dissimilar metals, it is necessary to plate the bumps of the inner leads and the metal for joining the outer leads with different metals, and when plating one, it is necessary to go through a complicated process such as masking the other. In addition to the increase in cost, the problem of contamination by the plating solution and the like is caused, which causes malfunction of the IC chip.

【0009】本発明は上記従来の問題点に鑑み、予め接
合されているインナーリードとICチップとの接合部
が、基板等へのアウターリード接合時の加熱により剥離
しないようにし、且つメッキによる汚染の少ないバンプ
付きTABテープ及びそれを用いた接合方法を実現しよ
うとする。
In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention prevents the joint portion between the inner lead and the IC chip, which have been joined in advance, from being peeled off by the heating when the outer lead is joined to the substrate or the like, and is contaminated by plating. An attempt is made to realize a TAB tape with bumps and a bonding method using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明のバンプ付きTA
Bテープに於いては、誘電体フィルムよりなる基材上
に、複数の金属配線が施され、該金属配線が施された面
と反対側の基材面から金属配線に通じるビアホールが設
けられ、該金属配線の一部にインナーリード接合用のバ
ンプとアウターリード接合用端子とが設けられたバンプ
付きTABテープにおいて、該インナーリード接合用の
バンプの融点がアウターリード接合用端子の接合用金属
の融点よりも高いことを特徴とする。
TAs with bumps according to the present invention
In the B tape, a plurality of metal wirings are provided on a base material made of a dielectric film, and a via hole communicating with the metal wiring is provided from a surface of the base material opposite to a surface on which the metal wirings are provided. In a TAB tape with bumps in which a bump for inner lead bonding and a terminal for outer lead bonding are provided in a part of the metal wiring, the melting point of the bump for inner lead bonding is equal to that of the metal for bonding the outer lead bonding terminal. It is characterized by being higher than the melting point.

【0011】また、それに加えて、前記インナーリード
接合用のバンプの融点が、前記アウターリード接合用端
子の接合用金属の融点よりも、少なくとも50℃高いこ
とを特徴とする。また、前記インナーリード接合用のバ
ンプが半田であること、およびボール状であることを特
徴とする。また前記ビアホールが漏斗状であることを特
徴とする。
In addition to this, the melting point of the bumps for joining the inner leads is at least 50 ° C. higher than the melting point of the joining metal of the terminals for joining the outer leads. Further, the bumps for joining the inner leads are made of solder and have a ball shape. The via hole is funnel-shaped.

【0012】また、本発明のバンプ付きTABテープを
用いた接合方法に於いては、前記バンプ付きTABテー
プのアウターリードを基板等へ接合するときはリフロー
法により接合することを特徴とする。
Further, in the joining method using the TAB tape with bumps of the present invention, when the outer leads of the TAB tape with bumps are joined to a substrate or the like, they are joined by a reflow method.

【0013】この構成を採ることにより、予め接合され
ているインナーリードとICチップとの接合部が、基板
等へのアウターリード接合時の加熱により剥離しないよ
うにし、且つメッキによる汚染を少なくしたバンプ付き
TABテープ及びそれを用いた接合方法が得られる。
By adopting this configuration, the joint portion between the inner lead and the IC chip, which have been jointed in advance, is prevented from being peeled off by the heating at the time of joining the outer lead to the substrate or the like, and the bumps are reduced in pollution due to plating. An attached TAB tape and a joining method using the same can be obtained.

【0014】[0014]

【作用】誘電体フィルムよりなる基材の上に設けられた
金属配線に接合してインナーリード接合用のバンプと、
アウターリード接合用端子の接合用金属が設けられたバ
ンプ付きTABテープにおいて、先ずインナーリード接
合用のバンプをICチップの電極に接合し、次に、アウ
ターリード接合用端子の接合用金属をプリント板または
パッケージ等の基板のパッドに接合するとき、本発明で
は、インナーリード接合用のバンプの融点をアウターリ
ード接合用端子の接合用金属の融点より高くしてあるた
め、アウターリード接合時の温度ではインナーリードの
バンプは溶融しない。従ってバンプはICチップの電極
から剥離しない。
[Function] A bump for inner lead bonding, which is bonded to a metal wiring provided on a base material made of a dielectric film,
In a TAB tape with bumps provided with a bonding metal for outer lead bonding terminals, first bumps for inner lead bonding are bonded to electrodes of an IC chip, and then bonding metal for outer lead bonding terminals is printed on a printed board. Or, when bonding to a pad of a substrate such as a package, in the present invention, since the melting point of the bump for inner lead bonding is set higher than the melting point of the bonding metal of the terminal for outer lead bonding, the temperature at the time of outer lead bonding is different. The inner lead bumps do not melt. Therefore, the bump does not peel off from the electrode of the IC chip.

【0015】[0015]

【実施例】図1に本発明のバンプ付きTABテープの実
施例を示す。同図において、10は誘電体フィルムより
なる基材であり、その一方の面には金属配線11が設け
られている。そして、基材10のインナーリード10a
となる部分の他方の面からは金属配線11に達するビア
ホール12が設けられ、該ビアホール12内にバンプ1
3が設けられている。また、アウターリード接合用端子
10bとなる部分の金属配線11上には接合用金属14
が設けられている。
EXAMPLE FIG. 1 shows an example of a TAB tape with bumps according to the present invention. In the figure, 10 is a base material made of a dielectric film, and a metal wiring 11 is provided on one surface thereof. Then, the inner lead 10a of the base material 10
A via hole 12 reaching the metal wiring 11 is provided from the other surface of the portion to be the bump.
3 is provided. In addition, the bonding metal 14 is provided on the metal wiring 11 in the portion which becomes the outer lead bonding terminal 10b.
Is provided.

【0016】そして、前記基材10の誘電体フィルムに
は、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンサルフ
ァイト等の樹脂フィルムが用いられ、その厚さは15μ
m未満では強度が不足し、125μmを超えると薄型化
が困難であるため15〜125μmの範囲が好ましい。
A resin film made of polyimide, polyester, polyphenylene sulphite or the like is used as the dielectric film of the base material 10, and its thickness is 15 μm.
If it is less than m, the strength is insufficient, and if it exceeds 125 μm, it is difficult to reduce the thickness. Therefore, the range of 15 to 125 μm is preferable.

【0017】また、前記金属配線11には、銅、アルミ
ニウム、金またはこれらの合金、もしくは銅等の上に金
や銀メッキ等を施したものを用いることができる。な
お、好ましくは、基材上に、フラッシュメッキを施した
後、銅等のメッキにより金属配線を形成したものが望ま
しいが、これは、接着剤層がなく、ビアホールの形成が
容易で、不純物イオンが少ないうえ、薄型化が可能であ
る為である。その他、銅箔等の表面に、溶液状のポリイ
ミド樹脂を積層し、接着剤層を有しない複合体を形成し
た後、通常のエッチング技術を用いて、金属配線を設け
ることも可能である。
The metal wiring 11 may be copper, aluminum, gold or an alloy thereof, or copper or the like plated with gold or silver. In addition, it is preferable that metal wiring is formed on the base material by performing flash plating and then plating with copper or the like, but this is because there is no adhesive layer, via holes can be easily formed, and impurity ions can be formed. This is because there are few cases and thinning is possible. In addition, it is also possible to stack a solution-form polyimide resin on the surface of a copper foil or the like to form a composite having no adhesive layer, and then provide a metal wiring by using an ordinary etching technique.

【0018】なお、基材に接着剤を用いてはり付けた銅
箔をエッチングして形成した金属配線は、ビアホール形
成時に基材をエッチングするエッチング剤が接着剤をエ
ッチングしないため、別のエッチング剤を必要とし工程
が複雑になるため使用しない方がよい。
The metal wiring formed by etching the copper foil adhered to the base material using an adhesive does not etch the adhesive when the via hole is formed. It is necessary not to use because it requires a complicated process.

【0019】また、前記ビアホール12は、金属配線1
1が施された面と反対側の基材面から、金属配線11に
通じる貫通穴を意味し、穴の形状は円形でも角形でもよ
い。また穴の大きさは、20μm未満では、製造上困難
であり、またバンプ形成用の金属が容易に流れ出し、シ
ョート発生の恐れがあるため、最小径が20μm以上が
望ましい。また、該ビアホール12の形状は、図2に示
すように金属配線面と反対面に開口するような漏斗状が
好ましい。これは漏斗状であればICチップの端子との
接触面積を大きくすることができる為である。
The via hole 12 is a metal wiring 1
This means a through hole that communicates with the metal wiring 11 from the surface of the base material opposite to the surface on which the 1 is formed, and the shape of the hole may be circular or rectangular. If the size of the hole is less than 20 μm, it is difficult to manufacture, and the metal for forming bumps easily flows out, which may cause a short circuit. Therefore, the minimum diameter is preferably 20 μm or more. Further, the shape of the via hole 12 is preferably funnel-shaped so as to open on the surface opposite to the metal wiring surface as shown in FIG. This is because the funnel shape can increase the contact area with the terminals of the IC chip.

【0020】また前記バンプ13には、アウターリード
接合用端子10bの接合用金属14の融点より少なくと
も高い融点を持つ金属、好ましくは50℃以上高いもの
が良い。通常アウターリード接合用端子の接合用金属1
4にはリフロー用に半田が用いられるため、本発明で
は、これよりも融点の高い半田、金、銀等の金属または
合金が使用可能であるが、その選択はアウターリード接
合用端子の接合用金属14の融点を考慮して決定するの
が望ましい。さらにバンプ13の融点または熱拡散温度
はICチップ、TABテープ等に熱損傷を与えないよう
な温度であることが好ましく、具体的には350℃以下
が望ましい。
The bump 13 is preferably a metal having a melting point at least higher than that of the bonding metal 14 of the outer lead bonding terminal 10b, preferably 50 ° C. or higher. Ordinary outer lead joining terminal joining metal 1
Since solder is used for reflow in No. 4, solder or metal or alloy such as gold or silver having a melting point higher than this can be used in the present invention, but the selection is for joining outer lead joining terminals. It is desirable to determine in consideration of the melting point of the metal 14. Further, the melting point or the thermal diffusion temperature of the bump 13 is preferably a temperature at which the IC chip, the TAB tape or the like is not thermally damaged, and specifically, 350 ° C. or less is desirable.

【0021】また、バンプ13に用いる金属の形状は、
熱が均一に伝導、溶解し、ショートの発生が防止できる
とともにビアホール中に埋め込み易い形状としてボール
状が好ましい。そのボールの大きさは、ビアホール12
の容積の50%未満では、ICチップとの接続が困難と
なり、一方200%を超えると、溶解金属が外部へ流れ
出し、ショート発生の恐れがあるため、50〜200%
が好ましい。なお、ボール状バンプは単一でも複数ボー
ルを組み合わせたものでも良い。
The shape of the metal used for the bump 13 is
A ball shape is preferable because it can conduct and melt heat uniformly, prevent the occurrence of short circuit, and easily fill the via hole. The size of the ball is the via hole 12.
If the volume is less than 50%, it becomes difficult to connect with the IC chip. On the other hand, if it exceeds 200%, the molten metal may flow out to the outside to cause a short circuit.
Is preferred. The ball-shaped bump may be a single ball or a combination of a plurality of balls.

【0022】また、ボール状金属をビアホール12に充
填後、TABテープに保持するため、一部加熱または圧
着して、金属配線11と密着させてもよく、その他低分
子量の結合剤、例えばアルコール等をバンプ上に塗布し
てもよい。
Further, after the ball-shaped metal is filled in the via hole 12, it may be partially heated or pressure-bonded so as to be adhered to the metal wiring 11 in order to hold it on the TAB tape, and other low molecular weight binders such as alcohol. May be applied on the bumps.

【0023】このように構成された本実施例は、インナ
ーリード接合用のバンプの形成にメッキ法を用いないた
め、メッキ液による汚染がない。またバンプの溶融温度
をアウターリード接合用端子の接合用金属の融点より高
くしてあるため、アウターリードを基板等に接合すると
き、その温度でバンプがICチップとTABテープから
剥れることはない。
In this embodiment having such a structure, since the plating method is not used for forming the bumps for joining the inner leads, there is no contamination by the plating solution. Further, since the melting temperature of the bump is set higher than the melting point of the joining metal of the outer lead joining terminal, when the outer lead is joined to the substrate or the like, the bump does not come off from the IC chip and the TAB tape at that temperature. .

【0024】図3は本発明のバンプ付きTABテープの
接合方法を説明する図である。本発明のバンプ付きTA
Bテープを使用するには、先ず図3(a)の如くバンプ
付きTABテープ15のバンプ13をICチップ16の
電極17に位置合わせする。次に図3(b)に示すよう
にボンディングツール18を用いてバンプ付きTABテ
ープ15を加熱することにより、バンプ13をICチッ
プ16の電極17に接合する。この場合バンプ13が半
田等の低融点金属の単体又は合金である場合は溶融して
接合し、金銅等の高融点金属の単体又は合金の場合は拡
散により接合する。
FIG. 3 is a diagram for explaining a method of joining the TAB tape with bumps according to the present invention. Bumped TA of the present invention
To use the B tape, the bumps 13 of the TAB tape 15 with bumps are first aligned with the electrodes 17 of the IC chip 16 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 3B, the TAB tape 15 with bumps is heated using a bonding tool 18 to bond the bumps 13 to the electrodes 17 of the IC chip 16. In this case, when the bump 13 is a simple substance or alloy of a low melting point metal such as solder, it is melted and joined, and when the bump 13 is a simple substance or alloy of high melting point metal such as gold copper, it is joined by diffusion.

【0025】次にICチップを接合した状態のバンプ付
きTABテープ15を裏返し、図3(c)に示すよう
に、そのアウターリード接合用端子の接合用金属14を
プリント板等の基板19の接合用パッド20に位置合わ
せして載置し、加熱炉等を用いて全体を加熱し、アウタ
ーリード接合用端子の接合用金属14をリフローしてパ
ッド20に接合するのである。この場合、さきにICチ
ップの電極17に接合したバンプ13の融点(又は拡散
温度)はアウターリード接合用端子の接合用金属14の
融点より高くしてあるので剥離することはない。
Next, the bumped TAB tape 15 with the IC chips bonded is turned over, and as shown in FIG. 3C, the bonding metal 14 of the outer lead bonding terminal is bonded to a substrate 19 such as a printed board. It is positioned and mounted on the pad 20 for use, and the whole is heated using a heating furnace or the like, and the bonding metal 14 of the outer lead bonding terminal is reflowed and bonded to the pad 20. In this case, since the melting point (or diffusion temperature) of the bump 13 bonded to the electrode 17 of the IC chip is higher than that of the bonding metal 14 of the outer lead bonding terminal, the bump 13 is not peeled off.

【0026】表2はバンプ付きTABテープを用いて表
1に示す条件で半導体チップ及び基板に接合したときの
試験結果である。なお表2において、チップ状態とは、
ICチップのTABテープからの剥がれを目視検査及び
導通検査した結果であり、OKとは目視及び導通検査と
も異常のない場合、一部とは一部チップとTABテープ
の導通不良の場合、はがれとは目視で剥がれが認められ
た場合である。
Table 2 shows the test results when the TAB tape with bumps was bonded to the semiconductor chip and the substrate under the conditions shown in Table 1. In Table 2, the chip state is
It is the result of visual inspection and continuity inspection of the peeling of the IC chip from the TAB tape. OK means that there is no abnormality in the visual inspection and continuity inspection. Indicates the case where peeling was visually observed.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【表2】 [Table 2]

【0029】表2より、バンプとアウターリード接合用
金属の融点の温度の差が0°の試験番号4と、−20°
の試験番号5がチップ状態不良であり、他の50°以上
あるものは良好であることがわかる。
From Table 2, Test No. 4 in which the temperature difference between the melting points of the bump and the metal for joining the outer leads is 0 ° and -20 °
It can be seen that the test number 5 of No. 5 is a defective chip state and the other test numbers of 50 ° or more are good.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、インナーリード接合用
のバンプにアウターリード接合用端子の接合用金属より
も融点の高い金属を用い、且つ、該バンプをボール状と
し、基材に設けたビアホールを通して金属配線に接続す
るように一部加熱または圧着したことにより、メッキ法
によらずにバンプを形成できるため、メッキ液による汚
染が防止でき、またアウターリードの基板等へのリフロ
ー接合時に、その温度でバンプが剥れることが防止で
き、半導体装置組立の品質及び歩留り向上に寄与すると
ころ大である。
According to the present invention, a metal having a higher melting point than the bonding metal of the outer lead bonding terminal is used for the bump for inner lead bonding, and the bump has a ball shape and is provided on the base material. By heating or crimping partly so as to connect to the metal wiring through the via hole, bumps can be formed without relying on the plating method, so contamination by the plating solution can be prevented, and at the time of reflow bonding to the substrate etc. of the outer lead, It is possible to prevent the bumps from peeling at that temperature, which contributes to the improvement of the quality and yield of the semiconductor device assembly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のバンプ付きTABテープの実施例を示
す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a TAB tape with bumps of the present invention.

【図2】本発明のバンプ付きTABテープの実施例にお
けるビアホールを示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a via hole in an example of a TAB tape with bumps of the present invention.

【図3】本発明のバンプ付きTABテープを用いた接合
方法を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a joining method using the TAB tape with bumps of the present invention.

【図4】従来のTABテープの1例を示す図で、(a)
は平面図、(b)は(a)図のb−b線における断面図
である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a conventional TAB tape, (a)
Is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along line bb of FIG.

【図5】従来のTABテープの他の例を示す断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another example of a conventional TAB tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…基材 11…金属配線 12…ビアホール 13…バンプ 14…アウターリード接合用金属 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base material 11 ... Metal wiring 12 ... Via hole 13 ... Bump 14 ... Outer lead joining metal

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体フィルムよりなる基材上に、複数
の金属配線が施され、該金属配線が施された面と反対側
の基材面から金属配線に通じるビアホールが設けられ、
該金属配線の一部にインナーリード接合用のバンプとア
ウターリード接合用端子とが設けられたバンプ付きTA
Bテープにおいて、 該インナーリード接合用のバンプの融点がアウターリー
ド接合用端子の接合用金属の融点よりも高いことを特徴
とするバンプ付きTABテープ。
1. A plurality of metal wirings are provided on a base material made of a dielectric film, and a via hole is provided which leads to the metal wirings from a surface of the base material opposite to a surface on which the metal wirings are provided.
TA with bumps in which bumps for joining inner leads and terminals for joining outer leads are provided on a part of the metal wiring.
In the B tape, the melting point of the bump for the inner lead bonding is higher than the melting point of the bonding metal of the terminal for the outer lead bonding, and the TAB tape with bumps.
【請求項2】 前記インナーリード接合用のバンプの融
点が、前記アウターリード接合用端子の接合用金属の融
点よりも、少なくとも50℃高いことを特徴とする請求
項1に記載のバンプ付きTABテープ。
2. The bumped TAB tape according to claim 1, wherein the melting point of the bump for the inner lead bonding is at least 50 ° C. higher than the melting point of the bonding metal of the outer lead bonding terminal. .
【請求項3】 前記インナーリード接合用のバンプが半
田であることを特徴とする請求項1または2記載のバン
プ付きTABテープ。
3. The TAB tape with bumps according to claim 1, wherein the bumps for joining the inner leads are solder.
【請求項4】 前記インナーリード接合用のバンプがボ
ール状であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
1項に記載のバンプ付きTABテープ。
4. The TAB tape with bumps according to claim 1, wherein the bumps for joining the inner leads are ball-shaped.
【請求項5】 前記ビアホールが漏斗状であることを特
徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のバンプ付き
TABテープ。
5. The TAB tape with bumps according to claim 1, wherein the via hole is funnel-shaped.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項記載のバン
プ付きTABテープのアウターリードを基板等へ接合す
るときはリフロー法により接合することを特徴とするバ
ンプ付きTABテープの接合方法。
6. A method of joining a TAB tape with bumps, wherein the outer lead of the TAB tape with bumps according to claim 1 is joined by a reflow method when it is joined to a substrate or the like.
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