JPH07223920A

JPH07223920A - 化粧料

Info

Publication number: JPH07223920A
Application number: JP1744194A
Authority: JP
Inventors: Junsuke Koba; 淳介木場; Junichi Fukazawa; 純一深澤; Yoshitaka Yoda; 好孝余田; Tomohito Kitsuki; 智人木附
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1994-02-14
Filing date: 1994-02-14
Publication date: 1995-08-22

Abstract

(57)【要約】【構成】一般式（１）、（２）、（３）又は（４）で
表わされるカルボキシベタインを含有する化粧料。【化１】（式中、Ａ¹〜Ａ⁴はアルキレン基を示し、Ｒ¹〜Ｒ⁸
はアルキル基、アルケニル基を示す）【効果】この化粧料は、優れた保湿効果を有し、その
効果は汗や水洗等により損なわれにくく、かつ皮膚や毛
髪に対してべとつかず、しっとりとした感触とともに柔
軟性を付与するものであり、特に洗い流して用いるタイ
プのリンス、ボディリンスとして好適である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は化粧料に関し、更に詳し
くは汗や水洗等で保湿効果が損なわれにくく、かつ皮膚
や毛髪に対してべとつかず、しっとりとした感触を付与
する化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、化粧料には皮膚及び毛髪に対する
保護効果を有する各種保湿剤が配合されている。しかし
ながら、これらの保湿剤は汗等の水分に弱く、プール等
で用いたり、リンス、ボディリンス等の洗い流して用い
るタイプの化粧料においては、その本来の効果を充分発
揮できないことが多い。一方、洗い流してもなお皮膚や
毛髪保護効果を充分残存させる目的で保湿剤を多量に配
合すると、べとつき等が生じ使用感が悪くなるという問
題があった。

【０００３】このような欠点が少ない保湿剤としては、
ホスホベタインが知られているが（特開平５−１２４９
２６号公報）、このものも、充分に水分に強く、べとつ
きを生じないというものではなく、満足できるものでは
なかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は汗等の水分に強く、洗い流しても充分な保湿効果を奏
し、かつべとつき等を生ぜず、しっとりとした良好な感
触を与える化粧料を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる状況に鑑み、本発
明者らは鋭意検討した結果、後記一般式（１）〜（４）
で表わされるカルボキシベタインを配合すれば、洗い流
した後も保湿効果が持続し、かつ使用感の良好な化粧料
が得られることを見出し、本発明を完成した。

【０００６】すなわち、本発明は、次の一般式（１）、
（２）、（３）又は（４）

【０００７】

【化５】

【０００８】〔式中、Ａ¹は炭素数２又は炭素数６〜１
５のアルキレン基を示し、Ａ²は炭素数１又は炭素数６
〜１５のアルキレン基を示し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は
異なって、炭素数１〜１５のアルキル基又は炭素数２〜
１５のアルケニル基を示すが、Ａ¹、Ａ²、Ｒ¹及びＲ
²のうち炭素数６以上の基は１つのみである〕

【０００９】

【化６】

【００１０】〔式中、Ａ³は炭素数６〜１５のアルキレ
ン基を示し、Ｒ³及びＲ⁴は同一又は異なって炭素数１
〜５のアルキル基又は炭素数２〜５のアルケニル基を示
す〕

【００１１】

【化７】

【００１２】〔式中、Ｒ⁵は炭素数６〜１５のアルキル
又はアルケニル基を示し、Ｒ⁶は炭素数１〜５のアルキ
ル基又は炭素数２〜５のアルケニル基を示す〕

【００１３】

【化８】

【００１４】〔式中、Ａ⁴は炭素数６〜１５のアルキレ
ン基を示し、Ｒ⁷及びＲ⁸は同一又は異なって、炭素数
１〜５のアルキル基又は炭素数２〜５のアルケニル基を
示す〕で表わされるカルボキシベタインを含有する化粧
料を提供するものである。

【００１５】本発明で用いられるカルボキシベタインは
前記一般式（１）、（２）、（３）又は（４）で表わさ
れるものであるが、（１）式中、Ａ¹及びＡ²の炭素数
６〜１５のアルキレン基の具体例としては、ヘキシレン
基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレ
ン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン
基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基等が挙げられ
る。これらのうち好ましいものとしては炭素数６〜１０
のものであり、更に好ましいのはヘキシレン基である。

【００１６】また（１）式中、Ｒ¹及びＲ²で示される
炭素数１〜１５のアルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、ペンタデシル基が挙げられ、これらは、直鎖
又は分岐鎖の有するものであってもよい。

【００１７】また、（１）式中のＲ¹及びＲ²で示され
る炭素数２〜１５のアルケニル基としては、例えば、エ
テニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル
基、デセニル基、ドデセニル基、ウンデセニル基、トリ
デセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基等が
挙げられ、これらは直鎖又は分岐鎖を有するものであっ
てもよい。

【００１８】また、一般式（１）で表わされるカルボキ
シベタインは、Ａ¹、Ａ²、Ｒ¹及びＲ²のうち炭素数
６以上の基は１つのみであるが、Ａ¹又はＡ²が炭素数
６以上のときは、Ｒ¹及びＲ²の基はメチル基又は／及
びエチル基が特に好ましい。

【００１９】また、（２）式中、Ａ³で示される炭素数
６〜１５のアルキレン基としては、ヘキシレン基、ヘプ
チレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウ
ンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラ
デシレン基、ペンタデシレン基等が挙げられる。これら
のうち好ましいものとしては炭素数６〜１０のものであ
り、更に好ましいのはヘキシレン基である。

【００２０】また、（２）式中、Ｒ³及びＲ⁴で示され
る炭素数１〜５のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、直鎖又は分岐鎖のプロピル、ブチル及びペンチル
基が挙げられ、炭素数２〜５のアルケニル基としては、
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基
が挙げられる。これらのうち、特に炭素数１〜５のアル
キル基が好ましい。

【００２１】（３）式中、Ｒ⁵で示される炭素数６〜１
５のアルキル基としては、例えばヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデ
シル基が挙げられ、これらは直鎖又は分岐鎖を有してい
てもよい。またＲ⁵の炭素数６〜１５のアルケニル基と
しては、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、
ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基、ウンデセニル
基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニ
ル基等が挙げられ、これらは直鎖又は分岐鎖を有するも
のであってもよい。

【００２２】Ｒ⁶の炭素数１〜５のアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、直鎖又は分岐鎖のプロ
ピル、ブチル及びペンチル基が挙げられ、これらは直鎖
又は分岐鎖を有するものであってもよい。またＲ⁶の炭
素数２〜５のアルケニル基としてはエテニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基が挙げられる。これ
らのうち、特に炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。

【００２３】また、（４）式中、Ａ⁴で示される炭素数
６〜１５のアルキレン基としては、ヘキシレン基、ヘプ
チレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウ
ンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラ
デシレン基、ペンタデシレン基等が挙げられる。これら
のうち好ましいものとしては炭素数６〜１０のものであ
り、更に好ましいのはヘキシレン基である。

【００２４】また、（４）式中、Ｒ⁷及びＲ⁸で示され
る炭素数１〜５のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、直鎖又は分岐鎖のプロピル、ブチル及びペンチル
基が挙げられ、炭素数２〜５のアルケニル基としては、
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基
が挙げられる。これらのうち、特に炭素数１〜５のアル
キル基が好ましい。

【００２５】上記一般式（１）〜（４）で表わされるカ
ルボキシベタインは、例えば、下記式の如くアミン化合
物とカルボン酸塩とを反応させることにより製造するこ
とができる。

【００２６】

【化９】

【００２７】〔式中、Ａ¹〜Ａ⁴及びＲ¹〜Ｒ⁸は前記
と同じものを示し、Ｘはハロゲン原子、Ｍは陽イオンを
示す）

【００２８】上記反応式中、Ｘで示されるハロゲン原子
としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原
子が挙げられ、Ｍで示される陽イオンとしては、ナトリ
ウムイオン、カリウムイオン等が挙げられる。

【００２９】上記反応式において、アミン化合物とカル
ボン酸塩との反応は、例えばアミン化合物に対し１〜５
倍モル、好ましくは１〜２倍モルのカルボン酸塩を用
い、不活性溶媒中で２０〜１２０℃、好ましくは４０〜
９０℃の温度で行えばよい。

【００３０】ここで用いる不活性溶媒としては、水、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒又はこ
れらから選ばれる二種以上の混合溶媒が挙げられ、これ
らのうち低級アルコール及び水と低級アルコールとの混
合溶媒が好ましい。

【００３１】反応生成物には、目的物であるカルボキシ
ベタイン（１）〜（４）の他、副生物としての無機塩、
未反応のアミン化合物やカルボン酸塩及び／又はその加
水分解物が含まれている。この反応物中の各成分の割合
は、使用する原料の種類、それらの反応比、使用する溶
媒の種類及び量、反応温度等に依存する。従って、使用
目的によっては反応生成物をそのまま用いることも可能
であるが、更に高純度品が必要とされる場合には、例え
ば、溶媒分別法、イオン交換クロマトグラフィー法、電
気透析法等の公知の精製法によって精製することができ
る。

【００３２】かくして得られるカルボキシベタイン
（１）〜（４）は、本発明化粧料中に０．１〜２０重量
％、特に０．５〜１０重量％配合するのが、べとつか
ず、しっとりするので好ましい。

【００３３】本発明化粧料には、上記カルボキシベタイ
ン（１）〜（４）の他に通常の化粧料に用いられる成
分、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、それ以上のポリエチレン
グリコール類、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコール、それ以上のポリプロピレングリコール類、
１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコ
ール等のブチレングリコール類、グリセリン、ジグリセ
リン、それ以上のポリグリセリン類、ソルビトール、マ
ンニトール、キシリトール、マルチトール等の糖アルコ
ール類、グリセリン類のエチレンオキシド（以下、ＥＯ
と略記）、プロピレンオキシド（以下、ＰＯと略記）付
加物、糖アルコール類のＥＯ、ＰＯ付加物、ガラクトー
ス、グルコース、フルクトース等の単糖類とそのＥＯ、
ＰＯ付加物、マルトース、ラクトース等の多糖類とその
ＥＯ、ＰＯ付加物などの多価アルコール；流動パラフィ
ン、スクワラン、ワセリン、固形パラフィン等の炭化水
素、オリーブ油、ホホバ油、月見草油、ヤシ油、牛脂等
の天然油、イソプロピルミリステート、セチルイソオク
タノエート、ジカプリン酸ネオペンチルグリコールなど
のエステル油、メチルシリコーン、メチルフェニルシリ
コーン等のシリコーン油、イソステアリン酸、オレイン
酸等の高級脂肪酸などの油性成分；ＰＯＥアルキルエー
テル、ＰＯＥ分岐アルキルエーテル、ＰＯＥソルビタン
エステル、ＰＯＥグリセリン脂肪酸エステル、ＰＯＥ硬
化ヒマシ油、ソルビタンエステル、グリセリン脂肪酸エ
ステル、ポリグリセリン脂肪酸エステルなどの界面活性
剤；ビタミン類、トリクロサン、トリクロロカルバン等
の殺菌剤、グリチルリチン酸ジカリウム、酢酸トコフェ
ロール等の抗炎症剤、ジンクピリチオン、オクトピロッ
クス等の抗フケ剤、賦活剤、紫外線吸収剤などの薬剤；
メチルパラベン、ブチルパラベン等の防腐剤、アルキル
アミンオキサイド、脂肪酸アルカノールアミド等の増泡
剤、無機塩類、ポリエチレングリコールステアレート、
エタノール等の粘度調整剤、パール化剤、香料、色素、
酸化防止剤；モンモリナイト、サポナイト、ヘクライ
ト、ビーガム、クニビア、スメクトンなどの水膨潤性粘
土鉱物；カラギーナン、キサンタンガム、アルギン酸ナ
トリウム、プルラン、メチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース等の多糖類、カルボキシビニル
ポリマー、ポリビニルピロリドン等の合成高分子などの
他の高分子；酸化チタン、カオリン、マイカ、セリサイ
ト、亜鉛華、タルク等の体質顔料、ポリメチルメタクリ
ル酸、ナイロンパウダー等の高分子粉体などの顔料等
を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜配合すること
ができる。

【００３４】本発明化粧料は、通常の方法により製造す
ることができ、その剤型は液体状、クリーム状、固型
状、粉末状等任意の剤型とすることができるが、特に液
体状又はクリーム状とすることが好ましい。

【００３５】

【発明の効果】本発明化粧料は、優れた保湿効果を有
し、その効果は汗や水洗等により損なわれにくく、かつ
皮膚や毛髪に対してべとつかず、しっとりとした感触と
ともに柔軟性を付与するものであり、特に洗い流して用
いるタイプのリンス、ボディリンスとして好適である。

【００３６】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが本発明はこれらに限定されるものではない。

【００３７】合成例１反応器にジメチルグリシン塩酸塩５０ｇ（０．３６モ
ル）、水１００ml、エタノール１５０mlを入れた後、４
８％苛性ソーダ水溶液をpH９となるまで加えた。その
後、６０℃に昇温し、１０−クロロデカノール７７ｇ
（０．４０モル）をエタノール１００mlに溶解した溶液
を２時間で滴下した。滴下中、pH９を維持する様に４８
％苛性ソーダ水溶液を適宜加えた。滴下終了後、同温を
保ち５時間攪拌を続けた。反応終了後、減圧下、溶媒及
び未反応１０−クロロデカノールを留去し、残渣を水４
００mlに溶解し、イオン交換クロマトグラフィー（イオ
ン交換樹脂：バイオラッド社製，ＰＡＧ５０１−Ｘ８）
により精製、減圧下溶媒を留去して、Ｎ，Ｎ−ジメチル
−Ｎ−ヒドロキシデシル−グリシン（化合物１）を得た
（収率：７６％）。これを、シリカゲル薄層クロマト
（展開溶媒；クロロホルム／メタノール＝１／１）にか
けると１スポットであった。

【００３８】

【表１】¹H-NMR(D₂O):δ(ppm) 1.21〜1.31(幅広い一重線,12H,c),1.60〜1.95(複雑な多
重線,4H,b+ d),3.14(一重線,6H,f),3.48〜3.70(複雑な
多重線,4H,a+e),3.780(一重線,2H,g).

【００３９】

【化１０】

【００４０】質量分析（ＦＡＢイオン化法） M/Z 260(M+H)⁺ M=C₁₄H₂₉O₃N

【００４１】合成例２反応器に１１−ブロモウンデカン酸ナトリウム２８７．
０ｇ（１．０モル）、水２００ｇ及びエタノール４００
ｇを入れた後、室温でＮ，Ｎ−ジメチルエタノールアミ
ン６２．４ｇ（０．７モル）を１時間かけて滴下した。
滴下後、徐々に昇温し、８０℃で８時間反応させた。反
応終了後、そのままイオン交換クロマトグラフィー（イ
オン交換樹脂；バイオラッド社製，ＡＧ５０１−Ｘ８）
により、精製し、減圧下溶媒を留去して、１−カルボキ
シデシル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メタンアミニウムハイドロオキサイドインナーサル
ト（化合物２）４４．０ｇを得た（単離収率２３％）。
このものはＨＰＬＣ（カラム；島津製作所製，シマヅゲ
ルＳＣＲ１０１Ｎ，溶離液；水，検出器；ＲＩ）純度９
９．７％であった。

【００４２】

【表２】¹H-NMR(D₂O)：δ（ppm）

【００４３】

【化１１】

【００４４】質量分析（FABイオン化法）： M/Z 274(M+H) M=C₁₅H₃₁O₃N

【００４５】合成例３反応容器に、２−（メチルアミノ）エタノール１００ｇ
（１．３４モル）、水８０ｇをいれ、５℃に冷却した。
これにクロロ酢酸ナトリウム１５６ｇ（１．３４モル）
水溶液３００ｇを５０分かけて滴下し、５０℃に昇温
し、９時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却し、イ
ソプロパノール３００ｇを加えた。１６％水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、pH１０にした後、７０℃に昇温し
た。その後、ドデシルブロマイド３３４ｇ（１．３４モ
ル）を１時間３０分かけて滴下し、２０時間熟成した。
反応終了後、減圧下にて溶媒を留去し、クロロホルム５
００ml、メタノール１２５mlを加え、不溶の無機塩等を
濾別した。その後シリカゲルカラム（シリカゲル；メル
ク社製，シリカゲル６０（Ｐａｒｔｉｃｌｅｓｉｚｅ
０．０６３−０．２mm）、溶離液；クロロホルム／メタ
ノール＝４／１）にてＴＬＣ（展開溶媒；クロロホルム
／メタノール＝４／１、Ｒｆ＝３）１スポットになるま
で精製して、１−カルボキシ−Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチル−Ｎ−ドデシルメタンアミニウムハイドロオ
キサイドインナーサルト（化合物３）２６７ｇを得た
（収率６６％）。

【００４６】

【表３】¹H-NMR(D₂O)：δ（ppm） 4.40 0.55 (t,3H,a), 0.90 (broad,18H,b), 1.35 (broad,m,2H,c), 2.85 (s,3H,e), 3.15〜3.40(broad,m,4H,d), 3.50 (s,2H,f), 3.60 (t,2H,g).

【００４７】

【化１２】

【００４８】合成例４反応器に、Ｎ−メチルヘキシルアミン５８ｇ（０．５モ
ル）、エタノール８７ｇ、エチレンクロロヒドリン６０
ｇ（０．８モル）を入れ、６０℃にて１６時間攪拌を行
った。反終品を減圧下溶媒を留去し、残渣をクロロホル
ム１００ｇに溶解し、水洗を３回行い、溶媒を減圧下留
去し、粘稠な液体であるＮ−メチルヘキシル−エタノー
ルアミン６８ｇを得た。次いで、これをエタノール１５
０ｇに溶解し、クロロ酢酸ナトリウム７０ｇ（０．６モ
ル）を水３００ｇに溶解した溶液を加え、６５℃にて２
５時間攪拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残
渣に水５００ｇを加えて溶解し、イオン交換クロマトグ
ラフィー（イオン交換樹脂；バイオラッド社製，ＡＧ５
０１−Ｘ８）により精製し、減圧下、溶媒を留去して、
Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）−グリシン（化合物４）３２ｇ（収率２９％）を得
た。このものは、ＨＰＬＣ（カラム；島津製作所製，シ
マヅゲルＳＣＲ１０１Ｎ，溶離液：水，検出器；ＲＩ）
にて純度９８．１％であった。

【００４９】

【表４】¹H-NMR(D₂O)：δ（ppm） 0.45 (t,3H,a), 0.98 (broad,6H,b), 1.40 (m,2H,c), 2.90 (s,3H,e), 3.05〜3.40(broad,m,4H,d), 3.50 (s,2H,g), 3.65 (t,2H,f).

【００５０】

【化１３】

【００５１】合成例５反応器にジメチルグリシン塩酸塩４１．９ｇ（０．３モ
ル）、エタノール１５０ｇ、４８％苛性ソーダ水溶液５
０ｇを入れ、攪拌還流下に、６−クロロ−１−ヘキサノ
ール５３ｇ（０．３９モル）を２５分で滴下した。滴下
終了後、２．５時間攪拌還流を継続した。反応終了後、
溶媒を減圧留去し、残渣に水５００ｇを加えて溶解し、
イオン交換クロマトグラフィー（イオン交換樹脂；バイ
オラッド社製，ＡＧ５０１−Ｘ８）により精製し、減圧
下、溶媒を留去して、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（６−ヒ
ドロキシヘキシル）−グリシン（化合物５）４４．８ｇ
（収率；７４％）を得た。このものはＨＰＬＣ（カラ
ム；島津製作所製，シマヅゲルＳＣＲ１０１Ｎ，溶離
液；水，検出器；ＲＩ）にて純度９９．１％であった。

【００５２】

【表５】¹H-NMR(D₂O)：δ（ppm） 1.40 (br s,4H,c,d) 1.56 (br s,2H,b) 1.77 (br s,2H,e) 3.21 (s,6H,g), 3.45〜3.65(m,4H,a,f), 3.85 (s,2H,h).

【００５３】

【化１４】

【００５４】実施例１下記表１に示す組成のヘアリンス組成物を調製し、今ま
でにコールドパーマ、ブリーチ等の美容処理を行ったこ
とのない日本人女性パネラー１０人にその性能を評価し
てもらった。すなわちシャンプー後の毛髪に２ｇ塗布し
てなじませたのち、４０℃の流水ですすぎを行い、タオ
ルドライ後ドライヤーで乾燥した後、その性能を評価し
た。結果を表６に示す。（評価基準）（１）柔軟性 ◎：非常に柔らかい。 ○：柔らかい。 △：硬いとも、柔らかいともいえない。 ×：硬い。（２）べとつき感 ◎：べとつかず感触がよい。 ○：べとつかない。 △：どちらともいえない。 ×：べとつく。（３）しっとり感 ◎：非常にしっとりする。 ○：しっとりする。 △：どちらともいえない。 ×：しっとりしない。

【００５５】

【表６】

【００５６】その結果、本発明品はいずれも水で洗い流
した後も毛髪への柔軟性付与効果に優れ、かつべとつか
ず、しっとりした感触が得られるものであり、これらの
効果はホスホベタインを上回るものであった。

【００５７】実施例２下記に示す組成のヘアトリートメントを常法により調製
した。

【表７】（成分）２−ドデシルヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド２ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド２化合物１５ステアリルアルコール５ラノリン３流動パラフィン３ポリペプタイド（コラーゲン加水分解物）５ヒドロキシエチルセルロース（１％水溶液粘度８，０００cp）０．５ポリエチレン（５）オレイルエーテル０．５メチルパラベン０．２香料０．４水バランス合計１００（重量％）

【００５８】このヘアトリートメントは、洗い流した後
も毛髪への柔軟性付与効果に優れ、かつべとつかず、し
っとりした感触が得られるものであった。

【００５９】実施例３以下に示す組成のボディトリートメントを常法により調
製した。

【表８】（成分）２−ヘキシルデシルリン酸アルギニン塩１２−エチルヘキサン酸ジグリセライド２０２−エチルヘキサン酸ネオペンチルグリコール２０化合物２５Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）−イソステアリン酸アミド３オリーブ油３スクワラン３ソルビトール１０ジエチレングリコールモノエチルエーテル１０香料、色素適量水バランス合計１００（重量％）

【００６０】このボディトリートメントは、洗い流した
後も保湿性に優れ、かつべとつかず、しっとりした感触
が得られるものであった。

【００６１】実施例４以下に示す組成のパック化粧料を常法により調製した。

【表９】（成分）ポリビニルアルコール^*1 １２ポリエチレングリコール４０００２ポリオキシエチレンメチルグルコシド（２０ＥＯ付加物^*2）３化合物５５スクワラン３エタノール７．７香料０．５防腐剤適量モノステアリン酸ソルビタン^*3 ０．５モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０ＥＯ付加物^*4）０．２水バランス合計１００（重量％）＊１ゴーセノールＥＧ−３０：日本合成化学工業
（株）＊２グルカムＥ−２０：アマコールコーポレーション＊３レオドールＳＰＳ１０：花王（株）＊４レオドールＴＷＳ１２０：花王（株）

【００６２】このパックは、汗で保湿性が失なわれず、
しかもべとつかず、しっとり感の得られるものであっ
た。

【００６３】実施例５以下に示す処方の化粧水を常法により調製した。

【表１０】（成分）乳酸０．０３乳酸ナトリウム０．８４化合物１５グリセリン２ポリオキシエチレンオレイルエーテル（２０ＥＯ付加物）１エタノール１０香料０．３水バランス合計１００（重量％）

【００６４】この化粧水は汗で保湿性が失なわれず、し
かもべとつかず、しっとり感の得られるものであった。

【００６５】実施例６以下に示す処方の粉末入浴剤を常法により調製した。

【表１１】（成分）炭酸水素ナトリウム６７デキストリン３０化合物３２香料０．５色素０．５合計１００（重量％）

【００６６】この粉末入浴剤は、皮膚に対する保湿効果
に優れ、かつしっとり感の得られるものであった。

【００６７】実施例７以下に示す処方の固型入浴剤を常法により調製した。

【表１２】（成分）炭酸水素ナトリウム３７コハク酸３６デキストリン２５化合物４１．５香料０．５合計１００（重量％）

【００６８】この固型入浴剤は、皮膚に対する保湿効果
に優れ、かつしっとり感の得られるものであった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ａ６１Ｋ 7/50 Ｃ０７Ｃ 229/12 7537−4Ｈ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次の一般式（１）【化１】〔式中、Ａ¹は炭素数２又は炭素数６〜１５のアルキレ
ン基を示し、Ａ²は炭素数１又は炭素数６〜１５のアル
キレン基を示し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって、炭
素数１〜１５のアルキル基又は炭素数２〜１５のアルケ
ニル基を示すが、Ａ¹、Ａ²、Ｒ¹及びＲ²のうち炭素
数６以上の基は１つのみである〕で表わされるカルボキ
シベタインを含有する化粧料。
【請求項２】次の一般式（２）【化２】〔式中、Ａ³は炭素数６〜１５のアルキレン基を示し、
Ｒ³及びＲ⁴は同一又は異なって炭素数１〜５のアルキ
ル基又は炭素数２〜５のアルケニル基を示す〕で表わさ
れるカルボキシベタインを含有する化粧料。
【請求項３】次の一般式（３）【化３】〔式中、Ｒ⁵は炭素数６〜１５のアルキル又はアルケニ
ル基を示し、Ｒ⁶は炭素数１〜５のアルキル基又は炭素
数２〜５のアルケニル基を示す〕で表わされるカルボキ
シベタインを含有する化粧料。
【請求項４】次の一般式（４）【化４】〔式中、Ａ⁴は炭素数６〜１５のアルキレン基を示し、
Ｒ⁷及びＲ⁸は同一又は異なって、炭素数１〜５のアル
キル基又は炭素数２〜５のアルケニル基を示す〕で表わ
されるカルボキシベタインを含有する化粧料。