JPH0721525A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドの製造方法

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JPH0721525A
JPH0721525A JP18941293A JP18941293A JPH0721525A JP H0721525 A JPH0721525 A JP H0721525A JP 18941293 A JP18941293 A JP 18941293A JP 18941293 A JP18941293 A JP 18941293A JP H0721525 A JPH0721525 A JP H0721525A
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JP
Japan
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film
conductor coil
substrate
magnetic
magnetic head
Prior art date
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Pending
Application number
JP18941293A
Other languages
English (en)
Inventor
Takaharu Mizuuchi
崇晴 水内
Shinji Orito
慎二 折戸
Masayuki Takagishi
雅幸 高岸
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RIIDE RAITO S M I KK
Original Assignee
RIIDE RAITO S M I KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 所望の電気的絶縁性及び可撓性を有する厚さ
一定の平坦なシート材の上に導体コイル膜を予めパター
ン形成した導体コイルシートを準備する。基板の上に磁
性膜を形成した後、導体コイルシートを磁性膜を含めて
基板の上に載せ、加熱・加圧して被着させる。 【効果】 薄膜磁気ヘッドの製造工程を大幅に簡略化で
き、量産化を図ることができる。基板と磁性膜との段差
にも拘らず、磁性膜と導体コイル膜との絶縁性が確保さ
れて絶縁破壊電圧を高くでき、かつ所望のコイル幅及び
膜厚が容易に得られるので、信頼性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気ディスク装
置、その他の磁気記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、磁気ディスク装置の高性能化
に伴い、記録密度及び情報転送速度の向上を図るために
薄膜磁気ヘッドが採用されている。一般に、薄膜磁気ヘ
ッドの製造は、電気メッキ、スパッタリング等の堆積技
術、及びホトリソグラフィによる微細加工技術を用いて
行われる。
【0003】図4及び図5には、従来から周知の面内記
録再生用薄膜磁気ヘッドの構造が概略的に示されてい
る。Al23−TiC系のセラミック材料等からなる基
板1には、アルミナ等の絶縁膜2が被着され、その上に
下部磁極を構成する下部磁性膜3が形成されている。下
部磁性膜3の上には、アルミナ等からなるギャップ膜4
が形成され、その上にノボラック樹脂等の有機絶縁樹脂
材料からなる絶縁膜5、6、7、Cu等からなる渦巻状
の導体コイル8、9、及び上部磁性膜10が順次積層さ
れている。更に上部磁性膜10の上には、アルミナ等の
保護膜11がスパッタリング等によって形成されてい
る。このように形成された薄膜磁気ヘッド素子を基板か
ら切り出し、個々のスライダに搭載して薄膜磁気ヘッド
として使用する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来技術によれば、前
記絶縁膜は通例、例えばノボラック樹脂を塗布してソフ
トベークし、フォトマスクを当てて露光し、現像し、熱
処理して硬化させることにより形成される。ノボラック
樹脂は熱による流動性を有しかつベークすることによっ
て収縮するから、第1絶縁膜5は、図6に示されるよう
に、下部磁性膜3と基板1との段差によって、特に下部
磁性膜3の縁端付近の厚さが非常に薄くなる。図7は、
絶縁膜5の厚さが最も薄くなる下部磁性膜3の上端と導
体コイル8との距離Dと絶縁膜の耐電圧との関係を、実
験結果に基づいて線図に表したものである。同図から、
この実験では距離Dが1μm以下になると、耐電圧が急
激に低下したことが容易に理解される。このように、第
1絶縁膜5の上に形成された第1導体コイル8と下部磁
性膜3とがその縁端部分で接近し過ぎると、十分な絶縁
性が維持されずに磁極コイル間の絶縁抵抗や絶縁破壊電
圧が低下し、薄膜ヘッドによる情報の記録再生が正常に
行われない虞があるという問題があった。
【0005】また、第1絶縁膜5全体をより厚く形成す
れば、下部磁性膜3の周縁付近における第1絶縁膜5の
膜厚を十分に確保できるが、上部磁性膜10の先端部分
の立ち上がり角度が非常に急になるため、その上に形成
される保護層11の内部応力が大きくなってクラック等
が発生し、信頼性を低下させる虞れがあった。
【0006】そこで、請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法は、上述した従来技術の問題点に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、比較的簡単な
工程により、基板と磁性膜との段差にも拘らず磁性膜の
縁端部分に於いても、その上に形成される絶縁膜の膜厚
を、保護層にクラック等を発生させることなく十分に確
保して、磁性膜と導体コイル膜との間に良好な絶縁性を
保障することができ、絶縁破壊電圧を高くして、信頼性
を向上させることができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を
提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した目的
を達成するためのものであり、請求項1記載の薄膜磁気
ヘッドの製造方法は、基板の上に形成された磁性膜と、
その上に絶縁膜を介して形成された導体コイル膜とから
なる磁気回路を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、所望の
電気的絶縁性及び可撓性を有する厚さ一定のシート材の
上に導体コイル膜を予めパターン形成し、かかるシート
材を磁性膜を含めて基板の上に被着させることを特徴と
する。
【0008】
【作用】従って、請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造
方法によれば、予め導体コイル膜を形成したシート材
を、下部磁性層を含めて基板の上に被着させることによ
って、一様な膜厚の絶縁膜と所望の幅及び厚さの導体コ
イル膜とを、一度の工程によって簡単にかつ正確に位置
決めして形成することができる。
【0009】
【実施例】以下に、添付図面を参照しつつ実施例を用い
て本発明を詳細に説明する。
【0010】先ず、本発明に使用するための図1に示さ
れるような導体コイルシート12を準備する。導体コイ
ルシート12は、例えば半導体装置のTAB技術に用い
られるポリイミド樹脂のような十分な絶縁性及び可撓性
を備えた合成樹脂材料からなる均一な厚さのシート状基
体13を有する。基体13の上には、Cu等からなる渦
巻状の導体コイル膜8が、従来のホトリソグラフィ技術
を用いてパターン形成されている。即ち、平坦に置かれ
た基体13の上にスパッタリングによりCu/Ti等の
下地コイル導体層を被覆した後、その上にフォトレジス
トを塗布しかつフォトマスクを用いて感光パターンを形
成し、除去したレジスト部分に電気メッキによって導体
コイル8を形成する。このとき、前記フォトマスクの露
光焦点を1点にできるので、導体コイルを所望の幅、膜
厚に形成することができる。また、この導体コイルシー
トは、1枚の大きなシートの上に多数の導体コイル膜8
を一度に形成しておき、薄膜磁気ヘッドの製造時に適当
な大きさに切断して使用することができる。
【0011】次に、図1の導体コイルシート12を用い
て面内記録再生用薄膜磁気ヘッドを製造する工程を説明
する。図2に示すように、基板1には、アルミナ等の絶
縁膜2を被着した後、下部磁性膜3がホトリソグラフィ
を用いた通常の手法によってパターン形成されている。
下部磁性膜3を含む基板1の上には、下部磁極と上部磁
極とのギャップを画定するためのギャップ膜4が形成さ
れている。
【0012】この上に、所定の寸法・形状に切断した導
体コイルシート12を、導体コイル8の位置を下部磁性
膜3に整合させて所定の位置に載置する。そして、例え
ばドライラミネータ等の適当な器具を用いて、導体コイ
ルシート12を上から熱及び圧力を加えることによっ
て、図3に示すように基板上に被着させる。この導体コ
イルシート12の被着作業は、例えば約140℃の温度
及び3atm/cm2の圧力を用いて容易に行うことができ
る。
【0013】これにより、従来技術のように、ノボラッ
ク樹脂等の有機絶縁樹脂を塗布してソフトベークし、フ
ォトマスクを当てて露光・現像し、熱処理して硬化させ
ることにより有機絶縁膜を形成する面倒な工程を省略し
て、一度の工程で容易に所望の絶縁膜が得られる。しか
も、上述したように導体コイルシート12の基体13が
一定の厚さを有するので、下部磁性膜3と導体コイル8
との間に常に一定の厚さの絶縁層を維持することがで
き、従って下部磁性膜3の縁端部分に於いても十分な絶
縁性を確保することができる。また、基体13の厚さ
は、要求される薄膜磁気ヘッドの仕様、性能、絶縁破壊
電圧等の条件に応じて適当に選択することができる。
【0014】再び図2に示すように、導体コイル8の上
には、従来の方法によりノボラック樹脂等の有機絶縁樹
脂を塗布しかつ熱処理して絶縁膜6を形成する。絶縁膜
6の上には、必要に応じて第2導体コイルを、同じく導
体コイルシートを用いて形成することができる。そし
て、前記第2導体コイルの上に絶縁膜、上部磁性膜、保
護層を順次積層することによって、薄膜磁気ヘッドが完
成する。
【0015】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、その技術的範囲内に於いて様々な変形・変更
を加えて実施することができる。例えば、本発明は、垂
直記録再生用薄膜磁気ヘッドや他の箔状コイルを使用す
る様々な装置・器具・手段について同様に適用すること
ができる。また、導体コイルシートを構成する基体の材
料として、所望の絶縁性、可撓性が得られる限り、他の
様々な材料を使用できることは、当業者にとって明らか
である。
【0016】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ので、以下に記載されるような効果を奏する。
【0017】請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法
によれば、予め導体コイル膜をパターン形成したシート
材を基板の上に被着することによって、絶縁膜と導体コ
イル膜とを一度の工程で形成できるので、薄膜磁気ヘッ
ドの製造工程を大幅に簡略化できると共に、1枚のシー
トに多数の導体コイル膜を一度に形成できるので、同時
に薄膜磁気ヘッドの量産化を図ることができる。しか
も、基板と磁性膜との段差にも拘らず、絶縁層を均一な
厚さに形成できるので、磁性膜と導体コイル膜との絶縁
性が確保され、絶縁破壊電圧を高くできる。更に、導体
コイルが平坦なシート状基体の上に成膜されるので、所
望のコイル幅及び膜厚が容易に得られ、信頼性の向上を
達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に使用する導体コイルシートを示す平面
図である。
【図2】本発明による導体コイルの形成方法を示す斜視
図である。
【図3】図2のIII−III線に於ける断面図である。
【図4】従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す概略斜視図
である。
【図5】図4に示す薄膜磁気ヘッドの縦断面図である。
【図6】図4のVI−VI線に於ける断面図である。
【図7】下部磁性膜の上端と導体コイル間の距離Dと絶
縁膜の耐電圧との関係を表す線図である。
【符号の説明】
1 基板 2 絶縁膜 3 下部磁性膜 4 ギャップ膜 5、6、7 絶縁膜 8、9 導体コイル 10 上部磁性膜 11 保護層 12 導体コイルシート

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の上に形成された磁性膜と、その上
    に絶縁膜を介して形成された導体コイル膜とからなる磁
    気回路を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、 所望の電気的絶縁性及び可撓性を有しかつその上に前記
    導体コイル膜を形成した厚さ一定のシート材を、前記磁
    性膜を含めて前記基板の上に被着させる過程からなるこ
    とを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
JP18941293A 1993-06-30 1993-06-30 薄膜磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH0721525A (ja)

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