JPH07211764A - レーザ応用装置 - Google Patents

レーザ応用装置

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JPH07211764A
JPH07211764A JP6020026A JP2002694A JPH07211764A JP H07211764 A JPH07211764 A JP H07211764A JP 6020026 A JP6020026 A JP 6020026A JP 2002694 A JP2002694 A JP 2002694A JP H07211764 A JPH07211764 A JP H07211764A
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JP
Japan
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laser
wafer cassette
area
door
wafer
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Application number
JP6020026A
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English (en)
Inventor
Hiromasa Shibata
浩匡 柴田
Tatsuhiro Tsuda
樹宏 津田
Joji Iwamoto
譲治 岩本
Ikuo Hikima
郁雄 引間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、レーザ応用装置において、レーザ装
置本体でレーザ照射対象が処理中でも、作業者に対する
レーザ安全性を損なうことなく他のレーザ照射対象を交
換してスループツトを向上する。 【構成】レーザ装置本体が配置され遮光手段で周囲に対
して遮光される第1の領域と、その第1の領域の外部で
レーザ光に対する安全が確保された第2の領域との間
に、レーザ照射対象が一旦収納され第1の領域との間を
開閉する第1の扉手段及び第2の領域との間を開閉する
第2の扉手段を有する第3の領域を少なくとも2以上設
けるようにしたことにより、レーザ装置本体でレーザ照
射対象が処理中でも、作業者に対するレーザ安全性を損
なうことなく他の第3の領域に配置されたレーザ照射対
象を交換し得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ応用装置に関し、
例えばレーザ強度の強いレーザ光を使用するものに適用
して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザ光を使用するレーザ応用装
置として、レーザリペア装置や微小寸法測定装置等のレ
ーザ使用の半導体製造装置あるいは計測装置において、
作業者に対するレーザ光の安全対策の要求が高まつてい
る。例えばこの種のレーザ応用装置として、ウエハに対
するレーザリペア装置等は、図5に示すように、構成さ
れている。すなわちこの図は、レーザ応用装置を上から
見たもので、ウエハ処理部(図示せず)を有する装置本
体1が、作業者が作業するC領域に対して、光学的に完
全に遮蔽されたカバー2の内部、すなわちB領域に配置
されている。この装置本体1は、直接又は間接的に人体
に照射されると危険なレベルの加工用又は計測用レーザ
光源3を有する。
【0003】また装置本体1は、ウエハ搬送装置4を備
えている。このウエハ搬送装置4には、2台のウエハカ
セツト載置台5a、5bが搭載されている。またウエハ
搬送装置4は、ウエハ交換アーム6a、6bを有し、ウ
エハカセツト載置台5a、5b上に置かれたウエハカセ
ツト7a、7bと装置本体1の間でウエハ8a、8bを
受け渡す。カバー2のウエハカセツト載置台5a、5b
付近には、ウエハカセツト交換扉9a、9bが配置され
ている。作業者はこのウエハカセツト交換扉9a、9b
を開閉することにより、処理済のウエハ8a、8bが収
納されたウエハカセツト7a、7bを取り出し、未処理
のウエハ8a、8bが収納されたウエハカセツト7a、
7bと交換する。
【0004】ウエハカセツト交換扉9a、9bは、閉じ
た状態でカバー2内部のB領域のレーザ光を外部のC領
域に対して完全に遮光する構造になつている。またウエ
ハカセツト交換扉9a、9bには、インターロツクスイ
ツチ10a、10bが設けられ、ウエハカセツト7a、
7bのいずれかを交換しようとして、ウエハカセツト交
換扉9a又は9bを開けようとすると、インターロツク
スイツチ10a又は10bが作動して、レーザ光源3に
内蔵されたシヤツタが閉じたり電源をオフしたりして、
レーザ照射が止まるようになされている。図6は、上述
したレーザ応用装置でのレーザ照射領域を斜線で示した
ものである。このようにカバー2内部全域でなるB領域
がレーザ照射領域となつている。従つてウエハ処理中
は、レーザ安全上ウエハカセツト交換扉9a、9bを開
けることができない。
【0005】またレーザ応用装置としては、図5との対
応部分に同一符号を付した図7に示すように構成された
ものがある。すなわちこのレーザ応用装置の場合ウエハ
カセツト交換扉19a、19bに、インターロツクスイ
ツチ20a、20bに加えて、扉ロツク機構11が設け
られ、これによりレーザ光が照射されている時にはイン
ターロツクスイツチ10a、10bが作動して扉ロツク
機構11が働き、ウエハカセツト交換扉9a、9bが開
けられないようになされ、作業者に対するレーザ安全を
確保し得るようになされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが上述したよう
な従来のレーザ応用装置として、図5のレーザ応用装置
においては、ウエハカセツト7aが処理中の時間、処理
済ウエハカセツト7bを交換しようとしてウエハカセツ
ト交換扉9a又は9bを開けると、レーザ安全のための
インターロツクスイツチ10a又は10bが作動して、
レーザ光源3に内蔵されたシヤツタを閉じたり電源をオ
フにするため、ウエハカセツト7aの処理が中断される
のみならず再開できなくなるおそれがあつた。
【0007】また図7のレーザ応用装置では、ウエハカ
セツト17aが処理中、すなわちレーザ照射中は、扉ロ
ツク機構21が働いてウエハカセツト交換扉19a及び
19bが開かず、処理中のウエハカセツト17aの処理
が終わり、ウエハカセツト交換扉19a、19bが開閉
可能な状態にならないと、処理済ウエハカセツト17b
を交換できない問題があつた。いずれの場合でも、処理
中のウエハカセツトの処理が終了するまでは、次のウエ
ハカセツトを挿入できず、従つてウエハカセツトの交換
効率が著しく低く、スループツトが悪いという問題があ
つた。
【0008】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、レーザ装置本体でレーザ照射対象が処理中でも、作
業者に対するレーザ安全性を損なうことなく他のレーザ
照射対象を交換してスループツトを向上し得るレーザ応
用装置を提案しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、レーザ光を使用するレーザ装置本
体1が配置され、そのレーザ装置本体1の周囲に遮光手
段2が配置されて、周囲に対して遮光される第1の領域
Bと、その第1の領域Bの外部で、作業者がレーザ光に
対する安全を確保した状態で作業し得る第2の領域C
と、第1及び第2の領域B及びC間に配置されると共に
レーザ照射対象7、8が一旦収納され、第1の領域Bと
の間を開閉する第1の扉手段22及び第2の領域Cとの
間を開閉する第2の扉手段19を有する少なくとも2つ
の第3の領域Aとを設けるようにした。
【0010】
【作用】レーザ装置本体が配置され、遮光手段2で周囲
に対して遮光される第1の領域Bと、その第1の領域B
の外部でレーザ光に対する安全が確保された第2の領域
Cとの間に、レーザ照射対象7、8が一旦収納され第1
の領域Bとの間を開閉する第1の扉手段22及び第2の
領域Cとの間を開閉する第2の扉手段19を有する第3
の領域Aを設けるようにしたことにより、レーザ装置本
体1でレーザ照射対象7、8が処理中でも、作業者に対
するレーザ安全を損なうことなく他の第3の領域Aに配
置されたレーザ照射対象7、8を交換し得る。
【0011】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
【0012】図5〜図7との対応部分に同一符号を付し
た図1は全体として本発明によるレーザ応用装置を示
し、この場合もウエハカセツト交換扉19a、19b
に、インターロツクスイツチ20a、20b及び扉ロツ
ク機構21a、21bが取り付けられている。
【0013】またこのレーザ応用装置においては、ウエ
ハ搬送装置4でウエハカセツト載置台5a、5bとウエ
ハ交換アーム6a、6bとの間に、開閉可能なシヤツタ
機構22a、22bが配置されている。このシヤツタ機
構22a、22bを閉じると共にウエハカセツト交換扉
19a、19bを閉じることにより、C領域とB領域の
間に光学的に完全に遮蔽された2つのA領域が形成され
る。なおこのシヤツタ機構22a、22bは、対応する
ウエハカセツト交換扉19a、19bが閉じている場合
のみ、開くことが可能なようになされている。
【0014】さらにこのレーザ応用装置では、ウエハカ
セツト7a、7bの処理終了を表す表示ランプ23a、
23bと、扉ロツク機構21a、21bのロツクを解除
するウエハカセツト処理完了スイツチ24a、24b
と、ウエハカセツト7a、7bの交換が完了したことを
入力するウエハカセツト交換完了スイツチ25a、25
bが、ウエハカセツト交換扉19a、19bの周辺部に
それぞれ並んで配置されている。
【0015】以上の構成を図2を用いて説明する。図2
は扉の制御系を示すブロツク図である。例えばカバー2
内部のうち例えば一方のウエハカセツト7bの処理が終
了したら、主制御装置(図示せず)は表示ランプ23b
を点灯する。作業者はウエハカセツト交換扉19bに並
んで配置された表示ランプ23bの点灯によりウエハ処
理終了を知り、当該表示ランプ23bに並んで配された
ウエハカセツト処理完了スイツチ24bを押す。このス
イツチ24bからの信号は扉制御装置26に入力され、
これにより扉ロツク機構21aが解除になり、ウエハカ
セツト交換扉19bが開閉可能になる。それと同時にシ
ヤツタ機構22bが閉状態になつて、レーザ光がA領域
に照射されなくなる。従つて他のウエハカセツト7aの
処理を中断することなく、処理済ウエハカセツト37b
を交換することができる。
【0016】また未処理のウエハカセツト7bを挿入
後、ウエハカセツト交換扉19bを閉じて、ウエハカセ
ツト交換完了スイツチ25bを押すと、このスイツチ2
5bからの信号が扉制御装置26に入力され、これによ
りシヤツタ機構22bが開き、同時に扉ロツク機構21
bがロツク状態になる。これでこのウエハカセツト7b
の処理が可能な状態になる。またウエハ8bの処理中
は、シヤツタ機構22bが開いているのでA領域にレー
ザ光が入つてくるが、扉ロツク機構21bがロツク状態
のため、作業者が誤つてウエハカセツト交換扉19bを
開けてレーザを浴びるおそれを未然に回避することがで
きる。また万一誤つてウエハ交換扉19bが開いてしま
つた場合には、インターロツクスイツチ20bが働ら
き、レーザ照射が止まるようになされ、これにより作業
者の安全が二重に確保されている。
【0017】図3には、このレーザ応用装置において、
ウエハカセツト7bの交換時にレーザ光が照射される領
域を斜線で示し、このようにウエハカセツト載置台5b
を含む領域は、レーザ照射領域になつていない。従つて
一方のウエハ8aの処理中でも、レーザ安全を確保した
状態で他方のウエハカセツト交換扉19bを開けること
ができる。
【0018】以上の構成によれば、レーザ装置本体1が
配置されカバー2で周囲に対して遮光されるB領域と、
そのB領域の外部でレーザ光に対する安全が確保された
C領域との間に、ウエハカセツト7が一旦収納されB領
域との間を開閉するシヤツタ機構22及びC領域との間
を開閉するウエハカセツト交換扉19を有するA領域を
設けるようにしたことにより、レーザ装置本体1で一方
のウエハカセツト7aが処理中でも、作業者に対するレ
ーザ安全性を損なうことなく他のA領域に配置された他
方のウエハカセツト7bを交換し得、かくしてウエハカ
セツト7のレーザ処理について、スループツトを格段的
に向上し得るレーザ応用装置を実現できる。
【0019】なお上述の実施例においては、ウエハカセ
ツトを2つ使用するレーザ応用装置について述べたが、
ウエハカセツトの数は3つ以上でも、全く同じように構
成可能である。すなわち図1との対応部分に同一符号を
付した図4は3カセツトの例である。このレーザ応用装
置において、ウエハ搬送装置4には、3台のウエハカセ
ツト載置台5a、5b、5cが搭載されている。またウ
エハ搬送装置4は、ウエハ交換アーム6a、6b、6c
を有しており、ウエハカセツト載置台5a、5b、5c
上に置かれたウエハカセツト7a、7b、7cと装置本
体1の間でウエハ8a、8b、8cをやりとりする。カ
バー2のウエハカセツト載置台5a、5b、5c付近に
は、ウエハカセツト交換扉19a、19b、19cと、
ウエハ処理完了の表示ランプ(図示せず)、ウエハカセ
ツト交換扉開スイツチ(図示せず)及びウエハカセツト
交換完了スイツチ(図示せず))がそれぞれ配置されん
いる。
【0020】作業者はウエハカセツト交換扉開スイツチ
を押して、このウエハカセツト交換扉19a、19b、
19cを開閉することにより、未処理のウエハカセツト
7を入れ、処理済のウエハカセツトを取り出す。カセツ
ト交換扉19a、19b、19cは、閉じた状態ではカ
バー2内部、すなわちB領域のレーザ光を外部のC領域
に対して完全に遮光する構造になつている。
【0021】またウエハカセツト交換扉19a、19
b、19cには、インターロツクスイツチ20a、20
b、20cがついており、ウエハカセツト7a、7b、
7cのいずれかを交換しようとしてウエハカセツト交換
扉19a、19b又は19cを開けようとすると、イン
ターロツクスイツチ20a、20b又は20cが作動し
て、レーザ電源(図示せず)が落ち、レーザ光源3のレ
ーザ照射が止まるようになされている。このようにウエ
ハカセツト交換扉が3個以上の場合でも、全く同様に作
業者の安全を確保しつつウエハカセツト交換を効率良く
行うことができる。
【0022】また上述の実施例においては、本発明をウ
エハカセツトに対して所定の処理を行うレーザ応用装置
に適用した場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、レーザ光を使用して、マスクや液晶基板等の種々の
照射対象物を加工したり検査、測定するレーザ加工装
置、レーザ検査測定装置等に対して広く適用して好適な
ものである。
【0023】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、レーザ装
置本体が配置され遮光手段で周囲に対して遮光される第
1の領域と、その第1の領域の外部でレーザ光に対する
安全が確保された第2の領域との間に、レーザ照射対象
が一旦収納され第1の領域との間を開閉する第1の扉手
段及び第2の領域との間を開閉する第2の扉手段を有す
る第3の領域を少なくとも2つ設けるようにしたことに
より、レーザ装置本体でレーザ照射対象が処理中でも、
作業者に対するレーザ安全性を損なうことなく他の第3
の領域に配置されたレーザ照射対象を交換し得、かくし
てスループツトを格段的に向上し得るレーザ応用装置を
実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるレーザ応用装置の一実施例の構成
を上方より見て示す略線的平面図である。
【図2】図1のレーザ応用装置における扉の制御系の説
明に供するブロツク図である。
【図3】図1のレーザ応用装置におけるレーザ照射領域
に斜線を付して示す略線的平面図である。
【図4】本発明によるレーザ応用装置に他の実施例の構
成を上方より見て示す略線的平面図である。
【図5】従来のレーザ応用装置の構成を上方より見て示
す略線的平面図である。
【図6】図4のレーザ応用装置におけるレーザ照射領域
に斜線を付して示す略線的平面図である。
【図7】従来の他のレーザ応用装置の構成を上方より見
て示す略線的平面図である。
【符号の説明】
1……装置本体、2……カバー、3……レーザ光源、4
……ウエハ搬送装置、5a、5b、5c……ウエハカセ
ツト載置台、6a、6b、6c……ウエハ交換アーム、
7a、7b、7c……ウエハカセツト、8a、8b、8
c……ウエハ、9a、19a、9b、19b、19c…
…ウエハカセツト交換扉、10a、20a、10b、2
0b、20c……インターロツクスイツチ、11、21
a、21b、21c……扉ロツク機構、22a、22
b、22c……シヤツタ機構、23a、23b……表示
ランプ、24a、24b……ウエハカセツト処理完了ス
イツチ、25a、25b……ウエハカセツト交換完了ス
イツチ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 引間 郁雄 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号株式 会社ニコン内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ光を使用するレーザ装置本体が配置
    され、該レーザ装置本体の周囲に遮光手段が配置され
    て、周囲に対して遮光される第1の領域と、 該第1の領域の外部で、作業者が前記レーザ光に対する
    安全を確保した状態で作業し得る第2の領域と、 前記第1及び第2の領域間に配置されると共にレーザ照
    射対象が一旦収納され、前記第1の領域との間を開閉す
    る第1の扉手段及び前記第2の領域との間を開閉する第
    2の扉手段を有する少なくとも2つの第3の領域とを具
    えることを特徴とするレーザ応用装置。
  2. 【請求項2】前記第2の扉手段が閉じている場合に、前
    記第1の扉手段を開くことを可能とし、前記第1の扉手
    段が閉じている場合に、前記第2の扉手段を開くことを
    可能とする扉制御手段を具え、前記第1の扉手段を介し
    て前記レーザ照射対象を前記レーザ装置本体と前記第3
    の領域との間で受け渡し、前記第2の扉手段を介して前
    記レーザ照射対象を交換することを特徴とする請求項1
    に記載のレーザ応用装置。
  3. 【請求項3】該第2の扉手段の開閉を制限する扉ロツク
    手段と、 前記第1の扉手段が開いている場合に前記第2の扉手段
    が開いた際、前記レーザ光の射出を中止するレーザ制御
    手段とを具えることを特徴とする請求項1又は請求項2
    に記載のレーザ応用装置。
JP6020026A 1994-01-20 1994-01-20 レーザ応用装置 Pending JPH07211764A (ja)

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JP6020026A JPH07211764A (ja) 1994-01-20 1994-01-20 レーザ応用装置

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008526020A (ja) * 2004-12-23 2008-07-17 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 基板をシーケンスする方法
JP2017209687A (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 株式会社リコー 光加工装置
JP2020077737A (ja) * 2018-11-07 2020-05-21 株式会社ディスコ カセット載置機構
JP2020136291A (ja) * 2019-02-12 2020-08-31 芝浦メカトロニクス株式会社 トレイ搬送装置及び実装装置
WO2023233597A1 (ja) * 2022-06-01 2023-12-07 株式会社日立ハイテク 基板搬送装置

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