JPH07209511A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH07209511A JPH07209511A JP141594A JP141594A JPH07209511A JP H07209511 A JPH07209511 A JP H07209511A JP 141594 A JP141594 A JP 141594A JP 141594 A JP141594 A JP 141594A JP H07209511 A JPH07209511 A JP H07209511A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 着色層形成の際に、着色層が形成されていな
いパターン間或いは着色層上に、着色層レジストの現像
残査が残ることによる着色層の透過率の低下等を防止す
ることを目的とする。 【構成】 本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明
基板上に透明レジスト層，着色レジスト層を形成し、露
光現像をして、透明樹脂層と着色樹脂層の２層からなる
着色層を形成する工程を含む。
いパターン間或いは着色層上に、着色層レジストの現像
残査が残ることによる着色層の透過率の低下等を防止す
ることを目的とする。 【構成】 本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明
基板上に透明レジスト層，着色レジスト層を形成し、露
光現像をして、透明樹脂層と着色樹脂層の２層からなる
着色層を形成する工程を含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置等に用い
るカラーフィルタの製造方法に関する。
るカラーフィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、カラーフィルタは図８に示すよ
うな構造をしており、透明基板１２上に黒の着色層であ
る黒色樹脂からなるブラックマトリクス１５が設けら
れ、このブラックマトリクス１５の間を埋めるように、
印刷法，顔料分散法等によりＲ，Ｇ，Ｂの着色層１６が
設けられている。そして、この着色層１６上には透明電
極１７，配向膜１８が順次形成されている。
うな構造をしており、透明基板１２上に黒の着色層であ
る黒色樹脂からなるブラックマトリクス１５が設けら
れ、このブラックマトリクス１５の間を埋めるように、
印刷法，顔料分散法等によりＲ，Ｇ，Ｂの着色層１６が
設けられている。そして、この着色層１６上には透明電
極１７，配向膜１８が順次形成されている。
【０００３】従来、透明基板１２上の着色層例えば黒色
樹脂からなるブラックマトリクス１５は、以下のように
形成されていた。図９（ａ）に示すように、まず、透明
基板上１２に、カーボンブラック等の黒色顔料を含むネ
ガ型レジスト（以下、黒色レジスト）を塗布後乾燥して
黒色レジスト層１５ａを形成し、この黒色レジスト層１
５ａ上に、酸素遮断膜１９としてポリビニルアルコール
を塗布し、乾燥する。その後、露光した部分がブラック
マトリクス１５として基板上に残るように設計されたフ
ォトマスク２１を、酸素遮断膜１９側に配置して露光
し、図９（ｂ）に示すように、現像してブラックマトリ
クス１５を得る。その後、水洗浄を行ない、着色層形成
工程にはいる。
樹脂からなるブラックマトリクス１５は、以下のように
形成されていた。図９（ａ）に示すように、まず、透明
基板上１２に、カーボンブラック等の黒色顔料を含むネ
ガ型レジスト（以下、黒色レジスト）を塗布後乾燥して
黒色レジスト層１５ａを形成し、この黒色レジスト層１
５ａ上に、酸素遮断膜１９としてポリビニルアルコール
を塗布し、乾燥する。その後、露光した部分がブラック
マトリクス１５として基板上に残るように設計されたフ
ォトマスク２１を、酸素遮断膜１９側に配置して露光
し、図９（ｂ）に示すように、現像してブラックマトリ
クス１５を得る。その後、水洗浄を行ない、着色層形成
工程にはいる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような黒色樹脂を
フォトリソ法によりパターニングして透明基板上に、黒
の着色層であるブラックマトリクスを形成する工程を含
むカラーフィルタの製造方法には、以下のような問題が
あった。
フォトリソ法によりパターニングして透明基板上に、黒
の着色層であるブラックマトリクスを形成する工程を含
むカラーフィルタの製造方法には、以下のような問題が
あった。
【０００５】露光，現像工程後では、ブラックマトリク
スのパターン間の透明基板部分、即ち次工程で着色層を
形成する透明基板部分に黒色レジストの現像残渣が付着
し、次工程の着色層の形成時の着色層の剥がれの原因と
なったり、液晶表示素子としたときの着色層部分の透過
率の低下の原因となっていた。
スのパターン間の透明基板部分、即ち次工程で着色層を
形成する透明基板部分に黒色レジストの現像残渣が付着
し、次工程の着色層の形成時の着色層の剥がれの原因と
なったり、液晶表示素子としたときの着色層部分の透過
率の低下の原因となっていた。
【０００６】このような問題を解決するために、現像後
のスポンジを用いて基板をこすって洗浄する水洗浄にお
いて、現像後の黒色樹脂の現像残査を落とすために過剰
な摩擦を伴いながらスポンジで基板をこすって洗浄して
いた。しかし、この方法では、ブラックマトリクスのパ
ターン間に残った黒色樹脂は完全にとり除くことはでき
るが、ブラックマトリクスに傷がつく、ブラックマトリ
クスの一部が削り取れるというような欠点があり、これ
らが液晶表示素子としたときの光り漏れによる白欠陥の
原因となっていた。
のスポンジを用いて基板をこすって洗浄する水洗浄にお
いて、現像後の黒色樹脂の現像残査を落とすために過剰
な摩擦を伴いながらスポンジで基板をこすって洗浄して
いた。しかし、この方法では、ブラックマトリクスのパ
ターン間に残った黒色樹脂は完全にとり除くことはでき
るが、ブラックマトリクスに傷がつく、ブラックマトリ
クスの一部が削り取れるというような欠点があり、これ
らが液晶表示素子としたときの光り漏れによる白欠陥の
原因となっていた。
【０００７】また、フォトリソ法によりＲ，Ｇ，Ｂの着
色層を形成する際にも、透明基板上或いは着色層上の現
像工程で除去しきれなかった着色顔料を含むレジスト
（以下、着色レジスト）によって、次工程に形成する着
色層の剥がれが起きたり、着色レジスト層の現像残渣上
に別の色の着色層が衛生されると点欠陥各着色層に求め
られる分光特性が得られないという不都合があった。
色層を形成する際にも、透明基板上或いは着色層上の現
像工程で除去しきれなかった着色顔料を含むレジスト
（以下、着色レジスト）によって、次工程に形成する着
色層の剥がれが起きたり、着色レジスト層の現像残渣上
に別の色の着色層が衛生されると点欠陥各着色層に求め
られる分光特性が得られないという不都合があった。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、着色層形成の際に、着色層が形成されていないパタ
ーン間或いは着色層上に、着色層レジストの現像残査が
残らないカラーフィルタの製造方法を提供するものであ
る。
で、着色層形成の際に、着色層が形成されていないパタ
ーン間或いは着色層上に、着色層レジストの現像残査が
残らないカラーフィルタの製造方法を提供するものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、透明基板上に透明レジストを塗布後乾燥
して透明レジスト層を形成する工程と、前記透明レジス
ト層上に着色レジストを塗布後乾燥して着色レジスト層
を形成する工程と、前記着色レジスト層側または透明基
板側の少なくともどちらかにフォトマスクを配置し、露
光現像をして、透明樹脂層と着色樹脂層の２層からなる
着色層を形成する工程を含む。
の製造方法は、透明基板上に透明レジストを塗布後乾燥
して透明レジスト層を形成する工程と、前記透明レジス
ト層上に着色レジストを塗布後乾燥して着色レジスト層
を形成する工程と、前記着色レジスト層側または透明基
板側の少なくともどちらかにフォトマスクを配置し、露
光現像をして、透明樹脂層と着色樹脂層の２層からなる
着色層を形成する工程を含む。
【００１０】
【作用】本発明は透明レジストを介して着色レジストを
透明基板上あるいは着色層上に塗布するので、現像時に
は、着色レジストは完全に透明レジストととも除去され
る。尚、この場合、透明レジストが仮に現像残渣として
残っても透明であるため光透過率を低下させることはな
い。
透明基板上あるいは着色層上に塗布するので、現像時に
は、着色レジストは完全に透明レジストととも除去され
る。尚、この場合、透明レジストが仮に現像残渣として
残っても透明であるため光透過率を低下させることはな
い。
【００１１】
（実施例１）本発明の製造方法により製造したカラーフ
ィルタの一実施例を以下に示す。図１に示すように、本
実施例のカラーフィルタ１１は、透明基板上１２に透明
樹脂層１３と黒色樹脂層１４の２層からなる黒の着色層
であるブラックマトリクス１５が形成され、このブラッ
クマトリクス１５の間を埋めるように着色層Ｒ（赤）１
６ａ，着色層Ｇ（緑）１６ｂ，着色層Ｂ（青）１６ｃが
設けられ、着色層１６上に順次、透明電極１７、配向膜
１８が形成されている。
ィルタの一実施例を以下に示す。図１に示すように、本
実施例のカラーフィルタ１１は、透明基板上１２に透明
樹脂層１３と黒色樹脂層１４の２層からなる黒の着色層
であるブラックマトリクス１５が形成され、このブラッ
クマトリクス１５の間を埋めるように着色層Ｒ（赤）１
６ａ，着色層Ｇ（緑）１６ｂ，着色層Ｂ（青）１６ｃが
設けられ、着色層１６上に順次、透明電極１７、配向膜
１８が形成されている。
【００１２】このカラーフィルタの製造方法について説
明する。図２に示すように、透明基板上にアクリル系光
硬化樹脂であるメタクリル樹脂を主成分とする透明レジ
ストを約０．５μｍの厚さで塗布、乾燥し、透明レジス
ト層１３ａを形成する。この透明レジスト層上１３ａ
に、アクリル系光硬化樹脂であるメタクリル樹脂を主成
分とする樹脂にカーボンブラックを分散させた黒色レジ
ストを約１．４μｍの厚さで塗布、乾燥し黒色レジスト
層１４ａを形成した。更にこの黒色レジスト層１４ａ上
に、露光時の酸素遮断膜１９としてポリビニルアルコー
ル水溶液を塗布、乾燥させた。
明する。図２に示すように、透明基板上にアクリル系光
硬化樹脂であるメタクリル樹脂を主成分とする透明レジ
ストを約０．５μｍの厚さで塗布、乾燥し、透明レジス
ト層１３ａを形成する。この透明レジスト層上１３ａ
に、アクリル系光硬化樹脂であるメタクリル樹脂を主成
分とする樹脂にカーボンブラックを分散させた黒色レジ
ストを約１．４μｍの厚さで塗布、乾燥し黒色レジスト
層１４ａを形成した。更にこの黒色レジスト層１４ａ上
に、露光時の酸素遮断膜１９としてポリビニルアルコー
ル水溶液を塗布、乾燥させた。
【００１３】次に、透明基板１２側に、所定の形状の着
色層パターンが得られるようにフォトマスク２１を配置
し露光（図中、矢印）後、弱アルカリ水溶液で現像し、
スピンナーで乾燥させて透明樹脂層１３と黒色樹脂層１
４の２層からなる黒の着色層であるブラックマトリクス
１５を形成した。そして、このブラックマトリクス１５
を更に固化させるために、２００℃で６０分加熱し、黒
の着色層パターンを形成した。
色層パターンが得られるようにフォトマスク２１を配置
し露光（図中、矢印）後、弱アルカリ水溶液で現像し、
スピンナーで乾燥させて透明樹脂層１３と黒色樹脂層１
４の２層からなる黒の着色層であるブラックマトリクス
１５を形成した。そして、このブラックマトリクス１５
を更に固化させるために、２００℃で６０分加熱し、黒
の着色層パターンを形成した。
【００１４】以上のような方法で透明基板１２上に透明
樹脂層１３を介して黒色樹脂層１４を形成する方法によ
ってブラックマトリクス１５を形成した基板と、従来の
ように透明基板１２上に直接黒色樹脂層１４を形成する
方法によってブラックマトリクス１５を形成した基板
の、各々のパターン間の透過率を表１に示す。
樹脂層１３を介して黒色樹脂層１４を形成する方法によ
ってブラックマトリクス１５を形成した基板と、従来の
ように透明基板１２上に直接黒色樹脂層１４を形成する
方法によってブラックマトリクス１５を形成した基板
の、各々のパターン間の透過率を表１に示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】このように、露光後の現像で透明基板１２
上に黒色レジスト残査が残らないので、カラーフィルタ
としたときの着色層における透過率の低下が起こらな
い。また、本実施例では透明樹脂層１３に、黒色樹脂層
１４の主成分であるメタクリル樹脂を用いたがそれに限
られるものではなく、黒色樹脂層１４と接着性がよく露
光後の現像で透明基板１２上にレジスト残査が残らない
ものであればよい。また、黒色樹脂層１４は、少なくと
も透明樹脂層１３，Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の着色層１６に接着
性があればよく、メタクリル樹脂に限られるものでな
い。
上に黒色レジスト残査が残らないので、カラーフィルタ
としたときの着色層における透過率の低下が起こらな
い。また、本実施例では透明樹脂層１３に、黒色樹脂層
１４の主成分であるメタクリル樹脂を用いたがそれに限
られるものではなく、黒色樹脂層１４と接着性がよく露
光後の現像で透明基板１２上にレジスト残査が残らない
ものであればよい。また、黒色樹脂層１４は、少なくと
も透明樹脂層１３，Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の着色層１６に接着
性があればよく、メタクリル樹脂に限られるものでな
い。
【００１７】また、本実施例では透明基板側にフォトマ
スクを配置したが、着色レジスト層側と透明基板側の両
面にフォトマスクを配置し、両面から露光してもよい。 （実施例２）本発明の製造方法により製造したカラーフ
ィルタの一実施例を以下に示す。
スクを配置したが、着色レジスト層側と透明基板側の両
面にフォトマスクを配置し、両面から露光してもよい。 （実施例２）本発明の製造方法により製造したカラーフ
ィルタの一実施例を以下に示す。
【００１８】図３に示すように、本実施例のカラーフィ
ルタ１１は、ブラックマトリクス１５が形成され、この
ブラックマトリクス１５の間を埋めるように透明樹脂層
と着色樹脂層の２層からなる着色層Ｒ１６ａ，着色層Ｇ
１６ｂと着色層Ｂ１６ｃが設けられ、これらの着色層１
６上には順次、透明電極１７、配向膜１８が形成されて
いる。
ルタ１１は、ブラックマトリクス１５が形成され、この
ブラックマトリクス１５の間を埋めるように透明樹脂層
と着色樹脂層の２層からなる着色層Ｒ１６ａ，着色層Ｇ
１６ｂと着色層Ｂ１６ｃが設けられ、これらの着色層１
６上には順次、透明電極１７、配向膜１８が形成されて
いる。
【００１９】このカラーフィルタの製造方法について説
明する。図４（ａ）に示すように、透明基板１２上に酸
化クロムまたは実施例１と同様の方法で設けた黒色樹脂
等によりブラックマトリクス１５を設け、次に上記ブラ
ックマトリクス１５が形成された透明基板１２上にアク
リル系光硬化樹脂を主成分とする透明レジストを約０．
５μｍの厚さで塗布、乾燥し、透明レジスト層１３ａを
形成する。この透明レジスト層１３ａ上に、アクリル系
光硬化樹脂を主成分としＲ即ち赤の顔料が分散されてい
るＲ用着色レジストを約２μｍの厚さに塗布して着色レ
ジスト層１６Ａを形成する。その後、着色レジスト層１
６ａ上に酸素遮断膜１９を形成して、着色レジスト層側
に所定の形状の着色層パターンが得られるようにフォト
マスク２１を介し、露光（図中、矢印），現像をして、
図４（ｂ）に示すようにＲの着色層１６ａを形成する。
次に、図４（ｃ）に示すように、アクリル系光硬化樹脂
を主成分とする透明レジストを約０．５μｍの厚さで、
Ｒの着色層１６ａを形成した基板上に塗布、乾燥し、透
明レジスト層１３ａを形成する。この透明レジスト上１
３ａに、アクリル系光硬化樹脂を主成分としＧ即ち緑の
顔料が分散されているＧ用着色レジストを塗布して着色
レジスト層１６Ｂを形成する。その後、着色レジスト層
１６Ｂ上に酸素遮断膜１９を形成して、着色レジスト層
側に所定の形状の着色層パターンが得られるようにフォ
トマスク２１を介し、露光（図中、矢印），現像をし
て、図４（ｄ）に示すようにＧの着色層１６ｂを形成す
る。次にＲの着色層１６ａ、Ｇの着色層１６ｂが形成さ
れている基板上に、アクリル系光硬化樹脂を主成分とし
Ｂ即ち青の顔料が分散されているＢ用着色レジストを塗
布して着色レジスト層１６Ｃを形成する。その後、着色
レジスト層１６Ｃ上に酸素遮断膜１９を形成して、着色
レジスト層側に所定の形状の着色層パターンが得られる
ように所定の形状の着色層パターンが得られるようにフ
ォトマスク２１を介し、露光，現像をして、図４（ｅ）
に示すようにＧの着色層１６ｃを形成する。
明する。図４（ａ）に示すように、透明基板１２上に酸
化クロムまたは実施例１と同様の方法で設けた黒色樹脂
等によりブラックマトリクス１５を設け、次に上記ブラ
ックマトリクス１５が形成された透明基板１２上にアク
リル系光硬化樹脂を主成分とする透明レジストを約０．
５μｍの厚さで塗布、乾燥し、透明レジスト層１３ａを
形成する。この透明レジスト層１３ａ上に、アクリル系
光硬化樹脂を主成分としＲ即ち赤の顔料が分散されてい
るＲ用着色レジストを約２μｍの厚さに塗布して着色レ
ジスト層１６Ａを形成する。その後、着色レジスト層１
６ａ上に酸素遮断膜１９を形成して、着色レジスト層側
に所定の形状の着色層パターンが得られるようにフォト
マスク２１を介し、露光（図中、矢印），現像をして、
図４（ｂ）に示すようにＲの着色層１６ａを形成する。
次に、図４（ｃ）に示すように、アクリル系光硬化樹脂
を主成分とする透明レジストを約０．５μｍの厚さで、
Ｒの着色層１６ａを形成した基板上に塗布、乾燥し、透
明レジスト層１３ａを形成する。この透明レジスト上１
３ａに、アクリル系光硬化樹脂を主成分としＧ即ち緑の
顔料が分散されているＧ用着色レジストを塗布して着色
レジスト層１６Ｂを形成する。その後、着色レジスト層
１６Ｂ上に酸素遮断膜１９を形成して、着色レジスト層
側に所定の形状の着色層パターンが得られるようにフォ
トマスク２１を介し、露光（図中、矢印），現像をし
て、図４（ｄ）に示すようにＧの着色層１６ｂを形成す
る。次にＲの着色層１６ａ、Ｇの着色層１６ｂが形成さ
れている基板上に、アクリル系光硬化樹脂を主成分とし
Ｂ即ち青の顔料が分散されているＢ用着色レジストを塗
布して着色レジスト層１６Ｃを形成する。その後、着色
レジスト層１６Ｃ上に酸素遮断膜１９を形成して、着色
レジスト層側に所定の形状の着色層パターンが得られる
ように所定の形状の着色層パターンが得られるようにフ
ォトマスク２１を介し、露光，現像をして、図４（ｅ）
に示すようにＧの着色層１６ｃを形成する。
【００２０】また、本実施例では、透明樹脂層に着色樹
脂層の主成分であるアクリル系光硬化樹脂を用いたがそ
れに限られるものではなく、着色樹脂層と接着性がよ
く、露光後の現像でガラス基板にレジスト残査が残らな
いものであればよい。また、着色樹脂層は、透明樹脂層
に接着性があり、かつカラーフィルタに求められるＲ，
Ｇ，Ｂの着色層としての特性がある樹脂であればよく、
アクリル系光硬化樹脂に限られるものでない。例えば、
着色樹脂層には、エポキシアクリレート樹脂、ポリビニ
ルアルコール系を用いたものが使える。
脂層の主成分であるアクリル系光硬化樹脂を用いたがそ
れに限られるものではなく、着色樹脂層と接着性がよ
く、露光後の現像でガラス基板にレジスト残査が残らな
いものであればよい。また、着色樹脂層は、透明樹脂層
に接着性があり、かつカラーフィルタに求められるＲ，
Ｇ，Ｂの着色層としての特性がある樹脂であればよく、
アクリル系光硬化樹脂に限られるものでない。例えば、
着色樹脂層には、エポキシアクリレート樹脂、ポリビニ
ルアルコール系を用いたものが使える。
【００２１】また、本実施例では着色レジスト側にフォ
トマスクを配置したが、着色レジスト層側と透明基板側
の両面側あるいは透明基板側にフォトマスクを配置して
露光してもよい。
トマスクを配置したが、着色レジスト層側と透明基板側
の両面側あるいは透明基板側にフォトマスクを配置して
露光してもよい。
【００２２】このように、透明レジスト層を設けること
によって、例えば一色目形成時に、露光後の現像で透明
基板１２上に一色目の着色レジスト残査が残らないの
で、二色目，三色目を形成しても、透明基板上の一色目
の着色レジスト残査による二色目、三色目の着色層の透
過率の低下が起こらない。また、ここでは３色目を形成
する際に透明レジスト層を設ける工程を省いたが、透明
レジストを設ける工程をいれても良く、透明レジスト層
を設けることによって、三色目の着色層形成時に、一色
目及び二色目の着色樹脂層上に三色目の着色レジストが
残ることがないので、一色目及び二色目の着色樹脂層上
の三色目の着色レジスト残査による透過率の低下を防止
できる。尚、本実施例では、Ｒ，Ｇ，Ｂの順番で着色層
を設けたが、順番は変えてもさしつかえない。 （実施例３）本発明の製造方法により製造したカラーフ
ィルタの一実施例を以下に示す。
によって、例えば一色目形成時に、露光後の現像で透明
基板１２上に一色目の着色レジスト残査が残らないの
で、二色目，三色目を形成しても、透明基板上の一色目
の着色レジスト残査による二色目、三色目の着色層の透
過率の低下が起こらない。また、ここでは３色目を形成
する際に透明レジスト層を設ける工程を省いたが、透明
レジストを設ける工程をいれても良く、透明レジスト層
を設けることによって、三色目の着色層形成時に、一色
目及び二色目の着色樹脂層上に三色目の着色レジストが
残ることがないので、一色目及び二色目の着色樹脂層上
の三色目の着色レジスト残査による透過率の低下を防止
できる。尚、本実施例では、Ｒ，Ｇ，Ｂの順番で着色層
を設けたが、順番は変えてもさしつかえない。 （実施例３）本発明の製造方法により製造したカラーフ
ィルタの一実施例を以下に示す。
【００２３】図５に示すように、本実施例のカラーフィ
ルタ１１は、透明基板１２上に透明樹脂層１３と黒色樹
脂層１４の２層からなる黒の着色層であるブラックマト
リクス１５が形成され、このブラックマトリクス１５の
間を埋めるように着色層１６が設けられ、着色層１６上
に順次、透明電極１７、配向膜１８が形成されている。
ルタ１１は、透明基板１２上に透明樹脂層１３と黒色樹
脂層１４の２層からなる黒の着色層であるブラックマト
リクス１５が形成され、このブラックマトリクス１５の
間を埋めるように着色層１６が設けられ、着色層１６上
に順次、透明電極１７、配向膜１８が形成されている。
【００２４】このカラーフィルタの製造方法について説
明する。図６（ａ）に示すように、透明基板上に電着
法，顔料分散法，印刷法などにより厚さ約２μｍの着色
層１６を設ける。次に、図６（ｂ）に示すように、着色
層１６が形成された基板上にメタクリル樹脂を主成分と
する透明レジストを約０．５μｍの厚さで塗布、乾燥
し、透明レジスト層１３ａを形成する。次に、この透明
レジスト層１３ａ上に、メタクリル樹脂を主成分とする
樹脂にカーボンブラックを分散させた黒色レジストを約
２μｍの厚さで塗布、乾燥し黒色レジスト層１４ａを形
成した。更にこの黒色レジスト層１４ａ上に、露光時の
酸素遮断膜１９としてポリビニルアルコール水溶液を塗
布、乾燥させた。次に、透明基板１２側から露光後、弱
アルカリ水溶液で現像し、スピンナーで乾燥させて透明
樹脂層１３と黒色樹脂層１４の２層からなる黒の着色層
であるブラックマトリクス１５を形成した。この工程に
より、露光されない酸素遮断魔１９と酸素遮断幕側の黒
色レジスト層１４ａは除去される。そして、形成された
着色層を更に固化させるために、２００℃で６０分加熱
し、黒の着色層パターンを形成した。
明する。図６（ａ）に示すように、透明基板上に電着
法，顔料分散法，印刷法などにより厚さ約２μｍの着色
層１６を設ける。次に、図６（ｂ）に示すように、着色
層１６が形成された基板上にメタクリル樹脂を主成分と
する透明レジストを約０．５μｍの厚さで塗布、乾燥
し、透明レジスト層１３ａを形成する。次に、この透明
レジスト層１３ａ上に、メタクリル樹脂を主成分とする
樹脂にカーボンブラックを分散させた黒色レジストを約
２μｍの厚さで塗布、乾燥し黒色レジスト層１４ａを形
成した。更にこの黒色レジスト層１４ａ上に、露光時の
酸素遮断膜１９としてポリビニルアルコール水溶液を塗
布、乾燥させた。次に、透明基板１２側から露光後、弱
アルカリ水溶液で現像し、スピンナーで乾燥させて透明
樹脂層１３と黒色樹脂層１４の２層からなる黒の着色層
であるブラックマトリクス１５を形成した。この工程に
より、露光されない酸素遮断魔１９と酸素遮断幕側の黒
色レジスト層１４ａは除去される。そして、形成された
着色層を更に固化させるために、２００℃で６０分加熱
し、黒の着色層パターンを形成した。
【００２５】このように本実施例では透明樹脂層を介し
て透明基板側から露光するので、着色層上に黒色レジス
ト残査が残らず、黒色レジスト残査による着色層部分の
透過率の低下を防止できる。
て透明基板側から露光するので、着色層上に黒色レジス
ト残査が残らず、黒色レジスト残査による着色層部分の
透過率の低下を防止できる。
【００２６】以上の実施例において、現像により除去さ
れる着色レジスト層及び透明レジスト層は、少なくとも
着色レジスト層が除去されていれば良い。実施例１の場
合を例に挙げると、図７に示すように透明レジストが一
部残留した形２２でも、残留レジストは透明であるの
で、カラーフィルタとしたときの透過率に支障はない。
れる着色レジスト層及び透明レジスト層は、少なくとも
着色レジスト層が除去されていれば良い。実施例１の場
合を例に挙げると、図７に示すように透明レジストが一
部残留した形２２でも、残留レジストは透明であるの
で、カラーフィルタとしたときの透過率に支障はない。
【００２７】このように、本発明は、実施例１及び２に
おいては着色レジストを、直接透明基板上または着色層
に塗布しないので、露光、現像後の透明基板上または着
色層に着色レジストの現像残査が残らない。
おいては着色レジストを、直接透明基板上または着色層
に塗布しないので、露光、現像後の透明基板上または着
色層に着色レジストの現像残査が残らない。
【００２８】
【発明の効果】本発明は、透明基板上に着色レジスト層
を形成する際に、必ず透明樹脂層を介するため直接着色
レジストに透明基板上に塗布することがなく、露光、現
像後の透明基板上には着色レジストの現像残査が残らな
い。
を形成する際に、必ず透明樹脂層を介するため直接着色
レジストに透明基板上に塗布することがなく、露光、現
像後の透明基板上には着色レジストの現像残査が残らな
い。
【００２９】また、着色層が形成されている透明基板
に、着色レジストを直接塗布しないので、露光，現像後
の透明基板上及び既に形成されている着色層上には、着
色レジストの現像残査が残らない。
に、着色レジストを直接塗布しないので、露光，現像後
の透明基板上及び既に形成されている着色層上には、着
色レジストの現像残査が残らない。
【００３０】また、透明基板或いは着色層が形成されて
いる透明基板に黒の着色層を形成する際に、黒の着色レ
ジストを透明基板或いは着色層が形成されている透明基
板に直接塗布しないので、露光，現像後の透明基板上及
び既に形成されている着色層上には、着色レジストの現
像残査が残らない。
いる透明基板に黒の着色層を形成する際に、黒の着色レ
ジストを透明基板或いは着色層が形成されている透明基
板に直接塗布しないので、露光，現像後の透明基板上及
び既に形成されている着色層上には、着色レジストの現
像残査が残らない。
【００３１】よって、本発明の製造方法では、着色レジ
ストの現像残査を除去するための過度な洗浄による着色
層の傷付きがなく、また、透明基板上或いは着色層上の
現像残査による着色層部分の透過率の低下がなくなり、
高品質で透過率の高いカラーフィルタを得ることができ
る。
ストの現像残査を除去するための過度な洗浄による着色
層の傷付きがなく、また、透明基板上或いは着色層上の
現像残査による着色層部分の透過率の低下がなくなり、
高品質で透過率の高いカラーフィルタを得ることができ
る。
【図１】本発明の一実施例を示すカラーフィルタの断面
図。
図。
【図２】（ａ）図１に示すカラーフィルタの製造工程途
中を示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図２（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
中を示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図２（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
【図３】本発明の他の実施例を示すカラーフィルタの断
面図。
面図。
【図４】（ａ）図３に示すカラーフィルタの製造工程途
中を示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図２（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｃ）図２（ｂ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｄ）図２（ｃ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｅ）図２（ｄ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
中を示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図２（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｃ）図２（ｂ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｄ）図２（ｃ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｅ）図２（ｄ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
【図５】本発明の更に他の実施例を示すカラーフィルタ
の断面図。
の断面図。
【図６】（ａ）図５に示すカラーフィルタの製造工程途
中の状態を示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図６（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｃ）図６（ｂ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
中の状態を示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図６（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。 （ｃ）図６（ｂ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
【図７】現像により除去される着色レジスト層及び透明
レジスト層部分で、透明レジストが一部残留している状
態を示す断面図。
レジスト層部分で、透明レジストが一部残留している状
態を示す断面図。
【図８】従来のカラーフィルタの断面図。
【図９】（ａ）従来のカラーフィルタの製造工程途中の
状態をを示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図９（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
状態をを示すカラーフィルタの断面図。 （ｂ）図９（ａ）の次の製造工程を示すカラーフィルタ
の断面図。
１１…カラーフィルタ １２…透明基板 １３…透明レジスト層 １３ａ…透明樹脂層 １４…黒の着色レジスト層 １４ａ…黒の着色樹脂層 １６ａ，１６ｂ，１６ｃ…Ｒ，Ｇ，Ｂ各々の着色樹脂層 １６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ…Ｒ，Ｇ，Ｂ各々の着色レジス
ト層
ト層
Claims (2)
- 【請求項１】透明基板上または着色層が形成されている
透明基板上に透明レジストを塗布後乾燥して透明レジス
ト層を形成する工程と、前記透明レジスト層上に着色レ
ジストを塗布後乾燥して着色レジスト層を形成する工程
と、前記着色レジスト層側または透明基板側の少なくと
もどちらかにフォトマスクを配置し、露光，現像をし
て、透明樹脂層と着色樹脂層の２層からなる着色層を形
成する工程とを含むカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】着色レジストは、黒色顔料を含む黒色レジ
ストである請求項１または請求項２記載のカラーフィル
タの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP141594A JPH07209511A (ja) | 1994-01-12 | 1994-01-12 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP141594A JPH07209511A (ja) | 1994-01-12 | 1994-01-12 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07209511A true JPH07209511A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=11500852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP141594A Pending JPH07209511A (ja) | 1994-01-12 | 1994-01-12 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07209511A (ja) |
-
1994
- 1994-01-12 JP JP141594A patent/JPH07209511A/ja active Pending
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