JPH07194924A - 多管式気液接触装置 - Google Patents
多管式気液接触装置Info
- Publication number
- JPH07194924A JPH07194924A JP5351220A JP35122093A JPH07194924A JP H07194924 A JPH07194924 A JP H07194924A JP 5351220 A JP5351220 A JP 5351220A JP 35122093 A JP35122093 A JP 35122093A JP H07194924 A JPH07194924 A JP H07194924A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- liquid
- liquid tank
- gas introduction
- partition member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管
を多数液体中に垂設した構造の多管式気液接触装置にお
いて、そのガス噴出孔から液体中へのガス噴出に起因す
る液槽内フロス層の大きな動揺の発生を未然に防止する
装置を提供する。 【構成】 大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を有す
るガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止液面
より下方に位置するように垂設した構造を有する気液接
触装置において、複数の仕切部材をその下端がガス導入
管のガス噴出孔と同一レベル又はその近傍もしくは下方
に位置し、その上端がフロス層上面近傍に位置するよう
に液槽内に垂設するとともに、それら仕切部材を複数の
ガス導入管に支持させ、その液槽内にそれら仕切部材に
より包囲された気泡通過区画を複数形成させたことを特
徴とする多管式気液接触装置。
を多数液体中に垂設した構造の多管式気液接触装置にお
いて、そのガス噴出孔から液体中へのガス噴出に起因す
る液槽内フロス層の大きな動揺の発生を未然に防止する
装置を提供する。 【構成】 大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を有す
るガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止液面
より下方に位置するように垂設した構造を有する気液接
触装置において、複数の仕切部材をその下端がガス導入
管のガス噴出孔と同一レベル又はその近傍もしくは下方
に位置し、その上端がフロス層上面近傍に位置するよう
に液槽内に垂設するとともに、それら仕切部材を複数の
ガス導入管に支持させ、その液槽内にそれら仕切部材に
より包囲された気泡通過区画を複数形成させたことを特
徴とする多管式気液接触装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、気体と液体（スラリー
液体を含む）とを接触させる多管式気液接触装置、特に
排煙脱硫装置として好適な多管式気液接触装置に関する
ものである。
液体を含む）とを接触させる多管式気液接触装置、特に
排煙脱硫装置として好適な多管式気液接触装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】大型液槽内に液体を収容させ、その液体
内に下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数
を垂設し、そのガス導入管内に導入させたガスをガス噴
出孔から液体中に噴出させて気液接触を行わせる装置は
広く知られている（特公昭５５−３７２９５号、特公昭
５７−６３７５号、特公昭５９−１１３２２号等）。
内に下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数
を垂設し、そのガス導入管内に導入させたガスをガス噴
出孔から液体中に噴出させて気液接触を行わせる装置は
広く知られている（特公昭５５−３７２９５号、特公昭
５７−６３７５号、特公昭５９−１１３２２号等）。
【０００３】図７に、排煙脱硫装置として用いられてい
る従来の気液接触装置の模式図を示す。図７において、
ＳＯ2を含む排煙は、導管１０１からガス導入管１０３
を通り、そのガス導入管１０３の下部周壁面に設けたガ
ス噴出口から炭酸カルシウムや水酸化カルシウム等のカ
ルシウム化合物のスラリー液中に噴出される。この場合
のガス導入管１０３は、図８又は図９に示すように、そ
の下部周壁面に配設されたガス噴出孔を有する。液槽内
のカルシウム化合物のスラリー液中に噴出された排煙
は、そのスラリー液と接触し、排煙中に含まれるＳＯ2
がカルシウム化合物と反応してＣａＳＯ3になる。そし
て、このＣａＳＯ3は、液槽下部の空気導入管１０６か
ら液中に導入された空気中酸素と反応してＣａＳＯ
4（石こう）になる。なお、１１２はガス中の液体を捕
捉する気液分離器を示し、１０５は攪拌羽根を示し、１
０８は石こうスラリー抜出管を示す。図７に示した排煙
脱硫装置は、実際には極めて大型の装置であり、その液
槽１０２の内径は１０ｍ以上、通常２５ｍ以上もあり、
また、そのガス導入管１０３の数も１，０００本以上と
いう極めて多い数である。
る従来の気液接触装置の模式図を示す。図７において、
ＳＯ2を含む排煙は、導管１０１からガス導入管１０３
を通り、そのガス導入管１０３の下部周壁面に設けたガ
ス噴出口から炭酸カルシウムや水酸化カルシウム等のカ
ルシウム化合物のスラリー液中に噴出される。この場合
のガス導入管１０３は、図８又は図９に示すように、そ
の下部周壁面に配設されたガス噴出孔を有する。液槽内
のカルシウム化合物のスラリー液中に噴出された排煙
は、そのスラリー液と接触し、排煙中に含まれるＳＯ2
がカルシウム化合物と反応してＣａＳＯ3になる。そし
て、このＣａＳＯ3は、液槽下部の空気導入管１０６か
ら液中に導入された空気中酸素と反応してＣａＳＯ
4（石こう）になる。なお、１１２はガス中の液体を捕
捉する気液分離器を示し、１０５は攪拌羽根を示し、１
０８は石こうスラリー抜出管を示す。図７に示した排煙
脱硫装置は、実際には極めて大型の装置であり、その液
槽１０２の内径は１０ｍ以上、通常２５ｍ以上もあり、
また、そのガス導入管１０３の数も１，０００本以上と
いう極めて多い数である。
【０００４】このような気液接触装置においては、ガス
導入管のガス噴出孔からガスを液中に噴出させることか
ら、このことが原因となって、液槽内フロス層（泡沫
層）に全体として定常的で周期的な大きな動揺が生じる
場合が特定条件下で稀にある。そして、そのフロス層の
動揺により、液槽内のフロス層上面が大きく変動するよ
うになる。このフロス層の定常的動揺は、液槽が大型の
ものになるに従って大きなものとなり、気液接触効率悪
化の原因となる。
導入管のガス噴出孔からガスを液中に噴出させることか
ら、このことが原因となって、液槽内フロス層（泡沫
層）に全体として定常的で周期的な大きな動揺が生じる
場合が特定条件下で稀にある。そして、そのフロス層の
動揺により、液槽内のフロス層上面が大きく変動するよ
うになる。このフロス層の定常的動揺は、液槽が大型の
ものになるに従って大きなものとなり、気液接触効率悪
化の原因となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、下部周壁面
にガス噴出孔を有するガス導入管を多数液体中に垂設し
た構造の多管式気液接触装置において、そのガス噴出孔
から液体中へのガス噴出に起因する液槽内フロス層の大
きな動揺の発生を未然に防止する装置を提供することを
その課題とする。
にガス噴出孔を有するガス導入管を多数液体中に垂設し
た構造の多管式気液接触装置において、そのガス噴出孔
から液体中へのガス噴出に起因する液槽内フロス層の大
きな動揺の発生を未然に防止する装置を提供することを
その課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、大型液槽内に下部周
壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数をそのガス
噴出孔が液槽内静止液面より下方に位置するように垂設
した構造を有する気液接触装置において、複数の仕切部
材をその下端がガス導入管のガス噴出孔と同一レベル又
はその近傍もしくは下方に位置し、その上端がフロス層
上面近傍に位置するように液槽内に垂設するとともに、
それら仕切部材を複数のガス導入管に支持させ、その液
槽内にそれら仕切部材により包囲された気泡通過区画を
複数形成させたことを特徴とする多管式気液接触装置が
提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、大型液槽内に下部周
壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数をそのガス
噴出孔が液槽内静止液面より下方に位置するように垂設
した構造を有する気液接触装置において、複数の仕切部
材をその下端がガス導入管のガス噴出孔と同一レベル又
はその近傍もしくは下方に位置し、その上端がフロス層
上面近傍に位置するように液槽内に垂設するとともに、
それら仕切部材を複数のガス導入管に支持させ、その液
槽内にそれら仕切部材により包囲された気泡通過区画を
複数形成させたことを特徴とする多管式気液接触装置が
提供される。
【０００７】本発明で用いる仕切部材としては、液体中
に垂設したガス導入管に支持させることのできる形状で
あれば板状や板体構造物等の任意の形状のものを用いる
ことができる。仕切部材の材質は、金属の他、プラスチ
ックやセラミック等であることができる。また、仕切部
材は、多孔体（金網や、多孔質板、繊維板等）や、波板
等であることもできる。
に垂設したガス導入管に支持させることのできる形状で
あれば板状や板体構造物等の任意の形状のものを用いる
ことができる。仕切部材の材質は、金属の他、プラスチ
ックやセラミック等であることができる。また、仕切部
材は、多孔体（金網や、多孔質板、繊維板等）や、波板
等であることもできる。
【０００８】図１に、仕切部材により形成される気泡通
過区画の一例についての説明図を示す。図１（ａ）はそ
の斜視図を示し、図１（ｂ）はその水平断面図を示す。
図２に、仕切部材により形成される気泡通過区画の他の
例についての説明図を示す。図２（ａ）はその斜視図を
示し、図２（ｂ）はその水平断面図を示す。図３に、仕
切部材により形成される気泡通過区画のさらに他の例に
ついての水平断面図を示す。図４に、仕切部材を用いて
形成した気泡通過区画内を気泡が通過する際の状態説明
図を示す。図４（ａ）はその水平断面図を示し、図４
（ｂ）は、図４（ａ）のＡ−Ａ断面図を示す。
過区画の一例についての説明図を示す。図１（ａ）はそ
の斜視図を示し、図１（ｂ）はその水平断面図を示す。
図２に、仕切部材により形成される気泡通過区画の他の
例についての説明図を示す。図２（ａ）はその斜視図を
示し、図２（ｂ）はその水平断面図を示す。図３に、仕
切部材により形成される気泡通過区画のさらに他の例に
ついての水平断面図を示す。図４に、仕切部材を用いて
形成した気泡通過区画内を気泡が通過する際の状態説明
図を示す。図４（ａ）はその水平断面図を示し、図４
（ｂ）は、図４（ａ）のＡ−Ａ断面図を示す。
【０００９】これらの図において、１、１’はガス導入
管、２はその下部周壁面に形成されたガス噴出孔、３は
仕切部材、４は液槽内の静止液面、５は液槽内のフロス
層の上面、６はガス噴出孔２のレベルから上方に形成さ
れた気泡と液体との混合物からなるフロス層を示す。ａ
は仕切部材によって形成された気泡通過区画を示す。
管、２はその下部周壁面に形成されたガス噴出孔、３は
仕切部材、４は液槽内の静止液面、５は液槽内のフロス
層の上面、６はガス噴出孔２のレベルから上方に形成さ
れた気泡と液体との混合物からなるフロス層を示す。ａ
は仕切部材によって形成された気泡通過区画を示す。
【００１０】図１に示された気泡通過区画ａは、板状の
仕切部材を隣接するガス導入管１の間に配設し、ガス導
入管に支持させて形成した例を示すものであり、４個の
ガス導入管に支持された４個の仕切部材３によって１つ
の気泡通過区画ａが形成される。図２に示された気泡通
過区画ａは、あらかじめ４枚羽根を有するように作製し
た仕切部材３を４個のガス導入管で形成される４辺形の
中心部に配設し、その羽根の先端を隣接するガス導入管
１に支持させて形成した例であり、その４枚の羽根によ
って１つの気泡通過区画ａが形成される。図３は、仕切
部材によって包囲される気泡通過区画ａ内に、仕切部材
が支持されていない独立したガス導入管１’が存在する
例を示す。
仕切部材を隣接するガス導入管１の間に配設し、ガス導
入管に支持させて形成した例を示すものであり、４個の
ガス導入管に支持された４個の仕切部材３によって１つ
の気泡通過区画ａが形成される。図２に示された気泡通
過区画ａは、あらかじめ４枚羽根を有するように作製し
た仕切部材３を４個のガス導入管で形成される４辺形の
中心部に配設し、その羽根の先端を隣接するガス導入管
１に支持させて形成した例であり、その４枚の羽根によ
って１つの気泡通過区画ａが形成される。図３は、仕切
部材によって包囲される気泡通過区画ａ内に、仕切部材
が支持されていない独立したガス導入管１’が存在する
例を示す。
【００１１】仕切部材３は、気泡通過区画ａにおける仕
切壁を構成し、図１に示すように板体であることができ
る他、図２に示すようにあらかじめ作製された板体構造
物等であることができる。この仕切部材３の下端は、ガ
ス導入管１のガス噴出孔２と同一レベル又はその近傍
（ガス噴出孔と同一レベル又はそれよりやや上方もしく
は下方）もしくは下方に位置するように配設する。仕切
部材３の上端の位置はフロス層の上面近傍（フロス層の
上面５と同一レベル又はそれよりやや上方もしくはやや
下方）に配設することができる。気泡通過区画ａの横断
面積を小さくすれば、区画内での噴出ガスによるリフト
効果が大きくなり、液体を区画内にすい込み上昇させる
効果も大きくなり、液体の循環もよくなり、液体の攪拌
動力の節約にもなる。
切壁を構成し、図１に示すように板体であることができ
る他、図２に示すようにあらかじめ作製された板体構造
物等であることができる。この仕切部材３の下端は、ガ
ス導入管１のガス噴出孔２と同一レベル又はその近傍
（ガス噴出孔と同一レベル又はそれよりやや上方もしく
は下方）もしくは下方に位置するように配設する。仕切
部材３の上端の位置はフロス層の上面近傍（フロス層の
上面５と同一レベル又はそれよりやや上方もしくはやや
下方）に配設することができる。気泡通過区画ａの横断
面積を小さくすれば、区画内での噴出ガスによるリフト
効果が大きくなり、液体を区画内にすい込み上昇させる
効果も大きくなり、液体の循環もよくなり、液体の攪拌
動力の節約にもなる。
【００１２】図３においては、仕切部材を用いて形成し
た気泡通過区画ａ内に仕切部材と接合していない独立し
たガス導入管の１本を存在させた例を示したが、その区
画ａ内には独立したガス導入管の複数本を存在させるこ
とができる。この種の気液接触装置は大型のもので、液
槽内に配設されるガス導入管は数千本と極めて多数であ
る。本発明では、気泡通過区画ａ内には、これらの独立
したガス導入管の複数本、例えば、２〜２５本、好まし
くは４〜１６本を存在させることができる。
た気泡通過区画ａ内に仕切部材と接合していない独立し
たガス導入管の１本を存在させた例を示したが、その区
画ａ内には独立したガス導入管の複数本を存在させるこ
とができる。この種の気液接触装置は大型のもので、液
槽内に配設されるガス導入管は数千本と極めて多数であ
る。本発明では、気泡通過区画ａ内には、これらの独立
したガス導入管の複数本、例えば、２〜２５本、好まし
くは４〜１６本を存在させることができる。
【００１３】図５に、その内部に多数の独立したガス導
入管を存在させた気泡通過区画ａを多数含む液槽内の説
明平面図を示す。この図において、１０は液槽壁を示
す。図５の液槽は、仕切部材３を仕切壁とする多数の気
泡通過区画ａからなる構造のものである。これらの各気
泡通過区画ａには、複数のガス導入管（図示されず）が
配設されている。また、各気泡通過区画ａにおける縦の
寸法：ｎ及び横の寸法：ｍは、その寸法の大きい方のｎ
又はｍの長さが１．５ｍ以下、好ましくは０．５〜１ｍ
になるように規定するのがよい。本発明により液槽内に
配設する仕切部材３は、任意の方法で液槽内に支持させ
ることができる。例えば、その液槽内液面上方又は液面
下に支持体を配設し、これに支持させることができる
他、ガス導入管を支持させるために格子状に配設された
支持体に支持させることができる。
入管を存在させた気泡通過区画ａを多数含む液槽内の説
明平面図を示す。この図において、１０は液槽壁を示
す。図５の液槽は、仕切部材３を仕切壁とする多数の気
泡通過区画ａからなる構造のものである。これらの各気
泡通過区画ａには、複数のガス導入管（図示されず）が
配設されている。また、各気泡通過区画ａにおける縦の
寸法：ｎ及び横の寸法：ｍは、その寸法の大きい方のｎ
又はｍの長さが１．５ｍ以下、好ましくは０．５〜１ｍ
になるように規定するのがよい。本発明により液槽内に
配設する仕切部材３は、任意の方法で液槽内に支持させ
ることができる。例えば、その液槽内液面上方又は液面
下に支持体を配設し、これに支持させることができる
他、ガス導入管を支持させるために格子状に配設された
支持体に支持させることができる。
【００１４】本発明の気液接触装置の原理を図４を参照
して示すと、ガス導入管１内にガスを導入し、そのガス
をガス導入管１のガス噴出孔２から噴出させると、その
ガス噴出により生じた微細気泡は、仕切部材３で形成さ
れた気泡通過区画ａ内の液体中を上昇し、その区画ａの
ガス噴出孔２のレベルからその上方には気泡と液体の混
合物からなるフロス層６が生じ、その上面は静止液面よ
り上方に位置するようになる。図４において、４は、ガ
ス導入管１内にガスを導入する以前の静止液体面を示
し、５は、ガス導入管１内にガスを導入した後に形成さ
れるフロス層の上面（膨張液面）を示す。液槽内の液体
は、仕切部材３により形成される区画ａの下端開口部か
らその区画ａに吸込まれ、区画ａ内の気泡とともに上昇
し、その区画ａの上端開口部から排出されるか、区画ａ
の周辺部から下向流となり下部液槽内に排出される。液
槽内に噴出されたガスは、微細気泡となって区画ａ内を
上昇する間に液体と効率的に接触する。そして、ガス導
入管１のガス噴出孔２から噴出されたガスの気泡は、区
画ａ内を上昇することから、気泡の上昇に際して起る液
体流の運動エネルギーはその区画ａ内に封止され、他の
部分へ伝達することが防止され、その結果、液槽内のフ
ロス層の大きな動揺の発生が防止される。
して示すと、ガス導入管１内にガスを導入し、そのガス
をガス導入管１のガス噴出孔２から噴出させると、その
ガス噴出により生じた微細気泡は、仕切部材３で形成さ
れた気泡通過区画ａ内の液体中を上昇し、その区画ａの
ガス噴出孔２のレベルからその上方には気泡と液体の混
合物からなるフロス層６が生じ、その上面は静止液面よ
り上方に位置するようになる。図４において、４は、ガ
ス導入管１内にガスを導入する以前の静止液体面を示
し、５は、ガス導入管１内にガスを導入した後に形成さ
れるフロス層の上面（膨張液面）を示す。液槽内の液体
は、仕切部材３により形成される区画ａの下端開口部か
らその区画ａに吸込まれ、区画ａ内の気泡とともに上昇
し、その区画ａの上端開口部から排出されるか、区画ａ
の周辺部から下向流となり下部液槽内に排出される。液
槽内に噴出されたガスは、微細気泡となって区画ａ内を
上昇する間に液体と効率的に接触する。そして、ガス導
入管１のガス噴出孔２から噴出されたガスの気泡は、区
画ａ内を上昇することから、気泡の上昇に際して起る液
体流の運動エネルギーはその区画ａ内に封止され、他の
部分へ伝達することが防止され、その結果、液槽内のフ
ロス層の大きな動揺の発生が防止される。
【００１５】本発明の気液接触装置は、その仕切部材の
上端をフロス層の上面近傍に位置させたことにより、気
泡通過区画ａ内には、ガス噴出孔２より噴出されたガス
が気泡となってその区画ａ内を上昇する際の大きなリフ
ト効果により、その区画ａの下方にある液体が上方に吹
込まれる。また、フロス層６は、そのほぼ全体が仕切部
材３により包囲されていることから、ガス噴出孔付近に
は仕切部材による仕切壁が存在し、ガス噴出孔からのガ
スが噴出する際に起る液体の急激な流動エネルギーの他
の部分への伝達はほぼ完全に防止され、液槽内における
フロス層の大きな動揺の発生は効果的に防止される。
上端をフロス層の上面近傍に位置させたことにより、気
泡通過区画ａ内には、ガス噴出孔２より噴出されたガス
が気泡となってその区画ａ内を上昇する際の大きなリフ
ト効果により、その区画ａの下方にある液体が上方に吹
込まれる。また、フロス層６は、そのほぼ全体が仕切部
材３により包囲されていることから、ガス噴出孔付近に
は仕切部材による仕切壁が存在し、ガス噴出孔からのガ
スが噴出する際に起る液体の急激な流動エネルギーの他
の部分への伝達はほぼ完全に防止され、液槽内における
フロス層の大きな動揺の発生は効果的に防止される。
【００１６】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
【００１７】実施例１ 縦１ｍ、横２ｍ、高さ３ｍの槽型液槽内に、全体で２１
本のガス導入管を、横方向３列、縦方向７列で垂設した
構造のテスト装置を用いた。この場合、ガス導入管は、
長さ：２０００ｍｍ、内径：１００ｍｍの円筒管の下端
から１５０ｍｍの位置の周壁面に孔径：２０〜３０ｍｍ
の孔を横一列に開孔した構造のものを用いた。また、こ
のガス導入管は、そのガス噴出孔が静止水面下１０〜２
５ｃｍの深さになるように配設した。このテスト装置に
おいて、その液槽内を図６に示すように、仕切板により
仕切るとともに、これをガス導入管及び液槽壁に支持さ
せて、液槽内に８個の気泡通過区画を形成した。この場
合、仕切板の上端を静止水面上５０ｃｍの位置に、そし
てその下端をガス噴出孔と同じレベルに位置させた。こ
のようなテスト装置の液槽内に液体として水を高さ：１
００ｃｍの位置まで入れ、ガス導入管１本当りのガス流
量が２００ｍ3／時の条件で、空気をそのガス導入管の
ガス噴出口から噴出させて気液接触を行った。このよう
な気液接触を２時間継続したところ、液槽内のフロス層
には実質的に大きな動揺は生じず、また、フロス層上面
の大きな変動も実質上生じなかった。
本のガス導入管を、横方向３列、縦方向７列で垂設した
構造のテスト装置を用いた。この場合、ガス導入管は、
長さ：２０００ｍｍ、内径：１００ｍｍの円筒管の下端
から１５０ｍｍの位置の周壁面に孔径：２０〜３０ｍｍ
の孔を横一列に開孔した構造のものを用いた。また、こ
のガス導入管は、そのガス噴出孔が静止水面下１０〜２
５ｃｍの深さになるように配設した。このテスト装置に
おいて、その液槽内を図６に示すように、仕切板により
仕切るとともに、これをガス導入管及び液槽壁に支持さ
せて、液槽内に８個の気泡通過区画を形成した。この場
合、仕切板の上端を静止水面上５０ｃｍの位置に、そし
てその下端をガス噴出孔と同じレベルに位置させた。こ
のようなテスト装置の液槽内に液体として水を高さ：１
００ｃｍの位置まで入れ、ガス導入管１本当りのガス流
量が２００ｍ3／時の条件で、空気をそのガス導入管の
ガス噴出口から噴出させて気液接触を行った。このよう
な気液接触を２時間継続したところ、液槽内のフロス層
には実質的に大きな動揺は生じず、また、フロス層上面
の大きな変動も実質上生じなかった。
【００１８】一方、前記テスト装置において、仕切板を
配設しないで同様の実験を行ったところ、この場合に
は、液槽内のフロス層の大きな動揺が起り、フロス層上
面の変動を生じた。このフロス層上面の変動は、静止水
面に対し、フロス層上面の最も高い位置で＋約５０ｃ
ｍ、フロス層上面の最も低い位置で−約５０ｃｍであっ
た。
配設しないで同様の実験を行ったところ、この場合に
は、液槽内のフロス層の大きな動揺が起り、フロス層上
面の変動を生じた。このフロス層上面の変動は、静止水
面に対し、フロス層上面の最も高い位置で＋約５０ｃ
ｍ、フロス層上面の最も低い位置で−約５０ｃｍであっ
た。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、液槽内を複数の気泡通
過区画に構成したことから、ガス導入管のガス噴出孔か
ら液体中にガスを噴出させる際に起る液体の急激な流動
エネルギーは、一次的にその区画内に封止され、その液
体の流動エネルギーが他の区画に伝達されることが非常
に少なくなり、その結果、液槽内での大きなフロス層の
動揺の発生が防止される。従来の気液接触装置において
は、条件によっては各ガス導入管のガス噴出孔から液体
中にガスを噴出させる際に起る液体の各流動エネルギー
は、仕切部材が存在しないことから、相互に干渉しあっ
て、全体として定常的で周期的な大きなフロス層の動揺
を生じさせ、フロス層上面を変動させて気液接触効率の
悪化を生じさせるが、本発明の場合には、前記したよう
に、液槽内を複数の気泡通過区画に構成したことから、
ガス噴出により起る液体の急激な流動エネルギーは、こ
の区画内に封止され、他の区画への伝達が防止されてい
るため、従来の気液接触装置に見られた如き前記問題は
一挙に解決される。その上、気泡通過区画においては、
噴出ガスによるリフト効果が得られるため、その区画内
にはガス導入管の下方に存在する新鮮な液体が上方にす
い込まれ、区画内で気泡と混合されるという利点があ
る。本発明の気液接触装置は、各種の気液接触を伴う反
応装置として利用され、例えば、亜硫酸ガスを含む排ガ
スと炭酸カルシウムや水酸化カルシウム等のカルシウム
化合物のスラリー液等のアルカリ性液体との接触を行う
排煙脱硫装置や、炭酸ガスを含む排ガスとアルカリ性液
体との接触を行う脱炭酸ガス装置等として好ましく適用
される。特に、本発明の装置は、液槽の直径が１０ｍ以
上、特に２０ｍ以上という大型の排煙脱硫装置として有
利に用いることができる。
過区画に構成したことから、ガス導入管のガス噴出孔か
ら液体中にガスを噴出させる際に起る液体の急激な流動
エネルギーは、一次的にその区画内に封止され、その液
体の流動エネルギーが他の区画に伝達されることが非常
に少なくなり、その結果、液槽内での大きなフロス層の
動揺の発生が防止される。従来の気液接触装置において
は、条件によっては各ガス導入管のガス噴出孔から液体
中にガスを噴出させる際に起る液体の各流動エネルギー
は、仕切部材が存在しないことから、相互に干渉しあっ
て、全体として定常的で周期的な大きなフロス層の動揺
を生じさせ、フロス層上面を変動させて気液接触効率の
悪化を生じさせるが、本発明の場合には、前記したよう
に、液槽内を複数の気泡通過区画に構成したことから、
ガス噴出により起る液体の急激な流動エネルギーは、こ
の区画内に封止され、他の区画への伝達が防止されてい
るため、従来の気液接触装置に見られた如き前記問題は
一挙に解決される。その上、気泡通過区画においては、
噴出ガスによるリフト効果が得られるため、その区画内
にはガス導入管の下方に存在する新鮮な液体が上方にす
い込まれ、区画内で気泡と混合されるという利点があ
る。本発明の気液接触装置は、各種の気液接触を伴う反
応装置として利用され、例えば、亜硫酸ガスを含む排ガ
スと炭酸カルシウムや水酸化カルシウム等のカルシウム
化合物のスラリー液等のアルカリ性液体との接触を行う
排煙脱硫装置や、炭酸ガスを含む排ガスとアルカリ性液
体との接触を行う脱炭酸ガス装置等として好ましく適用
される。特に、本発明の装置は、液槽の直径が１０ｍ以
上、特に２０ｍ以上という大型の排煙脱硫装置として有
利に用いることができる。
【図１】仕切部材により形成される気泡通過区画の１例
についての説明図を示す。 ａ：斜視図 ｂ：水平断面図
についての説明図を示す。 ａ：斜視図 ｂ：水平断面図
【図２】仕切部材により形成される気泡通過区画の他の
例についての説明図を示す。 ａ：斜視図 ｂ：水平断面図
例についての説明図を示す。 ａ：斜視図 ｂ：水平断面図
【図３】仕切部材により形成される気泡通過区画のさら
に他の例についての水平断面図を示す。
に他の例についての水平断面図を示す。
【図４】仕切部材を用いて形成した気泡通過区画内を気
泡が通過する際の状態説明図を示す。 ａ：水平断面図 ｂ：図４（ａ）のＡ−Ａ断面図
泡が通過する際の状態説明図を示す。 ａ：水平断面図 ｂ：図４（ａ）のＡ−Ａ断面図
【図５】複数の独立したガス導入管を存在させた気泡通
過区画を含む液槽内部の説明平面図を示す。
過区画を含む液槽内部の説明平面図を示す。
【図６】実施例で用いた液槽内部の説明平面図を示す。
【図７】排煙脱硫装置として用いられている従来の気液
接触装置の模式図を示す。
接触装置の模式図を示す。
【図８】ガス導入管の１例についての構造説明図を示
す。
す。
【図９】ガス導入管の他の例についての構造説明図を示
す。
す。
１、１’、１０３ ガス導入管 ２、１０４ ガス噴出孔 ３ 仕切部材 ４ 静止液面 ５ フロス層の上面 ６ フロス層 １０１ ガス導管 １０２ 液槽 １０５ 攪拌羽根 １０６ 空気導入管 ａ 気泡通過区画
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/77 Ｂ０１Ｊ 10/00 １０４ 8822−4Ｇ Ｂ０１Ｄ 53/34 １２５ Ｅ (72)発明者 小林 健二 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 桑原 育朗 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を
有するガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止
液面より下方に位置するように垂設した構造を有する気
液接触装置において、複数の仕切部材をその下端がガス
導入管のガス噴出孔と同一レベル又はその近傍もしくは
下方に位置し、その上端がフロス層上面近傍に位置する
ように液槽内に垂設するとともに、それら仕切部材を複
数のガス導入管に支持させ、その液槽内にそれら仕切部
材により包囲された気泡通過区画を複数形成させたこと
を特徴とする多管式気液接触装置。 - 【請求項２】 隣接するガス導入管の間に仕切部材を垂
設し、ガス導入管に支持させてなる請求項１の気液接触
装置。 - 【請求項３】 仕切部材により包囲された気泡通過区画
内に独立したガス導入管が存在する請求項１の気液接触
装置。 - 【請求項４】 酸性ガスを含むガスとアルカリ性液体と
の接触反応を行うための請求項１〜３のいずれかの気液
接触装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5351220A JPH07194924A (ja) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | 多管式気液接触装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5351220A JPH07194924A (ja) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | 多管式気液接触装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07194924A true JPH07194924A (ja) | 1995-08-01 |
Family
ID=18415864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5351220A Pending JPH07194924A (ja) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | 多管式気液接触装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07194924A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108854346A (zh) * | 2018-06-30 | 2018-11-23 | 佛山市治亮环保科技有限公司 | 瓦棱集水过气装置 |
-
1993
- 1993-12-30 JP JP5351220A patent/JPH07194924A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108854346A (zh) * | 2018-06-30 | 2018-11-23 | 佛山市治亮环保科技有限公司 | 瓦棱集水过气装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5634794B2 (ja) | 煙道ガスを洗浄する装置及び方法 | |
| JP3734291B2 (ja) | 排ガスの脱硫方法 | |
| CN1496753A (zh) | 具有阶梯托盘的烟道气脱硫系统 | |
| JP5731291B2 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
| JP2002136835A (ja) | 二室型湿式排煙脱硫装置 | |
| EP2495028A1 (en) | Exhaust gas treatment apparatus | |
| JPH07194924A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| KR100775193B1 (ko) | 스크러빙액 집수부에 개선된 산화 장치를 구비하는 연도가스 정화 장치 | |
| JP2002253925A (ja) | 湿式排煙脱硫装置 | |
| JPH07194928A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JPH09865A (ja) | 排ガスの処理方法及び装置 | |
| JPH07194925A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JPH07194927A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JPH07194926A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JPH07308536A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JP3667823B2 (ja) | 排ガスの処理方法及び装置 | |
| JPH07194931A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JP2796546B2 (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JPH07194932A (ja) | 多管式気液接触装置に用いられるガス導入機構 | |
| JPH07194929A (ja) | 多管式気液接触装置 | |
| JP3610437B2 (ja) | 排ガスの処理方法及び装置 | |
| TW201138937A (en) | Exhaust gas treatment device | |
| JP3637139B2 (ja) | 排ガスの脱硫方法及び装置 | |
| JP2002153727A (ja) | 二室型湿式排煙脱硫装置 | |
| JP3637140B2 (ja) | 排ガスの脱硫方法及び装置 |