JPH07188536A

JPH07188536A - ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートフィルム

Info

Publication number: JPH07188536A
Application number: JP27896894A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Kotoura; 正晃琴浦; Iwao Okazaki; 巌岡崎; Koichi Abe; 晃一阿部
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1993-11-18
Filing date: 1994-11-14
Publication date: 1995-07-25
Anticipated expiration: 2016-01-29
Also published as: JP3129122B2

Abstract

(57)【要約】【構成】ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボ
キシレ−トを主体とし、部分融解温度Ｔｐが８０〜１８
０℃であることを特徴とするポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレ−トフィルム。【効果】部分融解温度を特定範囲としたので、室温か
ら１３５℃近傍までの寸法安定性がよくなり、また優れ
た画質、ドロップアウト特性を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ポリエチレン−２，６
−ナフタレンジカルボキシレ−トを主体としたフィルム
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】磁気記
録媒体用のベ−スフィルムとしては、例えばポリエチレ
ンテレフタレ−トを主体とし、部分融解温度が規定さ
れ、その表層に表面活性化処理をした後、磁性層をコ−
ティングしたり、それと反対の片側表層には、走行性を
向上させるために易滑性のバックコ−ト層をコ−ティン
グしたフィルムが知られている（例えば特公平４−７１
２４５号公報）。

【０００３】しかし、従来のフィルムを磁気記録媒体に
用いた場合、走行回数が多くなると走行耐久性を向上さ
せるためのバックコ−ト層は、充分な機能を果たしてい
ないばかりか、走行中にバックコ−ト層が剥がれ落ちた
り、ひどい時にはベ−スフィルムのポリエチレンテレフ
タレ−トそのもの、あるいはそれに添加されている無機
化合物や有機化合物が脱落して、テ−プの走行性が急激
に悪化する。さらに、磁性層塗布、カレンダ−工程、あ
るいは、できたビデオテ−プ等をダビングしてソフトテ
−プ等を製造する工程等の工程速度の増大に伴い、接触
するロ−ルやガイドでフィルム表面に傷がつくという欠
点があった。また、従来のものでは、上記ダビング時の
画質低下のために、ビデオテ−プにした時の画質、すな
わち、Ｓ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）も不十分という欠
点があった。さらに、ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムでは、例えば、１００℃以上での熱収縮率が大きい
ため、磁性層塗布、カレンダ−工程、あるいは、できた
ビデオテ−プ等をダビングしてソフトテ−プ等を製造す
る場合に収縮等の問題が発生しつつある。

【０００４】本発明の第１の目的は、かかる課題を解決
し、熱寸法安定性に優れ、特に高速工程でフィルムに傷
がつきにくく（以下耐スクラッチ性に優れるという）、
しかもダビング時の画質低下が少ない（以下耐ダビング
性に優れるという）、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムを提供することにある。

【０００５】また、写真感光材料は一般的に、プラスチ
ックフィルム支持体上に少なくとも１層の写真感光層を
塗布することによって製造される。このプラスチックフ
ィルムとしては一般的にトリアセチルセルロ−ス（以下
「ＴＡＣ」という）に代表される繊維系ポリマ−とポリ
エチレンテレフタレ−ト（以下「ＰＥＴ」という）に代
表されるポリエステル系のポリマ−が使用されている
（繊維と工業，４１（９），３２４−３２９）。

【０００６】一般に写真感光材料としては、Ｘレイ用フ
ィルム、製版用フィルム、カットフィルムのようなシ−
ト状の形態のものと、３５ｍｍ幅またはそれ以下の幅で
パトロ−ネ内に収められ、一般のカメラに装填され撮影
に用いられるロ−ル状の形態のものとがある。

【０００７】しかし、ＰＥＴフィルムはロ−ル状写真感
光材料支持体としては、巻ぐせカ−ルが強く残留し、現
像後の写真印画紙への画像形成させる焼き付け工程等で
のスリ傷の発生、焦点ボケ、搬送時のジャミング等の問
題が生じてしまうため、優れた機械強度、寸法安定性を
有していながらロ−ル状写真感光材料支持体としては用
いられず、カ−ル回復性に優れているＴＡＣフィルムが
用いられてきた。

【０００８】また、近年の撮影時の高速化、撮影倍率の
高倍率化、ならびに撮影装置の小型化の進行に伴い、ロ
−ル状写真感光材料の用途も多様化しており、そのため
に、ロ−ル状写真感光支持体としては、カ−ル回復性と
ともに薄膜化に充分な機械強度や寸法安定性の性能が要
求される。

【０００９】本発明の第２の目的は、かかる課題を解決
し、カ−ルがつきにくく、薄膜化に充分な機械強度と寸
法安定性を有する写真材料用に好適なポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルムを提供
することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、ポリエチレン
−２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トを主体とし、
部分融解温度Ｔｐが８０〜１８０℃であるフィルムを特
徴とする。

【００１１】本発明におけるポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレ−トとは、たとえばエチレング
リコ−ルと２，６−ナフタレンジカルボン酸とから縮重
合により得られるエステル結合を有するものを言い、こ
れを主体とするものである。もちろんホモポリマ−に限
らず、ランダム共重合の場合なら１０モル％未満、ブロ
ック共重合の場合なら３０モル％未満共重合させてもよ
く、また、極限粘度［η］としては０．４０以上のもの
が好ましい。コモノマ−としては、例えば、テレフタル
酸、ｐ−オキシ安息香酸、β−オキシ−６−ナフトエ
酸、パラシクロヘキシルジメタノ−ル、ポリエチレング
リコ−ル、ポリテトラメチレングリコ−ルなどがある。

【００１２】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムには、平均粒径ｄが、
０．００５〜３μｍの粒子Ａを少なくとも１種類以上含
有することが好ましい。粒子Ａの種類としては、無機粒
子、有機粒子のいずれでもよい。無機粒子としては、特
に限定されないが、炭酸カルシウム粒子、コロイダルシ
リカ粒子、酸化チタン粒子等が好ましく例示される。炭
酸カルシウム粒子の場合には、特に限定されないが、結
晶形がカルサイト型、バテライト型の場合に、耐スクラ
ッチ性、耐ダビング性が特に良好となる。有機粒子とし
ては、特に限定されないが、架橋有機粒子が好ましい。
架橋有機粒子の場合には、特に限定されないが、ジビニ
ルベンゼン粒子および／またはシリコ−ン粒子が好まし
い。ジビニルベンゼン粒子とは、架橋成分としてジビニ
ルベンゼンを主体とするものをいう。つまり、ジビニル
ベンゼンが粒子成分の５１％以上、好ましくは６０％以
上、さらに好ましくは７５％以上のジビニルベンゼン共
重合体粒子が好ましい。他の成分としては、特に限定さ
れないが、例えばエチルビニルベンゼン、ジエチルベン
ゼン等の架橋しない成分があげられる。また、シリコ−
ン粒子とはオルガノポリシロキサンを主たる成分とする
ものが例示される。

【００１３】この粒子Ａの粒径は、平均粒径ｄが、０．
００５〜３μｍ、好ましくは０．０２〜１．５μｍ、さ
らに好ましくは０．０３〜１μｍである。平均粒径が、
上記範囲を外れると、耐スクラッチ性、耐ダビング性が
ともに良好とはなりにくい。また、粒子Ａの含有量は特
に限定されないが、０．０１〜１０重量％、好ましくは
０．０５〜８重量％、さらに好ましくは０．１〜６重量
％の場合に耐スクラッチ、耐ダビング性が特に良好とな
る。

【００１４】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムには、耐スクラッチ性、
耐ダビング性の点から、上記粒子Ａの他に、さらに他の
粒子Ｂを含有してもよい。他の粒子Ｂとしては、特に限
定されないが、結晶形がδ型、θ型、η型、γ型のアル
ミナ、ジルコニア、シリカ等の凝集粒子等が好ましく例
示される。これらの粒子を複数併用して用いてもよい。
凝集粒子の一次径は特に限定されないが、５〜２００ｎ
ｍ、好ましくは１０〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１
５〜１００ｎｍ、二次径は特に限定されないが、３０〜
１０００ｎｍ、好ましくは４０〜８００ｎｍ、さらに好
ましくは５０〜６００ｎｍの場合に耐スクラッチ性、耐
ダビング性がより一層良好となる。

【００１５】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムにコ−ティングされる有
極性高分子としては、水酸基、エ−テル基、アミド基、
メトキシ基等の極性基を持ち、分子量が１万〜２００
万、好ましくは１０万〜１００万のものが使用される。
分子量が１万を下まわると、被膜が柔らかくなり、構造
維持が難しくなり、耐久性が悪くなる。分子量が２００
万を上まわると被膜がかたくなりすぎ、もろくなり、や
はり耐久性が悪くなる。かかる有極性高分子としては、
ポリビニルアルコ−ル、トラガントゴム、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロ−ス、ヒドロキ
シエチルセルロ−ス、水溶性ポリエステルエ−テル共重
合体等が適用でき、これらのブレンド体も適用できる。
有極性高分子の極性のために、強磁性薄膜の付着強度が
上昇する。

【００１６】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムには、さらに、本発明の
目的を阻害しない範囲内で他種ポリマをブレンドしても
よいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収
剤などの各種添加剤が通常添加される程度添加されてい
てもよい。

【００１７】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムは、上記組成物からな
り、特に限定されないが、二軸配向せしめたフィルムの
場合に耐スクラッチ性が良好となるので好ましい。この
配向の程度は特に限定されないが、高分子の分子配向の
目安であるヤング率が長手方向、幅方向ともに３５０ｋ
ｇ／ｍｍ²である場合に耐スクラッチ性がより一層良好
となるので特に好ましい。

【００１８】また、本発明フィルムは、ヤング率が上記
範囲内であっても、フィルムの厚さ方向の一部分、例え
ば表層付近のポリマ分子の配向が無配向、あるいは一軸
配向になっていない、すなわち厚さ方向の全部分の分子
配向が二軸配向である場合に耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより一層良好となる。特にアッベ屈折率計、レ−
ザ−を用いた屈折率計、全反射レ−ザ−ラマン法などに
よって測定される分子配向が、表面、裏面ともに二軸配
向である場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一
層良好となる。

【００１９】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムは、耐スクラッチ性、耐
ダビング性の点から、前記の少なくとも１種類の粒子Ａ
を含有するフィルムが、少なくとも２層構造からなる積
層フィルムの１つの層であることが好ましい。

【００２０】前記粒子Ａを含有するフィルム層の厚さ
は、特に限定されないが、耐スクラッチ性、耐ダビング
性の点から、０．００５〜３μｍ、好ましくは０．０１
〜２μｍ、さらに好ましくは０．０２〜１μｍである。

【００２１】さらに、粒子Ｂを併用する場合、粒子Ａと
粒子Ｂは、同じ層に含有されていてもよいし、また、異
なる層に含有されていてもよいが、耐スクラッチ性、耐
ダビング性の点から特に好ましいのは、粒子Ａと粒子
Ｂが少なくとも片面側の同じ最外層に含有され、そのフ
ィルム層厚さｔと粒子Ａの粒径ｄの関係が、０．２ｄ≦
ｔ≦１０ｄ、好ましくは０．５ｄ≦ｔ≦５ｄ、さらに好
ましくは０．５ｄ≦ｔ≦３ｄの場合、または、粒子Ａ
を含有するフィルムの層の厚さｔと粒子Ａの粒径ｄの関
係が、０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ、好ましくは０．５ｄ≦ｔ
≦５ｄ、さらに好ましくは０．５ｄ≦ｔ≦３ｄであっ
て、その外側に粒子Ｂを含有する層が最外層として存在
し、その最外層の厚さが０．００５〜１μｍ、好ましく
は０．０１〜０．５μｍ、さらに好ましくは０．０２〜
０．３μｍの場合である。

【００２２】上記積層構成において、前記粒子Ａを含有
するフィルム層以外の層を構成するポリマは、特に限定
されないがポリエステルが好ましい。ポリエステルとし
ては特に限定されないが、エチレンテレフタレ−ト、エ
チレン−α，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン
−４，４’−ジカルボキシレ−ト、エチレン−２，６−
ナフタレンジカルボキシレ−ト単位から選ばれた少なく
とも一種の構造単位を主要構成成分とする場合に耐スク
ラッチ性、耐ダビング性がより良好となるので好まし
い。なかでも、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボ
キシレ−トを主要構成成分とするポリエステルの場合に
耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
で特に好ましい。

【００２３】また、該積層構成において、前記粒子Ａを
含有するフィルム層以外の層を構成するポリマ中に粒子
を含有してもかまわない。この場合、炭酸カルシウム、
アルミナ、シリカ、チタン、カ−ボンブラック等が例示
される。

【００２４】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムは、特に限定されない
が、耐スクラッチ性、耐ダビング性の点から、少なくと
も片面の突起個数が２×１０³〜５×１０⁶個／ｍｍ²
が好ましい。少なくとも片面の突起個数は、好ましくは
３×１０³〜４×１０⁶個／ｍｍ²，より好ましくは５
×１０³〜３×１０⁶個／ｍｍ²である。

【００２５】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムは、特に限定されない
が、部分融解温度における融解熱量が０．０１〜１．０
ｃａｌ／ｇ、好ましくは、０．０５〜０．８ｃａｌ／ｇ
の場合に、耐スクラッチ性、耐ダビング性、カ−ル回復
性がより一層良好となる。

【００２６】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレ−トフィルムの厚さは用途に応じて適
宜選択できるが、通常は厚さが５００μｍ以下の膜状物
であり、より好ましくは３〜１５０μｍ、さらに好まし
くは４〜１２５μｍの範囲のものをいう。

【００２７】磁気記録層とは、磁場によって磁化するこ
とのできる層であり、磁性層は、強磁性粒子およびバイ
ンダ−を含む塗膜からなる塗布型および強磁性金属薄膜
よりなる金属薄膜型のいずれも適用でき、強磁性物質と
しては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃，Ｆｅ₃Ｏ₄，Ｃｏ含有γ−Ｆ
ｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃−Ｆｅ₃Ｏ₄固容
体、Ｃｏ系化合物被覆型γ−Ｆｅ₂Ｏ₃，Ｃｏ系化合物
被覆型γ−Ｆｅ₃Ｏ₄（γ−Ｆｅ₂Ｏ₃との中間酸化状
態も含む。ここでいうＣｏ系化合物とは、酸化コバル
ト、コバルトフェライト、コバルトイオン吸着物等、コ
バルトの磁気異方性を保持力向上に活用する場合を示
す）、あるいは、鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁
性金属あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、
Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃ
ｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−
Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌのよう
な磁性合金、更にＢａフェライト、Ｓｒフェライトのよ
うなフェライト系磁性体を挙げることができる。

【００２８】本発明における部分融解とは、ポリマの一
部が融解することであり、ポリマ全体が軟化したり、流
れたり、あるいは形状が大きく変形したりすることはな
く、外観上はほとんど変化がないように見える部分的な
融解であり、本発明フィルム全体の融解エネルギ−の５
％以下の融解エネルギ−を有するものをいう。

【００２９】本発明の場合、部分融解温度Ｔｐは、８０
〜１８０℃、好ましくは９０〜１６０℃、より好ましく
は１００〜１４０℃である。Ｔｐが８０℃未満だと長時
間走行させると磁気記録媒体のバック面と金属などのガ
イドとの接触による摩擦係数の増大が大きくなり、その
ためにテ−プ鳴りや、走行スピ−ドの変動あるいは磁性
層の部分剥離などを生ずる。さらに１２０℃以上だと走
行耐久性、削れ性も良好となる。また、Ｔｐが８０℃未
満であると、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカル
ボキシレ−ト分子の安定性が不充分であるため、カール
回復性が不良となる。

【００３０】一方、部分融解温度Ｔｐが１８０℃を越え
ると長時間走行させると磁気記録媒体のバック面のコ−
ト層の剥離，脱落や、さらにはベ−スポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−ト層からのポリマ
あるいはそれに添加されている無機物・有機物などの添
加剤が脱落し、磁性層の部分剥離を生じ磁気記録特性の
大巾な悪化につながる。また、添加剤の脱落は、カール
回復性の大幅な悪化にもつながる。

【００３１】本発明のフィルムは、片面あるいは両面に
磁性層を設ける場合や、片面に磁性層、他の片面にバッ
クコ−ト層を設ける磁気テ−プ、磁気ディスクなどに用
いることができる。また、カール回復性が良好なため、
ロール状写真感光材料のベースフィルムとして好適に用
いられる。

【００３２】次に本発明フィルムの製造方法について述
べるが必ずしもこれに限定されるものではない。

【００３３】ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカル
ボキシレ−トとして、極限粘度［η］０．４〜２．０ｄ
ｌ／ｇ、好ましくは０．６０〜０．９０ｄｌ／ｇで、ジ
エチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ルなどのコ
モノマ−を５モル％以内含有したポリマを用いる。本発
明の場合、添加剤としては特に平均粒径ｄが０．０５〜
３．０μｍのコロイダルシリカ粒子、例えば、０．１〜
０．４μｍのものを添加すれば、本発明の効果であるポ
リマあるいは添加剤の脱落が、特に少なくなるばかりか
長時間使用後の走行性も向上し、長時間安定して使用で
きるようになる。該ポリエチレン−２，６−ナフタレン
ジカルボキシレ−トを押出機に供給し、融解させた後、
ギヤポンプで正確に定量した後、口金からシ−ト状に押
出す。該溶融シ−トを、２０〜７０℃に冷却されたクロ
ムメッキロ−ル上に、静電荷を印加させながらキャスト
し、冷却固化させた。該キャストシ−トを、ロ−ル表面
温度９０〜１６０℃に加熱された予熱・延伸ロ−ル上で
加熱し、長手方向に３〜７倍延伸後、９０〜１９０℃に
加熱されたテンタ−内に導入し、幅方向に３〜７倍延伸
し、続いて幅方向に０〜１０％のリラックスを許しなが
ら１２０〜２４０℃で熱固定し、厚さ４〜１５０μｍの
二軸配向フィルムを得る。場合によっては、該二軸配向
フィルムを、再縦延伸、再横延伸してもよい。再縦延
伸、再横延伸の方法としては、例えば、同時二軸延伸テ
ンタ−に導入し１２０〜２４０℃に加熱後、長手方向に
１．１〜２．２倍、幅方向に０．８〜１．５倍延伸後、
１５０〜２４０℃で長手方向に０〜１０％のリラックス
を許しながら熱処理しト−タルの長手方向延伸倍率とし
て４〜１３倍、幅方向延伸倍率として３〜８倍延伸して
もよい。

【００３４】該二軸配向フィルムを更にポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トの不活性な熱媒
中で熱処理する。不活性な熱媒としては、水、四塩化炭
素、トリクロロエチレンなどで代表される液体あるいは
気体状のものが例示される。処理熱媒の温度は好ましく
は９０〜１３０℃、より好ましくは１００〜１２０℃の
範囲である。これ以外の温度で処理した場合、部分融解
温度が本発明温度範囲に入らなくなる場合がある。処理
時間は好ましくは０．１〜１００秒、より好ましくは１
〜３０秒間であり、長手方向、巾方向の各方面のリラッ
クス率は５〜２０％程度である。この処理中の長手方向
の張力は６ｋｇ／ｍ幅以下でない場合、部分融解温度が
本発明温度範囲に入らなくなる場合がある。

【００３５】または、この該二軸配向フィルムをロ−ル
に巻き、張力をかけた状態で、フィルムのガラス転移温
度以下の温度で処理してもよい。処理温度は好ましくは
８０〜１３０℃、より好ましくは１００〜１２０℃の範
囲である。処理時間は好ましくは１０分〜４８時間、よ
り好ましくは２〜１０時間である。フィルムにかける長
手方向の張力は、処理温度におけるフィルムの熱収応力
にほぼ等しいことが好ましい。

【００３６】または、該二軸配向フィルムをロ−ルに巻
取る時に、赤外ランプ（ハロゲンランプ、）を用いて、
波数６００〜１０００ｃｍ-1の赤外光を選択的に照射す
るという処理を行ってもよい。処理時間は、１秒〜３０
０秒の範囲である。この処理は、フィルムを製品幅にス
リットする時に行ってもよい。

【００３７】次に該ポリエチレン−２，６−ナフタレン
ジカルボキシレ−トフィルムの表面に好ましくは活性化
処理をして表面濡れ張力を６０ｄｙｎ／ｃｍ以上にした
のち、塗布型あるいは蒸着型の磁気記録層をコ−ティン
グし、それと反対面に必要なら易滑性のバックコ−ト層
をコ−ティングすることができる。

【００３８】

【作用】本発明のポリエチレン−２，６−ナフタレンジ
カルボキシレ−トフィルムを磁気記録媒体に用いた場
合、ベ−ス層であるポリエチレン−２，６−ナフタレン
ジカルボキシレ−トフィルムに、特定の温度で部分融解
すなわち吸熱しうる特別の構造を付与させたので、走行
中、あるいは磁性層や易滑層のコ−ティング中の加熱に
よっても、ベ−スフィルムの表面特性の変化が生じない
という優れた作用を有する。また、磁気記録媒体用途以
外にも、熱収縮率が小さいことなどにより、コンデンサ
−用途等に、それに加えて、巻ぐせカ−ル回復性に優れ
ていることから写真材料用にも使用できる。

【００３９】次に本発明で使用した用語、測定法につい
て述べる。

【００４０】（１）部分融解温度Ｔｐ、部分融解熱量、
フィルムのガラス転移温度フィルムサンプル１０ｍｇ入れたＤＳＣパンを走査熱量
計（ＤＳＣ，例えばパ−キンエルマ−社製ＤＳＣ−II型
など）にセットし、窒素気流下で２０℃から昇温速度２
０℃／分で昇温して行き、少なくとも２３０℃まで測定
した。部分融解温度Ｔｐは、測定したＤＳＣ曲線にベ−
スラインを引き、ベ−スラインより吸熱側にずれ始める
温度Ｔ1 と、吸熱側からベ−スラインに戻った温度Ｔ2
との算術平均値（（Ｔ1 ＋Ｔ2 ）／２）と定義する。部
分融解熱量は、ＤＳＣ曲線において、Ｔ1 とＴ2 におけ
るベ−スラインとＤＳＣ曲線に囲まれた面積から求め
た。フィルムのガラス転移温度は、常法にしたがって、
温度−比熱曲線から求めた。（２）極限粘度［η］ポリマ−をｏ−クロロフェノ−ルに溶かして測定したも
ので、ＡＳＴＭＤ−１６０１にしたがう（単位ｄｌ／
ｇ）。

【００４１】（３）表面粗さＲａＪＩＳＢ−０６０１−１９７６により粗さ曲線から測
定したもので、カットオフ値０．２５ｍｍ、測定長４ｍ
ｍで行なった。

【００４２】（４）ヤング率ＪＩＳＺ−１７０２に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２５
℃、６５％ＲＨにて測定した。

【００４３】（５）走行耐久性テ−プ走行試験機ＴＢＴ−３００型［（株）横浜システ
ム研究所製］を使用し、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気で
１００回繰り返し走行させ初期の動摩擦係数μｋと１０
０回繰り返し走行後のμｋを下記の式より求め、これら
二つの値の差（１００回繰り返し走行後のμｋ−初期μ
ｋ）で走行耐久性を表わした。

【００４４】μｋ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ1 ／Ｔ0 ）ここでＴ0 は入側張力（５０ｇ）、Ｔ1 は出側張力であ
り、ガイド径は８ｍｍφであり、ガイド材質はＳＵＳ２
７（表面硬度０．２Ｓ）、巻き付け角は１８０°、走行
速度は３．３ｃｍ／秒である。

【００４５】［１００回繰り返し後のμｋと初期μｋと
の差］［判定］０．０２未満 ○ ０．０２以上〜０．２未満 △ ０．２以上（１００回未達を含む） × （６）削れ性：下記白粉量判定基準に準じる。

【００４６】テ−プ走行試験機ＴＢＴ−３００型
［（株）横浜システム研究所製］を使用し、２５℃、６
５％ＲＨの雰囲気で３００回繰り返し走行させた後、ガ
イド部に付着した白色の削れ粉（白粉）を目視にて判定
する。

【００４７】ここで、ガイド径は８ｍｍφであり、ガイ
ド材質はＳＵＳ２７（表面粗度０．２Ｓ）、巻き付け角
は１８０゜、走行速度は３．３ｃｍ／秒である。

【００４８】非常に少ない ◎ 白粉量判定基準少ない ○ やや多い △ 非常に多い × （７）熱収縮率ＪＩＳＣ−２３１８に規定された方法をもとにして測
定した。ただし、オ−ブン中の保持時間は３０分とし
た。

【００４９】０．０５％未満 ○ 各処理温度において熱収縮率が０．０５％以上〜０．４％未満 △ ０．４％以上 × （８）平均粒径フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１
０万倍以上の倍率で観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１
００ｎｍとし、場所を変えて１００視野以上測定する。
粒子Ａの粒径は単分散粒子について、粒子Ｂの一次粒径
は、粒子Ｂの分割できない粒子最小単位について、粒子
Ｂの二次粒径は凝集体について、それぞれ等価円相当径
の平均値である。なお、粒子Ａの粒径は重量平均、粒子
Ｂの一次粒径、二次粒径は個数平均とする。

【００５０】（９）粒子の含有量ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

【００５１】（１０）積層フィルムの積層厚み２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子のうち最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ⁺／Ｃ^-）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行なう。表層では
表面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざか
るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合
は、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。
この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／
２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深
い）を求め、これを積層厚みとした。条件は次のとお
り。

【００５２】測定装置２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）独、ＡＴＯＭＩ
ＫＡ社製Ａ−ＤＩＤＡ３０００測定条件１次イオン種Ｏ₂ ⁺ １次イオン加速電圧１２ｋＶ１次イオン電流２００ｎＡラスタ−領域４００μｍ□ 分析領域ゲ−ト３０％測定真空度６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ−ＧＵＮ０．５ｋＶ−３．０Ａなお、表層からの深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含
有する粒子が有機高分子粒子の場合は、ＳＩＭＳでは測
定が難しいので、表層からエッチングしながらＸＰＳ
（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記
同様のデプスプロファイルを測定し積層厚みを求めても
良いし、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度
の変化状態やポリマの違いによるコントラストの差から
界面を認識し積層厚みを求めることもできる。さらには
積層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚み
を求めることもできる。

【００５３】（１１）フィルム表面の分子配向ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源として、アッベ屈
折率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレ
ンを用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。ポリマの
二軸配向性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をＮ
1 、Ｎ2 、Ｎ3とした時、（Ｎ1 −Ｎ2 ）の絶対値が０.
０７以下、かつ、Ｎ3 ／［（Ｎ1 ＋Ｎ2 ）／２］が０.
９５以下であることをひとつの基準とできる。また、
レーザー型屈折率計を用いて屈折率を測定してもよい。
さらに、この方法では測定が難しい場合は全反射レーザ
ーラマン法を用いることもできる。レーザー全反射ラマ
ンの測定は、Jobin-Yvon社製Ramanor Ｕ−１０００ラマ
ンシステムにより、全反射ラマンスペクトルを測定し、
例えばＰＥＴの場合では、１６１５ｃｍ-1（ベンゼン環
の骨格振動）と１７３０ｃｍ^-1（カルボニル基の伸縮振
動）のバンド強度比の偏光測定比（ＹＹ／ＸＸ比など。
ここでＹＹ：レーザーの偏光方向をＹにしてＹに対して
平行なラマン光検出、ＸＸ：レーザーの偏光方向をＸに
してＸに対して平行なラマン光検出）が分子配向と対応
することを利用できる。ポリマの二軸配向性はラマン測
定から得られたパラメータを長手方向、幅方向の屈折率
に換算して、その絶対値、差などから判定できる。この
場合の測定条件は次のとおりである。

【００５４】光源アルゴンイオンレ−ザ−（５１４５オングストローム）試料のセッティングフィルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レ−ザのプ
リズムへの入射角（フィルム厚さ方向との角度）は６０
゜とした。

【００５５】検出器ＰＭ：RCA31034/Photon Counting System(Hamamatsu C1
230) (supply 1600V) 測定条件スリット 1000μｍレ−ザ− 100mW ゲ−ト時間 1.0sec 測定速度 12cm^-1/min サンプリング間隔 0.2cm ^-1 繰り返し回数 6 （１２）耐スクラッチ性フィルムを幅1/2 インチのテ−プ状にスリットしたもの
をテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度２５
０ｍ／分、走行回数１パス、巻き付け角：６０゜、走行
張力：９０ｇ）。この時、フィルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、幅１μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本未満
は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良と判
定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可能で
ある。

【００５６】（１３）耐ダビング性フィルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダ−装置（スチ−ルロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカ
レンダ−処理した後、７０℃、４８時間キュアリングす
る。

【００５７】（磁性塗料の組成）・Ｃｏ含有酸化鉄：１００重量部・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体：１０重量部・ポリウレタンエラストマ：１０重量部・ポリイソシアネート）：５重量部・レシチン：１重量部・メチルエチルケトン：７５重量部・メチルイソブチルケトン：７５重量部・トルエン：７５重量部・カーボンブラック：２重量部・ラウリン酸：１．５重量部次に、下記組成のバックコ−ト層用塗料を、先に磁性層
を形成した基材の反対側に乾燥厚みが１．０μｍになる
ように塗布、乾燥を行ない、カレンダ−にて表面平滑化
処理を行なった後、熱硬化させた。

【００５８】（バックコ−ト層用塗料）・酸化マグネシウム１００μｍ：１２０重量部・カ−ボンブラック３０μｍ：８０重量部・硬化剤コロネ−トＬ：２０重量部・潤滑剤ステアリン酸：４重量部・ステアリン酸ブチル：２重量部・硝化綿：４０重量部・塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ−ル共重合体：３０重量部（積水化学製、エレックスＡ）・ポリウレタンエラストマ− ：３０重量部（Ｂ．Ｆグッドリッチ社製エッセン５７０３）・混合溶剤（ＭＩＢＫ／トルエン）：２５０重量部上記テ−プ原反を１／２インチにスリットし、パンケー
キを作成した。このパンケ−キから長さ２５０ｍの長さ
をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとし
た。このテープに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形
発生器により１００％クロマ信号を記録し、その再生信
号からカラ−ビデオノイズ測定器でクロマＳ／Ｎを測定
しＡとした。また上記と同じ信号を記録したマスタ−テ
ープのパンケーキを磁界転写方式のビデオソフト高速プ
リントシステム（スプリンタ）を用いてＡを測定したの
と同じ試料テープ（未記録）のパンケーキへダビングし
た後のテープのクロマＳ／Ｎを上記と同様にして測定
し、Ｂとした。このダビングによるクロマＳ／Ｎの低下
（Ａ−Ｂ）が３ｄＢ未満の場合は耐ダビング性：優、３
ｄＢ以上５ｄＢ未満の場合は良、５ｄＢ以上は不良と判
定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可能で
ある。

【００５９】（１４）表面濡れ張力ＪＩＳＫ−６７８８にしたがって測定した。

【００６０】（１５）巻ぐせカ−ル回復性フィルムから幅３５ｍｍ、長さ１３３ｍｍの試料を作
り、直径１０ｍｍの巻芯に巻き、３０％ＲＨ下に７０℃
で７２時間の加熱処理を行った。その後、巻芯から解放
し４０℃の蒸留水に３０分間浸漬後、サンプルを垂直に
吊るし、３０ｇの荷重をかけ、５０℃の空気恒温槽で５
分間乾燥した。この処理したフィルムサンプルを平面上
に置いて、サンプル長を測定し、元のサンプル長１３３
ｍｍに対する比（％）により、巻ぐせカ−ル回復性を評
価した。

【００６１】

【実施例】次に実施例に基づき、本発明をさらに詳細に
説明する。

【００６２】実施例１（表１）ジエチレングリコ−ルを０．１モル共重合させたポリエ
チレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トＰＥＮ
（極限粘度［η］＝０．６５ｄｌ／ｇ）に、コロイダル
シリカ粒子として平均粒径０．２μｍのものを０．２５
％添加した。該ＰＥＮを押出機に供給し、３００℃で溶
融させ、ギヤポンプで定量後、Ｔダイ口金から溶融シ−
トを押出し、４５℃に保たれたクロムメッキドラム上に
静電荷を印加させながらキャストした。該キャストシ−
トを１３０℃に加熱されたロ−ル上に接触させて長手方
向に４．５倍延伸後、冷却し、つづいて１２５℃に加熱
されたステンタ−内で５．０倍幅方向に延伸後、２００
℃で２％のリラックスを許しながら熱固定した。さら
に、該フィルムを同時二軸延伸テンタ−に導入し、１５
０℃で長手方向に１．２倍、幅方向に１．１倍同時延伸
し、つづいて１８５℃で長手方向、幅方向にそれぞれ２
％、５％リラックスし、ト−タルで長手方向５．４倍、
幅方向に５．５倍延伸した。

【００６３】つづいて、各種温度に保たれたトリクロロ
エチレンの熱媒槽中に導き、２０秒間、長手方向に２％
のリラックスを許し、長手方向の張力１．５ｋｇ／ｍ幅
で処理を行ない乾燥後、厚さ７．０μｍのフィルムをワ
インダ−にてロ−ル状に巻取った。このフィルムの表面
粗さＲａは０．００７μｍと平滑であった。このフィル
ムの特性は第１表に示したとおりであり、寸法安定性、
耐スクラッチ性、耐ダビング性が良好であった。

【００６４】

【表１】実施例２（表２）粒子Ａとして、粒子中の組成がジビニルベンゼン８１％
である平均粒径ｄが０．４５μｍのジビニルベンゼン粒
子の水スラリ−を、直接、ジエチレングリコ−ルを０．
１モル共重合させたポリエチレン−２，６−ナフタレン
ジカルボキシレ−トＰＥＮ（極限粘度［η］＝０．６５
ｄｌ／ｇ）と混合し、ベント式の２軸混練押出機を用い
て練り込み、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカル
ボキシレ−トのマスタペレットを得た。また、別途、粒
子を含有しないポリエチレン−２，６−ナフタレンジカ
ルボキシレ−トのマスタペレットを常法により得た。

【００６５】これらのポリマを適当量混合し（ポリマ
Ａ：無粒子＋ジビニルベンゼン粒子、ポリマＢ：無粒
子）、１８０℃で８時間減圧乾燥（３Torr）した後、そ
れぞれ押出機１、押出機２に供給し２９５℃、３００℃
で溶融した。これらのポリマを高精度瀘過した後、矩形
合流部にて３層積層とした（Ａ／Ｂ／Ａ）。

【００６６】これを静電印加キャスト法を用いて表面温
度２５℃のキャスティング・ドラムに巻き付けて冷却固
化し、未延伸フィルムを作った。この時、口金スリット
間隙／未延伸フィルム厚さの比を１０とした。また、そ
れぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂
Ａ層の厚さを調節した。

【００６７】この未延伸フィルムを温度１４０℃に加熱
されたロ−ル上に接触させて長手方向に４．８倍延伸
後、冷却し、つづいて１３５℃に加熱されたステンタ−
内で５．２倍幅方向に延伸後、２１０℃で３％のリラッ
クスを許しながら熱固定した。さらに、該フィルムを同
時２軸延伸テンタ−に導入し、１６０℃で長手方向に
１．２倍、幅方向に１．１倍同時延伸し、つづいて、１
９０℃で長手方向、幅方向ともに３％リラックスした。

【００６８】つづいて、各種温度に保たれたトリクロロ
エチレンの熱媒槽中に導き、３０秒間、長手方向に１％
のリラックスを許し、長手方向の張力１．６ｋｇ／ｍ幅
で処理を行ない乾燥後、８μｍのフィルムをワインダ−
にてロ−ル状に巻取った。このフィルムの特性は第２表
に示したとおりであり、寸法安定性、耐スクラッチ性、
耐ダビング性が良好であった。

【００６９】

【表２】比較例１〜３（表３）粒子Ａとして、粒子中の組成がジビニルベンゼン８１％
である平均粒径ｄが０．４５μｍのジビニルベンゼン粒
子の水スラリ−を、直接ポリエチレンテレフタレ−ト
（極限粘度［η］＝０．６０ｄｌ／ｇ）と混合し、ベン
ト式の２軸混練押出機を用いて練り込み、ポリエチレン
テレフタレ−トのマスタペレットを得た。また、別途、
粒子を含有しないポリエチレンテレフタレ−トのマスタ
ペレットを常法により得た。

【００７０】これらのポリマを適当量混合し（ポリマ
Ａ：無粒子＋ジビニルベンゼン粒子、ポリマＢ：無粒
子）、１８０℃で８時間減圧乾燥（３Torr）した後、押
出機に供給し２８０℃で溶融した。これらのポリマを高
精度瀘過した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度
２５℃のキャスティング・ドラムに巻き付けて冷却固化
し、未延伸フィルムを作った。この時、口金スリット間
隙／未延伸フィルム厚さの比を１０とした。また、それ
ぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さを調節した。この
未延伸フィルムを温度９５℃に加熱されたロ−ル上に接
触させて長手方向に３．７倍延伸した。この延伸は２組
ずつのロ−ルの周速差で、４段階で行った。この一軸延
伸フィルムをテンタ−を用いて温度１００℃、延伸速度
２０００％／分で幅方向に４．０倍延伸し、２００℃に
て２％のリラックスを許しながら５秒間熱処理した。さ
らに、該フィルムを同時２軸延伸テンタ−に導入し、１
５０℃で長手方向に１．２倍、幅方向に１．１倍同時延
伸し、つづいて、１８５℃で長手方向、幅方向にそれぞ
れ２％、３％リラックスした（比較例１）。

【００７１】つづいて、６０℃に保たれたトリクロロエ
チレンの熱媒槽中に導き、３０秒間、長手方向に１％の
リラックスを許し、長手方向の張力１．６ｋｇ／ｍ幅で
処理を行ない乾燥後、８μｍのフィルムをワインダ−に
てロ−ル状に巻取った（比較例２）。

【００７２】実施例１において、熱媒処理前のフィルム
を比較例３とする。

【００７３】第３表に示したとおり、ポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルムでＴｐ
＝１４０℃を示すフィルムは、他のフィルムと比較し
て、高温まで熱収縮率が小さいことがわかる。

【００７４】

【表３】表１，２，３に示したようにポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレ−トフィルムのＴｐを８０〜１
８０℃、好ましくは１３０〜１６０℃の範囲に設けるこ
とにより、熱収縮率が小さくなり、耐スクラッチ性、耐
ダビング性を両立させることがわかる。この時の熱媒槽
の温度としては、９０〜１３０℃、好ましくは１００〜
１２０℃の温度範囲で処理するのがよいことがわかる。

【００７５】実施例３（表４、５）実施例１において、熱媒処理前のフィルムをフィルム幅
が１５００ｍｍ以下になるようにスリットしロ−ルに巻
いた。そのロ−ルをフィルムに張力がかかった状態で、
９０℃の熱風オ−ブン中で２０時間熱処理を行った。こ
のフィルムの特性は第４表に示したとおり、耐スクラッ
チ性、耐ダビング性、熱寸法安定性（熱収縮率）が良好
であった。

【００７６】実施例４（表４）実施例２において、熱媒処理前のフィルムをフィルム幅
が１５００ｍｍ以下になるようにスリットしロ−ルに巻
いた。そのロ−ルをフィルムに張力がかかった状態で、
１１０℃の熱風オ−ブン中で１０時間熱処理を行った。
このフィルムの特性は第４表に示したとおり、耐スクラ
ッチ性、耐ダビング性、熱寸法安定性（熱収縮率）が良
好であった。

【００７７】実施例５（表４）実施例４において、フィルム幅を１５００ｍｍ以下の製
品幅にスリットするときに、赤外ランプ（６ｋＷ）の６
００〜１０００ｃｍ^-1の波数の赤外光を２０秒間フィル
ムに照射した後、ロ−ルに巻いた。このフィルムの特性
は第４表に示したとおり、耐スクラッチ性、耐ダビング
性、熱寸法安定性（熱収縮率）が良好であった。

【００７８】実施例６（表６）ジエチレングリコ−ルを０．０５モル共重合させたポリ
エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トＰＥ
Ｎ（極限粘度［η］＝０．６３ｄｌ／ｇ）に、コロイダ
ルシリカ粒子として平均粒径０．２μｍのものを０．３
％添加した。該ＰＥＮを押出機に供給し、３００℃で溶
融させ、ギヤポンプで定量後、Ｔダイ口金から溶融シ−
トを押出し、４５℃に保たれたクロムメッキドラム上に
静電荷を印加させながらキャストした。該キャストシ−
トを１３５℃に加熱されたロ−ル上に接触させて長手方
向に４．４倍延伸後、冷却し、つづいて１３５℃に加熱
されたステンタ−内で５．０倍幅方向に延伸後、２２０
℃で２％のリラックスを許しながら熱固定した。厚さ９
０μｍのフィルムをワインダ−にてロ−ル状に巻取っ
た。このフィルムをフィルム幅が１５００ｍｍ以下にな
るようにスリットしロ−ルに巻いた。そのロ−ルをフィ
ルムに張力がかかった状態で、９５℃の熱風オ−ブン中
で１５時間熱処理を行った。このフィルムの特性は第６
表に示したとおり、熱寸法安定性（熱収縮率）、カ−ル
回復性が良好であった。

【００７９】比較例４〜６（表４、５）比較例１において、熱媒処理前のフィルムをフィルム幅
が１５００ｍｍ以下になるようにスリットしロ−ルに巻
いた。そのロ−ルをフィルムに張力がかかった状態で、
６０℃の熱風オ−ブン中で２０時間熱処理を行った（比
較例４）。

【００８０】実施例３において、熱風オ−ブンでの処理
前のフィルムを比較例５とする。

【００８１】実施例３において、熱風オ−ブンでの処理
温度を７０℃とし、１０時間熱処理を行ったフィルムを
比較例６とする。

【００８２】第５表に示したとおり、ポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルムでＴｐ
＝１３０℃を示すフィルムは、他のフィルムと比較し
て、高温まで熱収縮率が小さいことがわかる。

【００８３】比較例７〜８（表６）実施例６において、熱風オ−ブンでの処理前のフィルム
を比較例７とする。

【００８４】実施例６において、熱風オ−ブンでの処理
温度を６０℃とし、１５時間熱処理を行ったフィルムを
比較例８とする。

【００８５】表４〜６に示したようにポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルムのＴｐ
を８０〜１８０℃、好ましくは１００〜１４０℃の範囲
に設けることにより、熱収縮率が小さくなり、また、耐
スクラッチ性、耐ダビング性、カ−ル回復性に優れてい
ることがわかる。この時の熱風オ−ブンの処理温度とし
ては、８０〜１３０℃、好ましくは１００〜１２０℃の
温度範囲で処理するのがよいことがわかる。

【００８６】

【表４】

【表５】

【表６】

【００８７】

【発明の効果】上記部分融解温度Ｔｐを特定温度範囲に
したもので、これを用いた磁気記録媒体は次のような優
れた効果を生じる。

【００８８】（１）さらに、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレ−トフィルム層、バック層、磁
性層などからの剥離物や脱落物などがなく、耐スクラッ
チ性、耐ダビング性に優れる。

【００８９】（２）磁性層との接着力が向上し、簡単な
表面活性化法で、強力な接着が得られる。

【００９０】（３）室温から１３０℃近傍までの寸法安
定性がよくなり、記録再生時の歪がほとんどない。

【００９１】（４）モノマ−、オリゴマ−などの低分子
量物、さらには添加剤などが記録体表面にブリ−ドアウ
トすることなく、均一な記録・高密度な記録が行なえ
る。

【００９２】また、上記部分融解温度Ｔｐを特定温度範
囲にすると、写真材料用フィルムとして必要なカ−ル回
復性に優れた効果を生じる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカ
ルボキシレ−トを主体とし、部分融解温度Ｔｐが８０〜
１８０℃であることを特徴とするポリエチレン−２，６
−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルム。
【請求項２】平均粒径ｄが、０．００５〜３μｍの粒
子Ａを０．０１〜１０重量％含有することを特徴とする
請求項１のポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボ
キシレ−トフィルム。
【請求項３】前記粒子Ａの平均粒径ｄ（ｎｍ）と粒子
Ａを含有する層厚さｔ（ｎｍ）との関係が０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄである請求項１又は２に記載のポリエチレン−２，６−
ナフタレンジカルボキシレ−トフィルム。
【請求項４】少なくとも２層構造からなる積層フィル
ムの１つの最外層が請求項１〜３いずれかに記載のフィ
ルムであることを特徴とする積層ポリエチレン−２，６
−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルム。
【請求項５】表面に有極性高分子がコ−ティングされ
ていることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の
ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレ−ト
フィルム。
【請求項６】部分融解温度における部分融解熱量が
０．０１〜１．０ｃａｌ／ｇであることを特徴とする請
求項１〜５いずれかに記載のポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレ−トフィルム。
【請求項７】磁気記録媒体に用いられてなることを特
徴とする請求項１〜６いずれかに記載のポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルム。
【請求項８】写真材料用に用いられてなることを特徴
とする請求項１〜６いずれかに記載のポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレ−トフィルム。